JPH01151531A - アルケニルビシクロヘキサン - Google Patents

アルケニルビシクロヘキサン

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JPH01151531A
JPH01151531A JP63274625A JP27462588A JPH01151531A JP H01151531 A JPH01151531 A JP H01151531A JP 63274625 A JP63274625 A JP 63274625A JP 27462588 A JP27462588 A JP 27462588A JP H01151531 A JPH01151531 A JP H01151531A
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Martin Schadt
アルテイン・シヤツト
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規なアルケニル−ビシクロヘキサン、これら
の化合物を含有する液晶混合物並びに電子−光学目的に
対するその用途に関する。
液晶は主に表示装置における電媒体として用いられ、そ
の理由はかかる物質の光学特性が印加電圧によって影響
を受は得るためである。液晶に基ずく電子−光学装置は
当該分野に精通せる者にとってはよく知られており、種
々な効果に基ずくことかできる。かかる装置の例は動的
散乱(dynamicscat ter ing)を有
するセル、DAPセル(整列した相の変形)、ゲスト/
ホスト(guest/ host)セル、ねじれたネマ
テイク構造(twisted nematicstru
cture)を有するTNセル、STNセル[「超−ね
じれたネマテイク」 (“5uper−’twiste
d nematic” ) ]、SBEセル[「超−複
屈折効果」(“super−birefringenc
e effect” ) ]及びOMIセル「[光学モ
ード干渉」 (optical modeinterf
erence” ) ]である。最も普通の表示装置は
シャット−へルフリツヒ(S chadt−Helfr
ich)効果に基すき、ねじれたネマテイク構造を有す
る。
液晶物質は良好な化学的及び熱的安定性並びに電場及び
電磁照射に対して良好な安定性を有していなければなら
ない。更に液晶物質は低粘度を有するべきであり、セル
において短い応答時間、低閾値電位(low thre
shold potential)及び高度のコントラ
ストを示すべきである。更に、通常の操作温度で、即ち
、室温の上下で可能な限り広い範囲において、液晶は適
当な中間相(mesophase)、例えば上記のセル
に対してネマテイクまたはコレステリック(chole
steric)中間相を有するべきである。液晶は一般
に数成分の混合物として用いられるために、成分が相互
に良好な混和性を有することが重要である。更に、特性
、例えば導電率、誘電異方性(dielectric 
anisotropy)及び光学異方性が、セルのタイ
プ及び適用分野に応じて、異なる要求をみたさなければ
ならない。例えばねじれたネマテイク構造を有するセル
に対する物質は正の誘電異方性及び可能な限り低い導電
率を有すべきである。
最近、低い光学異方性を有する物質に対して、特に活性
的にアドレッシングされた(activelyaddr
essed)液晶表示器、例えばテレビジョン・セット
におけるMIM (金属−絶縁体−金属)用途またはT
PT (薄いフィルム・トランジスター)用途に興味が
増しているが、しかしながら、低い光学異方性を有する
公知の液晶化合物はほとんど高次のスメクテイク相をも
つか、或いは閾値電位、粘度及び/または応答時間にお
いて望ましからぬ増加をもたらす。
本発明は一般式 式中、2は単一共有結合または−CH,CH,−を表わ
し、R1は炭素原子2〜lO個を有するIE−アルケニ
ルまたは炭素原子4〜IO個を有する3E−アルケニル
を表わし、モしてR2は炭素原子1−10個を有するア
ルキル、炭素原子3〜lO個を有する2E−アルケニル
または炭素原子4〜10個を有する3−アルケニルを表
わす、 の化合物を提供する。
本発明における化合物は極めて低い光学異方性及び比較
的高い透明点を有する液晶である。すでに公知のビシク
ロヘキサンと対比して、本液晶は比較的広いネマテイク
中間相または、光学的活性化合物の場合には、コレステ
リック中間相を有する。高次のスメクテイク相が抑制さ
れる。更に本発明における化合物は比較的低粘度を有し
、速いスウイチング時間を可能にする。本化合物は他の
液晶物質に良好な溶解性を有し、ネマテイク及びコレス
テリック混合物の成分として特に適当である。
式Iには一般式 式中、R1及びR2は上記の意味を有する、の化合物が
含まれる。
R1には直鎖状残基、例えばビニル、lE−プロペニル
、lE−ブテニル、lE−ペンテニル、IE−ヘキセニ
ル、IE−へブテニル、lE−オクテニル、IE−ノネ
ニル、lE−デセニル、3−フチニル、3E−ペンテニ
ル、3E−へキセニル、3E−へブテニル、3E−オク
テニル、3E−ノネニル及び3E−デセニル並びに分枝
鎖状の随時光学的活性であってもよい残基、例えば5−
メチル−3E−へブテニル等が含まれる。一般に、直鎖
状残基が好ましい。更に、炭素原子2〜7個を有するI
E−アルケニル残基及び炭素原子4〜7個を有する3E
−アルケニル残基が一般に好ましい。
R2に対する「アルキル」なる用語には直鎖状残基メチ
ル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、
ヘプチル、オクチル、ノニル及びデシル、並びに分枝鎖
状の随時光学的活性であってもよい残基、例えばsec
、−ブチル、2−メチルブチル、3−メチルペンチル、
4−メチルヘキシル等が含まれる。
R2に対するr2E−アルケニル」なる用語には直鎖状
残基アリル、2E−ブテニル、2E−ペンテニル、2E
−へキセニル、2E−へブテニル、2E−オクテニル、
2E−ノネニル及び2E−デセニル、並びに分枝鎖状の
随時光学的活性であってもよい残基、例えば4−メチル
−2E−へキセニル等が含まれる。
R2に対する「3−アルケニル」なる用語には直鎖状残
基3−ブテニル、3−ペンテニル、3−へキセニル、3
−へブテニル、3−ノネニル及び3−デセニル、並びに
か枝鎖状残基、例えば5−メチル−3−へブテニル等が
含まれる。E−またはZ−型に存在し得る残基の場合、
Z−型が一般に好ましい、即ち、好ましい残基は3−ブ
テニル、3Z−ペンテニル、3z−へキセニル等である
残基R2は好ましくは炭素原子6個までを有する。上記
式I、Ia及びIbにおいて、従ってR2は好ましくは
炭素原子1〜6個を有するアルキル、炭素原子3〜6個
を有する2E−アルケニルまたは炭素原子4〜6個を有
する3−アルケニルを表わす。
式1、Ia及びIbの化合物の中で、R1及びR2が直
鎖状残基を表わす化合物が一般に好ましい。
R1が3E−アルケニル残基を表わす式I、  Ia及
びIbの化合物が一般に好ましい。しかしながら、なか
でも、短い鎖が望ましい場合には、R1がlE−アルケ
ニル残基を表わす式I、Ia及びrbの化合物が好まし
い。
式I、Ia及びIbの光学的活性化合物はキラル・ドー
ピング剤(chiral dopingagents)
として適当である。一般に、R1が直鎖状残基を表わし
、そしてR2が分枝鎖状の光学的活性残基を表わす化合
物が好ましい。
式Iの化合物はそれ自体公知の方法において、例えば対
応するシクロヘキサール誘導体を式R2X1但し R2
は上記の意味を有し、そしてXは塩素、臭素またはヨウ
素を表わす、の化合物でエーテル化するか、或いは対応
するシクロヘキサンカルボキシアルデヒドまたは3−シ
クロへキシルプロピオンアルデヒドから出発して、アル
キル−トリフェニルホスホニウムクロライドまたはブロ
マイドによるビツテイヒ(Wittig)反応において
基R1を生成させることによって製造することができる
。製造はこれらの方法に対する普通の条件下で行うこと
ができ、下記の合成実施例において更に詳細に説明する
式Iの化合物を相互の混合物及び/または他の液晶成分
、例えばシッフ塩基、アゾベンゼン、アゾキシベンゼン
、フェニルベンゾエート、シクロヘキサンカルボン酸フ
ェニルエステル、シクロヘキサンカルボン酸シクロヘキ
シルエステル、ビフェニル、フェニルシクロヘキサン、
シクロへキシルシクロヘキサン、フェニルピリミジン、
シクロへキシルピリミジン、フエニルジオキサン、2−
シクロへキシル−1−フェニルエタン、ターフェニル、
シクロへキシルビフェニル、シクロへキシルフェニルピ
リミジン等の群からの物質との混合物の形態で用いるこ
とができる。かかる物質は当該分野に精通せる者にとっ
ては公知であり、更に、これらの多くのものは市販品で
ある。
本発明における液晶混合物は少なくとも二成分を含有し
、その少なくとも一成分は式■の化合物である。第二成
分及び場合によってはそれ以上の成分は更に式■の化合
物及び/または他の液晶成分であることができる。
式■の化合物はネマテイク混合物に対して、或いは少な
くとも混合物の一成分が光学的活性である限り、またコ
レステリック混合物に対して特に適当である。好ましい
適用分野は、ねじれたネマテイク液晶構造を有する液晶
表示装置、例えばTNセル、STNセル、SBEセル及
びOMIセルにおける電媒体としてのその用途である。
従って、好ましい混合物は1種またはそれ以上の式Iの
化合物及び正の誘電異方性を有する1種またはそれ以上
の化合物を含有する混合物である。
高度にねじれたネマテイク液晶層を有する液晶表示装置
における電媒体としてのその用途が特に好ましく、ここ
で、高度にねじれた液晶層として、90°以上ねじれた
ものと理解されたい。この適用分野に対して、液晶混合
物は有利には1種またはそれ以上の式Iの化合物及び正
の誘電異方性を有する1種またはそれ以上の化合物を含
み、混合物の少なくとも一成分は光学的活性である。光
学的活性成分またはその複数成分は式Iの化合物である
ことができ、化合物は正の誘電異方性及び/または他の
普通のドーピング剤、例えば光学的活性ビフェニル、エ
ステル等をもっている。光学的活性物質は、層厚さ(セ
ルにおける)及び全混合物の自然の色調(pitch)
間の比が約0.2〜1゜3になるような量、即ち、約5
〜lOμmの今日の通常の層厚さの場合に、自然の色調
が約4〜50μmになるような量で有利に用いられる。
式Iの化合物の良好な溶解性及びその相互の良好な混和
性を考慮して、本発明における混合物中の式Iの化合物
の量は比較的多量であることができ、例えば約1〜70
重量%であることができる。
式■の化合物約3〜40重量%、特に約5〜30重量%
が一般に好ましい。
本発明における混合物は、好ましくは一種まI;はそれ
以上の式■の化合物のほかに一般式式中、R3はアルキ
ル、3E−アルケニルまたは4−アルケニルを表わし;
R4はシアノまたはフルオロを表ゎL;R’及びR@は
アルキルまたはアルコキシを表わし;R7及びR13は
各々独立して、アルキル、lE−アルケニル、3E−ア
ルケニルまたは4−アルケニルを表わし;R6はシアノ
、アルキル、lE−アルケニル、3E−アルケニル、4
−アルケニル、アルコキシ、2E−アルケニルオキシま
たは3−アルケニルオキシを表わし、R1はアルコキシ
、2E−アルケニルオキシ ルオキシを表わし;nは数0またはlを表わし;Zは単
一共有結合または一CH,CH, −を表わし;R10
はシアノ、アルキル、lEーアルケニル、3E−アルケ
ニルまたは4−アルケニルを表わし;R”はアルキルま
たは4−アルケニルを表わし,R1!はアルコキシ、2
E−アルケニルオキシまたは3−アルケニルオキシを表
わし;xlはフッ素または塩素を表わし、そしてX2は
水素、フッ素または塩素を表わし,R14はアルキル、
3E−アルケニル、4−アルケニル、アルコキシ、2E
−アルケニルオキシまたは3−アルケニルオキシを表わ
し;基Y1及びY2の一つは単一共有結合、−COO−
、−OOC−、−CH.CH.−、−CH20−または
−〇CH,−を表わし、そして基Y1及びY2の他は単
一共有結合を表わし;環AI及びA2は各々独立して、
随時2個の非隣接CH.基が酸素に代わっていてもよい
置換されたまたは未置換のトランス−1.4−シクロヘ
キシレン、或いは随時1個のCH基または2個のCH基
が窒素に代わっていてもよい置換されたまたは未置換の
1。
4−フェニレンを表わす、 の化合物の群からの一種またはそれ以上の化合物  □
を含有する。
「随時2個の非隣接CH2基が酸素に代わっていてもよ
い置換されたまたは未置換のトランス−1、4−シクロ
ヘキシレン」なる用語には、特に   □トランスー1
.4ーシクロヘキシレン及ヒトラン  Jスーm−ジオ
キサン−2.5−ジイル並びに液晶  1において普通
の置換基、例えばシアノ、メチル、   とフッ素また
は塩素で置換される環例えばl−シア  1ノートラン
ス−1,4−シクロヘキシレンまたは2−メチル−トラ
ンス−l,4−シクロヘキシレンが含まれる。    
               t「随時1個のCH基
または2個のCH基が窒素  1に代わっていてもよい
置換されたまたは未置換の  自1、4−フェニレン」
なる用語には、特に1.4−フェニレン、ピリジン−2
.5−ジイル、ヒラジン−2.5−ジイル及びピリミジ
ン−2.5−  カシイル並びに液晶においては普通の
置換基、例え  フばシアノ、メチル、フッ素または塩
素で置換され  叱6JJ、例えば2−シアノ−1.4
−フェニレン、2−フルオロ−1.4−フェニレン、2
−クロロ−1.4〜フエニレンまたは2−メチル−1.
