JPH01172226A - 高純度パラタングステン酸アンモニウム結晶の製造方法 - Google Patents
高純度パラタングステン酸アンモニウム結晶の製造方法Info
- Publication number
- JPH01172226A JPH01172226A JP32689687A JP32689687A JPH01172226A JP H01172226 A JPH01172226 A JP H01172226A JP 32689687 A JP32689687 A JP 32689687A JP 32689687 A JP32689687 A JP 32689687A JP H01172226 A JPH01172226 A JP H01172226A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- crystals
- acid
- ammonium paratungstate
- crystal
- tungsten
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000013078 crystal Substances 0.000 title claims abstract description 70
- XAYGUHUYDMLJJV-UHFFFAOYSA-Z decaazanium;dioxido(dioxo)tungsten;hydron;trioxotungsten Chemical compound [H+].[H+].[NH4+].[NH4+].[NH4+].[NH4+].[NH4+].[NH4+].[NH4+].[NH4+].[NH4+].[NH4+].O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.[O-][W]([O-])(=O)=O.[O-][W]([O-])(=O)=O.[O-][W]([O-])(=O)=O.[O-][W]([O-])(=O)=O.[O-][W]([O-])(=O)=O.[O-][W]([O-])(=O)=O XAYGUHUYDMLJJV-UHFFFAOYSA-Z 0.000 title claims abstract description 38
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 13
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims abstract description 24
- CMPGARWFYBADJI-UHFFFAOYSA-L tungstic acid Chemical compound O[W](O)(=O)=O CMPGARWFYBADJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims abstract description 22
- 239000012452 mother liquor Substances 0.000 claims abstract description 19
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims abstract description 14
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims abstract description 11
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 9
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 claims abstract description 3
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 31
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 23
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 claims description 13
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 10
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 claims description 8
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 claims description 6
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 abstract description 12
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 abstract description 8
- 238000001914 filtration Methods 0.000 abstract description 6
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 239000012770 industrial material Substances 0.000 abstract 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 22
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 14
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 11
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 11
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 10
