JPH01138107A - 改質ポリシラザン、その製造方法及びその用途 - Google Patents

改質ポリシラザン、その製造方法及びその用途

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JPH01138107A
JPH01138107A JP63074919A JP7491988A JPH01138107A JP H01138107 A JPH01138107 A JP H01138107A JP 63074919 A JP63074919 A JP 63074919A JP 7491988 A JP7491988 A JP 7491988A JP H01138107 A JPH01138107 A JP H01138107A
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polysilazane
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Toru Funayama
舟山 徹
Mikiro Arai
新井 幹郎
Takeshi Isoda
礒田 武志
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SEKIYU SANGYO KATSUSEIKA CENTER
Petroleum Energy Center PEC
Toa Nenryo Kogyyo KK
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は改質ポリシラザン、その製造法及びその用途に
関し、更に詳しくは窒化珪素および窒化珪素含有セラミ
ックスの前駆体として使用することのできる改質ポリシ
ラザン、その製造法及び該改質ポリシラザンを必須成分
としたコーティング剤及びバインダーに関する。
〔技来技術〕
窒化珪素焼結体は、高温強度、耐熱衝撃性、耐酸化性に
優れているため、ガスタービン、ディーゼルエンジン等
の高温構造材料として、或いは切削用バイト等、省エネ
ルギー、省資源に多大の寄与をし得る高性能材料の一つ
として重要である。
従来、窒化珪素の製造方法としては、■金属シリコン粉
末を窒素又はアンモニア気流中で、1300℃〜150
0℃で加熱して直接窒化するシリコン直接窒化法、■シ
リカ又は含シリカ物質を炭素と共に窒素雰囲気下で加熱
し、尿素でシリカを還元して、生成するケイ素と窒素と
を反応させるシリカ還元法、■四塩化珪素とアンモニア
とを高温で直接反応せしめる気相合成法、■四塩化珪素
をアンモノリシスして得られるシリコンジイミドを非酸
化性雰囲気中で加熱して窒化珪素を得るイミド熱分解法
等が採用されている。
しかしながら、上記■の方法の場合には、反応時間が長
く、加熱工程が煩雑である上、得られる窒化珪素は粗大
で不純物を多く含むβ型窒化珪素が主体であり、■の方
法の場合には、原料の精製が困難なばかりでなく、反応
時間が長く、得られる生成物はα型窒化珪素とβ型窒化
珪素の混合系であり、■の方法の場合には、生成した窒
化珪素は一般に非晶質であり、■の方法の場合には、高
純度のα型窒化珪素を収率よく製造し得るという利点が
有るものの、窒化珪素前駆体であるシリコンジイミド(
Si(NH)z)xは溶媒に溶けないために実質的に用
途が限定されざるを得ない等の欠点があった。
更に、最近、有機ポリシラザンを熱分解して得られるポ
リシラザンを800〜2000℃で加熱して窒化珪素を
合成する方法も提案されている(斉藤肇、繊維学会誌V
on38 Na1頁65−72(19132年〕)が、
この方法では窒化珪素と同時に炭化珪素や遊離の炭素が
生成するという欠点が有った。
一方、溶媒に可溶である無機ポリシラザンは、1921
年に5tack(Ber、54. (1921) 、p
740)等によって合成されており、1983年には5
eyferth (Comm、Am。
Cera+*、Soc、C−13/14. (83))
等によって、これが窒化珪素前駆体として有用であるこ
とが証明されている0本発明者等は、かかる観点に注目
し無機ポリシラザンを加熱処理することにより、高純度
のα型窒化珪素を得る方法を提案した(特開昭59−2
07812号)。
しかしながら、従来の無機ポリシラザンの製造方法にお
いては、何れの場合も気化性の高いジクロロシランを原
料として用いるために、■反応装置のガス配管又は反応
器壁に生成したポリシラザンが固着してガス流路を閉塞
する恐れがある、■上記弊害を防止するためには反応温
度を低温に維持してジクロロシランの飛散を防止する必
要が有る、■ジクロロシランは毒性及び引火性が強いの
で低温密閉容器に入れて利用せねばならないなど取扱が
煩雑である等の欠点があった。更に、合成されたポリシ
ラザンは5tack等の場合には、+5i)12NH)
7.の構造を有する1=7〜8のオリゴマーにすぎず常
温では粘性のある液体であり、5eyferth等の場
合には、5tack等の場合より複雑な構造を有し、5
i−H/N−Hのプロトン比が約3.3のオイル状液体
であるが、約200℃で加熱するか室温で3−5日放置
することにより固化するものであり、いずれのポリシラ
ザンの場合であっても、常温で賦形化した窒化珪素焼結
体のための前駆体として十分な性質を有していると言え
るものではなかった。
したがってより高い分子量と曳糸性を有する窒化珪素の
前駆体として有用な無機シラザンをより収率よくかつよ
り容易に合成できる方法の開発が望まれていた。
一方、金属材料や無機材料の表面のコーティング剤とし
ては、シリコン系塗料、ポリチタノカルボシラン系塗料
、更にはポリ(ジシリル)シラザン重合体等(特公昭6
1−38933号公報)を使用する方法が知られている
しかしながら、シリコーン系塗料は200℃以上の高温
雰囲気下でも耐熱効果に優れた被膜を与えるものの、ピ
ンホールが発生し易く、またこのピンホールの発生を防
止するためにその被膜の膜厚を厚くすると焼成中に被膜
にクラックやブリスターが生じたり剥離が生ずる場合が
ある。このような現象は300℃以上の温度領域下にお
いて特に顕著にみられるため、シリコーン系塗料を用い
る場合には、シリコーン樹脂の架橋密度を減少させる必
要があり、このため形成被膜の表面硬度が低下するとい
う難点が生じる。
また、ポリチタノカルボシラン系塗料は低温焼成(40
0℃以下)における表面硬度が充分でない上、原料製造
工程が複雑であり、その製造コストが高価となるという
欠点がある。
また、ポリ(ジシル)シラザン系重合体を用いる方法は
、750℃以上の高温下で不活性雰囲気又は真空中で熱
分解を行うプロセスを採る必要があり、その施行性に多
く困難さを伴う。同様にポリシラザンから得られた窒化
珪素の被覆膜についての報告もなされているが、クラッ
クが生じており十分実用的価値を有するものが得られて
いない(す、 S、 Cabling et al、“
Formation of CeramicCompo
sitions Lltilizing Polyme
r Pyrolysis”、  p271−285、M
aterials 5cience Re5earch
 voll、 Emergent ProcessMe
thods For )ligh−Technolog
y Ceramics edited by R,F。
Dabis et、 al、 Plenun Pr5s
s N、 Y、)。
〔目 的〕
本発明の第1の目的は、窒化珪素前駆体として好適な新
規な改質ポリシラザン及びこのものを工業的に有利に製
造する方法を提供することにあり、第2の目的は耐熱性
、耐摩耗性及び耐薬品性に優れると共に、表面硬度の高
い被膜を形成し得るコーティング剤を提供することにあ
る。
〔構 成〕
本発明によれば、第1発明として、架橋結合(N Hh
 (n ” 1または2)を有し、珪素原子に結合する
窒素と珪素との原子比(N/Si)が少なくとも0.8
0である数平均分子量が200〜500,000の改良
ポリシラザン重合体が提供される。
また、第2発明として、 一般式 (式中、R□、R2;水素原子、アルキル基、アルケニ
ル基、シクロアルキル基、 アルキルアミノ基、アリール 基、アルキルシリル基) で表わされる骨格を有し、数平均分子量が100〜so
、oooのポリシラザンとアミンとを塩基性条件下で脱
水素重縮合反応させることを特徴とする数平均分子量が
200〜soo 、 oooの改質ポリシラザンの製造
法が提供される。
更に、第3発明として、架橋結合−+ NHh (n=
 1または2)を有し、珪素原子に結合する窒素と珪素
との原子比(N/Si)が少なくとも0.80である数
平均分子量が200〜soo、oooの改良ポリシラザ
ンを必須成分としたコーティング剤が提供される。
また、第4発明として架橋結合−+ NH)in (n
=tまたは2)を有し、珪素原子に結合する窒素と珪素
との原子比(N/Si)が少なくとも0.80である数
平均分子量が200−500,000の改良ポリシラザ
ンを必須成分としたバインダーが提供される。
本発明の改質ポリシラザンの出発原料として用いられる
原料ポリシラザンは、次の一般式で表ねされる骨格を有
するものである。
前記式中R1及びR2は、水素原子、アルキル基、アル
ケニル基、シクロアルキル基、アルキルアミノ基、アリ
ール基又はアルキルシリル基を示す。
この場合、アルキル基としては、メチル、エチル、プロ
ピル、ブチル、オクチル、デシル等が挙げられ、アルケ
ニル基としては、ビニル、アリル、ブテニル、オクテニ
ル、デセニル等が挙げられ、アリール基としてはフェニ