4−フェニレンが含まレル。
式■、■、■、■、■、■、XI,XII[、XIV、
X■及びXffのシアノ及びハロ化合物が正の誘電陵方
性を有する好ましい混合物成分である。好ましくは、全
混合物は一種またはそれ以上のこれらつ化合物の約20
〜70重量%、特に約25〜50重量%を含存する。
式V−XIV(7)化合物、特に式X,XI,XI[、
に■、XV,XVI、X■及びX■の化合物並びに喉A
’及びA”がトランス−1.4−シクロヘキシレンを表
わす式XINの化合物が全混合物において呪い光学異方
性にするために好ましい混合物成分Cある。
一般に、一種またはそれ以上の式Iの化合物に旧えて、
一種またはそれ以上の式v1■、XI、(■、XIV、
XV及び/まt: ハX ff (7)化合物を含ノ混
合物が特に好ましい。
R15がシアノを表わす弐XIの化合物及びR1+が4
−アルケニルを表わす式X■の化合物は新規なものであ
る。また、R”が4−アルケニル、2E−アルケニルオ
キシまたは3−アルケニルオキシを表わす式XIIの化
合物、並びにRI4が3E−アルケニルを表わし、そし
てxlがフッ素を表わす場合に、X2がフッ素または塩
素を表わす該化合物も新規である。式XI、XI及びX
IIの新規化合物の製造は合成実施例に述べた方法に従
って行うことができる。
必要に応じて、また本発明における混合物には二色性着
色物質、例えばアゾ、アゾキシまたはアントラキノン着
色物質を含ませることができる。
一般に、全混合物における着色物質の量は最大約10重
量%である。
本発明における混合物の製造及び電子−光学装置の製造
はそれ自体公知の方法において行うことができる。
式Iの化合物、式XI、XI[及びXIIの新規化合物
並びにこれらの化合物を含有する液晶混合物の製造を次
の実施例によって更に説明する。Cは結晶相を表わし、
Sはスメクティク相を表わし、SIlはスメクティクB
相を表わし、Nはネマテイク相を表わし、モして■はイ
ントロビック相を表わす。■1゜は10%透過に対する
電圧を表わす(プレート表面に対する垂直視界の方向)
。t、及びE *jjはそれぞれスウィチングーオン時
間及びスウイチングーオ7時間を表わし、モして△nが
光学異方性を表わす。k ll+ k 2!及びに!3
は扁平−1ねじれ及び曲げに対する弾性定数を表わす。
△εは誘電異方性を表わし、lはバルク粘度を表わし、
そしてγ1は回転粘度を表わす。
実施例1 a) ジオキサンIQ中の4−(4−ニトロフェニル)
シクロヘキサノン(4−フェニルシクロヘキサノンをニ
トロ化して製造し得る)109゜6gの懸濁液をトリエ
チルアミン50mQ及び5%パラジウム−木炭2gで処
理し、十分に撹拌しながら室温及び水素圧0.3バール
で水素添加した。2時間後、混合物を濾過した。濾液を
水流ポンプによる真空下にて浴@30℃で蒸発させ、蒸
発残渣を水流ポンプによる真空下で、乾燥炉中にて40
℃で一夜乾燥した。かくして、融点127〜128°C
を有する白色結晶として、4−(4−アミノフェニル)
シクロへキサノン94.5gが得られた。
b)  4N硫酸200mαをスルホン化用7ラスコ中
で80℃に加熱し、次に4N硫酸200+++12中の
4−(4−アミノフェニル)シクロへキサノン37.9
gの溶液の約5%で処理した。次いで、この反応混合物
に80℃で1.5時間以内に、残りの4−(4−アミノ
フェニル)シクロヘキサノン溶液並びに水45rRQ中
の亜硝酸ナトリウム15.2gの溶液を同時に滴下した
。その後、混合物を80℃で30分以内に、水2VmQ
中の亜硝酸ナトリウム9gの溶液で滴下処理し、80°
Cで更に1時間撹拌した。反応混合物を0℃に冷却した
後、分離した結晶を吸引濾別し、冷水200m<2で洗
浄し、水流ポンプによる真空下で乾燥炉中にて60℃で
一定重量になるまで乾燥した。結晶性の粗製の精製物(
34,6g)を酢酸エチル520mQに懸濁させた。こ
の懸濁液を還流下で1時間加熱し、次に活性炭1.7g
で処理し、還流下で更に1時間加熱した。次に混合物を
吸引濾過しく温酢酸エチル40m(lですすぎ)、濾液
を水流ポンプによる真空下にて浴温40℃で蒸発させた
蒸発残渣を水流ポンプによる真空下で、乾燥炉中にて6
0°Cで、一定重量になるまで乾燥し、融点165〜1
66°Cを有する黄−褐色の結晶として、4−(4−ヒ
ドロキシフェニル)シクロへキサノン32.2gを得た
c )  tert、−ブチルメチルエーテル60mQ
中の4〜(4−ヒドロキシフェニル)シクロへキサノン
3.8gの懸濁液をスルホン化用フラスコ中にて窒素の
弱い気流下で、2− (1,3−ジオキソラン−2−イ
ル)エチル−トリフェニルホスホニウムブロマイド10
.6g及びカリウムtert、−ブチレート2.2gで
処理した。混合物をまず30分間撹拌し、次に25°C
で2.25時間以内に、カリウムLert、−ブチレー
ト更に2.7gで一部づつ処理し、室温で更に1時間撹
拌した。その後、反応混合物を更に2−(1,3−ジオ
キソラン−2−イル)エチル−トリフェニルホスホニウ
ムブロマイド1.8g及びカリウムtert、−ブチレ
ート0.45gで処理し、更に1時間撹拌した。次に反
応混合物を水80mff1中に注ぎ、2N硫酸11mQ
で酸性にした。水相を分離し、tert、−ブチルメチ
ルエーテル各8011IQで2回抽出した。有機相を水
苔50iρで洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、そし
て吸引濾過した。濾液を水流ポンプによる真空下にて浴
@40°Cで、一定重量になるまで蒸発させた。得られ
た帯赤色の油(10,9g)をシリカゲル上で、トルエ
ン及びトルエン/1ert、−ブチルメチルエーテル(
20:1容量比)を用いてクロマトグラフィーによって
分離した。
生成物のフラクションを水流ポンプによる真空下で蒸発
させ、最後に、水流ポンプによる真空下で乾燥炉中にて
60℃で、一定重量になるまで残渣を乾燥し、融点12
5.5〜126.5℃を有する帯黄色結晶として、4−
 [4−[2−(1,3−ジオキソラン−2−イル)エ
チリデン]シクロヘキシル]フェノール465gを得た
d)   )ルエンE)OOmQ及びトリエチルアミン
50mQ中の4− [4−[2−(1,3−ジオキソラ
ン−2−イル)エチリデン]シクロヘキシル]フェノー
ル36.5gの溶液を、5%白金−木炭3.2gと共に
オートクレーブ中にて90℃及び水素圧lOバールで1
時間水素添加した。次に混合物を吸引濾過し、残渣を温
トルエン30mQで洗浄した。濾液を水流ポンプによる
真空下にて浴温40℃で、一定重量になるまで蒸発させ
た。
得られた白色結晶(37g)を加熱しながらメタノール
180mffに溶解した。溶液を放置して室温に冷却し
、次いで冷蔵庫中に5時間入れた。次に結晶を吸引濾別
し、冷メタノール50mQで洗浄し、水流ポンプによる
真空下で乾燥炉中にて60℃で乾燥した。かくして、融
点153.5〜154.5°Cを有する白色結晶として
、4− [4−[2−(1,3−ジオキンラン−2−イ
ル)エチル]シクロヘキシル]フェノール27.6gが
得られた。
e)4−[トランス−4−[2−(1,3−ジオキソラ
ン−2−イル)エチル]シクロヘキシル]フェノール1
00g、5%ロジウム/酸化アルミニウムlog及び酢
酸エチルlQの混合物をスチール製撹拌オートクレーブ
中にて水素圧50バール及び80℃で90分間水素添加
した。次に触媒を吸引濾別し、酢酸エチルloOmff
で洗浄した。濾液を蒸発させ、残液を25℃10.4ミ
リバールで乾燥した。シス異性体59%及びトランス異
性体36%を含有する4−Cトランス−4−[2−(1
,3−ジオキソラン−2−イル)エチル]シクロヘキシ
ル]シクロヘキサノール101.75gが得られた。
f)  塩化メチレン80m1lt中のクロロクロム酸
ピリジニウム12.9gの溶液を窒素通気しながら室温
で5分以内に、塩化メチレン40raQ中の4−[トラ
ンス−4−[2−(1,3−ジオキソラン−2−イル)
エチル]シクロヘキシル]シクロヘキサノール13.0
gの溶液で滴下処理した。混合物を更に1時間撹拌し、
次にジエチルエーテルloomQで希釈し、濾過し、濾
液を蒸発させた。蒸発残渣をジエチルエーテル200m
12に採り入れ、混合物を濾過し、濾液を蒸発させ、次
にこの方法をくり返し2回行った。その後、得られた帯
褐色固体の塊(12,1g)をシリカゲル上で、酢酸エ
チル/石油エーテル(l:4容量比)を用いてクロマト
グラフィーによって分離した。最後に、酢酸エチル60
mQ及び石油エーテル200I+IQからの無色のケト
ンのフラクションを結晶させ、純粋な4−[トランス−
4−[2−(l、3−ジオキソラン−2−イル)エチル
]シクロヘキシル]シクロへキサノン7.0gを得た。
g) イソプロパツール30oIIIff中の水素化ホ
ウ素ナトリウム2.97gの懸濁液を一70℃で窒素通
気しながら、イソプロパツール2002QI2中の4−
[トランス−4−[2−(1,3−ジオキソラン−2−
イル)エチル]シクロヘキシル]シクロへキサノンl1
gの溶液で滴下処理した。
約1時間後、反応混合物を放置して室温に加温し、0、
IN塩酸500mQで希釈し、塩化メチレン各300m
Qで3回抽出した。有機相を水で洗浄し、硫酸マグネシ
ウム上で乾燥し、濾過し、そして蒸発させた。残渣(l
1g)を酢酸エチル/石油エーテル(3:5容量比)5
00++14から結晶サセ、融点129.5℃を有する
純粋なトランス−4−[トランス−4−[2−(1,3
−ジオキソラン−2−イル)エチル]シクロヘキシル]
シクロヘキサノール6.6gを得た。
h) 約50%油性懸濁液としての水素化ナトリウム2
.04gを窒素通気しなから丸底フラスコに入れ、ペン
タンで2回洗浄した。次にこの水素化ナトリウムに乾燥
テトラヒドロフラン40mQ及びテトラヒドロ7ラン3
OmQ中のトランス−4−[トランス−4−[2−(1
,3−ジオキソラン−2−イル)エチル]シクロヘキシ
ル]シクロヘキサノール6.0gの溶液を加えた。混合
物を室温で30分間撹拌し、次にヨウ化メチル4゜Om
Qで処理し、還流下で2時間加熱した。次に反応混合物
を冷却し、ジエチルエーテル200mI2に採り入れ、
水苔200m(2で3回洗浄した。有機相を硫酸マグネ
シウム上で乾燥し、濾過し、そして蒸発させ、かくして
、融点74℃を有する2−[2−[トランス−4−(ト
ランス−4−メトキシシクロヘキシル)シクロヘキシル
]エチル1−1,3−ジオキソラン6.3gが得られた
i)  2−[2−[)ランス−4−(トランス−4−
メトキシシクロヘキシル)シクロヘキシル]エチル]−
1,3−ジオキソラン6.2gを窒素通気しながら、水
100mQ、氷酢酸50TnQ及びジオキサン20mQ
で処理した。混合物を100℃(浴温)で1.5時間撹
拌し、次に希釈炭酸水素ナトリウム溶液で中和し、ジエ
チルエーテルで3回抽出した。合液したエーテル相を水
で1回、希釈炭酸水素ナトリウム溶液で2回洗浄し、硫
酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、そして蒸発させた
。得られた粗製のアルデヒド(4,34g)を−20°
Cで石油エーテル150m12から再結晶させ、純度9
6%の3−[トランス−4−(トランス−4−メトキシ
シクロヘキシル)シクロヘキシル]プロピオンアルデヒ
ド2.8gを得た。
j) エチルトリフェニルホスホニウムブロマイド2.
65gをアルゴン通気しながらtert、−ブチルメチ
ルエーテル40m(2に懸濁させた。懸濁液を室温にて
カリウムtert、−ブチレート797mgで処理し、
1時間撹拌した。次に混合物を0°Cに冷却し、ter
t、−ブチルメチルエーテル15mQ中の3−[トラン
ス−4−(トランス−4−メトキシシクロヘキシル)シ
クロヘキシル]プロピオンアルデヒド1.1gの溶液で
3分以内に滴下処理し、撹拌しながら放置して徐々に室
温に加温した。
2時間後、淡黄色の懸濁液をジエチルエーテル/水で分
配した。水相を分離し、ジエチルエーテルで洗浄した。
有機相を水で2回洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し
、濾過し、そして蒸発させた。
黄色固体の粗製の生成物をシリカゲル上で酢酸エチル/
石油エーテル(3:97容量比)を用いてクロマトグラ
フ的に精製し、86:11のZ/E比を有するトランス
−4−(3−ペンテニル)=1−(トランス−4−メト
キシシクロヘキシル)シクロヘキサン0.91gを得た
k) トランス−4−(3−ペンテニル)−1−・(ト
ランス−4−メトキシシクロヘキシル)シフoへ*”t
ン(Z/E=86 : 11) 0.91 gを窒素通
気しながら、トルエン6mQ、ベンゼンスルフィン酸ナ
トリウム0.11g及びIN塩酸1m12で処理した。
混合物を50’Oで15時間撹拌し、次に希釈炭酸水素
ナトリウム溶液100mffに注ぎ、ジエチルエーテル
各50m4で3回抽出した。合液した有機相を希釈炭酸
ナトリウム溶液100m12及び水100m12で洗浄
し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、そして蒸発
させた。
得られた帯黄色の油(0,9g)を硝酸銀含浸したシリ
カゲル上で、ジエチルエーテル/ヘキサン(l:9容量
比)を用いて、クロマトグラフィーによって精製した。
得られた生成物(486mg)を−20°Cでメタノー
ル1OrnQから再結晶させ、融点(C−N)16.6
°C及び透明点(N−1)43.7℃を有する純粋なト
ランス−4−(3E−ペンテニル)−1−()ランス−
4−メトキシシクロヘキシル)シクロヘキサンを得た。
同様の方法においそ、次の化合物を製造することができ
たニ ドランス−4−(3−ブテニル)−1−(1−ランス−
4−メトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン、 融点 (C−N)−13,6°C1透明点、(N−1)
18.6℃; トランス−4−(3−ブテニル)−1−(トランス−4
−エトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン、 融点 (C−N)  13.1’0、透明点、(N−1
)45.3°Cニ ドランス−4−(3−ブテニル)−1−(トランス−4
−プロピルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4−(3−ブテニル)−1−(トランス−4
−ブチルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4−(3−ブテニル)−1−(トランス−4
−ペンチルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4−(3−ブテニル’)−1−(トランス−
4−へキシルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4−(3−ブテニル)−1−(トランス−4
−アリルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4−(3−ブテニル)−1−[トランス−(
2E−ブテニルオキシ)シクロヘキシルコシクロヘキサ
ン; トランス−4−(3−ブテニル)−1−[トランス−4
−(2E−ペンテニルオキシ)シクロへキシルコシクロ
ヘキサン; トランス−4−(3−ブテニル)−1−[)ランス−4
−(2E−へキセニルオキシ)シクロへキシルコシクロ
ヘキサン; トランス−4−(3−ブテニル)−1−[トランス−4
−(3−ブテニルオキシ)シクロへキシルコシクロヘキ
サン; トランス−4−(3−ブテニル)−1−[トランス−4
−(32−ペンテニルオキシ)シクロヘキシルコシクロ
ヘキサン: トランス−4−(3−ブテニル)−1−[)ランス−4
−(3Z−へキセニルオキシ)シクロへキシルコシクロ
ヘキサン; トランス−4−(3E−ペンテニル)−1−(トランス
−4−エトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン、 融点 (C−N)   44.5℃、透明点、(N−I
)76.5°Cニ ドランス−4−(3E−ペンテニル)−1−(トランス
−4−プロピルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン
; トランス−4−(3E−ペンテニル)−1−(トランス
−4−ブチルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4−(3E−ペンテニル)−1−(トランス
−4−ペンチルオキシシクロヘキシルシクロヘキサン: トランス−4−(3E−ペンテニル)−1−(トランス
−4−ヘキシルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン
; トランス−4 −(3 E−ペンテニル)−1−(トラ
ンス−4−アリルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサ
ン; トランス−4−(3E−ペンテニル)−1−[トランス
−4−(2E−ブテニルオキシ)シクロへキシル1シク
ロヘキサン; トランス−4−(3E−ペンテニル)−1−[トランス
−4−(2E−ペンテニルオキシ)シクロへキシル1シ
クロヘキサン: トランス−4 −(3 E−ペンテニル)−1−[トラ