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 9
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 9
- 230000002285 radioactive effect Effects 0.000 description 9
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 9
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 9
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 7
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- -1 argon ions Chemical class 0.000 description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 6
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 5
- WQJQOUPTWCFRMM-UHFFFAOYSA-N tungsten disilicide Chemical compound [Si]#[W]#[Si] WQJQOUPTWCFRMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910021342 tungsten silicide Inorganic materials 0.000 description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 4
- 229910052776 Thorium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 3
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 2
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 2
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 2
- 238000005566 electron beam evaporation Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 238000004663 powder metallurgy Methods 0.000 description 2
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 229910021332 silicide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052770 Uranium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000001447 alkali salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N argon Substances [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 230000001934 delay Effects 0.000 description 1
- UZUODNWWWUQRIR-UHFFFAOYSA-L disodium;3-aminonaphthalene-1,5-disulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].C1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C2=CC(N)=CC(S([O-])(=O)=O)=C21 UZUODNWWWUQRIR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000003670 easy-to-clean Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004686 pentahydrates Chemical class 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N silicide(4-) Chemical compound [Si-4] FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- PBYZMCDFOULPGH-UHFFFAOYSA-N tungstate Chemical compound [O-][W]([O-])(=O)=O PBYZMCDFOULPGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G41/00—Compounds of tungsten
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、高純度パラタングステン酸アンモニウム結晶
の製造方法に関するものであり、特には放射性金属及び
アルカリ金属のみならず鉄等の遷移金属をも充分に低減
した、高純度パラタングステン酸アンモニウム結晶を簡
易に製造する方法に関する0本方法により得られるパラ
タングステン酸アンモニウム結晶は、VLSI・MOS
デバイスのゲート電極、トレイン電極等に代表される半
導体デバイスの電極、配線等の作製に用いられるタング
ステンターゲットのような電子工業用タングステン材料
の製造のための原料として殊に有用である。
の製造方法に関するものであり、特には放射性金属及び