ル、トリル、キシリル、ナフチル等が挙げられ、アルキ
ルシリル基としては、メチルシリル、エチルシリル、プ
ロピルシリル、ブチルシリル、オクチルシリル、デシル
シリル等が挙げられる。
本発明の原料ポリシラザンは、100〜50,000の
数平均分子量を有するもので、環状ポリシラザン。
鎖状ポリシラザンあるいはそれらの混合物から構成され
る。本発明において好ましく用いられる原料ポリシラザ
ンは、数平均分子量300〜2000好ましくは600
〜1400の鎖状ポリシラザンである。
前記ゼ示したポリシラザンは、下記に示す如き従来公知
の方法で合成することができる。
■ 本発明者特許出願(時開6O−145903)・5
i)12Cう+2Py−+5il(2CQ2・2〜ad
duct・5iH2CQ * ・2Py adduct
+ 3虱−+ −GS鉗、qH+2NH,CEI +z
py■ D、 5eyferthら(USP 4,39
7,828)・5iH2CQ、、+3Nl(31Ω→佃
為N11Th+2虱CQ■A、 5tock (Bar
、 54. (1921)、 P−740)・5i)1
zcI2.+3NH3勿繁→迅甜汁+2凧C℃■ W、
 M、 5cantnnら、 Inorg、 Chew
、 1972.11・2 (H3Si)、N+製興輿+
[(o、5i)2NL s為■B、 J、 Aylet
t (LISP 3,318,823)・SiH,Cら
+MへN)I→鳥Si(闇−)2+に1叱H1,Q・H
,SL(fllMe、)、+ Mealy、→−e(、
SiNMe)i + Me、IIIH+8゜■ D、 
5eyferthら(LISP 4,482,669)
・MeS皿Ω皿子2+3島蟲Ω→→61讃廓+2虱CQ
■発明者特許出l1K(時開6l−89230)・Ma
SillCQ、+2Py−+ MeS鉗Cら・2〜ad
duct−MeSiJ(CL ・’lPy adduc
t+3N)la→esilH1% +?Py+’lJH
,CQ本発明においては、前記出発原料であるポリシラ
ザンを塩基性条件下でアンモニア又はヒドラジンと脱水
素重縮合反応(以下、単に重縮合反応とも言う)させる
、この場合、塩基性条件とは、反応系に塩基性化合物、
例えば、第3級アミン類や、立体障害性の基を有する2
級アミン類、フォスフイン等を共存させることを意味す
る。このような塩基性条件は、反応溶媒中に塩基性化合
物を添加することによって形成し得る他、反応溶媒とし
て塩基性溶媒又は塩基性溶媒と非塩基性溶媒との混合物
を用いることによって形成することができる。
塩基性化合物の添加量は、反応溶媒100重量部に対し
少なくとも5重量部、好ましくは20重量部以上である
。塩基性化合物の添加量がこれより少なくなると、重縮
合反応が円滑に促進されない。
前記塩基性溶媒としては、出発rtN料であるポリシラ
ザンを分解しないものであれば任意のものが使用できる
。このようなものとしては、例えば、トリメチルアミン
、ジメチルエチルアミン、ジエチルメチルアミン及びト
リエチルアミン等のトリアルキルアミン、ピリジン、ピ
コリン、ジメチルアニリン、ピラジン、ピリミジン、ピ
リダジン及びこれらの誘導体等の第3級アミン類の他、
ピロール、3−ピロリン、ピラゾール、2−ピラゾリン
、及びそれらの混合物等を挙げることができる。
また、非塩基性溶媒としては、例えば、脂肪族炭化水素
、脂環式炭化水素、芳香族炭化水素の炭化水素溶媒、ハ
ロゲン化メタン、ハロゲン化エタン、ハロゲン化ベンゼ
ン等のハロゲン化炭化水素、脂肪族エーテル、脂環式エ
ーテル等のエーテル類が使用できる。好ましい溶媒は、
塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、ブロモホル
ム、塩化エチレン、塩化エチリデン、トリクロロエタン
、テトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素、エチル
エーテル、イソプロピルエーテル、エチルブチルエーテ
ル、ブチルエーテル、1,2−ジオキシエタン、ジオキ
サン、ジメチルジオキサン、テトラヒドロフラン、テト
ラヒドロピラン等のエーテル類、ペンタン、ヘキサン、
イソヘキサン、メチルペンタン、ヘプタン、イソへブタ
ン、オクタン、イソオクタン、シクロペンタン、メチル
シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサ
ン、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等
の炭化水素等である。
本発明の重縮合反応は、前記した如き溶媒中で好ましく
は実施されるが、この場合、原料ポリシラザンの溶媒中
濃度は0.1〜50重量%、好ましくは1〜12重景%
である。ポリシラザンの濃度がこれより低いと分子間重
縮合反応が十分進行せず。
またそれより高いと分子間重縮合反応が進みすぎてゲル
を生成するようになる6反応温度は、−78〜300℃
、好ましくは一40〜180℃であり、それより低い温
度では重縮合反応が十分進行せず、それより高い温度で
は重縮合反応が進みすぎてゲルを生成する。また、重縮
合反応剤として用いるアンモニア又はヒドラジンの使用
量は、ポリシラザン1モル(平均モル)に対するモル比
で、0.01〜5.O1好ましくは0.5〜3.0の範
囲であり、それより低いと重縮合反応が十分進行せず、
それより高いと重縮合反応が進みすぎてゲルを生成する
。反応雰囲気としては、大気の使用が可能であるが、好
ましくは、アンモニア、ヒドラジン又はその他のアミン
等からなる塩基性雰囲気や、乾燥窒素、乾燥アルゴン等
の不活性ガス雰囲気あるいはそれらの混合雰囲気が使用
される。本発明における重縮合反応においては、原料の
アンモニア又はヒドラジンや、副生物の水素によって反
応の際圧力がかかるが、必ずしも加圧は必要でなく、常
圧を採用することができる。なお、反応時間は、出発原
料のポリシラザンの種類、濃度および塩基性溶媒の種類
、濃度、添加するアンモニアまたはヒドラジンの添加量
あるいは重縮合反応温度など諸条件により異なるが、−
船釣に0.5〜20時間の範囲とすれば充分である。
重縮合反応の最適条件は出発原料のポリシラザンの平均
分子量、分子量分布及び改質ポリシラザンの分子構造に
よって、また、アンモニア及びヒドラジンのいずれを選
ぶかによって異なる。条件設定の一般的な考慮は、出発
原料のポリシラザンの平均分子量が低い程よりきびしい
条件(温度、反応時間)が必要とされるということであ
る。
本発明において、塩基性溶媒を用いて重縮合反応を行う
場合、得られる改質ポリシラザンを含む塩基性溶媒溶液
は、その溶液組成を調整して、塩基性溶媒含量を、全溶
媒中30重量%以下、好ましくは5重量%以下にするの
が好ましい。塩基性溶媒は、改質ポリシラザンの分子間
重縮合反応触媒として作用するため、その全溶媒に対す
る割合が余りにも多くなると、室温で長時間保存してい
る間にゲルを生成する。この溶液組成の調整は、例えば
、前記重縮合反応工程で得られた塩基性化合物を含む改
質ポリシラザン溶液を蒸発処理して、それに含まれる塩
基性化合物を蒸発除去した後、非塩基性(非反応性)溶
媒を添加することによって行うことができる。溶液中の
塩基性化合物の含量が高い場合や、反応溶媒として塩基
性のものを用いる場合は、前記した塩基性化合物の蒸発
除去と非塩基性溶媒添加とからなる溶液組成調整工程を
繰返し行うことによって安定性の良い溶液組成とするこ
とができる。本発明において改質ポリシラザンの安定溶
液を形成するための非塩基性溶媒としでは、前記で示し
た如き脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、芳香族炭化水
素、ハロゲン化炭化水素、脂肪族エーテル、脂環式エー
テル等を用いることができる。
本発明におけるポリシラザンとアンモニア又はヒドラジ
ンとの重縮合反応は、次の如き素反応を含んでいるもの
と考えられる。
(1)前記一般式(I)において、R工l R2が共に
有機基である場合 1R2 (2)前記一般式(1)においてR1,R,の一方が水
素原子で他方が有機基である場合、 (i)R□が水素の場合 1六1−N− (ii)R2が水素の場合 ^昌 (3)前記一般式(1)においてR,、R2が共に水素
原子の場合、 )昌1 本発明の改質ポリシラザンは、前記のように原料ポリシ
ラザンとアンモニア又はヒドラジンとを重縮合反応させ
ることによって生成された重合体であり、ポリシラザン
分子中に新しい架橋結合(N)I)n ’(n=iまた
は2)が遵入され、高分子量化されたものである。本発
明の改質ポリシラザンは、原料ポリシラザンに対して、
分子構造的には次の点を特徴とする。
(1)珪素原子に結合する窒素原子の割合が増加する。
本発明の改質ポリシラザンは、前記のように架橋基とし
て、 (NH)n(nJ又は2)を新しく含むものであ
り、この架橋基に基づく窒素原子の割合が増加する。原
料ポリシラザンの場合、珪素原子に結合する窒素原子と
珪素原子との比(N/Si)は、例えば、ベルヒドロポ
リシラザンでは0.60〜0.75、メチルヒドロシラ
ザンでは0.90−0.97、N−メチルシラザンでは
0.67〜1.50、N−(トリエチルシリル)アリル
シラザンでは0.55〜0.70およびN−(ジメチル
アミノ)シクロヘキシルシラザンでは1.1〜2.0、
フェニルポリシラザンでは0.85〜0.96の範囲で
あるが、本発明による改質ポリシラザンの場合、そのN
/Si比は、それぞれ、0.80以上、 0.98以上
、1.6以上、 0.87以上、2.2以上および0.