ンス−4−(2E−へキセニルオキシ)シクロヘキシル
コシクロヘキサン; トランス−4−(3E−ペンテニル)−1−[)ランス
−4−(3−ブテニルオキシ)シクロヘキシル] シク
ロヘキサン; トランス−4 −(3 E−ペンテニル)−1−[トラ
ンス−4−(32−ペンテニルオキシ)シクロヘキシル
]シクロヘキサン; トランス−4−(3E−ペンテニル)−1−[トランス
−4−(3Z−へキセニルオキシ)シクロヘキシルコシ
クロヘキサン; トランス−4−(3E−へキセニル)−1−(トランス
−4−メトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4−(3E−ヘキセニル)−1−(トランス
−4−エトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4−(3E−へキセニル)−1−(トランス
−4−プロピルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン
; トランス−4−(3E−へキセニル)−1−(トランス
−4−ブチルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4−(3E−へキセニル)−1−(トランス
−4−ペンチルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン
; トラン′7.−4−(3E−へキセニル)−1−(トラ
ンス−4−へキシルオキシシクロヘキシル)シクロヘキ
サン: トランス−4−(3E−へキセニル)−1=(トランス
−4−アリルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4−(3E−へキセニル)−1−[トランス
−4−(2E−ブテニルオキシ)シクロヘキシルコシク
ロヘキサン; トランス−4−(3E−へキセニル)−1−[トランス
−4−(2E−ペンテニルオキシ)シクロヘキシルコシ
クロヘキサン; トランス−4−(3E−へキセニル)−1−[トランス
−4−(2E−へキセニルオキシ)シクロヘキシルコシ
クロヘキサン; トランス−4−(3E−へキセニル)−1−[トランス
−4−(3−ブテニルオキシ)シクロヘキシルコシクロ
ヘキサン; トランス−4−(3E−ヘキセニル)−1−[トランス
−4−(3Z−ペンテニルオキシ)シクロヘキシルコシ
クロヘキサン; トランス−4−(3E−へキセニル)−1−[トランス
−4−(3Z−へキセニルオキシ)シクロヘキシルコシ
クロヘキサン。
工程a)〜i)と同様の方法において、そして更に、得
られたプロピオンアルデヒドを実施例2、工程h)、i
)及びj)と同様の方法で反応させ、次の化合物を製造
することができたニ ドランス−4−(4−ペンテニル)−1−(トランス−
4−メトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン、融点 
(c−sa)   7.7℃、 透明点、(S、−I)
14.06°0ニ ドランス−4−(4−ペンテニル)−1−(トランス−
4−エトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン、融点 
(C−3i)  10.5℃、 透明点、(S、−1)
43.1’c; トランス−4−(4−ペンテニル)−1−(トランス−
4−プロピルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4−(4−ペンテニル)−1−(トランス−
4−ブチルオキシシクロヘキシルロヘキサン; トランス−4−(4−ペンテニル)− 1 −(トラン
ス−4−ペンチルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサ
ン: トランス−4−(4−ペンテニル)−1−(トランス−
4−へキシルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4−(4−ペンテニル’)−1 −(トラン
ス−4−アリルオキシシクロへキシル]シクロヘキサン
: トランス−4−(4−ペンテニル)−1−(トランス−
4−(3−ブテニルオキシ)シクロヘキシルコシクロヘ
キサン; トランス−4−(4Z−へキセニル)−1−(トランス
−4−メトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4 −(4 Z−へキセニル)−1−(トラ
ンス−4−エトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン: トランス−4 −(4 Z−へキセニル)−l−(トラ
ンス−4−プロピルオキシシクロヘキシル)シクロヘキ
サン; トランス−4−(4Z−へキセニル)−1−(トランス
−4−ブチルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン、
・ トランス−4−(4Z−へキセニル)−1−(トランス
−4−ペンチルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン
; トランス−4−(4Z−へキセニル)−1−(トランス
−4−ヘキシルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン
: トランス−4−(4Z−へキセニル)−1−(トランス
−4−アリルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン: トランス−4−(4Z−へキセニル)−1−〔トランス
−4−3−ブテニルオキシ〕シクロヘキシル]シクロヘ
キサン。
4−(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサノン(工
程b)を実施例2、工程h)及びi)と同様の方法で反
応させ、得られた4−(トランス−4−ホルミルシクロ
ヘキシル)フェノールをp−トルエンスルホン酸の存在
下においてエチレングリコールでアセタール化し、そし
て更にジオキソランを上記工程e)〜k)と同様の方法
で反応させ、次の化合物を製造することができたニドラ
ンス−4−ビニル−1−(トランス−4−メトキシシク
ロヘキシル)シクロヘキサン、融点(C−1)−20,
3℃、透明点(N−I)−26,5℃; トランス−4−ビニル−1−(トランス−4−エトキシ
シクロヘキシル)シクロヘキサン、融点(C−I)−1
7℃、透明点(N71)6゜3℃ニ ドランス−4−ビニル−1−(トランス−4−プロピル
オキシシクロヘキシル)シクロヘキサン: トランス−4−ビニル−1−(トランス−4−ブチルオ
キシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4ニビニル−1−0ランス−4−ペンチルオ
キシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4−ビニル−1−(トランス−4−へキシル
オキシシクロヘキシル)シクロヘキサン: トランス−4−ビニル−1−(トランス−4−アリルオ
キシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4−ビニル−1−[トランス−4−(3−ブ
テニルオキシ)シクロヘキシルコシクロヘキサン; トランス−4−(IE−プロペニル)−1−(トランス
−4−メトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン、融点
(C−N)4.2°C1透明点(N−1)17.2℃; トランス−4−(IE−プロペニル)−1−(トランス
−4−エトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン、融点
(C−Sl)、37℃、転位点(SR−N)37.5℃
、透明点(N−I)67.6℃;トランス−4−(IE
−プロペニル)−1−(トランス−4−プロピルオキシ
シクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4−(IE−プロペニル)−1−(トランス
−4−、ブチルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン
: トランス−4−(IE−プロペニル)−1−(トランス
−4−ペンチルオキシシクロヘキシルシクロヘキサン; トランス−4−(IE−プロペニル)−1−(トランス
−4−ヘキシルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン
: トランス−4 −(l E−プロペニル)−1−(トラ
ンス−4−アリルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサ
ン; トランス−4−(IE−プロペニル)−l−[トランス
−4−(3−ブテニルオキシ)シクロヘキシルコシクロ
ヘキサン: トランス−4 −(I E−ブテニル)− 1 −(ト
ランス−4−メトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン
、融点(C−S11)−2.9°C1転位点(SR−N
)3.4°C1透明点(N−I)8.4°C;トランス
−4−(IE−ブテニル)−1−(トランス−4−エト
キシシクロヘキシル)シクロヘキサン融点(C5R)8
.3°C1転位点(sn−N)21.5℃、透明点(N
−I)49.7°C;トランス−4−(IE−ブテニル
)−1−(トランス−4−プロピルオキシシクロヘキシ
ル)シクロヘキサン; トランス−4−(IE−ブテニル”)−1−(トランス
−4−ブチルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4−(IE−ブテニル)−1−(トランス−
4−ペンチルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4−(l E−ブテニル)−1−(トランス
−4−アリルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン: トランス−4−(I E−ブテニル)−1−[トランス
−4−(3−ブテニルオキシ)シクロヘキシル1シクロ
ヘキサン; トランス−4−(l E−ペンテニル)−1−(トラン
ス−4−メトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン、融
点(CSs)  17.4℃、転位点(S、−N)21
.5℃、透明点(N−1)24゜7℃ニ ドランス−4−(IE−ペンテニル)−1−(トランス
−4−エトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン、融点
(C−Sl)14℃、転位点(Sa−N)48.1’O
,透明点(N−1)62.5°C;トランス−4−(l
 E−ペンテニル)−1−(トランス−4−プロピルオ
キシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4−(IE−ペンテニル)−1−(トランス
−4−ブチルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4−(I E−ペンテニル)−1−(トラン
ス−4−アリルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン
: トランス−4−<l E−ペンテニル)−1−[トラン
ス−4−(3−ブテニルオキシ)シクロヘキシル] シ
クロヘキサン。
4− (2−フェニルエチル)シクロヘキサノン[モレ
キュラ・クリスタル・アンド・リキッド・クリスタル(
Mo1.Cryst、L iq、Cryst、) 13
1 。
327(1985)に記載されたニトリルと同様の方法
で製造し得る]から出発して上記方法に従って、また次
の化合物を製造することができた=4−[2−[トラン
ス−4−(2−(1,3−Cオキソラン−2−イル)エ
チル)シクロヘキシル]エチル]シクロヘキサノン; トランス−4−(3−ブテニル)−1−[2−(トラン
ス−4−メトキシシクロヘキシル)エチル1シクロヘキ
サン: トランス−4−(3−ブテニル)−1−[2−(トラン
ス−4−エトキシシクロヘキシル)エチルコシクロヘキ
サン: トランス−4−(3−ブテニル)−1−[2−(トラン
ス−4−プロピルオキシシクロヘキシル)エチルコシク
ロヘキサン: トランス−4−(3−ブテニル)−1−[2−(トラン
ス−4−ブチルオキシシクロヘキシル)エチルコシクロ
ヘキサン; トランス−4−(3−ブテニル)−1−[2−(トラン
ス−4−ペンチルオキシシクロヘキシル)エチルコシク
ロヘキサン: トランス−4−(3−ブテニル)−1−[2−(トラン
ス−4−へキシルオキシシクロヘキシル)エチルコシク
ロヘキサン; トランス−4−(3−ブテニル)−1−[2−(トラン
ス−4−アリルオキシシクロヘキシル)エチルコシクロ
ヘキサン; トランス−4−(3−ブテニル)−1−[2−(トラン
ス−4−(3E−ブテニルオキシ)シクロヘキシル)エ
チルコシクロヘキサン:トランス−4−(3−ブテニル
)−1−[2−(トランス−4−(2E−ペンテニルオ
キシ)シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサン:トラ
ンス−4−(3−ブテニル)−1−[2−(トランス−
4−(2E−へキセニルオキシ)シクロヘキシル)エチ
ル]シクロヘキサン:トランス−4−(3−ブテニル)
−1−[’2−(トランス−4−(3−7’テニルオキ
シ)シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサン;トラン
ス−4−(3−ブテニル)−1−[2−(トランス−4
−(3Z−ペンテニルオキシ)シクロヘキシル)エチル
1シクロヘキサン;トランス−4−(3−ブテニル)−
1−[2−(トランス−4−(32−へキセニルオキシ
)シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサン;トランス
−4−(3E−ペンテニル)−1−[2−0ランス−4
−メトキシシクロヘキシル)エチル1シクロヘキサン; トランス−4−(3E−ペンテニル)−1=[2−(ト
ランス−4−エトキシシクロヘキシル)エチルコシクロ
ヘキサン: トランス−4−(3E−ペンテニル)−1−[2−(ト
ランス−4−プロピルオキシシクロヘキシル)エチルコ
シクロヘキサン; トランス−4−(3E−ペンテニル)−1−[2−(ト
ランス−4−ブチルオキシシクロヘキシル)エチルコシ
クロヘキサン; トランス−4−(3E−ペンテニル)−1−[2−0ラ
ンス−4−ペンチルオキシシクロヘキシル)エチルコシ
クロヘキサン; トランス−4−(3E−ペンテニル)−1−[2−(1
−ランス−4−ヘキシルオキシシクロヘキシル)エチル
コシクロヘキサン: トランス−4−(3E−ペンテニル)−1−[2−0ラ
ンス−4−アリルオキシシクロヘキシル)エチルコシク
ロヘキサン; トランス−4−(3E−ペンテニル)−1−[2−()
ランス−4−(2E−ブテニルオキシ)シクロヘキシル
)エチルコシクロヘキサン;トランス−4−(3E−ペ
ンテニル)−1−[2−(1−ランス−4−(2E−ペ
ンテニルオキシ)シクロヘキシル)エチルコシクロヘキ
サン;トランス−4−(3E−ペンテニル)−1−[2
−(1−ランス−4−(2E−へキセニルオキシ)シク
ロヘキシル)エチルコシクロヘキサン:トランス−4−
(3E−ペンテニル)−1−[2−(1−ランス−4−
(3−ブテニルオキシ)シクロヘキシル)エチル1シク
ロヘキサン;トランス−4−(3E−ペンテニル)−1
−[2−0ランス−4−(3Z−ペンテニルオキシ)シ
クロヘキシル)エチルコシクロヘキサン;トランス−4
−(3E−ペンテニル)=1−[2−()ランス−4−
(3Z−へキシルオキシ)シクロヘキシル)エチルコシ
クロヘキサン:トランス−4−(3E−へキセニル)−
1−[2−0ランス−4−メトキシシクロヘキシル)エ
チルコシクロヘキサン; トランス−4−(3E−へキセニル)−1−[2−()
ランス−4−エトキシシクロヘキシル)エチルコシクロ
ヘキサン; トランス−4−(3E−へキセニル)−1−[2−0ラ
ンス−4−プロピルオキシシクロヘキシル)エチルコシ
クロヘキサン; トランス−4−(3E−へキセニル)−1−[2−(ト
ランス−4−ブチルオキシシクロヘキシル)エチルコシ
クロヘキサン: トランス−4−(3E−へキセニル)−1−[2−(1
−ランス−4−ペンチルオキシシクロヘキシル)エチル
コシクロヘキサン; トランス−4−(3E−へキセニル)−1−[2−(1
−ランス−4−へキシルオキシシクロヘキシル)エチル
コシクロヘキサン; トランス−4−(3E−へキセニル)−1−[2−(ト
ランス−4−アリルオキシシクロヘキシル)エチルコシ
クロヘキサン; トランス−4−(3E−へキセニル)−1−[2−0ラ
ンス−4−(3−ブテニルオキシ)シクロヘキシル)エ
チルコシクロヘキサン;トランス−4−(4−ペンテニ
ル)−1−[2−(トランス−4−メトキシシクロヘキ
シル)エチルコシクロヘキサン; トランス−4−(4−ペンテニル)−1−[2−(トラ
ンス−4−エトキシシクロヘキシル)エチル1シクロヘ
キサン: トランス−4−(4−ペンテニル)−1−[2−(トラ