アルカリ金属のみならず鉄等の遷移金属をも充分に低減
した、高純度パラタングステン酸アンモニウム結晶を簡
易に製造する方法に関する0本方法により得られるパラ
タングステン酸アンモニウム結晶は、VLSI・MOS
デバイスのゲート電極、トレイン電極等に代表される半
導体デバイスの電極、配線等の作製に用いられるタング
ステンターゲットのような電子工業用タングステン材料
の製造のための原料として殊に有用である。
元旦」とi量
半導体デバイスの電極及び配線、特にVLSI・MOS
デバイスのゲート電極、ドレイン電極等としてはポリシ
リコンが従来用いられてきたが、デバイスの高集積化に
伴ないポリシリコンゲート電極、トレイン電極等の抵抗
による信号伝搬遅延が問題化している。一方で、作製プ
ロセス面からセルファライン法によるMOS素子形成を
容易ならしめるためゲート電極、ドレイン電極等として
融点の高い材料の使用が所望されるようになっている。
デバイスのゲート電極、ドレイン電極等としてはポリシ
リコンが従来用いられてきたが、デバイスの高集積化に
伴ないポリシリコンゲート電極、トレイン電極等の抵抗
による信号伝搬遅延が問題化している。一方で、作製プ
ロセス面からセルファライン法によるMOS素子形成を
容易ならしめるためゲート電極、ドレイン電極等として
融点の高い材料の使用が所望されるようになっている。
こうした状況において、ポリシリコンより抵抗率の低い
高融点金属ゲート電極、ドレイン電極等の研究が進む一
方で、シリコンゲートプロセスとの互換性を第1とした
高融点金属シリサイド電極の研究が活発に進行しつつあ
る。そうした高融点金属及び高融点金属シリサイドの内
特に有望視されまた実用化の進んでいるものの一つがタ
ングステン及びタングステンシリサイドである。
高融点金属ゲート電極、ドレイン電極等の研究が進む一
方で、シリコンゲートプロセスとの互換性を第1とした
高融点金属シリサイド電極の研究が活発に進行しつつあ
る。そうした高融点金属及び高融点金属シリサイドの内
特に有望視されまた実用化の進んでいるものの一つがタ
ングステン及びタングステンシリサイドである。
タングステンゲート電極、ドレイン電極等の薄膜は主と
して、スパッタ法、電子ビーム蒸着法等により生成され
る。スパッタ法はターゲツト板にアルゴンイオンを衝突
させて金属を放出させ、放出金属をターゲツト板に対向
させた基板に堆積させるものである。電子ビーム蒸着法
は、電子ビームにより蒸発源を溶解し、発生蒸気を基板
に堆積させるものである。いずれにせよ、生成膜の純度
は使用するターゲツト板や蒸発源(両者を併せてターゲ
ットと称する)の純度に左右される。
して、スパッタ法、電子ビーム蒸着法等により生成され
る。スパッタ法はターゲツト板にアルゴンイオンを衝突
させて金属を放出させ、放出金属をターゲツト板に対向
させた基板に堆積させるものである。電子ビーム蒸着法
は、電子ビームにより蒸発源を溶解し、発生蒸気を基板
に堆積させるものである。いずれにせよ、生成膜の純度
は使用するターゲツト板や蒸発源(両者を併せてターゲ
ットと称する)の純度に左右される。
タングステンターゲットは、市販の、主として99.9
〜99.99%純度のタングステン粉を原料として粉末
冶金法により製造されており、ターゲット純度は使用し
たタングステン粉原料により概ね決定されると云ってよ
い。
〜99.99%純度のタングステン粉を原料として粉末
冶金法により製造されており、ターゲット純度は使用し
たタングステン粉原料により概ね決定されると云ってよ
い。
タングステンシリサイドの場合にも状況は同様である。
タングステンシリサイド電極、配線等の薄膜は、タング
ステンシリサイドターゲットを使用して或はタングステ
ンターゲットとシリコンターゲットとを併用して形成さ
れるが、シリコンについては高純度のものが入手し得る
ので、形成される薄膜の純度は原料タングステンによっ
て左右されるということが出来る。
ステンシリサイドターゲットを使用して或はタングステ
ンターゲットとシリコンターゲットとを併用して形成さ
れるが、シリコンについては高純度のものが入手し得る
ので、形成される薄膜の純度は原料タングステンによっ
て左右されるということが出来る。
MOS素子等の半導体デバイスにおいては、その不純物
規制への要求は益々厳しいものとなっている。ちなみに
、MOS素子等の半導体デバイスに影響する不純物は大
きく分けて次の3種類に分類される: (1)Na、に等のアルカリ金属、 (2)tl、Th等の放射性金属、 (3)Fe等の遷移金属 Na、 K等のアルカリ金属はゲート絶縁膜中を容易に
移動し、MO9界面を特性劣化させる。U、Th等の放
射性金属は放射するα線によってMOS素子の動作信頼
性に致命的影響を与える。 Fe等の遷移金属はMOS
素子の動作の信頼性を阻害する。
規制への要求は益々厳しいものとなっている。ちなみに
、MOS素子等の半導体デバイスに影響する不純物は大
きく分けて次の3種類に分類される: (1)Na、に等のアルカリ金属、 (2)tl、Th等の放射性金属、 (3)Fe等の遷移金属 Na、 K等のアルカリ金属はゲート絶縁膜中を容易に
移動し、MO9界面を特性劣化させる。U、Th等の放
射性金属は放射するα線によってMOS素子の動作信頼
性に致命的影響を与える。 Fe等の遷移金属はMOS
素子の動作の信頼性を阻害する。
従って、MOS素子等の半導体デバイスにおけるタング
ステン或はタングステンシリサイド薄膜の高純化を達成
するには、その作製にも用いられるターゲットの、結局
は原料タングステン粉末自体の純度のグレードアップを
計る必要がある。
ステン或はタングステンシリサイド薄膜の高純化を達成
するには、その作製にも用いられるターゲットの、結局
は原料タングステン粉末自体の純度のグレードアップを
計る必要がある。
こうした要請に答えて、本件出願人等は、タングステン
の高純化について多くの研究を重ね、実績を積み重ねて
きた。
の高純化について多くの研究を重ね、実績を積み重ねて
きた。
しかしながら、まだ多くの改善の余地は残されており、
半導体デバイスの進展にともない、−層高品質のタング
ステン原料を安定して且つ安価に製造する技術の開発が