98以上となり、高められたものとなる。この珪素原子
に結合する窒素原子と珪素原子との比(N/Si)の上
限は、改質ポリシラザンのゲル化が起らない範囲、換言
すれば、溶媒可溶性を示す範囲内に規定されるが、通常
は2.5以下、好ましくは2.0以下である。
(2)数平均分子量範囲は、200−500 、000
である。
本発明の改質ポリシラザンは、前記のように数平均分子
[100〜50 、000のポリシラザンを原料として
用い、これを−+NH)yz結合によって架橋高分子化
することによって形成されることから、その分子量は、
当然のことながら、原料ポリシラザンの分子量よりも増
加されたものとなる。−船釣には、本発明の目的とする
改質ポリシラザンは、数平均分子量200〜500,0
00、好ましくは、1500〜10000を有する。
本発明の改質ポリシラザンは、分子構造的には前記の如
き特徴を有し、原料ポリシラザンと区別されるものであ
るが、その他、多くの枝分れ構造を有する点もその特徴
の1つである。この枝分れ構造のために、本発明の改質
ポリシラザンは、原料ポリシラザンに比して高分子量化
されたものでありながら、むしろ溶媒可溶性において改
善された結果を与える# 5eyferth等が提案し
た無機シラザンは、5i−H/N−Hのプロトン比が約
3.3のオイル状液体であり、約200℃で加熱するか
、室温で3〜5日放置することにより固化するものであ
る。これに対し、本発明の改質ポリシラザンは、200
〜500000分子量を持ち、架橋基として→NH)n
(n=1または2)を新しく含み、窒素原子と珪素原子
との比(N/Si)は0.8以上であり、また1分子中
のSiH3基の数は、通常、原料ポリシラザンの2倍以
上に増加し、溶媒再可溶性を有する。本発明の改質ポリ
シラザンが原料ポリシラザンに比してより多くの枝分れ
構造を有する理由は、本発明における重縮合反応では、
重縮合反応以外に1例えば、次のような反応が起ること
によるものと考えられる。
!・ 本発明の改質ポリシラザンの枝分れ構造は、例えば、J
INMRスペクトル測定により得られる(SiH2)/
 (SiH3) ((SiH2) ”64.8における
5i−)1共鳴の面積×1/2、(Sl)13):δ4
.4における5i−H共鳴の面積X 1/3)比によっ
て評価することができる。原料ポリシラザンの場合、(
SiH2)/(Si)+3)比は、水接(参考例1)で
は5.0−8.2.5eyferth法(参考例2)で
は8.5−13.0及び5tock法(参考例5)では
14.0−19.0の範囲であり、1分子中のSiH,
の個数はそれぞれ3〜10.0〜1および0〜1個であ
るが、これ等に本発明の改質を施した場合、(SiH2
/ 5l)13 )比はそれぞれ、2.5〜4.8.4
.5〜7.0及び5.5〜10.0と低められた値とな
り、更には1分子中のSiH3の個数は倍加される。
本発明の改質ポリシラザンは、前記の如き分子構造的特
徴を有するとともに、物性的には、架橋結合* N H
hi (n = 1または2)を有しながら、多くの場
合有機溶媒に可溶であり、特に改質ポリシラザン溶液か
ら溶媒を除去した固体重合体は、溶媒に対して再可溶性
を有するという大きな特徴を示す。
従来のポリシラザンの場合、安定性が悪く、その溶液か
ら溶媒を除去すると樹脂状固体を生成し、このものは溶
媒に不溶であったが、本発明の改質ポリシラザンはこの
ような傾向を示さない。従って、従来のポリシラザンの
場合、固体重合体としての取扱いが不可能ないし著しく
困難であったのに対し、本発明の改質ポリシラザンは固
体重合体として容易に取扱うことができる。
本発明において、前記改質ポリシラザンを用いてコーテ
ィング剤を形成するには、通常改質ポリシラザンを溶剤
に溶解させればよい。溶剤としては、脂肪族炭化水素、
脂環式炭化水素、芳香族炭化水素の炭化水素溶媒、ハロ
ゲン化メタン、ハロゲン化エタン、ハロゲン化ベンゼン
等のハロゲン化炭化水素、脂肪族エーテル、脂環式エー
テル等のエーテル類が使用できる。好ましい溶媒は、塩
化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、ブロモホルム
、塩化エチレン、塩化エチリデン、トリクロロエタン、
テトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素、エチルエ
ーテル、イソプロピルエーテル、エチルブチルエーテル
、ブチルエーテル、1゜2−ジオキシエタン、ジオキサ
ン、ジメチルジオキサン、テトラヒドロフラン、テトラ
ヒドロピラン等のエーテル類、ペンタンヘキサン、イソ
ヘキサン、メチルペンタン、ヘプタン、イソへブタン、
オクタン、イソオクタン、シクロペンタン、メチルシク
ロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、
ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の炭
化水素等である。
これらの溶剤を使用する場合、前記改質ポリシラザンの
溶解度や溶剤の蒸発速度を調節するために、2種類以上
の溶剤を混合してもよい。
溶剤の使用量(割合)は採用するコーティング方法によ
り作業性がよくなるように選択され、また改質ポリシラ
ザンの平均分子量、分子量分布、その構造によって異な
るが、コーティング剤中溶剤は90重量2程度まで混合
することができ、好ましくは10〜50重量2の範囲で
混合することができる。
また、必要に応じて適当な充填剤を加えてもよい。充填
剤の例としてはシリカ、アルミナ、ジルコニア、マイカ
を始めとする酸化物系無機物あるいは炭化珪素、窒化珪
素等の非酸化物系無機物の微粉等が挙げられる。また用
途によってはアルミニウム、亜鉛、銅等の金属粉末の添
加も可能である。さらに充填剤の例を詳しく述べれば、
ケイ砂、石英、ツバキュライト、ケイ藻土などのシリカ
系二合成無定形シリカ:カオリナイト、雲母、滑石、ウ
オラストナイト、アスベスト、ケイ酸カルシウム、ケイ
酸アルミニウム等のケイ酸塩ニガラス粉末、ガラス球、
中空ガラス球、ガラスフレーク、泡ガラス球等のガラス
体:窒化ホウ素、炭化ホウ素、窒化アルミニウム、炭化
アルミニウム、窒化ケイ素、炭化ケイ素、ホウ化チタン
、窒化チタン、炭化チタン等の非酸化物系無機物:炭酸
カルシウム二酸化亜鉛、アルミナ、マグネシア、酸化チ
タン、酸化ベリリウム等の金属酸化物:硫酸バリウム、
二硫化モリブデン、二硫化タングステン、弗化炭素その
他無機物ニアルミニウム、ブロンズ、鉛、ステンレスス
チール、亜鉛等の金属粉末;カーボンブラック、コーク
ス、黒鉛、熱分解炭素、中空カーボン球等のカーボン体
等があげられる。
これら充填剤は、針状(ウィスカーを含む。)、粒状、
鱗片状等種々の形状のものを単独又は2種以」二混合し
て用いることができる。又、これら充填剤の粒子の大き
さは1回に塗布可能な膜ノブよりも小さいことが望まし
い。また充填剤の添加量はポリシラザン1重量部に対し
、 O,OS重量部−10重量部の範囲であり、特に好
ましい添加量は0.2重量部〜3重量部の範囲である。
又、充填剤の表面をカップリング剤処理、蒸着、メツキ
等で表面処理して使用してもよい。
更に、コーティング剤には、必要に応じて各種顔料、レ