ンス−4−プロビルオキシシクロヘキシル)エチル1シ
クロヘキサン; トランス−4−(4−ペンテニル)−1−[2−(トラ
ンス−4−ブチルオキシシクロヘキシル)エチル1シク
ロヘキサン; トランス−4−(4−ペンテニル)−1−[2−(トラ
ンス−4−ペンチルオキシシクロヘキシル)エチルコシ
クロヘキサン; トランス−4−(4−ペンテニル)−1−[2−(トラ
ンス−4−ヘキシルオキシシクロヘキシル)エチルコシ
クロヘキサン: トランス−4−(4−ペンテニル)−1−[2−(トラ
ンス−4−アリルオキシシクロヘキシル)エチル1シク
ロヘキサン; トランス−4−(4−ペンテニル’)−1−[2−(ト
ランス−4−(3−ブテニルオキシ)シクロヘキシル)
エチルコシクロヘキサン;トランス−4−(4Z−ヘキ
セニル)−1−[2−(トランス−4−メトキシシクロ
ヘキシル)エチル1シクロヘキサン; トランス−4−(4Z−へキセニル)−1−[2−0ラ
ンス−4−エトキシシクロヘキシル)エチルコシクロヘ
キサン; トランス−4−(4Z−へキセニル)−1−[2−(1
−ランス−4−プロピルオキシシクロヘキシル)エチル
1シクロヘキサン; トランス−4−(4Z−へキセニル)−■−[2−(1
−ランス−4−ブチルオキシシクロヘキシル)エチルコ
シクロヘキサン: トランス−4−(4Z−へキセニル)−1−[2−()
ランス−4−アリルオキシシクロヘキシルトランス−4
−(42−へキセニル)−1−[2−(トランス−4−
(3−ブテニルオキシ)シクロヘキシル)エチルコシク
ロヘキサン:トランス−4−ビニル−1−[2−(トラ
ンス−4−ペンチルオキシシクロヘキシル)エチルコシ
クロヘキサン; トランス−4−ビニル−1−[2−0ランス−4−ヘキ
シルオキシシクロヘキシル)エチルコシクロヘキサン; トランス−4−ビニル−1−[2−(トランス−4−メ
トキシシクロヘキシル)エチルコシクロヘキサン; トランス−4−ビニル−1−[2−(1−ランス−4−
エトキシシクロヘキシル)エチルコシクロヘキサン; トランス−4−ビニル−1−[2−(1−ランス−4−
プロピルオキシシクロヘキシル)エチルコシクロヘキサ
ン; トランス−4−ビニル−1−[2−0ランス−4−ブチ
ルオキシシクロヘキシル)エチルコシクロヘキサン; トランス−4−ビニル−1−[2−(トランス−4−ア
リルオキシシクロヘキシル)エチルコシクロヘキサン: トランス−4−ビニル−1−[2−(トランス−4−(
3−ブテニルオキシ)シクロヘキシル)エチルコシクロ
ヘキサン: トランス−4−(IE−プロペニル)−1−[2−(ト
ランス−4−メトキシシクロヘキシル)エチルコシクa
ヘキサン: トランス−4 −(I E−プロペニル)−1−[2−
(1−ランス−4−エトキシシクロヘキシル)エチルコ
シクロヘキサン; トランス−4−(IE−プロペニル)−1−[2−()
ランス−4−プロピルオキシシクロヘキシル)エチル1
シクロヘキサン; トランス−4 −(I E−プロペニル)=l−[2−
()ランス−4−ブチルオキシシクロヘキシル)エチル
コシクロヘキサン; トランス−4 −(l E−プロペニル)−1−[2−
(1−ランス−4−ペンチルオキシシクロヘキシル)エ
チルコシクロヘキサン; トランス−4−(IE−プロペニル)−l−[2−()
ランス−4−へキシルオキシシクロヘキシル)エチルコ
シクロヘキサン; トランス−4 −(l E−プロペニル)−1−[’2
−(トランス−4−アリルオキシシクロヘキシル)エチ
ル1シクロヘキサン: トランス−4 −(l E−プロペニル)−l−[2−
(トランス−4−(3−ブテニルオキシ)シクロヘキシ
ル)エチル]シクロヘキサン;トランス−4−(I E
−ブテニル)−1−[2−(トランス−4−メトキシシ
クロヘキシル)エチルコシクロヘキサン; トランス−4−(I E−ブテニル)−1−[2−(ト
ランス−4−エトキシシクロヘキシル)エチルコシクロ
ヘキサン; トランス−4−(l E−ブテニル)−1−[2−(ト
ランス−4−プロピルオキシシクロヘキシル)エチルコ
シクロヘキサン; トランス−4−(IE−ブテニル)−1−[2−(トラ
ンス−4−ブチルオキシシクロヘキシル)エチル1シク
ロヘキサン: トランス−4−(IE−ブテニル)−1−[2−(トラ
ンス−4−ペンチルオキシシクロヘキシル)エチルコシ
クロヘキサン; トランス−4−(l E−ブテニル)−1−[2−(ト
ランス−4−アリルオキシシクロヘキシル)エチルコシ
クロヘキサン; ]・ランス−4−(l E−ブテニル)−1−[2−(
トランス−4−(3−ブテニルオキシ)シクロヘキシル
)エチル]シクロヘキサン:トランス−4−(l E−
ペンテニル)−1−[2−0ランス−4−メトキシシク
ロヘキシル)エチル1シクロヘキサン; トランス−4−(IE−ペンテニル)−1−[2−(1
−ランス−4−エトキシシクロヘキシル)エチル]ンク
ロヘキサン; トランス−4−(IE−ペンテニル)−1−[2−(1
−ランス−4−プロピルオキシシクロヘキシル)エチル
]シクロヘキサン; トランス−4−(l E−ペンテニル)−1−(2−(
トランス−4−ブチルオキシシクロヘキシル)エチルコ
シクロヘキサン; トランス−4−(l E−ペンテニル)−1−[2−(
トランス−4−アリルオキシシクロヘキシル)エチルコ
シクロヘキサン; トランス−4−(l E−ペンテニル)−1−[2−(
1−ランス−4−(3−ブテニルオキシ)シクロヘキシ
ル)エチルコシクロヘキサン。
実施例2 a)2−(1,3−ジオキソラン−2−イル)エチルー
トリフェニルホスホニウムダロマイト140.9gを窒
素通気しながら、テトラヒドロフラン4.5Qに懸濁さ
せ、懸濁液を0℃にてカリウムtert、−ブチレート
36.8gで5分以内に処理した。橙色の懸濁液を室温
で更に1時間撹拌し、4−(4−オキソシクロヘキシル
)ベンズアミド46.1 gで5分以内に処理した。反
応混合物を室温で更に4.5時間撹拌し、次に真空下で
濃縮した。得られた帯黄色の結晶(212,5g)をジ
エチルエーテル1.212で処理した。混合物を室温で
30分間撹拌し、次に吸引濾過した。残渣をジエチルエ
ーテルで洗浄し、次に水700++IQに懸濁させた。
混合物を15分間撹拌し、次に吸引濾過した。残渣を水
で洗浄し、加熱しながらジオキサン600mQに溶解し
た。溶液を放置して室温に冷却した。分離した結晶を吸
引濾別し、少量のジオキサン及びヘキサンで洗浄し、真
空下にて60℃で乾燥し、かくして、融点209〜21
2°Cを有する結晶性の4− [4−[2−(1,3−
ジオキソラン−2−イル)エチリデン]シクロヘキシル
]ベンズアミド39.2gが得られた。
母液(72,6g)を処理し、更に生成物7.7g及び
第二の母液64.2gを得た。
b)  4−[4−[2−(1,3−ジオキソラン−2
−イル)エチリデンコシクロヘキシル1ベンズアミド5
00mg及びジオキサン/トリエチルアミン(9:1容
量比)20mQの混合物を10%白金−木炭500mg
によって2時間水素添加した。次に反応混合物を濾過し
、濾液を蒸発させた。蒸発残渣をジオキサン40mQか
ら再結晶させ、無色の結晶として、4−[1−ランス−
4−[2−(1,3−ジオキソラン−2−イル)エチル
コシクロヘキシル1ベンズアミド230mgを得た。
c”)  4−[)ランス−4−[2−(1,3−ジオ
キソラン−2−イル)エチル1シクロヘキシル]ベンズ
アミド27gをジオキサン中にて、5%ルテニウム−木
炭5gを用いて、120°C及び水素圧40バールで8
時間水素添加した。濾過し、テトラヒドロフランで洗浄
した後の粗製の生成物(25g)は4−[トランス−4
−[2−(1゜3−ジオキソラン−2−イル)エチル]
 シクロへキシル]シクロヘキサンカルボキシアミドの
シス異性体69%及びトランス異性体25%を含有して
いに。
d) 粗製の4−[トランス−4−[2−(1゜2−ジ
オキソラン−2−イル)エチル]シクロヘキシル1シク
ロヘキサン力゛ルボキシアミド42gをアルゴン通気し
ながらエチレングリコール500mQに懸濁させ、次に
固体の水酸化カリウム19gで処理した。混合物を撹拌
しながら180℃(浴温)に5時間加熱した。冷却後、
反応混合物を水500m(l中に注ぎ、10%塩酸でp
H約3の酸性にし、塩化メチレン各300m(2で3回
抽出した。合液した有機相を1%塩酸500m<2で1
回、水苔50(1+12で2回洗浄し、硫酸マグネシウ
ム上で乾燥し、濾過し、そして蒸発させた。
暗褐色の粗製の生成物(41g)をシリカゲル上で、酢
酸゛エチルを用いてクロマトグラフィーによって精製し
た。得られた生成物(36g)をアセトンから結晶させ
、純粋なトランス−4−Eトランス−4−[2−(1,
3−ジオキソラン−2−イル)エチル]シクロヘキシル
]シクロヘキサンカルボン酸13.8gを得た。母液を
処理し、更に純粋な生成物2.5gを得た。
e)  トランス−4−[トランス−4−[2−(1,
3−ジオキソラン−2−イル)エチル]シクロヘキシル
]シクロヘキサンカルボン酸18gをアルゴン通気しな
がらクロロホルム600mffに溶解し、この溶液を0
℃で撹拌しながら、クロロホルム40mQ中のクロロギ
酸エチル7.2mQの溶液で滴下処理した。反応溶液を
更に30分間撹拌した。次にアンモニアガスを溶液中に
10分間導入した。混合物を0℃で更に30分間撹拌し
、次に水苔300mQで2回抽出した。水相をクロロホ
ルム各toOn12で逆抽出した。合液した有機相を硫
酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、そして蒸発させた
。得ちれた褐色結晶性の粗製の生成物(19g)を塩化
メチレン800m12から再結晶させ、淡褐色結晶とし
て、トランス−4−[トランス−4−[2−(1,3−
ジオキソラン−2−イル)エチル]シクロヘキシル]シ
クロヘキサンカルボキシアミド13gを得た。
f) トランス−4−[トランス−4−[2−(l、3
−ジオキソラン−2−イル)エチル]シクロヘキシル]
シクロヘキサンカルボキシアミド2.1 gをアルゴン
通気しなからジメチルホルムアミド5QmQに懸濁させ
た。懸濁液をピリジン1.32mQ及びメタンスルホク
ロライド0.898+IIQで処理し、60℃(浴温)
で1.5時間撹拌した。次に反応溶液を塩化メチレン及
びlO%塩酸塩酸分配した。水相を塩化メチレン各10
0+lIaで2回抽出した。有機相を水苔100mQで
2回洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、そ
して濃縮した。かくして、純度96%の黄色結晶として
トランス−4−[トランス−4−[2−(l、3−ジオ
キソラン−2−イル)エチル]シクロヘキシル]シクロ
ヘキサンカルボニトリル2゜5gが得られた。
g) 粗製のトランス−4−[トランス−4−[2−(
1,3−ジオキソラン−2−イル)エチル]シクロヘキ
シル]シクロヘキサンカルボニトリル3.0gをアルゴ
ン通気しながら、水50mQ。
氷酢酸25m12及びジオキサンlOmQに懸濁させ、
100℃で1時間撹拌した。その後、反応溶液を水10
0mffで処理した。水相を分離し、ジエチルエーテル
各100mffで3回抽出した。有機相を希釈炭酸水素
ナトリウム溶液100m<2及び水100m<2で洗浄
し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、そして濃縮
した。得られた黄色結晶(2,25g)をヘキサン60
IIIαから再結晶させ、無色の結晶として、3−[ト
ランス−4−[トランス−4−シアノシクロヘキシル]
シクロヘキシル]プロピオンアルデヒド1.98gを得
た。
h)  メトキシメチル−トリフェニルホスホニウムク
ロライド4.l1gをアルゴン通気しながらjerL、
〜ブチルメチルエーテル60rRQに懸濁させ、室温に
て2分以内にカリウムtert、−ブチレート1.26
gで処理した。懸濁液を室温で更に1時間撹拌し、次に
0°Cに冷却し、tert、−ブチルメチルエーテル2
5m(l中の3−[トランス−4−[トランス−4−シ
アノシクロヘキシル]シクロヘキシル1プロピオンアル
デヒド1.98gの溶液で5分以内に滴下処理した。反
応混合物を0°Cで更に45分間撹拌し、次に水100
m12で希釈し、ジエチルエーテル各100mffで3
回抽出した。有機相を水苔100mQで2回洗浄し、硫
酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、そして濃縮した。
粗製の生成物をシリカゲル上にて0.5ノく一ルで、酢
酸エチル/石油エーテル(5:95容量比)を用いてク
ロマトグラフ的に精製し、無色のミルク状の油として、
トランス−4−[トランス−4−(4−メトキシ−3−
ブテニル)シクロヘキシルコシクロヘキサンカルボニト
リル2.0gを得た。
i)  トランス−4−[トランス−4−(4−メトキ
シ−3−ブテニル)シクロヘキシルコシクロヘキサンカ
ルボニトリル1.65gをアルゴン通気しながら、水5
0tQ、氷酢酸25mQ及びジオキサン12m12に懸
濁させた。懸濁液を80°C(浴温)で2時間撹拌し、
次に水5’ OmQで希釈した。水相を分離し、ジエチ
ルエーテル各100mQで3回抽出した。有機相を水苔
100m12で2回、次に飽和炭酸水素ナトリウム溶液
100mQ1そして再び水100+xffで洗浄し、硫
酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、そして濃縮した。
かくして、無色の結晶として、4− [1−ランス−4
−[トランス−4−シアノシクロヘキシル)シクロヘキ
シル1ブチルアルデヒド1.5gが得られた。
j) メチルトリフェニルホスホニウムブロマイド3.
28gをアルゴン通気しながら、tert、−ブチルメ
チルエーテル40mQに懸濁させた。懸濁液を室温にて
1分以内に、カリウムtert、−ブチレート962m
gで処理し、1時間撹拌した。
次に混合物を0°Cに冷却し、t ert、−ブチルメ
チルエーテル2OmQ中の4−[トランス−4−(トラ
ンス−4−シアノシクロヘキシル)シクロヘキシル1ブ
チルアルデヒド1.5gの溶液で3分以内に滴下処理し
、0℃で更に45分間撹拌した。
その後、反応混合物を水80mQで希釈し、石油エーテ
ル各10011172で3回抽出した。有機相を水苔1
00mQで2回洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、
濾過し、そして濃縮した。粗製の生成物(2,1g)を
シリカゲル上にて0.5バールで、酢酸エチル/石油エ
ーテル(2:98容量比)を用いてクロマトグラフ的に
精製し、メタノールから再結晶させ、融点(C−Sl)
 20.1’O0S、−N36..9°C0透明点(N
−I)54.8°Cを有する無色結晶として、トランス
−4−[トランス−4−(4−ペンテニル)シクロヘキ
シル1シクロヘキサンカルボニトリル 同様の方法において、次の化合物を製造することができ
たニ ドランス−4−[トランス−4 −(4 Z−へキセニ
ル)シクロヘキシル1シクロヘキサンカルボニトリル; トランス−4−[トランス−4 −(4 Z−へブテニ
ル)シクロヘキシルコシクロヘキサンカルボニトリル; トランス−4−[トランス−4 −(4 Z−オクテニ
ル)シクロヘキシルコシクロヘキサンカルボニトリル: トランス−4−[トランス−4 −(4 Z−ノネニル
)シクロヘキシルコシクロヘキサンカルボニトリル; トランス−4−[トランス−4 −(4 Z−デセニル
)シクロヘキシルコシクロヘキサンカルボニトリル。
工程g)で得られた3−[トランス−4−(トランス−
4−シアノシクロヘキシル)シクロヘキシル1プロピオ
ンアルデヒドを工程j)と同様の方法で反応させ、必要
に応じて、実施例1k)と同様の方法でE/Z異性化し
て、次の化合物を製造することができたニ ドランス−4−1トランス−4−(3−ブテニル)シク
ロヘキシルコシクロヘキサン−カルボニトリル; 融点
 (C−N)  50.7°C1透明点(N−r)82
.7°C; トランス−4−Eトランス−4 −(3 E−ペブテニ
ル)シクロヘキシル1シクロヘキサンカルボニトリル:
 融点 (C−N)  79.4°C1透明点 (N−
I)99.5℃; トランス−4−[トランス−4−(3E−へキセニル)
シクロヘキシル1シクロヘキサンカルボニトリル: トランス−4−[トランス−4−(3E−へブテニル)
シクロヘキシル1シクロヘキサンカルボニトリル; トランス−4−[トランス−4−(3E−オクテニル)
シクロへキシル3シクロヘキサンカルボニトリル; トランス−4−[トランス−4−(3E−ノネニル)シ
クロヘキシル1シクロヘキサンカルボニトリル; トランス−4−Lトランス−4−(3E−デセニル)シ
クロヘキシル1シクロヘキサンカルボニトリル。
工程h)及び1)と同様の方法で4−(4−オキソシク
ロヘキシル)ベンズアミドを反応させ、結晶化によって
得られた4−(トランス−4−ホルミルシクロヘキシル
)ベンズアミドをp−トルエンスルホン酸の存在下にお
いてアセタール化し、更に、工程C)〜g)と同様の方
法でジオキソランの反応、工程j)と同様の方法でビツ
テイヒ反応に付し、そして必要に応じて、実施例1k)
と同様の方法でE/Z異性化して、次の化合物を製造す
ることができたニ ドランス−4−[トランス−4−ビニルシクロヘキシル
)シクロヘキサンカルボニトリル融点(C−N)55.