待望されている。特に、Fe等の遷移金属を充分に低減
する簡易な技術の確立が望まれている。
半導体デバイスの進展にともない、−層高品質のタング
ステン原料を安定して且つ安価に製造する技術の開発が
待望されている。特に、Fe等の遷移金属を充分に低減
する簡易な技術の確立が望まれている。
′と のCI 番
タングステンの湿式精製法としては、一般に、酸性領域
でタングステン酸結晶を析出させる方法と、中性領域に
てパラタングステン酸アンモニウム結晶を析出させる方
法とが知られている。
でタングステン酸結晶を析出させる方法と、中性領域に
てパラタングステン酸アンモニウム結晶を析出させる方
法とが知られている。
前者のタングステン酸結晶析出方法としては、例えば、
■タングステン含有アルカリ溶液を沸騰塩酸中に徐々に
滴下しタングステン酸結晶を析出させる方法と■メタタ
ングステン酸アンモニウムを水に溶解し、この母液に酸
を添加して6〜7規遊に調整しそして酸調節した母液を
加熱してタングステン酸結晶を析出させる方法とがある
。■の方法で生成するタングステン酸の結晶は一般に、
微細で、洗浄及び濾過性が悪く、しかも同ケーキを還元
してタングステン粉にした場合一部焼結するので粉末冶
金用途には不適である。■の方法はU等の放射性金属及
びNa等のアルカリ金属に対する精製効果には優れるが
、Fe等の遷移金属に対しては精製効果はほとんど無く
、大きな問題を残している。
■タングステン含有アルカリ溶液を沸騰塩酸中に徐々に
滴下しタングステン酸結晶を析出させる方法と■メタタ
ングステン酸アンモニウムを水に溶解し、この母液に酸
を添加して6〜7規遊に調整しそして酸調節した母液を
加熱してタングステン酸結晶を析出させる方法とがある
。■の方法で生成するタングステン酸の結晶は一般に、
微細で、洗浄及び濾過性が悪く、しかも同ケーキを還元
してタングステン粉にした場合一部焼結するので粉末冶
金用途には不適である。■の方法はU等の放射性金属及
びNa等のアルカリ金属に対する精製効果には優れるが
、Fe等の遷移金属に対しては精製効果はほとんど無く
、大きな問題を残している。
他方、後者のパラタングステン酸アンモニウム結晶析出
方法としては、■タングステン酸をアンモニア水で溶解
し、この母液にPH6〜8の範囲に酸を加えるか又はこ
の母液を濃縮することによりパラタングステン酸アンモ
ニウム結晶を析出させる方法と、■メタタングステン酸
アンモニウムを水で溶解し、この母液にPH6〜8の範
囲にアンモニア水を加えることによりパラタングステン
酸アンモニウム結晶を析出させる方法とがある。しかし
ながら、これら方法で得られる結晶は、大きくて取扱に
はよい反面、U等の放射性金属、Na等のアルカリ金属
、並びにFe等の遷移金属に対する精製効果は充分とは
言えない。、 こうした状況に鑑み、本件出願人は先に、特開昭62−
108732号において、2段階による高純度パラタン
グステン酸アンモニウム結晶の製造方法を開示した。即
ち、この方法は、 (1)メタタングステン酸アンモニウムを水に溶解して
含タングステン水溶液を生成し、該含タングステン水溶
液に無機酸を添加し水溶性タングステン酸結晶を析出さ
せる段階と、(2)この水溶性タングステン酸結晶を再
度水に溶解して精製パラタングステン酸アンモニウム結
晶析出母液を生成し、該精製パラタングステン酸アンモ
ニウム結晶析出母液を加熱しそしてアンモニアの添加に
よりP)Iを調整することによりパラタングステン酸ア
ンモニウム結晶を析出させる段階を特徴とするものであ
る。
方法としては、■タングステン酸をアンモニア水で溶解
し、この母液にPH6〜8の範囲に酸を加えるか又はこ
の母液を濃縮することによりパラタングステン酸アンモ
ニウム結晶を析出させる方法と、■メタタングステン酸
アンモニウムを水で溶解し、この母液にPH6〜8の範
囲にアンモニア水を加えることによりパラタングステン
酸アンモニウム結晶を析出させる方法とがある。しかし
ながら、これら方法で得られる結晶は、大きくて取扱に
はよい反面、U等の放射性金属、Na等のアルカリ金属
、並びにFe等の遷移金属に対する精製効果は充分とは
言えない。、 こうした状況に鑑み、本件出願人は先に、特開昭62−
108732号において、2段階による高純度パラタン
グステン酸アンモニウム結晶の製造方法を開示した。即
ち、この方法は、 (1)メタタングステン酸アンモニウムを水に溶解して
含タングステン水溶液を生成し、該含タングステン水溶
液に無機酸を添加し水溶性タングステン酸結晶を析出さ
せる段階と、(2)この水溶性タングステン酸結晶を再
度水に溶解して精製パラタングステン酸アンモニウム結
晶析出母液を生成し、該精製パラタングステン酸アンモ
ニウム結晶析出母液を加熱しそしてアンモニアの添加に
よりP)Iを調整することによりパラタングステン酸ア
ンモニウム結晶を析出させる段階を特徴とするものであ
る。
上記方法により、U等の放射性金属、Na等のアルカリ
金属、並びにFe等の遷移金属に対する精製効果におい
て、かなりの改善が実現された0例えばつぎのような結
果が得られた。
金属、並びにFe等の遷移金属に対する精製効果におい
て、かなりの改善が実現された0例えばつぎのような結
果が得られた。
Na/W <0.04 ppm
に /W <0.04 ppmFe/W
O,62ppm U /W 、 <0.002 ppmしかし、まだ尚
、将来に向は精製効果の一段の向上を計る必要がある。
O,62ppm U /W 、 <0.002 ppmしかし、まだ尚
、将来に向は精製効果の一段の向上を計る必要がある。
特に、鉄を0.5ppm以下のもっと低い水準に低減す
ることが望まれる。
ることが望まれる。
聚豆Ω旦刀
本発明の目的は、上記に鑑み、tl、Th等の放射性金
属やNa、に等のアルカリ金属のみならず、Fe等の遷
移金属に対する精製効果にも優れ、しかも濾過性及び洗
浄性が良好なタングステン粉末原料結晶の製造技術を開
発することである。
属やNa、に等のアルカリ金属のみならず、Fe等の遷
移金属に対する精製効果にも優れ、しかも濾過性及び洗
浄性が良好なタングステン粉末原料結晶の製造技術を開