ベリング剤、消泡剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、PR
調整剤、分散剤、表面改質剤、可塑剤、乾燥促進剤、流
れ止め剤を加えてもよい。
このように調製されたコーティング剤は均一に溶解、分
解させて金属、セラミックス、プラスチック等の基盤に
コーティングされる。コーティングとしての塗布手段と
しては、通常の塗布方法、つまり浸漬、ロール塗り、バ
ー塗り、刷毛塗り、スプレー塗り、フロー塗り等が用い
られる。又、塗布前に基盤をヤスリかけ、脱脂、各種ブ
ラスト等で表面処理しておくとコーティング組成物の付
着性能は向上する。このような方法でコーティングし、
充分乾燥させた後、加熱・焼成する。この焼成によって
改質ポリシラザンは架橋、縮合して硬化し、強靭な被覆
を形成する。
上記焼成条件は改質ポリシラザンの分子量や構造によっ
て異なるが0.5〜10℃ノ分の緩やかな昇温速度で1
00℃〜1000℃の範囲の温度で焼成する。好ましい
焼成温度は200℃〜500℃の範囲である。焼成雰囲
気は空気中あるいは不活性ガスのいずれであってもよい
が、非酸化性雰囲気であれば5i−N結合を、醸化又は
加水解性雰囲気であれば5L−0結合の被膜を形成する
ので、基盤に応じて雰囲気を適当に選択することができ
る。
・ したがって、本発明のコーティング剤は、鉄、アル
ミニウム、銅、ステンレス鋼、黄銅等の金属類やセラミ
ックスの表面保護剤として更には電子部品用の多属配線
の絶縁膜としても好適なものである。
前記改質ポリシラザンを用いてバインダーとして使用す
るには通常以下に述べる手法が採用される。
したがって、このような溶剤中に、各種セラミックス粉
末と改質ポリシラザンとを添加し、混合することによっ
て、容易にセラミックス粉体中に、バインダーとして均
一に分散させることが可能である。ここで、改質ポリシ
ラザンは、解こう剤(分散剤)としても作用するため、
本スラリーは造粒用あるいはスラリー成形用に達した均
質なスラリーとなる。故に、成形法としては、金型プレ
ス法、ラバープレス法などのプレス成形法、押出し法、
シート法、持込み法などのスラリー成形法を適用するこ
とができる。
以上のようにして得られた成形体を焼結すると、改質ポ
リシラザンは、熱分解し、水素が揮散し、活性度の高い
SiとNがセラミックス粒子と反応し、焼結用バインダ
ーとして作用し、粒子間を強固に結合する。ここで、こ
の結合力は、熱分解収率の高いプレセラミックポリマー
を用いる程、さらに、結合に関与しない過剰の炭素を残
存、させないプレセラミックポリマーを用いる程強固で
あるため、本質的に有機基を有することなく、熱分解後
、高純度なSi、 N4組成となる改質ポリシラザンは
、焼結用バインダーとして適したプレセラミックポリマ
ーと言える。また、このSi、N4の形態は、通常、非
晶質あるいは1000Å以下という極めて小さな結晶粒
子という形でセラミックス粒子間を充てんするため、粒
成量抑制剤としての役割をも果す。
以上の反応は、約400℃より始まり、約1500℃で
完了する。故に、5L3N4. SiCなどの非酸化物
に代表される無機焼結セラミックスにおいては、従来、
 1700℃以上という高温焼結が行われてきたが、本
発明によれば1300〜1500℃程度で、比較的低密
度であるにもかかわらず、機械的特性に優れたセラミッ
クス成形焼結体が得られる。
また、改質ポリシラザンの添加量は、目的とする焼結体
の特性、例えば、強度、密度、加工性などに応じ、制限
なく増減することが可能である。
これは、従来のプレセラミックポリマーと異なり、重合
度をコントロールすることにより、融解の度合いを低減
し、多量添加時においても成形体の軟化を防止すること
ができるためである。
このようなバインダーを用いてセラミックスを成形する
には、前記の如く、溶剤中にセラミックス粉末と改質ポ
リシラザンを添加し混合してスラリーを作成してスラリ
ー成形するか、あるいはこのスラリーから溶剤を蒸発さ
せて造粒粉を作成してプレス成形すればよい。
一例として、プレス法を適用するためには、スプレード
ライヤーにより、スラリー中の溶剤を蒸発させ、造粒粉
とすればよい。このとき、改質ポリシラザンは、造粒の
ための成形用バインダーとして働くと同時に、焼結体バ
インダー(焼結助剤)として、セラミックス粉体中に均
一に混合されたことになる。このようにして得られた造
粒粉をプレス成形することにより、所定の形状の成形体
を得ることができる。また、スラリー成形法によれば、
造粒粉を経ずに直接成形用かつ焼結用バインダーが均一
に混合された成形体を得ることができる。
なお、本発明では、改質ポリシラザンを溶剤に溶解した
溶液にセラミックス成形体(焼結体)を浸漬して、成形
体(焼結体)中に改質ポリシラザンを含浸したセラミッ
クス成形体を焼成することによって、セラミックス成形
体(焼結体)を緻密化することも可能である。
溶剤としては、脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、芳香
族炭化水素の炭化水素溶媒、ハロゲン化メタン、ハロゲ
ン化エタン、ハロゲン化ベンゼン等のハロゲン化炭化水
素、脂肪族エーテル、脂環式エーテル等のエーテル類な
どが使用できる。好ましい溶媒は、塩化メチレン、クロ
ロホルム、四塩化炭素、ブロモホルム、塩化エチレン、
塩化エチリデン、トリクロロエタン、テトラクロロエタ
ン等のハロゲン化炭化水素、エチルエーテル、イソプロ
ピルエーテル、エチルブチルエーテル、ブチルエーテル
、■、2−ジオキシエタン、ジオキサン、ジメチルジオ
キサン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン等の
エーテル類、ペンタン、ヘキサン、インヘキサン、メチ
ルペンタン、ヘプタン、イソへブタン、オクタン、イソ
オクタン、シクロペンタン、メチルシクロペンタン、シ
クロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、トル
エン、キシレン、エチルベンゼン等の炭化水素等である
得られたセラミックス成形体を焼成して改質ポリシラザ
ンをセラミックス化し、セラミックス成形焼結体を得る
ことができる。焼成条件は真空中、不活性ガス、還元性
ガス、炭化水素ガスのうちから選ばれる少なくとも1種
からなる雰囲気中で600〜2300°Cの温度範囲内
で加熱焼結する。
こうして得られる焼結体は、用いたセラミックス粒子あ
るいはウィスカーの間をポリシラザンが加熱分解して生
成した非晶質または1000Å以下の極めて微細な粒子
によってうめられた組織となる。
こうして、本発明によれば、プレセラミックポリマーと
してポリシラザンを選択し、かつ側鎖に有機基を有しな
いポリシラザンを選択することによって、低温焼成で機
械的性質及び化学的性質に優れたセラミックス成形焼結
体が得られる。
〔効  果〕
本発明の改質ポリシラザンは、前記の如き分子構造的及
び物性的特徴を有するもので、コーティング剤及びバイ
ンダーとして好ましく使用されるが、更に他の種々の分
野に利用することができる。
以下に、本発明の改質ポリシラザンの用途的及び製法的
特徴を示す。
■ 改質ポリシラザンは、有機溶媒に可溶であり、焼成