7°C1透明点(N−I)59℃; トランス−4−[トランス−4−(IE−プロペニル)
シクロヘキシル1シクロヘキサンカルボニトリル、融点
(C−N)64.9°C1透明点(N−1)100.1
°C; トランス−4−[トランス−4−(IE−ブテニル)シ
クロヘキシルコシクロヘキサンカルボニトリル、融点(
C−S)38.5℃、相転位点(S−N)59°C1透
明点(N−I)91℃;トランス−4−Fトランス−4
 −(I E−ペンテニル)シクロヘキシルコシクロヘ
キサンカルボニトリル、融点(C−N)59.3℃、透
明点(N−1)91.7°C; トランス−4−[トランス−4−(IE−へキセニル)
シクロへキシルコシクロヘキサンカルボニトリル; トランス−4−[トランス−4 −(I E−へブテニ
ル)シクロヘキシルコシクロヘキサンカルボニトリル; トランス−4−[トランス−4 −(l E−オクテニ
ル)シクロへキシルコシクロヘキサンカルボニトリル; トランス−4−[トランス−4 −(l E−〕不ニル
)シクロヘキシルコシクロヘキサンカルボニトリル; トランス−4−[トランス−4 −(l E−デセニル
)シクロヘキシルコシクロヘキサンカルボニトリル。
上記方法と同様にして、4− [2− (4−オキソシ
クロヘキシル)エチル]ベンズアミド[モレキュラ・グ
リスタル・アンド・リキッド・クリスタル(Mo1.C
ryst.L iq.Cryst. )  1 3 1
 、  327 (1985)に記載されたニトリルか
ら製造し得る1から出発して、また次の化合物を製造す
ることができたニ ドランス−4−[2−(1−ランス−4−(4−ペンテ
ニル)シクロヘキシル)エチル1シクロヘキサンカルボ
ニトリル; トランス−4−[2−(1−ランス−4−(4Z−ヘキ
セニル)シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサンカル
ボニトリル; トランス−4−[2〜(トランス−4−(42−へブテ
ニル)シクロヘキシル)エチル1シクロヘキサンカルボ
ニトリル: トランス−4−[2−(1−ランス−4−(4Z−オク
テニル)シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサンカル
ボニトリル; トランス−4−[2−(1−ランス−4−(4Z−ノネ
ニル)シクロヘキシル)エチル1シクロヘキサンカルボ
ニトリル: トランス−4−[2−()ランス−4−(4−デセニル
)シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサンカルボニト
リル; トランス−4−[2−(トランス−4−(3−ブテニル
)シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサンカルボニト
リル; トランス−4−[2−(1−ランス−4−(3E−ペン
テニル)シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサンカル
ボニトリル; トランス−4−[2−(1−ランス−4−(3E−へキ
セニル)シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサンカル
ボニトリル; トランス−4−[2−(トランス−4−(3E−へブテ
ニル)シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサンカルボ
ニトリル: トランス−4−[2−(1−ランス−4−(3E−オク
テニル)シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサンカル
ボニトリル: トランス−4−[2−()ランス−4−(3E−7不ニ
ル)シクロヘキシル)エチル1シクロヘキサンカルボニ
トリル; トランス−4−[2−(1−ランス−4−(3E−デセ
ニル)シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサンカルボ
ニトリル; トランス−4−[2−(トランス−4−ビニルシクロヘ
キシル)エチルコシクロヘキサンカルボニトリル; トランス−4−[2−(1−ランス−4−(lE−7’
ロペニル)シクロヘキシル)エチル1シクロヘキサンカ
ルボニトリル; トランス−4−[2−(トランス−4−(lE−ブテニ
ル)シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサンカルボニ
トリル; トランス−4−[2−0ランス−4−(IE−ペンテニ
ル)シクロヘキシル)エチル1シクロヘキサンカルボニ
トリル; トランス−4−[2−(1−ランス−4−(IE−へキ
セニル)シクロヘキシル)エチル1シクロヘキサンカル
ボニトリル; トランス−4−[2−(1−ランス−4−(lE−へブ
テニル)シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサンカル
ボニトリル; トランス−4−[2−()ランス−4−(IE−オクテ
ニル)シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサンカルボ
ニトリル; トランス−4−[2−(トランス−4−(IE−ノネニ
ル)シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサンカルボニ
トリル; トランス−4−[2−Dランス−4−(IE−デセニル
)シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサンカルボニト
リル。
実施例3 a) ジエチレングリコール3OmQ中のトランス−4
−[トランス−4−(4−ペンテニル)シクロヘキシル
コシクロヘキサンカルボニトリル(実施例2に従って製
造したもの)1.71gの溶液を水酸化カリウム3.l
1gで処理し、130°Cで3時間撹拌した。次に混合
物を氷水に注ぎ、25%塩酸で酸性にし、ジエチルエー
テルで3回抽出した。有機相を合液し、水で3回洗浄し
、硫酸マグネシウム上で乾燥し、そして蒸発させた。
褐色の結晶性残渣(1,74g)をヘキサン30++l
Qから再結晶させ、帯黄色結晶として、トランス−4−
[トランス−4−(4−ペンテニル)シクロヘキシル]
シクロヘキサンカルボン[996mgを得た。
b) 塩化メチレン80mQ中のトランス−4−[トラ
ンス−4−(4−ペンテニル)シクロヘキシル]シクロ
ヘキサンカルボン酸996mgの溶液をp−フルオロフ
ェノール752mg、4−(ジメチルアミノ)ピリジン
61mg及びジシクロへキシルカルボジイミド1.03
gで処理し、室温で15時間撹拌した。次に反応混合物
を濾過した。濾液を蒸発させ、得られた残渣をシリカゲ
ル上で、酢酸エチル/石油エーテル(3:97容量比)
を用いてクロマトグラフィーによって精製した。得られ
た生成物(1,24g)をヘキサン40mQから結晶さ
せ、融点(C,−N)70.3°C及び透明点(N−1
)158.7°Cを有する純粋なトランス−4−[トラ
ンス−4−(4−ペンテニル)シクロヘキシルコシクロ
ヘキサンカルボン酸4−フルオロフェニルエステル75
7mg’を得た。
同様の方法において、次の化合物を製造することができ
たニ ドランス−4−(4−ペンテニル)シクロヘキサンカル
ボン酸 4−フルオロフェニル エステル、融点31.
3℃; トランス−4−(4−ペンテニル)シクロヘキサンカル
ボン酸 3.4−ジフルオロフェニル エステル、融点
12.4°C; トランス−4−(4−ペンテニル)シクロヘキサンカル
ボン酸 4−クロロフェニル エステル; 4−(4−ペンテニル)安息香酸 4−フルオロフェニ
ル エステル; 4−(4−ペンテニル)安息香酸 3,4−ジフルオロ
フェニル エステル; 4−(3−ブテニルオキシ)安息香酸 4−フルオロフ
ェニル エステル、融点65℃;4−(3−ブテニルオ
キシ)安息香酸 3゜4−ジフルオロフェニル エステ
ル、融点47゜5℃; 4−(3−ブテニルオキシ)安息香酸 4−クロロフェ
ニル エステル; トランス−4−[トランス−4−(4−ペンテニル)シ
クロヘキシル1シクロヘキサンカルボン[3,4−’;
フルオロフェニルエステル:トランス−4−Fトランス
−4−(4−ペンテニル)シクロヘキシルコシクロヘキ
サンカルボン酸 4−クロロフェニル エステル;トラ
ンス−4−[トランス−4−(4−ペンテニル)シクロ
ヘキシル] シクロヘキサンカルボン酸 3−クロロ−
4−フルオロフェニル エステル: トランス−4−[トランス−4−(4−ペンテニル)シ
クロヘキシル1シクロヘキサンカルボン酸 3−フルオ
ロ−4−クロロフェニル エステル; 4−トランス−4−[トランス−4−(4−ペンテニル
)シクロヘキシル]’ff息香酸 4−フルオロフェニ
ル エステル; 4−[トランス−4−(4−ペンテニル)シクロヘキシ
ル1安息香酸 3,4−ジフルオロフェニル エステル
; 5−[トランス−4〜(4〜ペンテニル)シクロヘキシ
ル]−2−ピリミジン カルボン酸4−フルオロフェニ
ル エステル: 2−[トランス−4−(4〜ペンテニル)シクロヘキシ
ル]−5−ピリミジンカルボン酸4−フルオロフェニル
 エステル; 4− [5−(4−ペンテニル)−2−ピリミジニル1
安、1を酸 4−フルオロフェニル エステル; 4− [2−(4−ペンテニル)−5−ピリミジニル]
安息’!酸 4−フルオロフェニル エステル; トランス−4−(4Z−へキセニル)シクロヘキサンカ
ルボン酸 4−フルオロフェニルエステル: トランス−4−(4Z−へキセニル)シクロヘキサンカ
ルボン酸 3.4−ジフルオロフェニル エステル; 4−(3Z−ペンテニル)安息香酸 4−フルオロフェ
ニル エステル; トランス−4−〔トランス−4−(4Z−ヘキセニル)
シクロヘキシル1シクロヘキサンカルボン酸 4−フル
オロフェニル エステル;4−[トランス−4−(4Z
−へキセニル)シクロヘキシル1安息香酸 4−フルオ
ロフェニル エステル; トランス−4−(3−7’テニル)シクロヘキサンカル
ボン酸 3.4−ジフルオロフェニルエステル、融点4
2.0°Cニ ドランス−4−(3−ブテニル)シクロヘキサンカルボ
ン酸 4−クロロフェニル エステル募 4−アリルオキシ安息香酸 4−フルオロフェニル エ
ステル; 4−アリルオキシ安息香酸 3,4−ジ7ルオロフェニ
ル エステル; 4−アリルオキシ安息香酸 4−クロロフェニル エス
テル: トランス−4−[トランス−4−(3−ブテニル)シク
ロヘキシルコシクロヘキサンカルボン酸 3.4−ジフ
ルオロ−フェニル エステル;融点(C−N)55.1
’O,透明点(N−I)153.6°Cニ ドランス−4−[トランス−4−(3−ブテニル)シク
ロヘキシル]シクロヘキサンカルボン酸 4−”ロロフ
ェニル エステル:融点(C−N)78.3°C1透明
点(N−I)213.5°C; トランス−4−[トランス−4−(3−ブテニル)シク
ロヘキシルコシクロヘキサンカルボン酸 3−クロロ−
4−フルオロフェニル エステル; トランス−4−[トランス−4−(3−ブテニル)シク
ロヘキシルコシクロヘキサンカルボン酸 3−フルオロ
−410ロフエニル エステル; 4−[トランス−4−(3−ブテニル)シクロヘキシル
]安息香酸 3,4−ジフルオロフェニル エステル; トランス−4−(3E−ペンテニル)シクロヘキサンカ
ルボン酸 3.4−ジフルオロフェニル エステル; 4−(2E−ブテニルオキシ)安息香酸4−フルオロフ
ェニル エステル。
実施例4 a) テトラヒビ0フラン70mQ中のマグネシウム3
.59g及び1−ブロモ−4−フルオロベンゼン16.
75mQによるグリニアール溶液を0°Cで30分以内
に、テトラヒドロ7ラン90mQ中の4−[トランス−
4−[2−(1,3−ジオキソラン−2−イル)エチル
]シクロヘキシル]シクロヘキサノン(実施例3に従っ
て製造したもの)33.1gの溶液で滴下処理した。反
応混合物を室温で更に4時間撹拌し、次に1.5時間加
熱沸騰させt;。反応混合物を放冷し、ジエチルエーテ
ルloomQで希釈し、半飽和塩化アンモニウム溶液8
0mQで洗浄した。水相をジエチルエーテルloomf
fで逆抽出した。合液した有機相を飽和塩化ナトリウム
溶液各60mQで3回洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥
し、濾過し、そして蒸発させた。かくして、粗製の1−
 [4−[1−ランス−4−[2−(1,3−ジオキソ
ラン−2−イル)エチル] シクロヘキシル]−1−ヒ
ドロキシシクロヘキシル]−4−フルオロベンゼン41
゜0gが得られた。
b)  m−キシレン225+++ff中の粗製の1−
[4−[トランス−4−[2−(1,3−ジオキソラン
−2−イル)エチルコシクロヘキシル] −1−ヒドロ
キシシクロヘキシル]−4−フルオロベンゼン41.0
gの溶液を硫酸水素カリウム15gで処理し、混合物を
11時間加熱沸騰させた。冷却後、塩を濾別した。濾液
をジエチルエーテル250mQで希釈し、飽和炭酸水素
ナトリウム溶液250mff、次に水苔150m12で
2回洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして濃縮し
た。かくして、粗製の1− [4−[1−ランス−4−
[2−(1,3−ジオキソラン−2−イル)エチル1シ
クロヘキシル]−1−シクロへキセニル] −4−フル
オロベンゼン30.3gが得られた。
c)  トルエン112中の粗製の1− [4−[トラ
ンス−4−[2−(1,3−ジオキソラン−2−イル)
エチル]シクロヘキシル]−1−シクロへキセニル]−
4−フルオロベンゼン31.5g及びトリエチルアミン
0.5mQの溶液を5%パラジウム−木炭4.5gと共
に室温及び常圧で、水素の吸収が停止するまで水素添加
した。触媒を濾別し、濾液を蒸発させた。異性化するた
めに、生じたl−[4−トランス−4−[2−(1,3
−ジオキソラン−2−イル)エチル]シクロヘキシル]
シクロヘキシル]−4−フルオロベンゼン(31゜1g
;シス/トランス比約1 : l)をN、N−ジメチル
ホルムアミド310m1l中のカリウムtert。
−ブチレート10.0gの溶液で処理し、105°Cに
23時間加熱した。次に反応混合物を氷400g及び飽
和炭酸水素ナトリウム溶液100rnQに注いだ。混合
物をジエチルエーテル500+++12で1回、そして
ジエチルエーテル250mQで2回抽出した。有機相を
水苔200+no、で3回洗浄し、硫酸ナトリウム上で
乾燥し、濾過し、そして蒸発させた。主に固体の1−[
トランス−4−[トランス−4−(2−(1,3−ジオ
キソラン−2−イル)エチル)シクロヘキシル]シクロ
ヘキシル]−4−フルオロベンゼン30.5gが得られ
、このものを更に精製せずに処理した。
同様の方法において、次の化合物を製造することができ
た: ■−[トランス−4−[トランス−4−(2−(1,3
−ジオキソラン−2−イル)エチル)シクロヘキシル]