発することである。
聚豆皇旦I
上記目的に向け、本発明者等は、これら条件における結
晶の溶解挙動について検討を重ねた。その結果、メタタ
ングステン酸アンモニウムを水に溶解して、含タングス
テン水溶液を生成し、そして得られた該含タングステン
水溶液に無機酸を添加しそして加熱して得られたタング
ステン酸結晶は、アンモニア水に溶解すると、少量の溶
解残渣が残存し、そこには鉄等の遷移金属不純物が濃縮
しているとの知見を得た。これは斯界で初めて見出され
たものである。
晶の溶解挙動について検討を重ねた。その結果、メタタ
ングステン酸アンモニウムを水に溶解して、含タングス
テン水溶液を生成し、そして得られた該含タングステン
水溶液に無機酸を添加しそして加熱して得られたタング
ステン酸結晶は、アンモニア水に溶解すると、少量の溶
解残渣が残存し、そこには鉄等の遷移金属不純物が濃縮
しているとの知見を得た。これは斯界で初めて見出され
たものである。
この新たな知見に基すいて、本発明は、メタタングステ
ン酸アンモニウムを水に溶解して含タングステン水溶液
を生成し、該含タングステン水溶液に無機酸を添加しそ
して加熱してタングステン酸結晶を析出させ、 固液分離後、該タングステン酸結晶をアンモニア水に溶
解して精製パラタングステン酸アンモニウム結晶析出母
液と鉄等の不純物を含む溶解残渣とを生成し、 該溶解残渣を分離除去し、 該精製パラタングステン酸アンモニウム結晶析出母液を
加熱しそして無機酸の添加によりPHを調整することに
よりパラタングステン酸アンモニウム結晶を析出させる ことを特徴とする高純度パラタンゲステレ酸アンモニウ
ム結晶の製造方法を提供する。
ン酸アンモニウムを水に溶解して含タングステン水溶液
を生成し、該含タングステン水溶液に無機酸を添加しそ
して加熱してタングステン酸結晶を析出させ、 固液分離後、該タングステン酸結晶をアンモニア水に溶
解して精製パラタングステン酸アンモニウム結晶析出母
液と鉄等の不純物を含む溶解残渣とを生成し、 該溶解残渣を分離除去し、 該精製パラタングステン酸アンモニウム結晶析出母液を
加熱しそして無機酸の添加によりPHを調整することに
よりパラタングステン酸アンモニウム結晶を析出させる ことを特徴とする高純度パラタンゲステレ酸アンモニウ
ム結晶の製造方法を提供する。
l豆互且生煎lj
本発明は、出発原料としてメタタングステン酸アンモニ
ウムを用いる。メタタングステン酸ナトリウム、メタタ
ングステン酸カリウム等のアルカリ塩も使用出来なくは
無いが、アルカリ金属を回避するため実用上メタタング
ステン酸アンモニウムの使用が好ましい。
ウムを用いる。メタタングステン酸ナトリウム、メタタ
ングステン酸カリウム等のアルカリ塩も使用出来なくは
無いが、アルカリ金属を回避するため実用上メタタング
ステン酸アンモニウムの使用が好ましい。
メタタングステン酸アンモニウムは先ず、水に溶解され
る。′U3過後に得られる含タングステン水溶液に無機
酸を添加してPHをコントロールする。
る。′U3過後に得られる含タングステン水溶液に無機
酸を添加してPHをコントロールする。
この場合、酸としては、硝酸、硫酸、塩酸或はその混酸
いずれでも良いが、蒸留等によって高純化し易い硝酸の
使用が好ましい6水としてはアルカリ金属元素の少ない
イオン交換水や超純水の使用が好ましい、添加後の酸濃
度は、4〜7規定の範囲とすることが好ましい、より好
ましい酸濃度は6〜7規定である。また、溶液中のタン
グステン濃度に関しては、100〜250g/1.より
好ましくは1507200 g/lとするのが良い。
いずれでも良いが、蒸留等によって高純化し易い硝酸の
使用が好ましい6水としてはアルカリ金属元素の少ない
イオン交換水や超純水の使用が好ましい、添加後の酸濃
度は、4〜7規定の範囲とすることが好ましい、より好
ましい酸濃度は6〜7規定である。また、溶液中のタン
グステン濃度に関しては、100〜250g/1.より
好ましくは1507200 g/lとするのが良い。
次に、該酸調整した溶液は、50℃以上、好ましくは8
0〜95℃の間に保持し、攪拌しながらタングステン酸
の結晶を析出させる。温度が50℃以下では結晶の析出
スピードが遅い。
0〜95℃の間に保持し、攪拌しながらタングステン酸
の結晶を析出させる。温度が50℃以下では結晶の析出
スピードが遅い。
所定の時間析出させたタングステン酸結晶は、固液分離
後、アンモニア水に溶解し、そして濾過することにより
精製パラタングステン酸アンモニウム結晶の析出母液と
する。ここで、重要なこととして、タングステン酸結晶
をアンモニア水で溶解すると溶解残渣が発生し該残渣中
にFe等の遷移金属が濃縮分離し、精製効果を助成する
ことである。これが、本発明が高純度パラタングステン
酸アンモニウム結晶を生成し得る大きな要因である。
後、アンモニア水に溶解し、そして濾過することにより
精製パラタングステン酸アンモニウム結晶の析出母液と
する。ここで、重要なこととして、タングステン酸結晶
をアンモニア水で溶解すると溶解残渣が発生し該残渣中
にFe等の遷移金属が濃縮分離し、精製効果を助成する
ことである。これが、本発明が高純度パラタングステン
酸アンモニウム結晶を生成し得る大きな要因である。
不純物を含む溶解残渣は分離除去される。
上記パラタングステン酸アンモニウム結晶析出母液を加
熱すると共に、無機酸を添加して母液のP)lを6.0
〜8.0の範囲に調整してパラタングステン酸アンモニ
ウムの結晶を析出せしめる。酸 −とじては、硝酸、硫
酸、塩酸或はその混酸いずれでも良いが、蒸留等によっ
て高純化し易い硝酸の使用が好ましい、パラタングステ
ン酸アンモニウムの結晶析出時の温度は、50’C以上
、好ましくは80℃以上とする。パラタングステン酸ア
ンモニウム結晶を低温で析出させると、12水塩も析出
する。この12水塩は 潮解性が強く、乾燥操作がなか
なかうまくいかない、50℃〜70℃では5水塩が析出
し、80℃を越えると無水塩が析出する。析出時のPH
に関しては、6よりも低いとパラタングステン酸アンモ
ニウム以外の結晶が析出し、他方8よりも高いと、パラ
タングステン酸アンモニウム結晶の回収率が低下して好