して窒化ケイ素あるいは窒化ケイ素含有セラミックスに
変換できるため、高性能のセラミックス成形体すなわち
、高温機械強度が高く、耐熱性。
耐食性、耐酸化性、耐熱衝撃性に優れた連続繊維、フィ
ルム、被覆膜を容易に得ることができる。また、セラミ
ックス収率が高いので、焼結用結合剤、含浸剤等として
の利用も可能である。
■ 改質ポリシラザンは、その重合体中に分解を促進す
る残留触媒等の不純物の混入がないため、安定性が向上
し、取扱いが容易になり、その上高温焼成後のセラミッ
クスの純度が向上する。
■ 改質ポリシラザンは一原料ポリシラザンに比べて架
橋構造、分子量が増加するため、凝固性が向上し、常温
ですみやかに賦形化が可能となる。
■ 遷移金属等の触媒を用いないため、生成物と触媒と
の分離工程を必要としない。
■ 改質ポリシラザン中に触媒が残存しないため、安定
性が向上し、溶媒を除き、単離後も長期保存が可能であ
る。
■ 高価で危険な触媒を使用しないため、低コストで安
全である。
■ 高分子量のため、高温焼成時の蒸発損失が小さいの
で、セラミックス収率が向上する。
■ 不純物の混入がないため、高温焼成後のセラミック
スの純度が向上する。
■ 改質ポリシラザンを紡糸する場合、紡糸助剤を添加
せずに連続紡糸が可能となる。
〔実施例〕
以下、実施例により本発明を更に詳細に説明する。
参考例1 内容積1Ωの四つロフラスコにガス吹きこみ管、メカニ
カルスターラー、ジュワーコンデンサーを装置した。反
応器内部を脱酸素した乾燥窒素で置換した後、四つロフ
ラスコに脱気した乾燥ピリジン490−を入れ、これを
水冷した。次にジクロロシラン51.6gを加えると白
色固体状のアダクト(sioicQz・2C,H,N)
が生成した6反応器合物を氷冷し、攪拌しながら、水酸
化ナトリウム管及び活性炭管を通して精製したアンモニ
ア51.0gを吹き込んだ。
反応終了後、反応混合物を遠心分離し、乾燥ピリジンを
用いて洗浄した後、更に窒素雰囲気下でろ過して、ろ液
850−を得た。濾液5+nQから溶媒を減圧留去する
と樹脂固体ペルヒドロポリシラザン0.102gが得ら
れた。
得られたポリマーの数平均分子量はGPCにより測定し
たところ、980であった。また、とのポリマーのIR
(赤外吸収)スペクトル(溶媒:乾燥0−キシレン;ペ
ルヒドロポリシラザンの濃度:10.2g/Q)を検討
すると、波数(cm″”) 3350 (見かけの吸光
係数i =0.557Qg−’an−”)及び1175
のNHに基づく吸収; 2170(i =3.14) 
(7)SiHニ基づく吸収: 1020〜820のSi
H及び5iNSiに基づく吸収を示すことが確認された
。またこのポリマーの111NMR(プロトン核磁気共
鳴)スペクトル(60MHz 、溶媒CDCQ3/基準
物質TMS )を検討すると、いずれも幅広い吸収を示
していることが確認された。即ちδ4.8及び4.4(
br、 5iH) ; 1.5(br、NH)の吸収が
確認された。
参考例2 参考例1と同一の装置を用いて反応を行った。
即ち、参考例1で示した四つロフラスコに脱気した乾燥
ジクロロメタン500mQを入れ、これを水冷した。次
にジクロロシラン48.6gを加えた。この溶液を氷冷
し、攪拌しながら水酸化ナトリウム管及び活性炭管を通
して精製したアンモニア42.5gを窒素との混合ガス
として吹き込んだ。反応中ガス流路に粉霧が生成したの
で、ガス流路を時々たたいて閉塞を防いだ。
反応混合物を参考例1と同様処理すると粘性油状ペルヒ
ドロポリシラザンが9.6g得られた。得られたポリマ
ーの数平均分子量はGPCにより測定したところ640
であった。
参考例3 参考例1と同一の装置を用いて反応を行った。
即ち、参考例1で示した四つロフラスコに脱気した乾燥
テトラヒドロフラン450m1lを入れ、これをドライ
アイス−メタノール浴で冷却した。次にジクロロシラン
46.2gを加えた。この溶液を冷却し、攪拌しながら
無水メチルアミン44.2gを窒素との混合ガスとして
吹き込んだ。
反応終了後1反応器合物を遠心分離し、乾燥テトラヒド
ロフランを用いて洗浄した後、さらに窒素雰囲気下でろ
過してろ液820−を得た。溶媒を減圧留去すると粘性
油状N−メチルシラザンが8.4g得られた。得られた
ポリマーの数平均分子量は、GPCにより測定したとこ
ろ1100であった。
参考例4 内容積IQの四つロフラスコにガス吹きこみ管、メカニ
カルスターラー、ジュワーコンデンサーを装置した。反
応器内部を脱酸素した乾燥窒素で置換した後、四つロフ
ラスコに乾燥ジクロロメタン300 d2およびメチル
ジクロロシラン24.3g(0,211mob)を入れ
、氷冷した。攪拌しながら水酸化ナトリウム管および活
性炭管を通して精製したアンモニア18.1g(1,0
6moQ)を吹き込んだ。
反応終了後、反応混合物を遠心分離し、乾燥ジクロロメ
タンを用いて洗浄後、窒素雰囲気下でろ過した。ろ液か
ら溶媒を減圧留去すると、無色透明の液体を8.81g
得た。この生成物の数平均分子量はGPCにより測定し
たところ、380であった。
参考例5 参考例1と同一の装置を用いて反応を行なった。
すなわち参考例1で示した四つロフラスコに脱気した乾
燥ベンゼン450成を入れ、これを水冷した。
次にジクロロシラン40.6gを加えた。この溶液を水
冷し、撹拌しながら、水酸化ナトリウム管および活性炭
管を通して精製したアンモニア42.0gを窒素との混
合ガスとして吹き込んだ。反応中ガス流路に粉霧が生成
したので、ガス流路を時々たたいて閉塞を防いた。
反応混合物を参考例1と同様に処理すると粘性油状ベル
ヒドロポリシラザンが5.2g得られた。得られたポリ
マーの数平均分子量はGPCにより測定したところ32
0であった。
参考例6 内容積12の四つロフラスコに滴下ろうと、メカニカル
スターラー、ジュワーコンデンサーと装置した。反応器
内部の脱酸素した乾燥窒素で置換した後、四つロフラス
コに脱気した乾燥ベンゼン400mQと公知の方法(J
、Am、Chem、Soc、 、Vol、67、181
3(1945))により得た。アリルジクロロシラン6
4.5gを入れ、撹拌した。滴下ろうとに、公知の方法
(J、Am、Chem、Soc、vol 70,435
(1948))により得たトリエチルアミノシラン42
.5gと乾燥ベンゼン5〇−を入れた。トリエチルアミ
ノシランのベンゼン溶液をアリルジクロロシランのベン
ゼン溶液に滴下した。滴下終了後、撹拌しながらオイル
バスで加熱環流して反応を行なった。
反応終了後、反応混合物を遠心分離し、乾燥ベンゼンを
用いて洗浄した後、更に窒素雰囲気下で濾過して、濾液
680咄を得た。濾液より溶媒を除くと液体状のN−(
トリエチルシリル)アリルシラザンが19.2g得られ
た。得られたポリマーの数平均分子量はGPCにより測
定したところ360であった。
参考例7 シクロヘキシルブロマイドより合成したグリニヤール試
薬62.0gをトリクロロシラン110gにゆっくりと
添加した。減圧蒸留したところ、シクロへキシルジクロ
ロシランが16.4g得られた。参考例6と同様の装置
を用いた。四つロフラスコにシクロへキシルジクロロシ
ラン12.0gと乾燥ベンゼン42〇−ヲ入れ撹拌した
。滴下ろうとに1,1−ジメチルヒドラジン15.6g