シクロヘキシル]−3,4−ジフルオロベンゼン; ■−[トランス−4−[トランス−4−(2−(1,3
−ジオキシラン−2−イル)エチル)シクロへキシル]
シクロヘキシル]−310ロー4−フルオロベンゼン: l−[トランス−4−[トランス−4−(2(1,3−
ジオキシラン−2−イル)エチル)シクロヘキシル]シ
クロヘキシル]−3−フルオロ−4−クロロベンゼン; l−[トランス−4−[トランス−4−(2−(1,3
−ジオキシラン−2−イル)エチル)シクロへキシル1
シクロへキシル]−4−クロロベンゼン; ■−[トランス−4−[2−[トランス−4−(2−(
1,3−ジオキシラン−2−イル)エチル)シクロヘキ
シル]エチル]シクロヘキシル]−4−フルオロベンゼ
ン; l−[トランス−4−[2−[トランス−4−(2−(
1,3−ジオキシラン−2−イル)エチル)シクロヘキ
シル]エチル]シクロヘキシル]−3゜4−ジフルオロ
ベンゼン; l−[トランス−4−[2−[トランス−4−(2−(
1,3−ジオキシラン−2−イル)エチル)シクロヘキ
シル]エチル]シクロヘキシル]−3−クロロ−4−フ
ルオロベンゼン: ■−[トランス−4−[2−[1−ランス−4−(2−
(1,3−ジオキシラン−2−イル)エチル)シクロヘ
キシル]エチル]シクロヘキシル]−4−クロロベンゼ
ン; ■−[トランス−4−[2−[トランス−4−(2−(
1,3−ジオキシラン−2−イル)エチル)シクロヘキ
シル]エチル]シクロヘキシル]−3−フルオロ−4−
クロロベンゼン。
実施例5 a) 乾燥ジエチルエーテル50m<2中のトランス−
4−[トランス−4−[2−(1,3−ジオキソラン−
2−イル)エチル]シクロヘキシル]シクロヘキサンカ
ルボン酸(実施例2に従って製造したもの)3.1gの
溶液を0℃にて水素化リチウムアルミニウム380mg
で処理し、次に還流下で4時間加熱した。その後、反応
混合物を冷却し、氷水及び塩化アンモニウム溶液で処理
し、ジエチルエーテルで抽出した。有機相を水で洗浄し
、硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、そして蒸発さ
せた。[トランス−4−[トランス−4−[2−(1,
3−ジオキソラン−2−イル)エチル1シクロヘキシル
]シクロヘキシル1メタノールの生じた粗製の生成物を
更に精製せずに用いIこ 。
b) 乾燥ピリジン20mQ中の粗製の[トランス−4
−[トランス−4−[2−(1,3−ジオキソラン−2
−イル)エチル1シクロヘキシル]シクロヘキシル1メ
タノール2.96gの溶液ヲ0°Cにてp−トルエンス
ルホニルクロライド2゜1gで処理した。混合物を室温
で15時間撹拌し、次に塩化メチレン200m(lで希
釈し、水で数回洗浄した。有機相を硫酸マグネシウム上
で乾燥し、濾過し、そして蒸発させた。生じた粗製の生
成物をシリカゲル上で、酢酸エチル/石油エーテル(1
:9容量比)を用いて、クロマトグラフ的に精製し、[
トランス−4−[トランス−4−(2−(1,3−ジオ
キソラン−2−イル)エチル)シクロヘキシル] シク
ロヘキシル]メチルp−トルエンスルホネートヲ得り。
c) 95%エタノール7m12中の水酸化カリウム0
.33gの溶液をp−フルオロフェノールl。
12gで処理した。その後、混合物をエタノール2Em
Q中の[トランス−4−[トランス−4−(2−(1,
3−ジオキソラン−2−イル)エチル)シクロヘキシル
]シクロヘキシル]メチルp−トルエンスルホネート2
.26gの溶液で処理し、80℃(浴温)で24時間撹
拌した。次に反応混合物をIN塩酸及び塩化メチレン間
に分配した。有機相を水で数回洗浄し、硫酸マグネシウ
ム上で乾燥し、濾過し、そして蒸発させた。生じた粗製
の生成物をシリカゲル上で、酢酸エチル/石油エーテル
を用いてクロマトグラフ的に精製し、1−[[トランス
−4−(トランス−4−(2−(l、3−ジオキソラン
−2−イル)エチル)シクロヘキシル)シクロヘキシル
] メトキシ]−4−フルオロベンゼンヲ得た。
同様の方法において、次の化合物を製造することができ
た: 1−[[トランス−4−(トランス−4−(2−(1,
3−ジオキソラン−2−イル)エチル)シクロヘキシル
)シクロヘキシル]メトキシ]−3,4−’ジフルオロ
ベンゼン; 1−[[トランス−4−(トランス−4−(2−(1,
3−ジオキシラン−2−イル)エチル)シクロヘキシル
)シクロヘキシル]メトキシ]−3−クロロ−4−フル
オロベンゼン; t−c[トランス−4−(トランス−4−(2−(1,
3−ジオキシラン−2−イル)エチル)シクロヘキシル
)シクロヘキシル]メトキシ]−4−クロロベンゼン; 1−[[1−ランス−4−(トランス−4−(2−(1
,3−ジオキシラン−2−イル)エチル)シクロヘキシ
ル)シクロヘキシル]メトキシ]−3−フルオロ−4−
クロロベンゼン。
実施例6 a) 塩化メチレン2OmQ中のクロロクロム酸ピリジ
ニウム3.1gの溶液を室温にて塩化メチ1710m1
2中の[トランス−4−[トランス−4−[2−(1,
3−ジオキソラン−2−イル)エチル)シクロヘキシル
]シクロヘキシル]メタノール(実施例5に従って製造
し得る)3gの溶液で滴下処理した。混合物を更に1時
間撹拌し、次にジエチルエーテル50+nQで希釈し、
そして濾過した。濾液を蒸発させ、蒸発残渣をジエチル
エーテル50++lQに採り入れ、得られた溶液を再濾
過した。最後に、シリカゲル上で、酢酸エチル/ヘキサ
ンを用いて、りaマドグラフ的に精製し、トランス−4
−[トランス−4−[2−(1,3〜ジオキソラン−2
−イル)エチル]シクロヘキシル]シクロヘキサンカル
ボキシアルデヒドを得を二。
b)  p−フルオロベンジル−トリフェニルホスホニ
ウムブロマイド(p−フルオロベンジルブロマイド及び
トリフェニルホスフィンから製造し得る)3gをter
t、−ブチルメチルエーテル50mffに懸濁させた。
この懸濁液を室温にてカリウムtert、−ブチレート
0.75gで処理し、1,5時間撹拌した。次に混合物
を0℃で5分以内に、tert、−ブチルメチルエーテ
ル25mQ中のトランス−4−[トランス−4−[’2
−(1,3−ジオキソラン−2〜イル)エチル]シクロ
へキシルコシクロヘキサンカルボキシアルデヒド1.4
0 gの溶液で滴下処理し、室温で更に24時間撹拌し
た。その後、反応混合物をジエチルエーテルに採り入れ
、水で数回洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過
し、そして濃縮した。生じた粗製の生成物をシリカゲル
上で、酢酸エチル/石油エーテル(3:97容量比)を
用いて、クロマトグラフ的に精製し、β−[トランス−
4−[トランス−4−[2−(1,3−’;オキンラン
ー2−イル)エチル)シクロヘキシル]シクロへキシル
1−4−フルオロスチレンを得た。
c) トルエン10m12及びエタノール5m12中の
β−[トランス−4−[トランス−4−[2−(1,3
−ジオキソラン−2−イル)エチル)シクロヘキシルコ
シクロヘキシル]−4−フルオロスチレンIgの溶液を
5%パラジウム−木炭509mgと共に室温及び常圧で
、水素の吸収が停止するまで水素添加した。次に黒色懸
濁液を濾過した。
濾液蒸発させ、1− [2−[1−ランス−4−[トラ
ンス−4−(2−(1,3−ジオキソラン−2−イル)
エチル)シクロへキシルコシクロヘキシル]エチル]−
4−フルオロベンゼンを得た。
同様の方法において、次の化合物を製造することができ
た: 1−[2−[1−ランス−4−[トランス−4−(2−
(1,3−ジオキシラン−2−イル)エチル)シクロヘ
キシル]シクロヘキシル1エチル]−3,4−ジフルオ
ロベンゼン; 1−[2−[1−ランス−4−[トランス−4−(2−
(1,3−ジオキソラン−2−イル)エチル)シクロへ
キシル]シクロヘキシル]エチル]−3−クロロ−4−
フルオロベンゼン; 1− [2−[トランス−4−[トランス−4−(2−
(1,3−ジオキシラン−2−イル)エチル)シクロヘ
キシルコシクロへキシル]エチル]−4−クロロベンゼ
ン: 1−[2−[トランス−4−[トランス−4−(2−(
1,3−ジオキシラン−2−イル)エチル)シクロへキ
シル]シクロヘキシル]エチル]−3−フルオロ−4−
クロロベンゼン。
実施例7 ピリジン5m(2中の4−7ルオロペンゾイルクロライ
ド ンス−4−[2− (1.3−ジオキソラン−2−イル
)エチル]シクロヘキシル]シクロヘキサノール(実施
例3に従って製造したもの)2.8gで処理し、室温で
12時間撹拌した。その後、反応混合物を氷水に注ぎ、
ジエチルエーテルで3回抽出した。有機相を順次、飽和
炭酸水素すI− IJウム溶液、10%塩酸、飽和炭酸
水素ナトリウム溶液及び水で洗浄し、硫酸マグネシウム
上で乾燥し、濾過し、そして濃縮した。生じた粗製の生
成物をシリカゲル上で、酢酸エチル/石油エーテル(3
:97容量比)を用いて、クロマトグラフ的に精製し、
4−フルオロ安息香酸トランス−4− [トランス−4
−[2− (1.3−ジオキソラン−2−イル)エチル
] シクロヘキシル]シクロヘキシルエステルを得た。
同様の方法において、次の化合物を製造することができ
た: 3、4−ジフロオロ安息香酸 トランス−4−[トラン
ス−4 − [2 −(1 、3−ジオキシラン−2−
イル)エチル]シクロヘキシル]シクロヘキシル エス
テル; 3−クロロ−4−フルオロ安息香酸 トランス−4−[
トランス−4−[2−(1.3−ジオキソラン−2−イ
ル)エチル]シクロヘキシル]シクロヘキシル エステ
ル: 4−クロロ安息香酸 トランス−4−[トランス−4−
[2−(1.3−ジオキシラン−2−イル)エチル]シ
クロヘキシル]シクロヘキシルエステル; 3−フルオロ−4−クロロ安息香酸 トランス−4−[
トランス−4−[2−(1.3−ジオキソラン−2−イ
ル)エチル]シクロヘキシル]シクロヘキシル エステ
ル。
実施例8 約50%油性懸濁液としての水素化ナトリウム2、04
gを窒素通気下でフラスコに入れ、ペンタンで2回洗浄
した。次にこの水素化ナトリウムに乾燥テトラヒドロフ
ラン40mQ及びテトラヒドロ7ラン30mQ中のトラ
ンス−4− [1−ランス−4−[2−、(1.3−ジ
オキソラン−2−イル)エチル]シクロヘキシル〕シク
ロヘキサノール(実施例2に従って製造したもの)6.
0gの溶液を加えた。混合物を室温で30分間撹拌し、
次に4−フルオロベンジルブロマイド6、03gで処理
し、還流下で2時間加熱した。反応混合物を冷却し、ジ
エチルエーテル200m12に採り入れ、水苔200m
Q.で3回洗浄した。有機相を硫酸マグネシウム上で乾
燥し、濾過し、そして蒸発させ、かくして、トランス−
4−Fトランス−4− [2− (1.3−ジオキソラ
ン−2−イル)エチル]シクロヘキシル]シクロヘキシ
ル4−フルオロベンジルエーテルヲ得り。
同様の方法において、次の化合物を製造することができ
たニ ドランス−4−[トランス−4−[2−(1。
3−ジオキシラン−2−イル)エチル]シクロヘキシル
1シクロヘキシル 3,4−ジフル才口ペンジル エー
テル; トランス−4−[トランス−4−[2−(1゜3−ジオ
キソラン−2−イル)エチル1シクロヘキシル1シクロ
ヘキシル 3−クロロ−4−フルオロベンジル エーテ
ル; トランス−4−[トランス−4−[2−(1゜3−ジオ
キシラン−2−イル)エチル]シクロへキシルコシクロ
ヘキシル 4−クロロベンジル エーテル: トランス−4−[トランス−4−[2−(1゜3−ジオ
キソラン−2−イル)エチル1シクロヘキシル1シクロ
ヘキシル 3−フルオロ−4−クロロベンジル エーテ
ル。
実施例9 a) 粗製の1−[トランス−4−[トランス−4−(
2−(1,3−ジオキソラン−2−イル)エチル)シク
ロヘキシルコシクロヘキシル]−4−フルオロベンゼン
29.1g1ジオキサン20QmQ、氷酢酸200tI
2及び水400mQの混合物を撹拌し且つ窒素通気しな
がら、やや沸騰温度に5時間加熱した(浴温115°C
)。次に反応混合物を氷500g上に注いだ。水相を分
離し、ジエチルエーテル各400mQで3回抽出した。
合液しt;有機相を飽和炭酸水素ナトリウム溶液50Q
mQ及び水500m(2で洗浄し、硫酸ナトリウム上で
乾燥し、濾過し、そして蒸発させた。かくして、粗製の
固体の3−[トランス−4−[トランス−4−(4−フ
ルオロフェニル)シクロヘキシル1シクロヘキシル]プ
ロピオンアルデヒド25゜2gが得られた。
b) ジエチルエーテル50mQ中のメトキシメチル−
トリフェニルホスホニウムクロライド9゜1gの懸濁液
を窒素通気しながらカリウムtert、−ブチレート2
.85gで処理した。この赤色懸濁液を室温で更に30
分間撹拌し、次に乾燥ジエチルエーテル3OmQ中の粗
製の3−[トランス−4−[トランス−4−(4−フル
オロフェニル)シクロヘキシル1シクロヘキシル]プロ
ピオンアルデヒド5.43gの溶液にてO′Cで滴下処
理した。反応混合物を室温で更に90分間撹拌し、次に
ヘキサン300m(2中に注ぎ、そして濾過した。
濃縮した濾液をシリカゲル上で、ヘキサンを用いてクロ
マトグラフ的に精製し、固体の1−[トランス−4−[
トランス−4−(4−メトキシ−3−ブテニル)シクロ
ヘキシルコシクロヘキシル]−4−フルオロベンゼン4
.9gを4た。
c)l−[トランス−4−[トランス−4−(4−メト
キシ−3−ブテニル)シクロヘキシルコシクロヘキシル
’J−4−7Jレオロベンゼン2.48g、ジオキサン
30mQ、氷酢酸20IIIa及び水40+112の混
合物を撹拌し且つ窒素通気しながら、やや沸騰温度に加
熱した(浴温115℃)。冷却後、懸濁液を水70tt
rQで希釈した。水相を分離し、ジエチルエーテル各8
0mQで3回抽出した。
合液した有機相を水苔1000m12で2回洗浄し、硫
酸ナトリウム上で乾燥し、濾過し、そして蒸発させた。
かくして、固体の4−[トランス−4−(トランス−4
−(4−フルオロフェニル)シクロヘキシル1シクロヘ
キシル1ブチルアルデヒド2.3gが得られた。
d) ジエチルエーテル80mQ中のメチル−トリフェ
ニルホスホニウムブロマイド5.19gの懸濁液を窒素
通気しながらカリウムtert、−ブチレート1.55
 gで処理した。黄色懸濁液を室温で更に45分間撹拌
し、次に0°Cにて4−[トランス−4−[トランス−
4−(4−フルオロフェニル)シクロヘキシル1シクロ
ヘキシル]ブチルアルデヒド2.3gの溶液で滴下処理
した。反応混合物を0°Cで更に2時間撹拌し、次に水
60IIlQで希釈した。水相を分離し、ヘキサン各6
0mQで2回抽出した。合液した有機相を水で洗浄して
中性にし、硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過し、そして
濃縮した。残渣をシリカゲル上で、ヘキサンを用いてク
ロマトグラフ的に精製し、粗製の生成物1.89gを得
た。アセトンから一20°Cで2回再結晶させた後、融
点(C−N)65.7℃及び透明点(N−1)129.