ましくない、所定の時間析出させたパラタングステン酸
アンモニウムの結晶は通常の濾過及び洗浄を経て、高純
度パラタングステン酸アンモニウムの結晶として回収さ
れる。結晶の濾過及び洗浄性は良好である。
熱すると共に、無機酸を添加して母液のP)lを6.0
〜8.0の範囲に調整してパラタングステン酸アンモニ
ウムの結晶を析出せしめる。酸 −とじては、硝酸、硫
酸、塩酸或はその混酸いずれでも良いが、蒸留等によっ
て高純化し易い硝酸の使用が好ましい、パラタングステ
ン酸アンモニウムの結晶析出時の温度は、50’C以上
、好ましくは80℃以上とする。パラタングステン酸ア
ンモニウム結晶を低温で析出させると、12水塩も析出
する。この12水塩は 潮解性が強く、乾燥操作がなか
なかうまくいかない、50℃〜70℃では5水塩が析出
し、80℃を越えると無水塩が析出する。析出時のPH
に関しては、6よりも低いとパラタングステン酸アンモ
ニウム以外の結晶が析出し、他方8よりも高いと、パラ
タングステン酸アンモニウム結晶の回収率が低下して好
ましくない、所定の時間析出させたパラタングステン酸
アンモニウムの結晶は通常の濾過及び洗浄を経て、高純
度パラタングステン酸アンモニウムの結晶として回収さ
れる。結晶の濾過及び洗浄性は良好である。
原料の不純物含有量によっては、1回の精製操作では目
的を達しないことがあるので、この時には得られた結晶
を酸で分解し、タングステン酸結晶とした後再度アンモ
ニア水に溶解し、上記の操作を少なくとも1回繰り返し
てもよい。
的を達しないことがあるので、この時には得られた結晶
を酸で分解し、タングステン酸結晶とした後再度アンモ
ニア水に溶解し、上記の操作を少なくとも1回繰り返し
てもよい。
溶解、濾過、晶出などの湿式精製工程あるいは蒸留工程
に用いる容器等の材質としては、汚染を最大限に回避す
るために、アルカリガラスは避けるべきでテフロン、ポ
リプロピレン、或は石英ガラスのようなアルカリや放射
性元素を含有しない耐食材を選択すべきである。
に用いる容器等の材質としては、汚染を最大限に回避す
るために、アルカリガラスは避けるべきでテフロン、ポ
リプロピレン、或は石英ガラスのようなアルカリや放射
性元素を含有しない耐食材を選択すべきである。
水としては、超純水の使用が好ましい。アンモニア水も
高純度のものを使用すべきである。
高純度のものを使用すべきである。
尚、外部汚染を防止するために、特に結晶の晶出工程及
び得られたタングステン酸アンモニウム結晶の取扱には
充分な配慮が必要であり、例えばクリーンブース等の内
部で取扱が為される。
び得られたタングステン酸アンモニウム結晶の取扱には
充分な配慮が必要であり、例えばクリーンブース等の内
部で取扱が為される。
上記の方法で得られたパラタングステン酸アンモニウム
の結晶は、乾燥・仮焼して無水のタングステン酸とし、
更に、高温度で水素還元を行ない高純度タングステン粉
末を得る。これらは、従来態様で実施される。
の結晶は、乾燥・仮焼して無水のタングステン酸とし、
更に、高温度で水素還元を行ない高純度タングステン粉
末を得る。これらは、従来態様で実施される。
及豆Ω勲1
本発明により、濾過性及び洗浄性の良好な、高純度パラ
タングステン酸アンモニウム結晶が容易に製造される。
タングステン酸アンモニウム結晶が容易に製造される。
不純物は、次の水準にまで低減される。
Na/W <0.01 、 ppmK /W
<0.01 ppmFe/W <0.
5 ppmU /W <0.001 p
pmそれを原料としたタングステン粉末、更にはその粉
末から作成されるターゲット等の電子デバイス製造用部
材、セラミックス等の品質向上とコスト低減化に寄与す
る。
<0.01 ppmFe/W <0.
5 ppmU /W <0.001 p
pmそれを原料としたタングステン粉末、更にはその粉
末から作成されるターゲット等の電子デバイス製造用部
材、セラミックス等の品質向上とコスト低減化に寄与す
る。
夫鳳1
透明石英製のビーカー内で、市販のメタタングステン酸
アンモニウムを所定量、比抵抗18MΩ−cmの超純水
に溶解し、テフロン製のフィルターで濾過した。その後
、電子工業用の硝酸を添加して、酸濃度6規定そしてタ
ングステン濃度200g/lに調整した水溶液を95℃
において24時間攪拌しながらタングステン酸結晶を析
出させた。
アンモニウムを所定量、比抵抗18MΩ−cmの超純水
に溶解し、テフロン製のフィルターで濾過した。その後
、電子工業用の硝酸を添加して、酸濃度6規定そしてタ
ングステン濃度200g/lに調整した水溶液を95℃
において24時間攪拌しながらタングステン酸結晶を析
出させた。
このタングステン酸結晶を超純水で充分に洗浄しそして
ポリプロピレン製のフィルターで濾過した0次いで、該
タングステン酸結晶を電子工業用のアンモニア水で溶解
した。僅かの溶解残渣が生じた。テフロン製の0.2μ
mフィルターで濾過することによりアンモニア水溶解残
渣を完全に分離した精製パラタングステン酸アンモニウ
ム結晶析出母液を生成した。
ポリプロピレン製のフィルターで濾過した0次いで、該
タングステン酸結晶を電子工業用のアンモニア水で溶解
した。僅かの溶解残渣が生じた。テフロン製の0.2μ
mフィルターで濾過することによりアンモニア水溶解残
渣を完全に分離した精製パラタングステン酸アンモニウ
ム結晶析出母液を生成した。
その後、該母液な80℃に加熱しそして電子工業用の硝
酸を添加してP)lを7゜2に調整した。
酸を添加してP)lを7゜2に調整した。
20時間保持してパラタングステン酸アンモニウム結晶
を析出成長させた。その後、該結晶なポリプロピレン製
のフィルターで濾過・分離し、高純度パラタングステン
酸アンモニウム結晶を得た。各段階での不純物含有量を
表1に示す。
を析出成長させた。その後、該結晶なポリプロピレン製
のフィルターで濾過・分離し、高純度パラタングステン
酸アンモニウム結晶を得た。各段階での不純物含有量を
表1に示す。
表1 単位(ppm )
不純物
Na Mo K/Mo Fe Mo −U/M。
原料メタタングステン
酸アンモニウム 40 3.