と乾燥ベンゼン40m12を入れた。1,1−ジメチル
ヒドラジンのベンゼン溶液をシクロへキシルジクロロシ
ランのベンゼン溶液に滴下した。
滴下終了後、室温で撹拌しながら反応を行った。
反応終了後、反応混合物を遠心分離し、乾燥ベンゼンを
用して洗浄した後、更に窒素雰囲気下で濾過して、濾液
730或を得た。濾液より溶媒を除くと油状のN−(ジ
メチルアミノ)シクロへキシルシラザンが3.2g得ら
れた。得られたポリマーの数平均分子量はGPCにより
測定したところ390であった。
参考例8 参考例1と同一の装置を用いて反応を行った。
すなわち、参考例1で示した四つロフラスコに脱気した
乾燥トルエン5(lo+nfllを入れ、これを氷冷し
た。次に、フエニルジクロロシラン52.1gを加えた
。この溶液を氷冷し、撹拌しながら、水酸化ナトリウム
管および活性炭管を通して精製したアンモニア30.0
gを窒素との混合ガスとして吹き込んだ。
反応混合物を参考例1と同様に処理すると油状フェニル
ポリシラザンが6.8g得られた。得られたポリマーの
数平均分子量はGPCにより測定したところ380であ
った。
実施例1 参考例1で得られたベルヒドロポリシラザンのピリジン
溶液(ベルヒドロポリシラザンのe度。
5.04重示差) 100mQを内容積300mflの
耐圧反応容器に入れ、精製した無水アンモニア2.8g
(0,165moff)を加えて密閉系で100℃で3
時間攪拌しながら反応を行なった。この間大量の気体が
発生した。反応前後で圧力は1.2kg/cni上昇し
た。室温に冷却後、乾燥0−キシレン200−を加え、
圧力3〜5nwnt(g+ a度50〜70℃で溶媒を
除いたところ、5.22gの白色粉末が得られた。この
粉末は、トルエン、テトラヒドロフラン、クロロホルム
およびその他の有機溶媒に可溶であった。
前記重合体粉末の数平均分子量は、GPCにより測定し
たところ:110であった。また、そのIRスペクトル
(溶媒二〇−キシレン)の分析の結果、波数(an−1
)3350および1175のNHに基づく吸収; 21
70のSiHに基づく吸収: 1020〜820のSi
Hおよび5iNSiに基づく吸収を示すことが確認され
た。さらに、前記重合体粉末の’ HNMRスペクトル
CCDCQ3. TMS)を分析したところ、いずれも
幅広い吸収を示している。すなわち64.8(br、 
SL)+2)、δ4.4(br、 5iH3)。
δ1.5(br、N)l)の吸収が観測された。(Si
H2)/ (SiH,)=4.1であった。
実施例2 参考例1で得られたベルヒドロポリシラザンのピリジン
溶液(ベルヒドロポリシラザンの感度。
10.3重量%)80−を内容積300−の耐圧反応容
器に入れ、精製した無水アンモニア4.1gを加え、密
閉系で50℃で3時間攪拌をしながら反応を行なった。
この間大量の気体が発生したが、ガスクロマトグラフィ
ー(GC)測定により、この気体は水素であった。反応
前後における圧力上昇は0.8kg/dであった。実施
例1と同様に溶媒を減圧留去すると、白色粉末が8.1
g得られ、この粉末は有機溶媒に可溶であった。
前記重合体粉末の数平均分子量は、GPCにより測定し
たところ2290であった。また、この重合体粉末の1
8NMRスペクトルにより、(S i Hz )/ (
SiHa )比を算出すると、4.3であった。
得られた改質ベルヒドロポリシラザンの元素分析結果は
次の通りであった。(重量%)Si:59.9 、 N
:28.O、O: 1.42 、 C:3.55 。
H: 5.21 得られた改質ベルヒドロポリシラザンは安定であり、室
温、窒素気流下で1ケ月保存後においても、 そのIR
スペクトル、 1HNMRスペクトル、数平均分子量の
変化はほとんどみられなかった。
実施例3 実施例1で得られた改質ベルヒドロポリシラザンを窒素
中で1000℃まで昇温速度10℃/分で加熱し、熱分
解することで茶かっ色囲体を86.0重量%の収率で得
た6得られたセラミックスの粉末X線回折測定を行なっ
たところ、非晶質であることが確認された。
次に、この固体をさらに窒素中で1500℃まで昇温速
度3℃/分で加熱焼成して淡かっ色囲体を得た。
この物質の粉末X線回折測定を行なったところ、2θ=
20.5@にα−3i、 N4の(101)回折線、2
θ、22.9°にα−3i□N4にα−3L3N4の(
110)回折線、2θ=26.4’にα−3L3N4の
(200)回折線、2θ=30.9°にα−5i、N、
の(201)回折線、2θ=31.7°にα−3t□N
4の(002)回折線。
2θ=34.5°にα−3i、 N4の(102)回折
線、2θ=35.2”にα−3i、 N4の(210)
回折線、2θ=38.8°にα−3i、 N4の(21
1)回折線、2θ、39.4°にα−5L、 N4の(
112)回折線、2θ=40.1”にα−3i、N4の
(300)回折線。
2θ:41.8@にα−5i3N4の(202)回折線
、2θ=43.4’にα−813N4の(301)回折
線、2θ:46.9°にα−3i、 N4の(220)
回折線、2θ=48.2°にα−3i、 N4の(21
2)回折線、2θ=48.8’にα−5i、 N4の(
310)回折線、さらに2θ=23.3’にβ−5i、
 N、の(110)回折線、2θ=26.9’にβ−3
L、 N4の(200)回折線、2θ=33.6’にβ
−3i:IN4の(101)回折線、2θ=36.0°
にβ−9i3N、の(210)回折線、2θ=41.4
°にβ−5i、 N、の(201)回折線、2θ=49
.9’にβ−5i、 N、の(310)回折線、2θ=
28.4’にSiの(111)回折線、2θ=47.3
°にSiの(220)回折線が認められ、結晶質の窒化
珪素であることが確認された。
この結晶質窒化珪素の元素分析結果は(重量%)Si:
58.l 、 N:36.7 、0:1.42 、 C
:1.45であった・ 実施例4 参考例1で得られたベルヒドロポリシラザンのピリジン
−0−キシレン混合溶液(ベルヒドロポリシラザンの濃
度、 5.64重量鮎ピリジン50重量%、0−キシレ
ン50重量%)100m9を内容積300−の耐圧反応
容器に入れ精製した無水アンモニア3.0gを加え。
密閉系で120℃で3時間攪拌しながら反応を行なった
。この間大量の気体が発生した。実施例1と同様に溶媒
を減圧留去したところ、改質ポリシラザンの白色粉末が
5.2g得られた。この改質ポリシラザン粉末は有機溶
媒に可溶であり、その数平均分子量はGPCにより測定
したところ4080であった。
実施例5〜7 表−1に指示された溶媒、ベルヒドロポリシラザンの濃
度およびアンモニア量(アンモニア/ベルヒドロシラザ
ン(モル比))を用いた以外は、実流側1と同様にして
反応を行って改質ポリシラザンを得た。このものの性状
を表−1に示す。
実施例8 参考例2で得られたベルヒドロポリシラザンのピリジン
溶液(ベルヒドロポリシラザンの濃度。
3.87重量%)90成を内容積300mQの耐圧反応
容器に入れ、精製した無水アンモニア2.0g加えて密
閉系で110℃で5時間攪拌しながら反応を行なった。
この間大量の気体が発生した。反応前後における圧力上
昇は1.2kg/a#であった。実施例1と同様に溶媒
を減圧留去すると、改質ポリシラザンの白色粉末が3.