7°Cを有するl−[トランス−4−[トランス−4−
(4−ペンテニル)シクロヘキシル1シクロヘキシル]
 −4−フルオロベンゼン1.22gが得られた。
同様の方法において、実施例1に示した4−アルケニル
化合物並びに次の化合物を製造することができた: l−[トランス−4−[トランス−4−(4−ヘンテニ
ル)シクロへキシル1シクロへキシル−3,4−ジフル
オロベンゼン; 1−[トランス−4−[トランス−4−(4−ペンテニ
ル)シクロへキシル1シクロへキシル−3−クロロ−4
−フルオロベンゼン; l−[トランス−4−[トランス−4−(4−ペンテニ
ル)シクロヘキシル]シクロへキシル−4−クロロベン
ゼン; ■−[トランス−4−[トランス−4−(4−ペンテニ
ル)シクロヘキシル]シクロへキシル−3−フルオロ−
4−クロロベンゼン; l−[トランス−4−[2−(1−ランス−4−(4−
ペンテニル)シクロヘキシル)エチルコシクロヘキシル
1−4−フルオロベンゼン;l−[トランス−4−[2
−0ランス−4−(4−ペンテニル)シクロヘキシル)
エチルコシクロヘキシル]−3,4−ジフルオロベンゼ
ン;l−〔トランス−4−[2−0ランス−4−(4−
ペンテニル)シクロヘキシル〕エチル]シクロヘキシル
]−3−クロロ−4−フルオロベンゼン; 1−[トランス−4−[2−0ランス−4−(4−ペン
テニル)シクロヘキシル)エチル]シクロヘキシル]−
4−クロロベンゼン; l−[トランス−4−[2−0ランス−4−(4−ペン
テニル)シクロヘキシル)エチル]シクロヘキシル]−
3−フルオロ−4−クロロベンゼン; 1−[[トランス−4−(トランス−4−(4−ヘンテ
ニル)シクロヘキシル)シクロヘキシル]メトキシ]−
4−フルオロベンゼン; 1−[[トランス−4−(トランス−4−(4−ペンテ
ニル)シクロヘキシル)シクロへキシル]メトキシ]−
3,4−ジフルオロベンゼン;1−[[トランス−4−
(トランス−4−(4−ペンテニル)シクロヘキシル)
シクロへキシル]メトキシ]−3−クロロ−4−フルオ
ロベンゼン;1−[[1−ランス−4−(トランス−4
−(4−ペンテニル)シクロヘキシル)シクロへキシル
]メトキシ]−4−クロロベンゼン: 1−[[)ランス−4−(トランス−4−(4−ペンテ
ニル)シクロヘキシル)シクロヘキシル]メトキシ]−
3−フルオロ−4−クロロベンゼン;1−[2−[トラ
ンス−4−(トランス−4−(4−ペンテニル)シクロ
ヘキシル)シクロヘキシル1エチル]−4−フルオロベ
ンゼン;1−[2−[1−ランス−4−(トランス−4
−(4−ペンテニル)シクロヘキシル)シクロヘキシル
1エチル]−3,4−ジフルオロベンゼン;1−[2−
[1−ランス−4−(トランス−4−(4−ペンテニル
)シクロヘキシル)シクロヘキシル]エチル3−3−ク
ロロ−4−フルオロベンゼン; 1−[2−[1−ランス−4−(トランス−4−(4−
ペンテニル)シクロヘキシル)シクロヘキシル1エチル
]−4−クロロベンゼン;1−[2−[トランス−4−
(トランス−4−(4−ペンテニル)シクロヘキシル)
シクロヘキシル1エチル]−3−フルオロ−4−クロロ
ベンゼン; 4−フルオロ安息香酸 トランス−4−[トランス−4
−(4−ペンテニル)シクロヘキシル)シクロヘキシル
] エステル: 3.4−ジフルオロ安息香酸 トランス−4−[トラン
ス−4−(4−ペンテニル)シクロヘキシル)シクロヘ
キシル] エステル;3−クロロ−4−フルオロ安息香
酸トランス−4−[トランス−4−(4−ペンテニル)
シクロヘキシル)シクロヘキシル] エステル;4−ク
ロロ安息香酸 トランス−4−[トランス−4−(4−
ペンテニル)シクロヘキシル)シクロヘキシル エステ
ル; 3−フルオロ−4−クロロ安息香酸 トランス−4−[
トランス−4−(4−ペンテニル)シクロヘキシル1シ
クロヘキシル エステル;トランス−4−[トランス−
4−(4−ペンテニル)シクロヘキシル]シクロへキシ
ル−4−フルオロベンジル エステル: トランス−4−[トランス−4−(4−ペンテニル)シ
クロヘキシルコシクロヘキシル3.4−ジフルオロベン
ジル エーテル; トランス−4−[トランス−4−(4−ペンテニル)シ
クロヘキシルコシクロヘキシル3−クロロ−4−フルオ
ロベンジル エーテル;トランス−4−[トランス−4
−(4−ペンテニル)シクロへキシル]シクロヘキシル
4−クロロベンジル エーテル; トランス−4−[トランス−4−(4−ペンテニル)シ
クロヘキシルコシクロヘキシル3−フルオロ−4−クロ
ロベンジル エーテル;■−[トランス−4−[トラン
ス−4−(42−へキセニル)シクロヘキシルコシクロ
ヘキシル1−4−フルオロベンゼン; ■−[トランス−4−[トランス−4−(4Z−へキセ
ニル)シクロヘキシルコシクロヘキシル]−3,4−ジ
フルオロベンゼン: ■−[トランス−4−(2−0ランス−4−(4Z−へ
キセニル)シクロヘキシル)エチル1シクロヘキシル]
−4−フルオロベンゼン:■−[トランス−4−[2−
(トランス−4−(4Z−へキセニル)シクロヘキシル
)エチル1シクロヘキシル]−3,4−ジフルオロベン
ゼン;l−[トランス−4−[2−0ランス−4−(4
Z−へキセニル)シクロヘキシル)シクロヘキシル]メ
トキシ]−4−フルオロベンゼン;1−[[トランス−
4−(トランス−4−(42−へキセニル)シクロヘキ
シル)シクロヘキシル]メトキシ]−3,4−ジフルオ
ロベンゼン;1−[2−[トランス−4−(トランス−
4−(4Z−へキセニル)シクロヘキシル)シクロヘキ
シル]エチル]−4−7iレオロベンゼン;1−[2−
[トランス−4−(トランス−4−(4Z−へキセニル
)シクロヘキシル)シクロヘキシル]エチル]−3,4
−ジフルオロベンゼン;4−フルオロ安息香酸 トラン
ス−4−[トランス−4−(4Z−へキセニル)シクロ
へキシルコシクロヘキシル エステル; 3.4−ジフルオロ安息香酸 トランス−4−[トラン
ス−4−(4Z−へキセニル)シクロヘキシルコシクロ
ヘキシル エステル:トランス−4−[トランス−4−
(4Z−へキセニル)シクロヘキシル]シクロへキシル
]4−フルオロベンジル エーテル: トランス−4−[トランス−4−(4Z−へキセニル)
シクロへキシル]シクロヘキシル3.4−ジフルオロベ
ンジル エーテル; 工程b)及びC)を省略して、同様の方法において、ま
た実施例3に示した3E−アルケニル化合物並びに更に
3−アルケニル誘導体を製造することができた。
実施例1O 下記の二成分混合物を製造し、8μmのプレート間隔を
有するTNセルにおいて22℃で調べた。
4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)ベンゾ
ニトリルに対する対応するデータは次の通りである:透
明点54.6°C,V、。−1,62V。
t@ I−30m S s  t s + + =42
 rn S 1  △n−0,120゜ 混合物 l トランス−4−(3−ブテニル)−1−(トランス−4
−エトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン 50重量
%、 4−0ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)ベンゾニ
トリル 50重量%; 透明点44.4°C1V、。−1,55V、t、、=2
1m S %  i al+” 31 m S %△n
=0.082゜混合物 2 トランス−4−(3E−ペンテニル)−1−(トランス
−4−メトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン 50
重量%、 4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)ベンゾ
ニトリル 50重量%; 透明点44.6°C,V+o=1.55V、t、、=2
2” ss  j al+=37 m S %△n=0
.084゜混合物 3 トランス−4−(3E−ペンテニル)−1−(トランス
−4−エトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン 50
重量%、 4−(1−ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)ベン
ゾニトリル 50重量%; 透明点57.4°C,V、。=2.11V、t、、=1
9m” St@ l + ”” 28 m S N△n
=0.094゜比較混合物 4 トランス−4−ブチルシクロヘキサンカルボン酸トラン
ス−4−ブチルシクロヘキシルエステル50重量%、 4−()ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)ベンゾ
ニトリル 50重量%: 融点40.2°C!% Vlll= 1.39 v、 
 t 、、= 38m5sL 、、、m 63 m S
 X△n−0,08゜比較混合物 5 トランス−4−ペンチル−1−(トランス−4−メトキ
シシクロヘキシル)シクロヘキサン 50重量% 4−0ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)ベンゾニ
トリル 50重量%; 融点39.7°C% VIO= 1.4vs  t +
+−35m5xts++=42ms、  △n=0.0
71゜実施例11 下記の混合物を製造し、その特性を測定した。
特記せぬ限り、電子−光学データの測定は6μmのプレ
ート間隔を有するTNセルにおいて22℃で行った。
混合物 A 4−[トランス−4−(IE−プロペニル)シクロヘキ
シル]ベンゾニトリル 10重量%、4−エトキシ−1
−[トランス−4−(3E−ペンテニル)シクロへキシ
ル]ベンゼン 15重量%、トランス−4−[トランス
−4−(3−ブテニル)シクロヘキシル1シクロヘキサ
ン力ルボニトリル12重量%、 トランス−4−[トランス−4−(3E−ペンテニル)
シクロヘキシル]シクロヘキサンカルボニトリル 10
重量%、 トランス−4−[トランス−4−(4−ペンテニル)シ
クロへキシルコシクロヘキサンカルボニトリル8重量%
、 1− [2−(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)
エチル]−4−(1−ランス−4−ペンチルシクロヘキ
シル)ベンゼン 8重量%、 トランス−4−[トランス−4−(3−ブテニル)シク
ロへキシルコシクロヘキサンカルボン酸4−フルオロフ
ェニルエステル 8重量%、トランス−4−[トランス
−4−(3E−ペンテニル)シフaへキシルノシクロヘ
キサンヵルポン酸4−フルオロフェニルエステル 8重
量%;トランス−4−[トランス−4−(4−ペンテニ
ル)シクロヘキシル]シクロヘキサンカルボン酸 4−
フルオロフェニルエステル 6重量%;トランス−4−
(3−ブテニル)−1−nランス−4−エトキシシクロ
ヘキシル)シクロヘキサン15重量%: 融点< −30′c、透明点84℃、ネマティク;■、
。=2.35V; t、、(22°C)=15ms。
t、、(−20℃)=309ms1 t、++(22°
C)=27msx  ts++(−20’O)−420
ms ;△n=0. 088゜ 混合物 B 4−[トランス−4−(l E−プロペニル)シクロヘ
キシル]ベンゾニトリル 1oin%、4−(2E−ブ
テニルオキシ)−1−(1−ランス−4−7’口ピルシ
ク口ヘキシル)ベンゼン 8重量%、 トランス−4−[トランス−4−(3−ブテニル)シク
ロへキシルフシクロヘキサンカルボニトリル9重量%、 トランス−4−[トランス−4−(4−ペンテニル)シ
クロヘキシルコシクロヘキサンカルボニトリル6重量%
、 トランス−4−アリルオキシ−1−(トランス−4−プ
ロピルシクロヘキシル)シクロヘキサン12重量%、 γ−1−シアノー1−(3−ブテニル)−シス−4−(
トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキサ
ン 6重量%、 2−シフ15(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル
)ピリミジン 3重量%、 4−(5−7’チル−2−ピリミジニル)ベンゾニトリ
ル 3重量%、 4−[トランス−5−(4−ペンテニル)−m〜ジオキ
サン−2−イル]ベンゾニトリル 6重量%、トランス
−4−プロピルシクロヘキサンカルボン酸4−[トラン
ス−4−(3E−ペンテニル)シクロへキシル]フェニ
ルエステル 7重量%、1− [2−(トランス−4−
ブチルシクロヘキシル)エチル]−4−(1−ランス−
4−ペンチルシクロヘキシル)ベンゼン 10重量%、 4− [2−0ランス−4−ブチルシクロヘキシル)エ
チル]−4’−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシ
ル)ビフェニル 4重量%、 4− [2−(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)
エチル]−4’−[トランス−4−(3E〜ペンテニル
)シクロヘキシル)ビフェニル 4重量%、 トランス−4−(3−ブテニル)−1−(1−ランス−
4−メトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン12重量
%; 融点く一30℃、透明点71℃、ネマティク;V+o−
1,80V ; t、、(22’O)−20ms。
t、、(−20℃)−330ms、t、rr(22°C
)=37ms% t −++ (20℃)=440ms
;△n=0.090゜ 混合物 C 4−(2E−ブテニルオキシ)−1−(トランス−4−
プロピルシクロヘキシル)ベンゼン 8重量%、 トランス−4−[トランス−4−(3−ブテニル)シク
ロヘキシル1シクロヘキサン力ルボニトリル9重量%、 トランス−4−[トランス−4−(3E−ペンテニル)
シクロヘキシル1シクロヘキサンカルボニトリル 10
重量%、 トランス−4−[トランス−4−(4−ペンテニル)シ
クロヘキシル1シクロヘキサンカルボニトリル X6重
量%、 トランス−4−アリルオキシ−1−(トランス−4−プ
ロピルシクロヘキシル)シクロヘキサン12重量%、 γ−1−シアノー1−(3−ブテニル)−シス−4−(
トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキサ
ン 6重量%、 2−シアノ−5−(トランス−4−ペンチルシクロヘキ
シル)ピリミジン 3重量%、 4−(5−ブチル−2−ピリミジニル)ベンゾニトリル
 3重量%、 4−[トランス−5−(4−ペンテニル)−m−ジオキ
サン−2−イル]ベンゾニトリル 6重量%、トランス
−4−プロピルシクロヘキサンカルボン酸4−[トラン
ス−4 −(3 E−ペンテニル)シクロヘキシル]フ
ェニルエステル 7重量%、1− [2−(1−7ンス
ー4−ブチルシクロヘキシル)エチル]− 4−(トラ
ンス−4−ペンチルシクロヘキシル)ベンゼン lOf
fij1%、1− [2−(1−ランス−4−ブチルシ
クロヘキシル)エチル]−4’−(1−ランス−4−ペ
ンチルシクロヘキシル)ビフェニル 4fti%、1−
 [2−0ランス−4−ブチルシクロヘキシル)エチル
]−4’−[トランス−4−(3E−ペンテニル)シク
ロヘキシル)ビフェニル 4重量%、 トランス−4−(3−ブテニル)− 1−(+ーランス
−4−メトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン12重
量%: 融点く一30°C1透明点74℃、不マティク;V+o
=2.Olv; t,、(22°(3)=34ms。
t.、(−20°O)=470ms,t,,,(22℃
)=37ms,t.++(  20°O)=475ms
;△n=0.083。
混合物 D 4−[トランス−4 −(l E−プロペニル)シクロ
ヘキシル1ベンゾニトリル 10重量%、トランス−4
−[トランス−4−(3−ブテニル)シクロヘキシル]
 シクロヘキサンカルボニトリル9重量%、 トランス−4−[トランス−4−(4−ペンテニル)シ
クロヘキシル]シクロヘキサン力ルポニトリル 6重量
%、 トランス−4−アリルオキシ−1−(トランス−4−プ
ロピルシクロヘキシル)シクロヘキサン12重量%、 γ−1−シアノー1−(3−ブテニル)−シス−4−(
)ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキサ
ン 6重量%、 2−シアノ−5−(トランス−4−ペンチルシクロヘキ
シル)ピリミジン 3重量%、 4−(5−ブチル−2−ピリミジニル)ベンゾニトリル
 3重量%、 4−[トランス−5−(4−ペンテニル)−m−ジオキ
サン−2−イル]ベンゾニトリル 6重量%、4−エト
キシ−1−[2−(トランス−4−ペンチルシクロヘキ
シル)エチJし]ベンゼン 8重量%、 トランス−4−プロピルシクロヘキサンカルボン酸4−
[トランス−4−(3E−ペンテニル)シクロヘキシル
1フエニルエステル 7重量%、1−[2−(トランス
−4−ブチルシクロヘキシル)エチル]−4−(トラン
ス−4−ペンチルシクロヘキシル)ベンゼン lO]i
i%、l−[トランス−4−(トランス−4−プロピル
シクロヘキシル)シクロヘキシル]−4−フルオロベン
ゼン 8重量%、 トランス−4−(3−ブテニル)−1−(トランス−4
−メトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン12重量%
: 融点く一30°C1透明点62°C1ネマテイク;Vl
O=1.79V、t、、(22℃)=27ms。
t、、(−20°C)=480ms、t−++(22℃
)−50ms、t、++(20℃)−480ms;△n
−0,081゜ 混合物 E 4−〔トランス−4−(IE−プロペニル)シクロヘキ
シル1ベンゾニトリル 101!(i%、4−[トラン
ス−4−(3E−プロペニル)シクロヘキシル1ベンゾ
ニトリル 6重量%、4−エトキシ−1−[トランス−
4−(3E−ペンテニル)シクロへキシル]ベンゼン 
12重量%、  −トランス−4−[トランス−4−(
3−ブテニル)シクロヘキシル]シクロヘキサンカルボ
ニトリル5重量%、 トランス−4−[トランス−4−(3E−ペンテニル)
シクロヘキシル]シクロヘキサンカルボニトリル  7
重量%、 トランス−4−アリルオキシ−1−(1−ランス−4−
プロピルシクロヘキシル 12重量%、 4−[トランス−4 −(3 E−ペンテニル)シクロ
ヘキシル]−4’−プロピル−ビフェニル 6MfiL
%、 トランス−4−プロピルシクロヘキサンカルボン酸4−
[トランス−4−(3E−ペンテニル)シクロヘキシル
1フエニルエステル 6重量%、1− [2−0ランス
−4−ブチルシクロヘキシル)エチル]L− 4−()
ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)ベンゼン 10
重i%、 1− [2−(1−ランス−4−ブチルシクロヘキシル
)エチル]−4’−(1−ランス−4−(3E−ペンテ
ニル)シクロヘキシル1 ビフェニル 4ti%、トラ
ンス−4−[トランス−4−(3−ブテニル)シクロヘ
キシル1シクロヘキサンカルボン酸4ーフルオロフエニ
ルエステル 8ti%、トランス−4−[トランス−4
 −(3 E−ペンテニル)シクロへキシルコシクロヘ
キサンカルボン酸4−フルオロフェニルエステル 4t
i%;トランスー4−(3E−ペンテニル)−1−(ト
ランス−4−エトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン
 10重量%; 融点く一30℃、透明点100℃、ネマテイク;VIO
=2.82V.t.、(22°O)=12ms。
t.、(−20°C)=220ms,t,.(22°C
)−21ms% to++(−20°C)=330ms
;△n=0.105。
混合物 F 4−[トランス−4−(IE−プロペニル)シクロヘキ
シル1ベンゾニトリル 9.jO重f%、4−[トラン
ス−4−(3E−ペンテニル)シクロヘキシル1ベンゾ
ニトリル 5.641iJlt%、4−エトキシ−1−
[トランス−4−(3E−ペンテニル)シクロヘキシル
]ベンゼン 11.28ffi量%、 トランス−4−[トランス−4−(3−ブテニル)シク
ロヘキシル]シクロヘキサンカルボニトリル4.70重
量%、 トランス−4−[トランス−4−(3E−ペンテニル)
シクロヘキシル]シクロヘキサンカルボニトリル 6.
58重量%、 トランス−4−アリルオキシ−1−()ランス−4−プ
ロピルシクロヘキシル)シクロヘキサン11.28重量
%、 2−シアノ−5−(トランス−4−ブチルシクロヘキシ
ル)ピリミジン 6.OO重i%、トランス−4−プロ
ピルシクロヘキサンカルボン酸4−[トランス−4−(
3E−ペンテニル)シクロヘキシル]フェニルエステル
 5.641i量%、4−[トランス−4−(3E−ペ
ンテニル)シクロヘキシル]−4’−プロピル−ビフェ
ニル 5.64重量%、 1− [2−(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)
エチル]−4−(トランス−4−ペンテニルシクロヘキ
シル)ベンゼン 9.40ti%、4− [2−Dラン
ス−4−ブチルシクロヘキシル)エチル]−4’−0ラ
ンス−4−(3E−ペンテニル)シクロヘキシル] ビ
フェニル 3.76重量%、 トランス−4−[トランス−4−(3−ブテニル)シク
ロヘキシル1シクロヘキサンカルボン酸4−フルオロフ
ェニルエステル 7.52重t%、トランス−4−[ト
ランス−4−(3E−ペンテニル)シクロヘキシル1シ
クロヘキサンカルボン酸4−フルオロフェニルエステル
 3.76ti%;トランスー4−(3E−ペンテニル
)−1−(トランス−4−エトキシシクロヘキシル)シ
クロヘキサン 9.40重量%; 融点く一30℃、透明点95°C1ネマテイク:V’+
o= 2−35 V ; t−1(22℃)=16ms
t、、(−20°O)−300ms、t−11(22℃
)=24ms、t、++(20°O)=350ms;△
n=0. 104゜ 混合物 G 4−[トランス−4−(IE−プロペニル)シクロヘキ
シル1ベンゾニトリル 10重量%、4−(2E−ブテ
ニルオキシ)−1−(1−ランス−4−7’口ピルシク
口ヘキシル)ベンゼン 12重量%、 トランス−4−[トランス−4−(3−ブテニル)シク
ロヘキシルコシクロヘキサンカルボニトリル5重量%、 トランス−4−[トランス−4−(3E−ペンテニル)
シクロヘキシル]シクロヘキサンカルボニトリル 7重
量%、 トランス−4−[トランス−4−(4−ペンテニル)シ
クロヘキシル]シクロヘキサンカルボニトリル 6重量
%、 トランス−4−アリルオキシ−1−(1−ランス−4−
プロピルシクロヘキシル)シクロヘキサン12重量%、 トランス−4−プロピルシクロヘキサンカルボン酸4−
[トランス−4−(3E−ペンテニル)シクロへキシル
]フェニルエステル 8重量%、1− [2−(トラン
ス−4−ブチルシクロヘキシル)エチル]−4−(トラ
ンス−4−ペンチルシクロヘキシル)ベンゼン 10重
量%、 1−[2−(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)エ
チル]−4−(トランス−4−フェニルシクロヘキシル
)ビフェニル 5重量%、 5− ()ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−2
−[4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)フ
ェニル] ピリミジン 311ffi%、トランス−4
−[トランス−4−(3−ブテニル)シクロヘキシル]
 シクロヘキサンカルボン酸4−フルオロフェニルエス
テル 4重量%、トランス−4−[トランス−4−(3
E−ペンテニル)シクロへキシルコシクロヘキサンカル
ボン酸4−フルオロフェニルエステル 8重量%、トラ
ンス−4−(3E−ペンテニル)−1−(1−ランス−
4−エトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン 10重
量%; 融点<−30’O,透明点109°C、ネマテイク;v
+o−2,84v ; t、、(22°O)=15ms
t、、(−20°O)=336ms、t、++(22°
C)=26ms、t、++(20℃)=370ms ;
△n=0.096゜ 混合物 H トランス−4−[トランス−4−(3−ブテニル)シク
ロヘキシルコシクロヘキサンカルボニトリル15重量%
、 トランス−4−[トランス−4−(3E−ペンテニル)
シクロヘキシル1シクロヘキサンカルボニトリル 12
重量%、 トランス−4−[トランス−4−(4−ペンテニル)シ
クロへキシルコシクロヘキサンカルボニトリル 10重
量%、 4−[トランス−4−(l E−プロペニル)シクロへ
キシル3ベンゾニトリル 1011Jt%、トランス−
4−アリルオキシ−1−(トランス−4−プロピルシク
ロヘキシル)シクロヘキサン20重量%、 トランス−4−[トランス−4−(3−ブテニル)シク
ロヘキシル] シクロヘキサンカルボン酸4−フルオロ
フェニルエステル 103ti%、トランス−4−[ト
ランス−4−(4−ペンテニル)シクロヘキシル]シク
ロヘキサンカルボン酸4−フルオロフェニルエステル 
8重量%、4−エトキシ−1−[トランス−4−(3E
−ペンテニル)シクロへキシル1ベンゼン 15重ff
i%、融点く一30℃、透明点(N−I)71’O,V
、。
−2,10V;t、、(22°O)−19ms、tel
(−20℃)=477ms、t−++(22°C)=3
1mS1 t−11(20°C)=391ms ;△n
=0.084゜ 実施例12 本発明における化合物の反磁性異方性はほぼOであり、
誘電異方性の絶対値は小さい。この特性を調べるために
、低粘度の無極性フェニルシクロ5キサンによる二成分
混合物(BM)を製造して反磁性異方性を増加させた。
特記せぬ限り、物理特性の測定をそれぞれの透明点より
10°C下の温度で行った。星印*を有する値は外挿値
である。
使用したフェニルシクロヘキサンに対する対応するデー
タは次の通りである: 4−(2E−ブテニル)オキシ−1−(トランス−4−
7’ロビルシクロヘキシル)ベンゼンに対シて: 融点(C−N)42.4°C1透明点(N−1)57.
5°01 kll”’ l 0.9 pNs  k2□
=5.60pN% k33=12.4pN、△ε=−0
,33、△n=0.090、v−5,3cp、  +7
 (22°C)−13,5cp木、γr−22cps 
 γ1(22℃)=86cp木 ; 4−エトキシ−1−[トランス−4−(3E−ペンテニ
ル)シクロヘキシル]ベンゼンに対して:融点(C−N
)49.4°C1透明点(N−1)61.8°C1k 
+t= l O−1pN、 k !□=4.82p N
% k ss= 15−7 p Ns△ε=−0,27
、△n=0.095、r)−4,7cp、  γ+−2
5cp−M−1 トランス−4−(3−ブテニル)−1−(トランス−4
−エトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン50モル%
、 4−(2E−ブテニル)オキシ−■−(トランス−4−
7’口ピルシク口ヘキシル)ベンゼン 50モル%: 融点<15°C1透明点(N−I)44.5℃、k++
=7.07pN、に22=3−78pN%に33=8.
08pN、△t=−0−31.△n−0.065、v=
6.8cp、v (22°0)=10.3cp。
γ+= 41 c p s γ、(22°0)=62c
p。
8M−2 トランス−4−(3E−ペンテニル)−1−()ランス
−4−エトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン 50
モル%、 4−(2E−ブテニル)オキシ−1〜(トランス−4−
プロピルシクロヘキシル)ベンゼン 50モル%: 融点<15°C1透明点(N−1)58.6°C1に1
□=8.71pN1 k2□=4.l 3 pN、ks
s−11,2pN、△t=−0,21,△n=0.07
0、v=5.2cpS v  (22°0)=11.4
cp。
γ+ = 20 Cp s  γ1(22°0)=66
cp。
8M−3 トランス−4−(3E−ペンテニル)−1−(1−ラン
ス−4−メトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン 5
0モル%、 4−(2E−ブテニル)オキシ−1−(トランス−4−
プロピルシクロヘキシル)ベンゼン 50モル%; 融点く15°C1透明点(N−1)45.0℃、kz−
6,73pN%kzz−3−69pNSkss=7.9
4pN、△t=−0−20、△n=0.066、l−7
−8cpS? (22℃)−11,7cp。
γ1= 27 c I) % γ1(22℃)=53c
p。
8M−4 トランス−4−(3−ブテニル’)−1−(トランス−
4−エトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン50モル
%、

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ I 式中、Zは単一共有結合または−CH_2CH_2−を
    表わし、R^1は炭素原子2〜10個を有する1E−ア
    ルケニルまたは炭素原子4〜 10個を有する3E−アルケニルを表わし、そしてR^
    2は炭素原子1〜10個を有するアルキル、炭素原子3
    〜10個を有する2 E−アルケニルまたは炭素原子4〜10個 を有する3−アルケニルを表わす、 の化合物。 2、R^1が炭素原子2〜7個を有する1E−アルケニ
    ルまたは炭素原子4〜7個を有する3E−アルケニルを
    表わす特許請求の範囲第1項記載の化合物。 3、R^2が炭素原子1〜6個を有するアルキル、炭素
    原子3〜6個を有する2E−アルケニルまたは炭素原子
    4〜6個を有する3−アルケニルを表わす特許請求の範
    囲第1項または第2項記載の化合物。 4、R^1及びR^2が直鎖状残基を表わす特許請求の
    範囲第1〜3項のいずれかに記載の化合物。 5、少なくとも一つの成分が特許請求の範囲第1項に定
    義した式 I の化合物である、少なくとも二成分を有す
    る液晶混合物。 6、一種またはそれ以上の式 I の化合物及び正の誘電
    異方性を有する一種またはそれ以上の化合物を含む特許
    請求の範囲第6項記載の液晶混合物。 7、一種またはそれ以上の式 I の化合物及び一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼II ▲数式、化学式、表等があります▼III ▲数式、化学式、表等があります▼IV ▲数式、化学式、表等があります▼V ▲数式、化学式、表等があります▼VI ▲数式、化学式、表等があります▼VII ▲数式、化学式、表等があります▼VIII ▲数式、化学式、表等があります▼IX ▲数式、化学式、表等があります▼X ▲数式、化学式、表等があります▼X I ▲数式、化学式、表等があります▼XII ▲数式、化学式、表等があります▼XIII ▲数式、化学式、表等があります▼XIV ▲数式、化学式、表等があります▼XV ▲数式、化学式、表等があります▼XVI ▲数式、化学式、表等があります▼XVII ▲数式、化学式、表等があります▼XVIII ▲数式、化学式、表等があります▼XIX 式中、R^3はアルキル、3E−アルケニルまたは4−
    アルケニルを表わし;R^4はシアノまたはフルオロを
    表わし;R^5及びR^6はアルキルまたはアルコキシ
    を表わし; R^7及びR^1^3は各々独立して、アルキル、1E
    −アルケニル、3E−アルケニルまた は4−アルケニルを表わし;R^8はシアノ、アルキル
    、1E−アルケニル、3E−アル ケニル、4−アルケニル、アルコキシ、2 E−アルケニルオキシまたは3−アルケニ ルオキシを表わし;R^9はアルコキシ、2E−アルケ
    ニルオキシまたは3−アルケニ ルオキシを表わし;nは数0または1を表 わし;Zは単一共有結合または−CH_2CH_2−を
    表わし;R^1^0はシアノ、アルキル、1E−アルケ
    ニル、3E−アルケニルまたは4 −アルケニルを表わし;R^1^1はアルキルまたは4
    −アルケニルを表わし;R^1^2はアルコキシ、2E
    −アルケニルオキシまたは3 −アルケニルオキシを表わし;X^1はフッ素または塩
    素を表わし、そしてX^2は水素、フッ素または塩素を
    表わし;R^1^4はアルキル、3E−アルケニル、4
    −アルケニル、 アルコキシ、2E−アルケニルオキシまた は3−アルケニルオキシを表わし;基Y^1及びY^2
    の一つは単一共有結合、−COO−、−OOC−、−C
    H_2CH_2−、−CH_2O−または−OCH_2
    −を表わし、そして基Y^1及びY^2の他は単一共有
    結合を表わし;環A^1及びA^2は各々独立して、随
    時2個の非隣接CH_2基が酸素に代わっていてもよい
    置換されたまたは未置換のトランス−1,4 −シクロヘキシレン、或いは随時1個の CH基または2個のCH基が窒素に代わっ ていてもよい置換されたまたは未置換の1,4−フエニ
    レンを表わす、 の化合物の群からの1種またはそれ以上の化合物を含む
    特許請求の範囲第5項または第6項記載の液晶混合物。 8、全混合物における式 I の化合物の量が1〜70重
    量%、好ましくは3〜40重量%である特許請求の範囲
    第5〜7項のいずれかに記載の液晶混合物。 9、電極及び表面配向を備えた2枚のプレート並びに偏
    光子間に配列した正の誘電異方性を有するねじれたネマ
    テイク液晶層からなり、該液晶が1種またはそれ以上の
    特許請求の範囲第1項に定義した式 I の化合物を含有
    する液晶セル。 10、電子−光学用途のための特許請求の範囲第1項に
    定義した式 I の化合物の使用。
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