2 13 0.03タングステン酸 結晶 0.08 0.01 6 <0
.001パラタングステン酸 アンモニウム析出母液 0.08 0.01
2 <0.001パラタングステン酸 アンモニウム結晶 <0.01 <0.
01 0.3 <0.001放射性金属含有量
及びアルカリ金属含有量は極めて低い値まで低減されそ
して遷移金属含有量も充分に低い水準まで低減されてい
る。
2 13 0.03タングステン酸 結晶 0.08 0.01 6 <0
.001パラタングステン酸 アンモニウム析出母液 0.08 0.01
2 <0.001パラタングステン酸 アンモニウム結晶 <0.01 <0.
01 0.3 <0.001放射性金属含有量
及びアルカリ金属含有量は極めて低い値まで低減されそ
して遷移金属含有量も充分に低い水準まで低減されてい
る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)メタタングステン酸アンモニウムを水に溶解して含
タングステン水溶液を生成し、 該含タングステン水溶液に無機酸を添加しそして加熱し
てタングステン酸結晶を析出させ、固液分離後、該タン
グステン酸結晶をアンモニア水に溶解して精製パラタン
グステン酸アンモニウム結晶析出母液と鉄等の不純物を
含む溶解残渣とを生成し、 該溶解残渣を分離除去し、 該精製パラタングステン酸アンモニウム結晶析出母液を
加熱しそして無機酸の添加によりPHを調整することに
よりパラタングステン酸アンモニウム結晶を析出させる ことを特徴とする高純度パラタングステン酸アンモニウ
ム結晶の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32689687A JPH07121807B2 (ja) | 1987-12-25 | 1987-12-25 | 高純度パラタングステン酸アンモニウム結晶の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32689687A JPH07121807B2 (ja) | 1987-12-25 | 1987-12-25 | 高純度パラタングステン酸アンモニウム結晶の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01172226A true JPH01172226A (ja) | 1989-07-07 |
JPH07121807B2 JPH07121807B2 (ja) | 1995-12-25 |
Family
ID=18192957
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP32689687A Expired - Lifetime JPH07121807B2 (ja) | 1987-12-25 | 1987-12-25 | 高純度パラタングステン酸アンモニウム結晶の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07121807B2 (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009147900A1 (ja) | 2008-06-02 | 2009-12-10 | 日鉱金属株式会社 | タングステン焼結体スパッタリングターゲット |
JP2010517903A (ja) * | 2007-02-02 | 2010-05-27 | ハー.ツェー.スタルク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | パラタングステン酸アンモニウム四水和物及び高純度のパラタングステン酸アンモニウム四水和物を製造する方法 |
JP2010186337A (ja) * | 2009-02-12 | 2010-08-26 | Toshiba Tec Corp | 商品販売データ処理装置 |
JP2010229017A (ja) * | 2009-03-02 | 2010-10-14 | Mitsubishi Materials Corp | 高純度パラタングステン酸アンモニウムの製造方法 |
WO2011040400A1 (ja) | 2009-10-01 | 2011-04-07 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 高純度タングステン粉末の製造方法 |
CN103978224A (zh) * | 2014-05-13 | 2014-08-13 | 南昌大学 | 一种砷掺杂仲钨酸铵或偏钨酸铵制备纳米钨粉的方法 |
CN113816428A (zh) * | 2021-10-26 | 2021-12-21 | 赣州市海龙钨钼有限公司 | 一种制备仲钨酸铵的工艺 |
CN114162870A (zh) * | 2021-12-01 | 2022-03-11 | 中国科学院过程工程研究所 | 一种仲钨酸铵及其制备方法和双极膜电解装置 |
CN114477291A (zh) * | 2022-03-14 | 2022-05-13 | 中南大学 | 仲钨酸铵的制备方法 |
-
1987
- 1987-12-25 JP JP32689687A patent/JPH07121807B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010517903A (ja) * | 2007-02-02 | 2010-05-27 | ハー.ツェー.スタルク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | パラタングステン酸アンモニウム四水和物及び高純度のパラタングステン酸アンモニウム四水和物を製造する方法 |
JP5243541B2 (ja) * | 2008-06-02 | 2013-07-24 | Jx日鉱日石金属株式会社 | タングステン焼結体スパッタリングターゲット |
EP2284289A1 (en) * | 2008-06-02 | 2011-02-16 | JX Nippon Mining & Metals Corporation | Tungsten sintered material sputtering target |
TWI458845B (zh) * | 2008-06-02 | 2014-11-01 | Jx Nippon Mining & Metals Corp | Tungsten sintered body sputtering target |