7g得られ、この粉末は有機溶媒に可溶であった。その
数平均分子量はGPCにより測定をしたところ、327
0であった。また、この改質ポリシラザンは、そのJ(
NMRスペクトルにより、(SiH2)/(SiH,)
=5 、8であった。
実施例9 参考例1で得られたベルヒドロポリシラザンのピリジン
溶液(ベルヒドロポリシラザンの濃度。
5.16重量%)100mQを内容積300mQの耐圧
反応容器に入れ、水浴で冷却しながらヒドラジン無水物
1.5鴫を加えた。添加するとただちに気体の発生がみ
られた。室温で20時間攪拌しながら反応を行なった。
反応の前後で0.8kg/cJの圧力上昇がみとめられ
た。実施例1と同様の処理を行なったところ改質ポリシ
ラザンの白色粉末が得られ、そのGPCによる数平均分
子量は5690であった。
実施例10 参考例3により得た、N−メチルシラザンのピリジン溶
液(N−メチルシラザンの濃度、 4.56重量%)L
oom Qを内容積300m Qの耐圧反応容器に入れ
、精製した無水アンモニア3.8gを加え、密閉系で1
20℃で3時間攪拌しながら反応させた。この間大量の
気体が発生した。反応前後で圧力は0.7kg/d上昇
した。実施例1と同様に溶媒を減圧留去して、改質ポリ
シラザンの淡黄色ゴム状固体を得た。その数平均分子量
はGPCによりH1l定したところ、1350であった
実施例11 参考例4によりポリメチルシラザンのピリジン溶液(ポ
リメチルシラザンの濃度、4.50重量%)35mIl
を内容積300m Qの耐圧反応容器に入れ、精製した
無水アンモニア1.7gを加え、密閉系で140℃で3
時間攪拌しながら反応を行なった。この間気体の発生が
みとめられ、反応前後で圧力は0.4kg/a#上昇し
た。実施例1と同様に溶媒を減圧留去して。
改質ポリシラザンの淡黄色粘性液体を得た。その数平均
分子量はGPCにより測定したところ、600であった
実施例12 参考例5で得られたベルヒドロポリシラザンのピリジン
溶液(ベルヒドロポリシラザンの濃度、6.16重量%
)100m Qを内容積300n+ Qの耐圧反応容器
に入れ、精製した無水アンモニア2.1g加えて密閉系
で100℃で8時間撹拌しながら反応を行った。この間
大量の気体が発生した。反応前後における圧力上昇は1
 、1kg/ alであった。実施例1と同様に溶媒を
減圧留去すると、改質ポリシラザンの白色粉末が5.3
g得られ、この粉末は有機溶媒に可溶であった。その数
平均分子量はGPCにより測定したところ、2470で
あった。また、この改質ポリシラザンは、その18NM
Rスペクトルにより(stn2) / (st+t3)
=6.8であった。
実施例13 実施例2で得られた改質ベルヒドロシラザンを乾燥0−
キシレンに溶解し、78重景%の改質ベルヒドロポリシ
ラザンを含む0−キシレン溶液を得た。これをノズルよ
り加熱雰囲気中に吐出させ、巻き取ることで、無色透明
のベルヒドロシラザン連続繊維が得られた。
実施例14 参考例6により得たN−(トリエチルシリル)アリルシ
ラザンのピリジン溶液(N−(トリエチルシリル)アリ
ルシラザンの濃度、5.64重量%)100m Qを内
容積300+* Qの耐圧反応容器に入れ、精製した無
水アンモニア0.8gを加え、密閉系で100℃で5時
間撹拌しながら反応させた。この間大量の気体が発生し
た。反応前後で圧力は0.9kg/a!上昇した。実施
例1と同様に溶媒を減圧留去して、改質ポリシラザンの
淡黄色ゴム状固体を得た。その数平均分子量はGPCに
より測定したところ、940であった。
実施例15 参考例7により得た、N−(ジメチルアミノ)シクロへ
キシルシラザンのピリジン溶液(N−(ジメチルアミノ
)シクロへキシルシラザンの濃度、4.12重量%)1
00m9を内容積300−の耐圧反応容器に入れ。
精製した無水アンモニア0.6gを加え、密閉系で80
℃で6時間撹拌しながら反応させた。この間大量の気体
が発生した。反応前後で圧力は0.8kg/a!上昇し
た。実施例1と同様に溶媒を減圧留去して、改質ポリシ
ラザンの淡黄色ゴム状固体を得た。
その数平均分子量はGPCにより測定したところ、10
80であった。
実施例16 実施例2で得られた改質ベルヒドロポリシラザンをアン
モニア(50体積%)と窒素(50体積%)の混合雰囲
気中で1450℃まで昇温速度10℃/分で加熱し、1
450℃で3時間焼成することで淡かっ色固体を87.
2重量%の収率で得た。得られたセラミックスの粉末X
線回折測定を行ったところ、α−3i□Nいβ−3i、
 N4であることが確認された。
実施例17 実施例4で得られた改質ベルヒドロポリシラザンを水素
中で1500℃まで5℃/分で加熱し、1500℃で5
時間焼成することで淡かっ色固体を85.4重址%の収
率で得た。得られたセラミックスの粉末X線回折測定を
行ったところ、α−8j3N4とβ−3i、 N4であ
ることが確認された。
実施例18 実施例10で得られた改質ポリシラザンを真空中(3−
4mmHg)で、1600℃まで3℃/分で加熱し、1
600℃で6時間焼成することで黒かっ色固体が77.
3重i%の収率で得られた。得られたセラミックスの粉
末X線回折測定を行ったところ、α−3i3Nいβ−5
i、N4.5iC(8F型)であることが確認された。
実施例19 参考例8により得た、フェニルポリシラザンのピリジン
溶液(フェニルポリシラザンの濃度。
6.04重量%)100m Qを内容積300m Qの
耐圧反応容器に入れ、精製した無水アンモニア0.6g
を加え、密閉系で120℃で6時間撹拌しながら反応さ
せた。この間大量の気体が発生した。反応前後で圧力は
0 、5kg/ cyJ上昇した。実施例1と同様に溶
媒を減圧留去して、改質ポリシラザンの無色透明ゴム状
固体を得た。その数平均分子量はGPCにより測定した
ところ、1090であった。
実施例20 実施例1の方法で製造した重合体粉末(数平均分子量3
810)にオルトキシレン及び充填剤として炭化珪素(
平均粒子径約10ミクロン)を添加し、ポリシラザン3
0重量ダ、オルトキシレン20重量%及び炭化珪素50
重量%の溶液を調製した。これを5US304基盤(7
0mm X 30mm X 1薗t)の表面にスプレー
にて塗布した。基盤に塗布した後不活性ガス(窒素)雰
囲気の乾燥炉内で400℃、1時間加熱乾燥した。昇温
速度は3℃/分とした。その結果厚み約160μmの被
膜を得た。被膜の性能を表−2に示す。
検査方法は以下に示す通りである。
イ)外観:肉眼wt察でクラック、色調、その地塗膜の
欠点を調べる。
口)鉛筆硬度:JIS K5400に準する。
ハ)密着性(基盤剥離試験):塗膜上に鋼ナイフで1m
四方の素材に達する切れ目を基盤目に100個作り、そ
の上にセロハンテープ(漬水化学工業)をはりつけた後
、そのセロハンテープを上方90°の方向に強くひきは
がした時に残っているます目の数で評価する。
実施例21 ポリシラザン25重i%、オルトキシレン5重ff1%
、炭化珪素70重量%、助剤0.5重−1重%の溶液を
調製し、基盤に刷毛室りにより塗布し窒素ガス雰囲気下
で1000℃、1時間焼成したこと以外は実施例20の
方法と同様に処理したところ被膜として表−2に示す結
果を得た。
実施例22 ポリシラザン50重址%、オルトキシレン20重量%及
び炭化珪素30重i%の溶液を調製し、5S41上に浸
漬により塗布し、空気中200℃、1時間焼成したこと
以外は実施例20の方法と同様に処理したところ被膜と
して表−2に示す結果を得た。
比軟例 参考例2で得られた粘性ポリシラザン〔架橋結合4NI
()−il(n=1又は2)がなく N/S比が0.8
未満、数平均分子量640〕を実施例20と同様の方法
で塗布したが、だれが生じて硬度の十分な被膜は得られ
なかった。
実施例23 無機ポリシラザンを用いるかわりに、改質ポリシラザン
を用いる他は、実施例1と同様な手法でSi、 N4焼
結体を得た。本焼結体のかさ密度は2.87g/al?
、抗折強度は24 、3kg/ ciであり、実施例1
及び実施例13の結果を上まわった。
実施例24 無機ポリシラザンを用いるかわりに、改質ポリシラザン
を用いる他は、実施例1と全く同様な手法でSiC焼結
体を得た。本焼結体のかさ密度は2.83g/cn?、
抗折強度は21.9kg/mm2であり、実施例2及び
実施例14の結果を上まわった。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)架橋結合▲数式、化学式、表等があります▼(n
    =1または2)を有し、珪素原子に結合する窒素と珪素
    との原子比(N/Si)が少なくとも0.80である数
    平均分子量が200〜500,000の改質ポリシラザ
    ン重合体。
  2. (2)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1、R_2:水素原子、アルキル基、アル
    ケニル基、シクロアルキル基、 アルキルアミノ基、アリール 基、アルキルシリル基) で表わされる骨格を有し、数平均分子量が100〜50
    ,000のポリシラザンとアンモニア又はヒドラジンと
    を塩基性条件下で脱水素重縮合反応させることを特徴と
    する請求項(1)記載の改質ポリシラザンの製造法。
  3. (3)請求項(1)記載の改質ポリシラザン重合体を必
    須成分とするコーティング剤。
  4. (4)請求項(1)記載の改質ポリシラザン重合体を必
    須成分とするバインダー。
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Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01203430A (ja) * 1988-02-08 1989-08-16 Toa Nenryo Kogyo Kk 改質ポリシラザン及びその製造法
JPH01203429A (ja) * 1988-02-08 1989-08-16 Toa Nenryo Kogyo Kk 改質ポリシラザン及びその製造法
US5151390A (en) * 1986-06-13 1992-09-29 Toa Nenryo Kogyo Kabushiki Kaisha Silicon nitride-based fibers and composite material reinforced with fibers
US5292830A (en) * 1991-06-20 1994-03-08 Tonen Corporation Thermosetting copolymers, silicon carbide-based fiber and processes for producing same
US5459114A (en) * 1992-11-26 1995-10-17 Tonen Corporation Method for producing ceramic products
JPH09157544A (ja) * 1995-12-05 1997-06-17 Tonen Corp シリカ系被膜付き基材の製造方法及び本方法で製造されたシリカ系被膜付き基材
JPH09183663A (ja) * 1995-10-30 1997-07-15 Tonen Corp プラスチックフィルムにSiO2系セラミックスを被覆する方法
WO2005014743A1 (ja) * 2003-08-12 2005-02-17 Az Electronic Materials (Japan) K.K. コーティング組成物、およびそれを用いて製造した低誘電シリカ質材料
JP2005350304A (ja) * 2004-06-10 2005-12-22 Az Electronic Materials Kk 六面体構造を有するシラザン化合物およびその製造法とそれを用いたコーティング組成物
JP2007169153A (ja) * 2005-12-21 2007-07-05 General Electric Co <Ge> ナノスケールセラミック複合材及び製造方法
US7344603B2 (en) 2001-12-27 2008-03-18 Az Electronic Materials Usa Corp. Solvent for treating polysilazane and method of treating polysilazane with the solvent
WO2009054522A1 (ja) 2007-10-26 2009-04-30 Az Electronic Materials (Japan) K.K. 緻密なシリカ質膜を得ることができるポリシラザン化合物含有組成物
WO2015087847A1 (ja) * 2013-12-09 2015-06-18 アーゼット・エレクトロニック・マテリアルズ(ルクセンブルグ)ソシエテ・ア・レスポンサビリテ・リミテ ペルヒドロポリシラザン、およびそれを含む組成物、ならびにそれを用いたシリカ質膜の形成方法
WO2015163360A1 (ja) * 2014-04-24 2015-10-29 アーゼット・エレクトロニック・マテリアルズ(ルクセンブルグ)ソシエテ・ア・レスポンサビリテ・リミテ 共重合ポリシラザン、その製造方法およびそれを含む組成物ならびにそれを用いたシリカ質膜の形成方法
JP2016074875A (ja) * 2014-10-07 2016-05-12 三星エスディアイ株式会社Samsung SDI Co.,Ltd. シリカ系膜形成用組成物、シリカ系膜、および電子デバイス
WO2017191049A1 (en) 2016-05-02 2017-11-09 Az Electronic Materials (Luxembourg) S.A.R.L. Composition for forming dense siliceous film

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101265852B1 (ko) 2010-01-08 2013-05-20 (주)디엔에프 인조대리석용 코팅액
US10316216B2 (en) 2016-08-31 2019-06-11 Samsung Sdi Co., Ltd. Composition for forming silica layer, and silica layer

Cited By (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5151390A (en) * 1986-06-13 1992-09-29 Toa Nenryo Kogyo Kabushiki Kaisha Silicon nitride-based fibers and composite material reinforced with fibers
JPH01203429A (ja) * 1988-02-08 1989-08-16 Toa Nenryo Kogyo Kk 改質ポリシラザン及びその製造法
JPH01203430A (ja) * 1988-02-08 1989-08-16 Toa Nenryo Kogyo Kk 改質ポリシラザン及びその製造法
US5292830A (en) * 1991-06-20 1994-03-08 Tonen Corporation Thermosetting copolymers, silicon carbide-based fiber and processes for producing same
US5459114A (en) * 1992-11-26 1995-10-17 Tonen Corporation Method for producing ceramic products
JPH09183663A (ja) * 1995-10-30 1997-07-15 Tonen Corp プラスチックフィルムにSiO2系セラミックスを被覆する方法
JPH09157544A (ja) * 1995-12-05 1997-06-17 Tonen Corp シリカ系被膜付き基材の製造方法及び本方法で製造されたシリカ系被膜付き基材
US7344603B2 (en) 2001-12-27 2008-03-18 Az Electronic Materials Usa Corp. Solvent for treating polysilazane and method of treating polysilazane with the solvent
WO2005014743A1 (ja) * 2003-08-12 2005-02-17 Az Electronic Materials (Japan) K.K. コーティング組成物、およびそれを用いて製造した低誘電シリカ質材料
JP2006316077A (ja) * 2003-08-12 2006-11-24 Az Electronic Materials Kk コーティング組成物、およびそれを用いて製造した低誘電シリカ質材料
US7754003B2 (en) 2003-08-12 2010-07-13 Az Electronic Materials Usa Corp. Coating composition and low dielectric siliceous material produced by using same
JP4574238B2 (ja) * 2004-06-10 2010-11-04 Azエレクトロニックマテリアルズ株式会社 六面体構造を有するシラザン化合物およびその製造法とそれを用いたコーティング組成物
JP2005350304A (ja) * 2004-06-10 2005-12-22 Az Electronic Materials Kk 六面体構造を有するシラザン化合物およびその製造法とそれを用いたコーティング組成物
JP2007169153A (ja) * 2005-12-21 2007-07-05 General Electric Co <Ge> ナノスケールセラミック複合材及び製造方法
WO2009054522A1 (ja) 2007-10-26 2009-04-30 Az Electronic Materials (Japan) K.K. 緻密なシリカ質膜を得ることができるポリシラザン化合物含有組成物
US8263717B2 (en) 2007-10-26 2012-09-11 Az Electronic Materials Usa Corp. Polysilazane-containing composition capable of forming a dense siliceous film
WO2015087847A1 (ja) * 2013-12-09 2015-06-18 アーゼット・エレクトロニック・マテリアルズ(ルクセンブルグ)ソシエテ・ア・レスポンサビリテ・リミテ ペルヒドロポリシラザン、およびそれを含む組成物、ならびにそれを用いたシリカ質膜の形成方法
JP2015115369A (ja) * 2013-12-09 2015-06-22 メルクパフォーマンスマテリアルズマニュファクチャリング合同会社 ペルヒドロポリシラザン、およびそれを含む組成物、ならびにそれを用いたシリカ質膜の形成方法
US9793109B2 (en) 2013-12-09 2017-10-17 AZ Electronic Materials (Luxembourg) S.à.r.l. Perhydropolysilazane, composition containing same, and method for forming silica film using same
CN106232687A (zh) * 2014-04-24 2016-12-14 Az电子材料(卢森堡)有限公司 共聚聚硅氮烷、其制造方法以及包含其的组合物以及使用了其的二氧化硅质膜的形成方法
KR20160149243A (ko) * 2014-04-24 2016-12-27 에이제트 일렉트로닉 머티어리얼스 (룩셈부르크) 에스.에이.알.엘. 공중합 폴리실리잔, 이의 제조 방법 및 이를 함유하는 조성물 및 이를 사용한 실리카질막의 형성 방법
JPWO2015163360A1 (ja) * 2014-04-24 2017-04-20 アーゼッド・エレクトロニック・マテリアルズ(ルクセンブルグ)ソシエテ・ア・レスポンサビリテ・リミテ 共重合ポリシラザン、その製造方法およびそれを含む組成物ならびにそれを用いたシリカ質膜の形成方法
WO2015163360A1 (ja) * 2014-04-24 2015-10-29 アーゼット・エレクトロニック・マテリアルズ(ルクセンブルグ)ソシエテ・ア・レスポンサビリテ・リミテ 共重合ポリシラザン、その製造方法およびそれを含む組成物ならびにそれを用いたシリカ質膜の形成方法
EP3135711A4 (en) * 2014-04-24 2017-12-06 AZ Electronic Materials (Luxembourg) S.à.r.l. Copolymerized polysilazane, manufacturing method therefor, composition comprising same, and method for forming siliceous film using same
US10093831B2 (en) 2014-04-24 2018-10-09 Az Electronic Materials (Luxembourg) S.A.R.L. Copolymerized polysilazane, manufacturing method therefor, composition comprising same, and method for forming siliceous film using same
CN106232687B (zh) * 2014-04-24 2020-07-07 Az电子材料(卢森堡)有限公司 共聚聚硅氮烷、其制造方法以及包含其的组合物以及使用了其的二氧化硅质膜的形成方法
JP2016074875A (ja) * 2014-10-07 2016-05-12 三星エスディアイ株式会社Samsung SDI Co.,Ltd. シリカ系膜形成用組成物、シリカ系膜、および電子デバイス
WO2017191049A1 (en) 2016-05-02 2017-11-09 Az Electronic Materials (Luxembourg) S.A.R.L. Composition for forming dense siliceous film
KR20190004288A (ko) 2016-05-02 2019-01-11 에이제트 일렉트로닉 머티어리얼스 (룩셈부르크) 에스.에이.알.엘. 치밀한 규산질 필름을 형성하기 위한 조성물
US10563093B2 (en) 2016-05-02 2020-02-18 Az Electronic Materials (Luxembourg) S.A.R.L. Composition for forming dense siliceous film

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