JPWO2009147900A1 (ja) * | 2008-06-02 | 2011-10-27 | Jx日鉱日石金属株式会社 | タングステン焼結体スパッタリングターゲット |
EP2284289A4 (en) * | 2008-06-02 | 2011-11-09 | Jx Nippon Mining & Metals Corp | SPRAY TARGET OF TUNGSTEN FRITTED MATERIAL |
WO2009147900A1 (ja) | 2008-06-02 | 2009-12-10 | 日鉱金属株式会社 | タングステン焼結体スパッタリングターゲット |
JP2010186337A (ja) * | 2009-02-12 | 2010-08-26 | Toshiba Tec Corp | 商品販売データ処理装置 |
JP2010229017A (ja) * | 2009-03-02 | 2010-10-14 | Mitsubishi Materials Corp | 高純度パラタングステン酸アンモニウムの製造方法 |
CN102548688A (zh) * | 2009-10-01 | 2012-07-04 | 吉坤日矿日石金属株式会社 | 高纯度钨粉末的制造方法 |
KR101348455B1 (ko) * | 2009-10-01 | 2014-01-06 | 닛본신긴조꾸가부시키가이샤 | 고순도 텅스텐 분말의 제조 방법 |
US8764877B2 (en) | 2009-10-01 | 2014-07-01 | Jx Nippon Mining & Metals Corporation | Method for producing high-purity tungsten powder |
WO2011040400A1 (ja) | 2009-10-01 | 2011-04-07 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 高純度タングステン粉末の製造方法 |
CN103978224A (zh) * | 2014-05-13 | 2014-08-13 | 南昌大学 | 一种砷掺杂仲钨酸铵或偏钨酸铵制备纳米钨粉的方法 |
CN113816428A (zh) * | 2021-10-26 | 2021-12-21 | 赣州市海龙钨钼有限公司 | 一种制备仲钨酸铵的工艺 |
CN114162870A (zh) * | 2021-12-01 | 2022-03-11 | 中国科学院过程工程研究所 | 一种仲钨酸铵及其制备方法和双极膜电解装置 |
CN114162870B (zh) * | 2021-12-01 | 2022-09-30 | 中国科学院过程工程研究所 | 一种仲钨酸铵及其制备方法和双极膜电解装置 |
CN114477291A (zh) * | 2022-03-14 | 2022-05-13 | 中南大学 | 仲钨酸铵的制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH07121807B2 (ja) | 1995-12-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH01172226A (ja) | 高純度パラタングステン酸アンモニウム結晶の製造方法 | |
US4596701A (en) | Process for purifying molybdenum trioxide | |
US4525331A (en) | Process for purifying molybdenum trioxide | |
JP3987069B2 (ja) | 高純度硫酸銅及びその製造方法 | |
US4601890A (en) | Process for purifying molybdenum trioxide | |
WO2017092217A1 (zh) | 常温萃取法生产高纯五氧化二钒的方法 | |
JPH0481526B2 (ja) | ||
CN114890889A (zh) | 一种电子级柠檬酸的提纯方法 | |
JP2823070B2 (ja) | 高純度オキシ塩化ジルコニウム結晶の製造方法 | |
US4126665A (en) | Preparation of polymeric alkaline earth metaphosphate glasses | |
US4933152A (en) | Continuous process for purifying molybdenum | |
JPH0227286B2 (ja) | Suiyoseitangusutenkagobutsuketsushooyobikojundotangusutensanketsushonoseizohoho | |
JPH0977516A (ja) | 高純度炭酸ストロンチウムの製造方法 | |
JP2710049B2 (ja) | 高純度モリブデン酸アンモニウム結晶の製造方法 | |
JPH0227287B2 (ja) | Kojundoparatangusutensananmoniumuketsushonoseizohoho | |
JPH082920A (ja) | 高純度タングステン酸結晶の製造方法 | |
JP2000169116A (ja) | セレンの選択的浸出回収方法 | |
US4604267A (en) | Process for purifying molybdenum trioxide | |
US4604266A (en) | Process for purifying molybdenum trioxide | |
US4039615A (en) | Production of aluminum sulfate | |
JP7345728B2 (ja) | 炭酸リチウムの精製方法 | |
JPH0421524A (ja) | 弗化タンタルカリウムの精製方法 | |
CN111732133A (zh) | 一种硫酸四氨钯的制备方法 | |
JPH01313333A (ja) | 高純度水酸化ニオブまたは水酸化タンタルの製造方法 | |
JPS61107728A (ja) | 薄膜形成用材およびその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |