JPS6337140B2 - - Google Patents
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Description
[技術分野]
この発明は、イオン性無機塩と錯化合物とを含
有する触媒系によつてポリオルガノシラザン及び
(又は)ポリオルガノ(ジシリル)シラザンを処
理する方法に関する。 [発明の背景] オルガノポリシラザン(以下、ポリシラザンと
略記する)はモノマー、オリゴマー及び環状又は
線状のポリマーの形状で、そしてまた樹脂状ポリ
マーの形状で生成する公知の物質である。これら
ポリシラザンは多種の方法を用いて広範な出発物
質から製造することができる。 特に、これらポリシラザンはいろいろな形に成
形することができ、そしてSi3N4、SiC又はこれ
らの混合物の形に熱分解することができる。窒化
珪素の製造には、高温において気相中でクロルシ
ラン類(SiCl4、HSiCl3及びH2SiCl2)をアンモ
ニアと反応させて成る別法がある。粉末状物質を
直接生成するこの方法に従つて成形品、特にフア
イバーを製造するのは困難である。これに対し
て、ポリシラザンは、熱分解してセラミツクフア
イバーになる連続フアイバーに紡糸することがで
きる。 これらポリシラザンは種々の厚さのフイルムや
成形中実製品の形に製造することができ、そして
セラミツクフアイバーやカーボンフアイバー用の
結合剤として及び多孔質セラミツク物質用の焼結
結合剤として使用することができる。 しかしながら、これらポリシラザンを、フアイ
バー又は被覆材であつて熱分解後にフアイバー、
フイルム、種々の厚さの被覆材び成形製品の形で
セラミツク物質を生ずるようなものに容易に且つ
経済的に転換するにあたつては、多くの問題点が
ある。 米国特許第3853567号では、上記問題点に対し
て、第1溶液を提供する試みが為された。 この特許には、初めにポリシラザンを200〜800
℃の温度で熱処理して溶融性カルボシラザン樹脂
を得て、得られた溶融性カルボシラザン樹脂を溶
融紡糸し、次いで800〜2000℃の温度で熱分解す
ることによつて、炭化珪素、窒化珪素又はそれら
の混合物を他のセラミツク物質と共に含有するフ
アイバーのような成形品を製造する方法が提唱さ
れている。 上記特許には確かにかなりの進歩があるが、 ●最初にすでに非常に高い温度(200〜800℃)に
おける熱処理が必要である ●無水条件下不活性雰囲気下で溶融状態のカルボ
シラザンを処理する という二重の欠点がある。さらに、セラミツクの
収量が不充分である。 特開昭52−160446号には、オルガノポリシラザ
ン処理用触媒として酸性土を使用した高分子量の
オルガノポリシラザンの重合方法が記載されてい
る。しかしながら、この方法においては固体触媒
が用いられるのでこれを過して分離する必要が
あり、また、粘度の高いポリマーの場合には溶媒
の使用を伴うという大きな欠点がある。 [発明の目的] この発明の目的は、上述した問題点を解決し、
1000〜2000℃の温度で熱分解した場合に優れた特
性を有するセラミツク物質を生成するポリシラザ
ンを非常に多種の形状(フイラメント、成形品、
被覆材、フイルム等)で製造するための単純で有
用で経済的で且つ容易に利用できる方法を提供す
ることにある。 さらに、加水分解に対して充分安定であり且つ
熱分解した場合にセラミツク物質を高収率で生成
するポリシラザンを容易に入手することができる
ことが望ましく、これがこの発明の他の目的であ
る。この目的のためには、ポリシラザンが被覆し
含浸すべき支持体にしつかり付着し続けながら、
熱分解の際に良好な耐熱性を有するということが
必要である。 [発明の説明] これらの目的及び他の目的は、珪素原子に結合
した有機基が炭化水素基であるオルガノポリシラ
ザン、オルガノポリ(ジシリル)シラザン及びそ
れらの混合物から選択される珪素原子に直接結合
する水素原子を含まない少なくとも1種のポリシ
ラザンを触媒的に有効量の(A)M+A-のイオン性無
機塩と(B)この塩の陽イオンM+を錯化する化合物
(以下、錯化剤という)とから成る触媒系の存在
下で接触処理することを特徴とするポリシラザン
の処理方法に事実上係る本発明によつて達成され
る。 オルガノポリシラザンとしては、 (a) 次式: (R)a(X4-aSi () (式中、Rは同一であつても異なつていてもよ
く、1〜12個の炭素原子を含有し随意にハロゲ
ン化された直鎖状又は分枝鎖状のアルキル基、
5〜7個の炭素原子を含有するシクロアルキル
基、フエニル及びナフチル基のようなアリール
基、直鎖状又は分枝鎖状にアルキル部分に1〜
6個の炭素原子を含有するアリールアルキル又
はアルキルアリール基から選択され、 Xは水素原子以外のものであり、 aは0、1、2又は3のである) の少なくとも1種のオルガノハロシラン と、 (b) NH2又はNH基を少なくとも1個含有する有
機又は有機珪素化合物(例えばアンモニア、第
1又は第2アミン、シリルアミン、アミド、ヒ
ドラジン、ヒドラジド等) との反応生成物を使用することができる。 式()におけるRの例としては、アルキル基
としてメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペン
チル、ヘキシル、ヘプチル及びオクチル基;シク
ロアルキル基としてシクロペンチル、シクロヘキ
シル及びシクロヘプチル基;アリールアルキル基
としてベンジル及びフエニルエチル基;アルキル
アリール基としてトリル及びキシリル基;アルケ
ニル基としてビニル及びアリル基;アルキニル基
としてエチニル及びプロピニル基が挙げられる。
Xはハロゲンであり、一般に塩素原子である。 オルガノハロシラン単独で使用することも混合
物状で使用することもできる。オルガノハロシラ
ンの例としては、以下のものが挙げられる: (CH3)2SiCl2、(CH3)3SiCl、 CH3SiCl3、SiCl4、 (CH3)2Si(CH2Cl)2、(CH3)3SiCH2Cl、 CH3Si(CH2Cl)3、(C6H5)2SiCl2、 (C6H5)(CH3)SiCl2、C6H5SiCl3、 (CH3)(CH3CH2)SiCl2、 (CH3)(CH2=CH)SiCl2、 (CH3)2(CH2=CH)SiCl、 (C6H5)2(CH2=CH)SiCl、 (C6H5)(CH2=CH)SiCl2、 CH3(C6H5)(CH2=CH)SiCl。 前記のポリシラザンは公知であり製造するのが
容易である。より詳細には、これらポリシラザン
には、下記のものが包含される: Γ次式及び: H2N{(R)2SiNH}pSi(R)2NH2 () 及び (R)3SiNH{(R)2SiNH}p′Si(R)3() (式中、Rは前記の意味を持ち、p及びp′は1〜
1000までの間の整数、一般的には3〜300までの
整数である) に相当する線状ポリマー {式のポリマーはジオルガノジクロルシランを
アンモニアと接触させることによつて製造するこ
とができ、式のポリマーはトリオルガノクロル
シラン又はジオルガノジクロルシラン及びトリオ
ルガノクロルシランの混合物とアンモニアとの反
応によつて製造することができる(仏国特許第
1086932号及び米国特許第2564674号を参照された
い)。 一般にオルガノハロシランと有機アミンとの反
応は米国特許第3853567号及び同第3892583号に、
オルガノハロシランとジシラザンとの反応はベル
ギー国特許第888787号に記載されている。}; Γ次式: {(R)2SiNH}o () (式中、nは3〜10、一般的にn=3又は4であ
り、Rは前記式について与えた意味を持つ)に
相当する環状ポリマー (これらは特に英国特許第881178号に記載され
ている); Γ式(R)3SiNH0.5、式(R)2SiNH、式
RSiNH1.5及び式Si(NH)2の単位群から選択され
る単位群より成る樹脂状ポリマー {これらは対応するオルガノクロルシラン又はそ
れらのシランの混合物をアンモニアと接触、好ま
しくは有機溶媒中で接触させることによつて有利
に製造される(仏国特許第1379243号、同第
1392853号及び同第1393728号を参照されたい)。 この樹脂状ポリマーは多くのSi−NH−Si結合
及び少しのSiNH2結合を含有し、場合によつて
は架橋したポリマーの外に線状及び環状ポリマー
を含有する}。 オルガノポリ(ジシリル)シラザンは、 (a) 少なくとも1個のNH2又はNH基を含有する
有機又は有機珪素化合物(例えばアンモニア、
第1又は第2アミン、シリルアミン、アミド、
ヒドラジン、ヒドラジド等)を (b) 次式: (R)b(X)3-bSiSi(R)c(X)3-c () (式中、Rは同一であつても異なつていてもよ
く、前記と同じ意味を持ち、 bは0、1、2又は3であり、 cは0、1又は2であり、 Xはハロゲン、一般に塩素原子である) の少なくとも1種のオルガノハロジシランに作用
させることによつて製造することができる。 式の化合物の例としては、下記のものが挙げ
られる: (CH3)2ClSiSi(CH3)2Cl、 (CH3)2ClSiSiCH3Cl2、 CH3Cl2SiSiCH3Cl2。 前記ポリシラザンの合成に用いることのでき
る、NH2又はNH基を少なくとも1個含有する化
合物の例としては、以下のものが挙げられる:ア
ンモニア、メチルアミン、ジメチルアミン、エチ
ルアミン、シクロプロピルアミン、ヒドラジン、
メチルヒドラジン、エチレンジアミン、テトラメ
チレンジアミン、ジヘキサメチレンジアミン、ア
ニリン、メチルアニリン、ジフエニルアミン、ト
ルイジン、グアニジン、アミノグアニジン、尿
素、ヘキサメチルジシラザン、ジフエニルテトラ
メチルジシラザン、テトラフエニルジメチルジシ
ラザン、テトラメチルジビニルジシラザン、ジメ
チルジフエニルジビニルジシラザン及びテトラメ
チルジシラザン。 ハロジシランの、所望ならばハロシランの存在
下における、アンモニアとの反応は、ヨーロツパ
特許第75826号に記載されている。ハロジシラン
とジシランとの反応は、仏国特許第2497812号に
記載されている。 ヨーロツパ特許第75826号に記載されたように、
上記アミノ誘導体と前記式及びのハロゲン化
化合物の混合物との反応によつてオルガノポリシ
ラザン及びオルガノポリ(ジシリル)シラザンを
製造することができる。 アンモニアから製造された出発物質のポリシラ
ザンは一般にアンモノリシス生成物と呼ばれ、上
記のようなアミノ化合物から製造された出発物質
のポリシラザンはアミノリシス生成物と呼ばれ、
これはアンモノリシス生成物を包含する。 さらに、ポリシラザンタイプのアミノリシス生
成物においては、下記の単位が識別され得る: 本発明に使用される式M+A-のイオン性無機塩
において、M+はアルカリ金属イオン、アルカリ
土類金属イオン又は第4アンモニウムイオン、好
ましくはLi+、Na+、K+、Ca+又はNH4 +であり、
A-はハロゲン、SCN-、CN-又はCO3 2-、好まし
くはF-、Cl-、Br-又はI-である。 本発明において用いられるイオン性無機塩の陽
イオンを錯化する化合物としては第1に次式: N〔−CHR1−CHR2−O−(CHR3 −CHR4−O)o−R5〕3 () (式中、nは0−10までの整数であり、 R1、R2、R3及びR4は同一であつても異なつて
いてもよく、水素原子及びC1〜C4のアルキル基
から選択され、 R5は同一であつても異なつていてもよく、水
素原子、C1〜C12のアルキル又はシクロアルキル
基及びアルキル部分がC1〜C12から成るアルキル
フエニル又はフエニルアルキル基から選択され
る) の金属イオン封止剤が挙げられる。 好ましくは、R1、R2、R3及びR4が水素原子又
はメチル基を表わし、基R5の少なくとも1個が
水素原子又は、それがなければ、C1〜C4のアル
キル基であるものを使用する。 好ましくは、nが0〜6の整数、より好ましく
は0〜3の整数であるものを使用する。 以下においては、特に記載がない限り、百分率
は重量によるものとする。 本発明の好ましい具体例では、式において
R1、R2、R3及びR4が水素原子又はメチル基であ
り、R5が水素原子又はメチル基であり且つnが
0〜6である金属イオン封止剤を用いる。 その中でもさらに特により好ましくは、下記の
金属イオン封止剤を用いる。 ●トリス(3−オキサブチル)アミン N(CH2−CH2−O−CH3)3 ●トリス(3,6−ジオキサヘプチル)アミン N(CH2−CH2−O−CH2−CH2−O−
CH3)3 ●トリス(3,6,9−トリオキサデシル)アミ
ン N(CH2−CH2−O−CH2−CH2−O−CH2
−CH2−O−CH)3 ●トリス(3,6−ジオキサオクチル)アミン N−(CH2−CH2−O−CH2−CH2−O−
C2H5)3 ●トリス(3,6,9−トリオキサウンデシル)
アミン N(CH2−CH2−O−CH2−CH2−O−CH2
−CH2−O−C2H5)3 ●トリス(3,6−ジオキサノニル)アミン N(CH2−CH2−O−CH2−CH2−O−
C3H7)3 ●トリス(3,6,9−トリオキサドデシル)ア
ミン N(CH2−CH2−O−CH2−CH2−O−CH2
−CH2−O−C3H7)3 ●トリス(3,6−ジオキサデシル)アミン N(CH2−CH2−O−CH2−CH2−O−
C4H9)3 ●トリス(3,6,9−トリオキサトリデシル)
アミン N(CH2−CH2−O−CH2−CH2−O−CH2
−CH2−O−C4H9)3 ●トリス(3,6,9,12−テトラオキサトヌデ
シル)アミン N{CH2−CH2−O(−CH2−CH2−O)3−CH3}
3 ●トリス(3,6,9,12,15,18−ヘキサオキ
サノナデシル)アミン N{CH2−CH2−O−(CH2−CH2−O)−
CH3}3 ●トリス(3,6−ジオキサ−4−メチルヘプチ
ル)アミン N{CH2−CH2−O−CH(CH3)−CH2−O−
CH3}3 ●トリス(3,6−ジオキサ−2,4−ジメチル
ヘブチル)アミン N{CH2−CH(CH3)3−O−CH(CH3)−CH2
−O−CH3}3 ●トリエタノールアミン N(CH2−CH2−OH)3 ●トリス(3−オキサ−5−ヒドロキシペンチ
ル)アミン N(CH2−CH2−O−CH2−CH2−CH)3 ●トリス(3,6−ジオキサ−8−ヒドロキシオ
クチル)アミン N(CH2−CH2−O−CH2−CH2−O−CH2
−CH2−OH)3 ●トリス(2,4−ジメチル−3−オキサ−5−
ヒドロキシペンチル)アミン 本発明の特定態様においては、架橋した有機ポ
リマー基幹上に金属イオン封止剤をグラフトさせ
たものを錯化剤として使用する。このグラフト型
錯化剤は、特にヨーロツパ特許第46706号に記載
されたものである。 ヨーロツパ特許第46706号に記載されたグラフ
ト型金属イオン封止剤は、 Γ架橋した有機ポリマー基幹及び Γこの基幹上に結合した、一般式: (式中、R1′、R2′、R3′、R4′、R6′及びR7′は同一
であつても異なつていてもよく、水素原子及び1
〜4個の炭素原子を含有するアルキル基から選択
され、 R5′及びR8′は同一であつても異なつていてもよ
く、水素原子、1〜12個の炭素原子を含有するア
ルキル又はシクロアルキル基、アルキル部分が
C1〜C12より成るアルキルフエニル又はフエニル
アルキル基から選択され、 n′、m′及びp′は同一であつても異なつていても
よく、1〜10までの数である) の複数個の官能基 から成ることを特徴とする。 本発明の別の好ましい具体例においては、 Γ架橋した有機ポリマー基幹及び Γこの基幹上に結合した、一般式()において
R1′、R2′、R3′、R4′、R6′及びR7′が同一であつ
ても異なつていてもよく、水素原子又はメチル
基であり、R5′及びR8′が同一であつても異なつ
ていてもよく、水素原子又はC1〜C4から成る
アルキル基である、複数個の官能基 から成る支持型金属イオ封止剤を使用する。この
発明の別の好ましい具体例においては、n′、m′及
びp′は同一であつても異なつていてもよく、1〜
6までの数である。 前記官能基の例としては、下記の式の基が挙げ
られる: 前記基幹は、前記式の官能基で置換され得る
基を含有するあらめる架橋した有機ポリマーから
得ることができる。。 本発明に適する有機ポリマーの例としては、ス
チレン及びメチルスチレンのようなビニル芳香族
化合物から誘導されたポリマー並びにビニル芳香
族化合物とC4〜C6の共役ジエン類とのコポリマ
ー(例えばスチレン/ブタジエン及びスチレン/
イソプレンのコポリマー)が挙げられる。 この有機ポリマーとして使用するのに特に好ま
しいのはポリスチレンであり、好ましい具体例に
おいては、この場合における架橋剤がジビニルベ
ンゼンである。架橋の程度は重要なフアクターで
ある。ポリスチレン上にグラフトさせる式の官
能基は事実上活性でなければならない。そのため
には、後に詳細に記載する用途に支持型金属イオ
ン封止剤を使用する際に用いる溶媒の分子がこの
ポリマーの内部に入り込むことが必要である。従
つて、溶媒及び反応成分の浸入を妨害しないよう
に架橋の程度をあまり高くしないことが必要であ
る。ジビニルベンゼンによる架橋の程度が約10%
より低いポリスチレンを使用するのが好ましい。 前記有機ポリマー中に含有される置換され得る
基は、前記ポリスチレンのベンゼン核に結合した
クロルメチル基−CH2C1又はブロムメチル基−
CH2Brにおける塩素又は臭素原子であるのが好
ましい。 特に好ましくは、官能基1個を有するポリスチ
レンのベンゼン核の比率が5%以上、さらにより
好ましくは10%以上である。 好ましい支持型金属イオン封止剤は、次式: で表わすことができる。 本発明の触媒系に使用される式()の金属イ
オン封止剤は公知の物質であり、特に仏国特許第
1302365号及び同第2450120号に記載されている。 本発明において用いられる前記錯化剤として
は、第2に、環中に15〜30個の原子を含有し且つ
4〜10個の−O−X単位{ここで、Xは−CHR6
−CHR7−又は−CHR6−CHR8−CR9R7(ここで
R6、R7、R8及びR9は同一であつても異なつてい
てもよく、水素原子又は1〜4個の炭素原子を含
有するアルキル基である)のいずれかであり、−
O−X単位が基−O−CHR6−CHR7−を含有す
る場合、これらXの1個が−CHR6−CHR8−
CR9R7−であつてよい}から成る大環状ポリエー
テルが挙げられる。 本発明において用いられる前記錯化剤として
は、第3に、一般式a又はb: {式中、YはN又はPを表わし、 Aは1〜3の炭素原子を含有するアルキレン基
であり、 DはO、S又はN−R11(ここで、R11は1〜6
個の炭素原子を含有するアルキル基である)を表
わし、 R10は1〜6個の炭素原子を含有するアルキル
基であり、 p、q及びrは同一であつても異なつていても
よく、1〜5までの整数である} の大環状又は二環式化合物が挙げられる。 本発明の特定態様においては、前記した錯化剤
の少なくとも2種の混合物を使用することもでき
る。 本発の特定態様においては、架橋した有機ポリ
マー基幹上に金属イオン封止剤、大環状ポリエー
テル(これは「クラウンエーテル」という名称で
も知られている)及び大環状又は二環式化合物
(これは「クリプタンド(cryptand)」という名
称でも知られている)をグラフトさせたものを錯
化剤として使用する。これらグラフト型錯化剤
は、特に、グラフト剤に係るヨーロツパ特許出願
第460706号及びクラウンエーテル又はグラフト化
クリプタンドに係る雑誌「アンゲバンテ・ヒエミ
ー(Angewandte Chemie)国際版」、第18巻、
第421〜429頁(1979年)に記載されたものであ
る。 本発明の方法に使用することのできる大環状ポ
リエーテルは「クラウンエーテル」という一般名
で知られており、仏国特許第2026481号に記載さ
れている。 本発明に使用することができるクラウンエーテ
ルの例としては、下記のものが挙げられる:
有する触媒系によつてポリオルガノシラザン及び
(又は)ポリオルガノ(ジシリル)シラザンを処
理する方法に関する。 [発明の背景] オルガノポリシラザン(以下、ポリシラザンと
略記する)はモノマー、オリゴマー及び環状又は
線状のポリマーの形状で、そしてまた樹脂状ポリ
マーの形状で生成する公知の物質である。これら
ポリシラザンは多種の方法を用いて広範な出発物
質から製造することができる。 特に、これらポリシラザンはいろいろな形に成
形することができ、そしてSi3N4、SiC又はこれ
らの混合物の形に熱分解することができる。窒化
珪素の製造には、高温において気相中でクロルシ
ラン類(SiCl4、HSiCl3及びH2SiCl2)をアンモ
ニアと反応させて成る別法がある。粉末状物質を
直接生成するこの方法に従つて成形品、特にフア
イバーを製造するのは困難である。これに対し
て、ポリシラザンは、熱分解してセラミツクフア
イバーになる連続フアイバーに紡糸することがで
きる。 これらポリシラザンは種々の厚さのフイルムや
成形中実製品の形に製造することができ、そして
セラミツクフアイバーやカーボンフアイバー用の
結合剤として及び多孔質セラミツク物質用の焼結
結合剤として使用することができる。 しかしながら、これらポリシラザンを、フアイ
バー又は被覆材であつて熱分解後にフアイバー、
フイルム、種々の厚さの被覆材び成形製品の形で
セラミツク物質を生ずるようなものに容易に且つ
経済的に転換するにあたつては、多くの問題点が
ある。 米国特許第3853567号では、上記問題点に対し
て、第1溶液を提供する試みが為された。 この特許には、初めにポリシラザンを200〜800
℃の温度で熱処理して溶融性カルボシラザン樹脂
を得て、得られた溶融性カルボシラザン樹脂を溶
融紡糸し、次いで800〜2000℃の温度で熱分解す
ることによつて、炭化珪素、窒化珪素又はそれら
の混合物を他のセラミツク物質と共に含有するフ
アイバーのような成形品を製造する方法が提唱さ
れている。 上記特許には確かにかなりの進歩があるが、 ●最初にすでに非常に高い温度(200〜800℃)に
おける熱処理が必要である ●無水条件下不活性雰囲気下で溶融状態のカルボ
シラザンを処理する という二重の欠点がある。さらに、セラミツクの
収量が不充分である。 特開昭52−160446号には、オルガノポリシラザ
ン処理用触媒として酸性土を使用した高分子量の
オルガノポリシラザンの重合方法が記載されてい
る。しかしながら、この方法においては固体触媒
が用いられるのでこれを過して分離する必要が
あり、また、粘度の高いポリマーの場合には溶媒
の使用を伴うという大きな欠点がある。 [発明の目的] この発明の目的は、上述した問題点を解決し、
1000〜2000℃の温度で熱分解した場合に優れた特
性を有するセラミツク物質を生成するポリシラザ
ンを非常に多種の形状(フイラメント、成形品、
被覆材、フイルム等)で製造するための単純で有
用で経済的で且つ容易に利用できる方法を提供す
ることにある。 さらに、加水分解に対して充分安定であり且つ
熱分解した場合にセラミツク物質を高収率で生成
するポリシラザンを容易に入手することができる
ことが望ましく、これがこの発明の他の目的であ
る。この目的のためには、ポリシラザンが被覆し
含浸すべき支持体にしつかり付着し続けながら、
熱分解の際に良好な耐熱性を有するということが
必要である。 [発明の説明] これらの目的及び他の目的は、珪素原子に結合
した有機基が炭化水素基であるオルガノポリシラ
ザン、オルガノポリ(ジシリル)シラザン及びそ
れらの混合物から選択される珪素原子に直接結合
する水素原子を含まない少なくとも1種のポリシ
ラザンを触媒的に有効量の(A)M+A-のイオン性無
機塩と(B)この塩の陽イオンM+を錯化する化合物
(以下、錯化剤という)とから成る触媒系の存在
下で接触処理することを特徴とするポリシラザン
の処理方法に事実上係る本発明によつて達成され
る。 オルガノポリシラザンとしては、 (a) 次式: (R)a(X4-aSi () (式中、Rは同一であつても異なつていてもよ
く、1〜12個の炭素原子を含有し随意にハロゲ
ン化された直鎖状又は分枝鎖状のアルキル基、
5〜7個の炭素原子を含有するシクロアルキル
基、フエニル及びナフチル基のようなアリール
基、直鎖状又は分枝鎖状にアルキル部分に1〜
6個の炭素原子を含有するアリールアルキル又
はアルキルアリール基から選択され、 Xは水素原子以外のものであり、 aは0、1、2又は3のである) の少なくとも1種のオルガノハロシラン と、 (b) NH2又はNH基を少なくとも1個含有する有
機又は有機珪素化合物(例えばアンモニア、第
1又は第2アミン、シリルアミン、アミド、ヒ
ドラジン、ヒドラジド等) との反応生成物を使用することができる。 式()におけるRの例としては、アルキル基
としてメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペン
チル、ヘキシル、ヘプチル及びオクチル基;シク
ロアルキル基としてシクロペンチル、シクロヘキ
シル及びシクロヘプチル基;アリールアルキル基
としてベンジル及びフエニルエチル基;アルキル
アリール基としてトリル及びキシリル基;アルケ
ニル基としてビニル及びアリル基;アルキニル基
としてエチニル及びプロピニル基が挙げられる。
Xはハロゲンであり、一般に塩素原子である。 オルガノハロシラン単独で使用することも混合
物状で使用することもできる。オルガノハロシラ
ンの例としては、以下のものが挙げられる: (CH3)2SiCl2、(CH3)3SiCl、 CH3SiCl3、SiCl4、 (CH3)2Si(CH2Cl)2、(CH3)3SiCH2Cl、 CH3Si(CH2Cl)3、(C6H5)2SiCl2、 (C6H5)(CH3)SiCl2、C6H5SiCl3、 (CH3)(CH3CH2)SiCl2、 (CH3)(CH2=CH)SiCl2、 (CH3)2(CH2=CH)SiCl、 (C6H5)2(CH2=CH)SiCl、 (C6H5)(CH2=CH)SiCl2、 CH3(C6H5)(CH2=CH)SiCl。 前記のポリシラザンは公知であり製造するのが
容易である。より詳細には、これらポリシラザン
には、下記のものが包含される: Γ次式及び: H2N{(R)2SiNH}pSi(R)2NH2 () 及び (R)3SiNH{(R)2SiNH}p′Si(R)3() (式中、Rは前記の意味を持ち、p及びp′は1〜
1000までの間の整数、一般的には3〜300までの
整数である) に相当する線状ポリマー {式のポリマーはジオルガノジクロルシランを
アンモニアと接触させることによつて製造するこ
とができ、式のポリマーはトリオルガノクロル
シラン又はジオルガノジクロルシラン及びトリオ
ルガノクロルシランの混合物とアンモニアとの反
応によつて製造することができる(仏国特許第
1086932号及び米国特許第2564674号を参照された
い)。 一般にオルガノハロシランと有機アミンとの反
応は米国特許第3853567号及び同第3892583号に、
オルガノハロシランとジシラザンとの反応はベル
ギー国特許第888787号に記載されている。}; Γ次式: {(R)2SiNH}o () (式中、nは3〜10、一般的にn=3又は4であ
り、Rは前記式について与えた意味を持つ)に
相当する環状ポリマー (これらは特に英国特許第881178号に記載され
ている); Γ式(R)3SiNH0.5、式(R)2SiNH、式
RSiNH1.5及び式Si(NH)2の単位群から選択され
る単位群より成る樹脂状ポリマー {これらは対応するオルガノクロルシラン又はそ
れらのシランの混合物をアンモニアと接触、好ま
しくは有機溶媒中で接触させることによつて有利
に製造される(仏国特許第1379243号、同第
1392853号及び同第1393728号を参照されたい)。 この樹脂状ポリマーは多くのSi−NH−Si結合
及び少しのSiNH2結合を含有し、場合によつて
は架橋したポリマーの外に線状及び環状ポリマー
を含有する}。 オルガノポリ(ジシリル)シラザンは、 (a) 少なくとも1個のNH2又はNH基を含有する
有機又は有機珪素化合物(例えばアンモニア、
第1又は第2アミン、シリルアミン、アミド、
ヒドラジン、ヒドラジド等)を (b) 次式: (R)b(X)3-bSiSi(R)c(X)3-c () (式中、Rは同一であつても異なつていてもよ
く、前記と同じ意味を持ち、 bは0、1、2又は3であり、 cは0、1又は2であり、 Xはハロゲン、一般に塩素原子である) の少なくとも1種のオルガノハロジシランに作用
させることによつて製造することができる。 式の化合物の例としては、下記のものが挙げ
られる: (CH3)2ClSiSi(CH3)2Cl、 (CH3)2ClSiSiCH3Cl2、 CH3Cl2SiSiCH3Cl2。 前記ポリシラザンの合成に用いることのでき
る、NH2又はNH基を少なくとも1個含有する化
合物の例としては、以下のものが挙げられる:ア
ンモニア、メチルアミン、ジメチルアミン、エチ
ルアミン、シクロプロピルアミン、ヒドラジン、
メチルヒドラジン、エチレンジアミン、テトラメ
チレンジアミン、ジヘキサメチレンジアミン、ア
ニリン、メチルアニリン、ジフエニルアミン、ト
ルイジン、グアニジン、アミノグアニジン、尿
素、ヘキサメチルジシラザン、ジフエニルテトラ
メチルジシラザン、テトラフエニルジメチルジシ
ラザン、テトラメチルジビニルジシラザン、ジメ
チルジフエニルジビニルジシラザン及びテトラメ
チルジシラザン。 ハロジシランの、所望ならばハロシランの存在
下における、アンモニアとの反応は、ヨーロツパ
特許第75826号に記載されている。ハロジシラン
とジシランとの反応は、仏国特許第2497812号に
記載されている。 ヨーロツパ特許第75826号に記載されたように、
上記アミノ誘導体と前記式及びのハロゲン化
化合物の混合物との反応によつてオルガノポリシ
ラザン及びオルガノポリ(ジシリル)シラザンを
製造することができる。 アンモニアから製造された出発物質のポリシラ
ザンは一般にアンモノリシス生成物と呼ばれ、上
記のようなアミノ化合物から製造された出発物質
のポリシラザンはアミノリシス生成物と呼ばれ、
これはアンモノリシス生成物を包含する。 さらに、ポリシラザンタイプのアミノリシス生
成物においては、下記の単位が識別され得る: 本発明に使用される式M+A-のイオン性無機塩
において、M+はアルカリ金属イオン、アルカリ
土類金属イオン又は第4アンモニウムイオン、好
ましくはLi+、Na+、K+、Ca+又はNH4 +であり、
A-はハロゲン、SCN-、CN-又はCO3 2-、好まし
くはF-、Cl-、Br-又はI-である。 本発明において用いられるイオン性無機塩の陽
イオンを錯化する化合物としては第1に次式: N〔−CHR1−CHR2−O−(CHR3 −CHR4−O)o−R5〕3 () (式中、nは0−10までの整数であり、 R1、R2、R3及びR4は同一であつても異なつて
いてもよく、水素原子及びC1〜C4のアルキル基
から選択され、 R5は同一であつても異なつていてもよく、水
素原子、C1〜C12のアルキル又はシクロアルキル
基及びアルキル部分がC1〜C12から成るアルキル
フエニル又はフエニルアルキル基から選択され
る) の金属イオン封止剤が挙げられる。 好ましくは、R1、R2、R3及びR4が水素原子又
はメチル基を表わし、基R5の少なくとも1個が
水素原子又は、それがなければ、C1〜C4のアル
キル基であるものを使用する。 好ましくは、nが0〜6の整数、より好ましく
は0〜3の整数であるものを使用する。 以下においては、特に記載がない限り、百分率
は重量によるものとする。 本発明の好ましい具体例では、式において
R1、R2、R3及びR4が水素原子又はメチル基であ
り、R5が水素原子又はメチル基であり且つnが
0〜6である金属イオン封止剤を用いる。 その中でもさらに特により好ましくは、下記の
金属イオン封止剤を用いる。 ●トリス(3−オキサブチル)アミン N(CH2−CH2−O−CH3)3 ●トリス(3,6−ジオキサヘプチル)アミン N(CH2−CH2−O−CH2−CH2−O−
CH3)3 ●トリス(3,6,9−トリオキサデシル)アミ
ン N(CH2−CH2−O−CH2−CH2−O−CH2
−CH2−O−CH)3 ●トリス(3,6−ジオキサオクチル)アミン N−(CH2−CH2−O−CH2−CH2−O−
C2H5)3 ●トリス(3,6,9−トリオキサウンデシル)
アミン N(CH2−CH2−O−CH2−CH2−O−CH2
−CH2−O−C2H5)3 ●トリス(3,6−ジオキサノニル)アミン N(CH2−CH2−O−CH2−CH2−O−
C3H7)3 ●トリス(3,6,9−トリオキサドデシル)ア
ミン N(CH2−CH2−O−CH2−CH2−O−CH2
−CH2−O−C3H7)3 ●トリス(3,6−ジオキサデシル)アミン N(CH2−CH2−O−CH2−CH2−O−
C4H9)3 ●トリス(3,6,9−トリオキサトリデシル)
アミン N(CH2−CH2−O−CH2−CH2−O−CH2
−CH2−O−C4H9)3 ●トリス(3,6,9,12−テトラオキサトヌデ
シル)アミン N{CH2−CH2−O(−CH2−CH2−O)3−CH3}
3 ●トリス(3,6,9,12,15,18−ヘキサオキ
サノナデシル)アミン N{CH2−CH2−O−(CH2−CH2−O)−
CH3}3 ●トリス(3,6−ジオキサ−4−メチルヘプチ
ル)アミン N{CH2−CH2−O−CH(CH3)−CH2−O−
CH3}3 ●トリス(3,6−ジオキサ−2,4−ジメチル
ヘブチル)アミン N{CH2−CH(CH3)3−O−CH(CH3)−CH2
−O−CH3}3 ●トリエタノールアミン N(CH2−CH2−OH)3 ●トリス(3−オキサ−5−ヒドロキシペンチ
ル)アミン N(CH2−CH2−O−CH2−CH2−CH)3 ●トリス(3,6−ジオキサ−8−ヒドロキシオ
クチル)アミン N(CH2−CH2−O−CH2−CH2−O−CH2
−CH2−OH)3 ●トリス(2,4−ジメチル−3−オキサ−5−
ヒドロキシペンチル)アミン 本発明の特定態様においては、架橋した有機ポ
リマー基幹上に金属イオン封止剤をグラフトさせ
たものを錯化剤として使用する。このグラフト型
錯化剤は、特にヨーロツパ特許第46706号に記載
されたものである。 ヨーロツパ特許第46706号に記載されたグラフ
ト型金属イオン封止剤は、 Γ架橋した有機ポリマー基幹及び Γこの基幹上に結合した、一般式: (式中、R1′、R2′、R3′、R4′、R6′及びR7′は同一
であつても異なつていてもよく、水素原子及び1
〜4個の炭素原子を含有するアルキル基から選択
され、 R5′及びR8′は同一であつても異なつていてもよ
く、水素原子、1〜12個の炭素原子を含有するア
ルキル又はシクロアルキル基、アルキル部分が
C1〜C12より成るアルキルフエニル又はフエニル
アルキル基から選択され、 n′、m′及びp′は同一であつても異なつていても
よく、1〜10までの数である) の複数個の官能基 から成ることを特徴とする。 本発明の別の好ましい具体例においては、 Γ架橋した有機ポリマー基幹及び Γこの基幹上に結合した、一般式()において
R1′、R2′、R3′、R4′、R6′及びR7′が同一であつ
ても異なつていてもよく、水素原子又はメチル
基であり、R5′及びR8′が同一であつても異なつ
ていてもよく、水素原子又はC1〜C4から成る
アルキル基である、複数個の官能基 から成る支持型金属イオ封止剤を使用する。この
発明の別の好ましい具体例においては、n′、m′及
びp′は同一であつても異なつていてもよく、1〜
6までの数である。 前記官能基の例としては、下記の式の基が挙げ
られる: 前記基幹は、前記式の官能基で置換され得る
基を含有するあらめる架橋した有機ポリマーから
得ることができる。。 本発明に適する有機ポリマーの例としては、ス
チレン及びメチルスチレンのようなビニル芳香族
化合物から誘導されたポリマー並びにビニル芳香
族化合物とC4〜C6の共役ジエン類とのコポリマ
ー(例えばスチレン/ブタジエン及びスチレン/
イソプレンのコポリマー)が挙げられる。 この有機ポリマーとして使用するのに特に好ま
しいのはポリスチレンであり、好ましい具体例に
おいては、この場合における架橋剤がジビニルベ
ンゼンである。架橋の程度は重要なフアクターで
ある。ポリスチレン上にグラフトさせる式の官
能基は事実上活性でなければならない。そのため
には、後に詳細に記載する用途に支持型金属イオ
ン封止剤を使用する際に用いる溶媒の分子がこの
ポリマーの内部に入り込むことが必要である。従
つて、溶媒及び反応成分の浸入を妨害しないよう
に架橋の程度をあまり高くしないことが必要であ
る。ジビニルベンゼンによる架橋の程度が約10%
より低いポリスチレンを使用するのが好ましい。 前記有機ポリマー中に含有される置換され得る
基は、前記ポリスチレンのベンゼン核に結合した
クロルメチル基−CH2C1又はブロムメチル基−
CH2Brにおける塩素又は臭素原子であるのが好
ましい。 特に好ましくは、官能基1個を有するポリスチ
レンのベンゼン核の比率が5%以上、さらにより
好ましくは10%以上である。 好ましい支持型金属イオン封止剤は、次式: で表わすことができる。 本発明の触媒系に使用される式()の金属イ
オン封止剤は公知の物質であり、特に仏国特許第
1302365号及び同第2450120号に記載されている。 本発明において用いられる前記錯化剤として
は、第2に、環中に15〜30個の原子を含有し且つ
4〜10個の−O−X単位{ここで、Xは−CHR6
−CHR7−又は−CHR6−CHR8−CR9R7(ここで
R6、R7、R8及びR9は同一であつても異なつてい
てもよく、水素原子又は1〜4個の炭素原子を含
有するアルキル基である)のいずれかであり、−
O−X単位が基−O−CHR6−CHR7−を含有す
る場合、これらXの1個が−CHR6−CHR8−
CR9R7−であつてよい}から成る大環状ポリエー
テルが挙げられる。 本発明において用いられる前記錯化剤として
は、第3に、一般式a又はb: {式中、YはN又はPを表わし、 Aは1〜3の炭素原子を含有するアルキレン基
であり、 DはO、S又はN−R11(ここで、R11は1〜6
個の炭素原子を含有するアルキル基である)を表
わし、 R10は1〜6個の炭素原子を含有するアルキル
基であり、 p、q及びrは同一であつても異なつていても
よく、1〜5までの整数である} の大環状又は二環式化合物が挙げられる。 本発明の特定態様においては、前記した錯化剤
の少なくとも2種の混合物を使用することもでき
る。 本発の特定態様においては、架橋した有機ポリ
マー基幹上に金属イオン封止剤、大環状ポリエー
テル(これは「クラウンエーテル」という名称で
も知られている)及び大環状又は二環式化合物
(これは「クリプタンド(cryptand)」という名
称でも知られている)をグラフトさせたものを錯
化剤として使用する。これらグラフト型錯化剤
は、特に、グラフト剤に係るヨーロツパ特許出願
第460706号及びクラウンエーテル又はグラフト化
クリプタンドに係る雑誌「アンゲバンテ・ヒエミ
ー(Angewandte Chemie)国際版」、第18巻、
第421〜429頁(1979年)に記載されたものであ
る。 本発明の方法に使用することのできる大環状ポ
リエーテルは「クラウンエーテル」という一般名
で知られており、仏国特許第2026481号に記載さ
れている。 本発明に使用することができるクラウンエーテ
ルの例としては、下記のものが挙げられる:
【式】
【式】
【式】
【式】
大環状及び二環式化合物は、仏国特許第
2052947号に記載されている。本発明の方法に使
用することができるこれら化合物の例としては、
下記ものが挙げられる。
2052947号に記載されている。本発明の方法に使
用することができるこれら化合物の例としては、
下記ものが挙げられる。
【式】
【式】
【式】
【式】
【式】
【式】
【式】
本発明の方法は、溶媒の存在下でも塊状でも実
施できる。後者の場合、出発物質のオルガノポリ
シラザンが溶媒として働く、第三成分の溶媒を使
用する場合、この溶媒はいくつかの条件を満たさ
なければならない、即ち、出発物質のオルガノポ
リシラザンを溶解させなければならず、また、添
加し又は生成するオルガノポリシラザンに対して
化学的に不活性でなければならない。 この溶媒は例えばベンゼン、トルエン、シクロ
ヘキサン、ヘプタン、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン及びイソプロピルエーテルのような溶媒か
ら選択されるのが好ましい。 本発明の方法に使用するのに最も適した錯化剤
は、前記イオン性無機塩中の陽イオンの寸法をも
考慮して選択する。陽イオンの寸法が大きくなる
につれて、錯化剤の分子中に存在する酸素原子の
数を増やす必要がある。 本発明の方法は室温(20℃)〜約200℃、好ま
しくは30〜150℃の温度で、一般に3分間24時間
の時間で実施することができる。 この操作は大気圧下、不活性雰囲気下で実施す
るのが好ましい。もちろん大気圧より高い圧力も
低い圧力も除外されるものではない。 前記錯化剤は、イオン性無機塩に対するモル比
が0.05〜20であるような量で使用するのが好まし
い。さらにより好ましいモル比は0.10〜2であ
る。 本発明の触媒系においては一般に、出発物質の
オルガノポリシラザン1Kgに対してイオン性無機
塩を0.01〜5gの濃度で、錯化剤を0.001〜20g
の濃度で使用する。 本発明の処理方法によつて、全く驚くべきこと
に、一方でアミノリシス生成物の巨大分子中に揮
発性物質を導入し、他方で3官能価珪素含有単位
(例えばTN)の存在下でアミノリシス生成物の格
子を再配列させ且つ極度に架橋させることによつ
て、熱分解の際に熱的により安定にするというこ
とが可能になる。従つて、本発明の接触処理は出
発物質のアミノリシス生成物の種類に依存して、
重合及び(又は)共重合及び(又は)分子の再配
列を生じさせている。 本発明の接触処理による他の非常に重要な利点
は、処理したアミノリシス生成物が改善された空
気中の酸素及び湿分に対する耐性を有するという
ことである。 本発明の方法は、単独又は混合物状で用いられ
る種々のポリシラザン、例えば種々のオルガノポ
リ(ジシリル)シラザン又はオルガノポリシラザ
ンについて実施することができる。而して、特に
下記のことを実施することができる: ●(CH3)2SiCl2のアミノリシス生成物の重合、 ●(CH3)2ClSiSiCl(CH3)2のアミノリシス生成
物の重合、 ●(CH3)2SiCl2のアミノリシス生成物と
(CH3)2ClSiSiCl(CH3)2のアミノリシス生成物
との共重合、 ●CH3SiCl3のアミノリシス生成物の存在下にお
けるポリジメチルシラザンの再配列、 ●(CH3)2SiClとCH3SiCl3とのコアミノリシス
生成物の再配列、 ●(CH3)2SiCl2と (CH3)3-bClbSiSiClc(CH3)3-c (ここで、b及びcは前記式Vにおけるのと同
じ意味を持つが、b+cが2より大きいものと
する)とのコアミノリシス生成物の再配列。 本発明に従つて処理したオルガノポリシラザン
組成物は被覆剤、フイルム、薄層の用途において
は溶媒なしで使用するのが好ましい。この場合、
25℃における粘度が10〜5000mPa・s、好まし
くは100〜1000mPa・sのものを選択する。 それより高粘度のものを使用することもできる
が、支持体を被覆したりこれに含浸させたりする
のにこの組成物を使用する場合にこの組成物は、
ポリシラザンと相溶性の有機溶媒、例えばベンゼ
ン、トルエン、ヘキサン、シクロヘキサン、イソ
プロピルエーテル、エチルエーテル、ジクロルメ
タン及びクロルベンゼンに可溶でなければならな
い。 フアイバーの用途においては、5000mPa・s
より高い粘度のものを使用しなければならない。
操作は溶媒を用いない溶融状態でも溶液中でも実
施することができ、オーブンを通過させ且つ(又
は)放射線(紫外線や電子ビーム)を照射するこ
とによつてダイの出口で架橋が達成される。 本発明に従うポリシラザン組成物は、さらに、
添加剤(好ましくはSiO2、SiN3、BN、B2O3、
B4C、AlN、Al2O3、Al4C3、TiN、TiO2、TiC、
ZrO2、ZrC及びVO2等から選択されるもの)を含
有していてよい。 さらに、本発明に従うポリシラザン組成物は、
特にSiC、SiO2、Si3N4、B4C等から成るセラミ
ツクフアイバー用のマトリツクスとして使用する
ことができる。 本発明に従うポリシラザン組成物は、金属やセ
ラミツクフアイバーから成る硬質や軟質の支持体
を被覆したりこれに含浸させたりするのに特に有
用である。 硬化した組成物で被覆したりこれを含浸させた
りした支持体又はフアイバーは、即座に又はその
後に、好ましくは真空下又は加圧下又は不活性雰
囲気下で、セラミツクやバインダーに望まれる性
質に依存して架橋温度から1500〜2000℃まで変化
する温度において熱分解処理することができる。 従つて、本発明に従う組成物によつて、開放空
気中で貯蔵することができ且つその後に熱分解す
ることができる中間体半製品を製造することが可
能になる。 実際、これが支持体上にセラミツク物質を担持
させ又は含浸させ、そしてセラミツクフアイバー
及び焼結結合剤を得るのに特に有利な方法を構成
する。 [実施例] 以下の実施例は本発明の範囲を何ら制限するも
のではなく、本発明を例示するものである。 これら実施例においては、得られたポリシラザ
ンを接触処理したもの及び未処理のものについて
窒素雰囲気下、昇温温度2℃/分にて周囲温度
(20℃)から1400℃までで熱分解しながら熱重量
分析(TGA)によつて分析した。各例における
TGA収率は、1300〜1500℃における固体残渣の
重量%として示した。 粘度25℃において測定し、mPa・sの単位で
表わした。さらに、以下の式においてMeはCH3
を、ViはCH2=CHを表わすものとする。 アンモノリシス及びコアンモノリシス反応は、
第1の3の円筒状反器(反応帯域を冷却する
ためのジヤケツトを備えたもの)内で実施した。
この反応器の上部には気体冷却器が載せられた。
撹拌軸にそつて配置させた2個のRushtonター
ビン(一方はまつすぐの羽根を有し、もう一方傾
斜した羽根を有する)によつて機械的に撹拌し
た。N2及びNH3の導入は、第1の撹拌タービン
の真下にNH3が生じるように溶液中に沈ませた
細管を介して実施した。アンモノリシスが完結し
たら反応混合物を抜き取り、機械的撹拌機(まつ
すぐの羽根を有するRushtonタービン)及び
過床(平均気孔直径10μm)を備えた第2の反応
器内に導入した。アンモノリシス生成物を過
し、溶媒で洗浄したものを、ジヤケツト及び直羽
根型Rushtonタービンによる機械的撹拌機を備
えた第3の6の反応器内に導入し、N2でガ
スシールし又は排気して25mbarにし、その中で
接触処理を実施した。 操作前の数時間、全体の装置を不活性雰囲気に
した。全部の反応、アンモノリシス、過及び溶
媒の蒸発を乾燥窒素下で実施した。得られた生成
物は窒素でガスシールした漏れ止めフラスコ内に
入れ、窒素でガスシールしたグローブボツクス内
にて貯蔵し、重量測定をし、取り扱つた。 例 1 純度99%以上のMe2SiCl2258g(2モル)を乾
燥イソプロピルエーテル1.3の存在下で反応器
内に導入した。この反応器内にアンモニアを
10cm3/秒の速度で6時間導入した。NH4Clを
別した後に、環状ポリシラザン140gが回収され
た。188℃にて蒸留した後にDN 3が回収され、これ
をCaCl2上で乾燥させた。 例 2 純度99%以上のCH3SiCl3299g(2モル)を2
℃においてイソプロピルエーテル中でアンモノリ
シスした。アンモニアは10cm3/秒の速度で8時間
(即ちNH3約12モル)導入した。塩化アンモニウ
ムを除去し真空下で溶媒を蒸発させた後に、3官
能価単位(以下、TN Xと呼ぶ)のみを含有する白
色結晶が回収された。 例 3 コアンモノリシスを実施した。乾燥窒素下で反
応器内に下記の成分を導入した: (CH3)2SiCl2 92.5g(0.72モル) ●CH3SiCl3 107.2g(0.72モル) ●イソプロピルエーテル 1.1。 この混合物を、気体状アンモニアの導入の間、
室温に保つた(僅かに発熱反応)。NH3の添加速
度を気体として約6ml/秒に保ち、6時間添加し
た。 試験中に大量の塩化アンモニウムが生成して溶
液が粘性になつた。反応が完結した後に反応器
の焼結ガラス(平均気孔直径10μm)上で生成し
たNH4Clを別した。沈殿を乾燥溶媒で数回洗
浄した。回収された溶液は透明だつた。溶液を真
空下(25mbar、75℃)で蒸発留去させ、溶媒の
最後の痕跡を2mbar、70℃において除去した。 この生成物の特性を表に示す。
施できる。後者の場合、出発物質のオルガノポリ
シラザンが溶媒として働く、第三成分の溶媒を使
用する場合、この溶媒はいくつかの条件を満たさ
なければならない、即ち、出発物質のオルガノポ
リシラザンを溶解させなければならず、また、添
加し又は生成するオルガノポリシラザンに対して
化学的に不活性でなければならない。 この溶媒は例えばベンゼン、トルエン、シクロ
ヘキサン、ヘプタン、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン及びイソプロピルエーテルのような溶媒か
ら選択されるのが好ましい。 本発明の方法に使用するのに最も適した錯化剤
は、前記イオン性無機塩中の陽イオンの寸法をも
考慮して選択する。陽イオンの寸法が大きくなる
につれて、錯化剤の分子中に存在する酸素原子の
数を増やす必要がある。 本発明の方法は室温(20℃)〜約200℃、好ま
しくは30〜150℃の温度で、一般に3分間24時間
の時間で実施することができる。 この操作は大気圧下、不活性雰囲気下で実施す
るのが好ましい。もちろん大気圧より高い圧力も
低い圧力も除外されるものではない。 前記錯化剤は、イオン性無機塩に対するモル比
が0.05〜20であるような量で使用するのが好まし
い。さらにより好ましいモル比は0.10〜2であ
る。 本発明の触媒系においては一般に、出発物質の
オルガノポリシラザン1Kgに対してイオン性無機
塩を0.01〜5gの濃度で、錯化剤を0.001〜20g
の濃度で使用する。 本発明の処理方法によつて、全く驚くべきこと
に、一方でアミノリシス生成物の巨大分子中に揮
発性物質を導入し、他方で3官能価珪素含有単位
(例えばTN)の存在下でアミノリシス生成物の格
子を再配列させ且つ極度に架橋させることによつ
て、熱分解の際に熱的により安定にするというこ
とが可能になる。従つて、本発明の接触処理は出
発物質のアミノリシス生成物の種類に依存して、
重合及び(又は)共重合及び(又は)分子の再配
列を生じさせている。 本発明の接触処理による他の非常に重要な利点
は、処理したアミノリシス生成物が改善された空
気中の酸素及び湿分に対する耐性を有するという
ことである。 本発明の方法は、単独又は混合物状で用いられ
る種々のポリシラザン、例えば種々のオルガノポ
リ(ジシリル)シラザン又はオルガノポリシラザ
ンについて実施することができる。而して、特に
下記のことを実施することができる: ●(CH3)2SiCl2のアミノリシス生成物の重合、 ●(CH3)2ClSiSiCl(CH3)2のアミノリシス生成
物の重合、 ●(CH3)2SiCl2のアミノリシス生成物と
(CH3)2ClSiSiCl(CH3)2のアミノリシス生成物
との共重合、 ●CH3SiCl3のアミノリシス生成物の存在下にお
けるポリジメチルシラザンの再配列、 ●(CH3)2SiClとCH3SiCl3とのコアミノリシス
生成物の再配列、 ●(CH3)2SiCl2と (CH3)3-bClbSiSiClc(CH3)3-c (ここで、b及びcは前記式Vにおけるのと同
じ意味を持つが、b+cが2より大きいものと
する)とのコアミノリシス生成物の再配列。 本発明に従つて処理したオルガノポリシラザン
組成物は被覆剤、フイルム、薄層の用途において
は溶媒なしで使用するのが好ましい。この場合、
25℃における粘度が10〜5000mPa・s、好まし
くは100〜1000mPa・sのものを選択する。 それより高粘度のものを使用することもできる
が、支持体を被覆したりこれに含浸させたりする
のにこの組成物を使用する場合にこの組成物は、
ポリシラザンと相溶性の有機溶媒、例えばベンゼ
ン、トルエン、ヘキサン、シクロヘキサン、イソ
プロピルエーテル、エチルエーテル、ジクロルメ
タン及びクロルベンゼンに可溶でなければならな
い。 フアイバーの用途においては、5000mPa・s
より高い粘度のものを使用しなければならない。
操作は溶媒を用いない溶融状態でも溶液中でも実
施することができ、オーブンを通過させ且つ(又
は)放射線(紫外線や電子ビーム)を照射するこ
とによつてダイの出口で架橋が達成される。 本発明に従うポリシラザン組成物は、さらに、
添加剤(好ましくはSiO2、SiN3、BN、B2O3、
B4C、AlN、Al2O3、Al4C3、TiN、TiO2、TiC、
ZrO2、ZrC及びVO2等から選択されるもの)を含
有していてよい。 さらに、本発明に従うポリシラザン組成物は、
特にSiC、SiO2、Si3N4、B4C等から成るセラミ
ツクフアイバー用のマトリツクスとして使用する
ことができる。 本発明に従うポリシラザン組成物は、金属やセ
ラミツクフアイバーから成る硬質や軟質の支持体
を被覆したりこれに含浸させたりするのに特に有
用である。 硬化した組成物で被覆したりこれを含浸させた
りした支持体又はフアイバーは、即座に又はその
後に、好ましくは真空下又は加圧下又は不活性雰
囲気下で、セラミツクやバインダーに望まれる性
質に依存して架橋温度から1500〜2000℃まで変化
する温度において熱分解処理することができる。 従つて、本発明に従う組成物によつて、開放空
気中で貯蔵することができ且つその後に熱分解す
ることができる中間体半製品を製造することが可
能になる。 実際、これが支持体上にセラミツク物質を担持
させ又は含浸させ、そしてセラミツクフアイバー
及び焼結結合剤を得るのに特に有利な方法を構成
する。 [実施例] 以下の実施例は本発明の範囲を何ら制限するも
のではなく、本発明を例示するものである。 これら実施例においては、得られたポリシラザ
ンを接触処理したもの及び未処理のものについて
窒素雰囲気下、昇温温度2℃/分にて周囲温度
(20℃)から1400℃までで熱分解しながら熱重量
分析(TGA)によつて分析した。各例における
TGA収率は、1300〜1500℃における固体残渣の
重量%として示した。 粘度25℃において測定し、mPa・sの単位で
表わした。さらに、以下の式においてMeはCH3
を、ViはCH2=CHを表わすものとする。 アンモノリシス及びコアンモノリシス反応は、
第1の3の円筒状反器(反応帯域を冷却する
ためのジヤケツトを備えたもの)内で実施した。
この反応器の上部には気体冷却器が載せられた。
撹拌軸にそつて配置させた2個のRushtonター
ビン(一方はまつすぐの羽根を有し、もう一方傾
斜した羽根を有する)によつて機械的に撹拌し
た。N2及びNH3の導入は、第1の撹拌タービン
の真下にNH3が生じるように溶液中に沈ませた
細管を介して実施した。アンモノリシスが完結し
たら反応混合物を抜き取り、機械的撹拌機(まつ
すぐの羽根を有するRushtonタービン)及び
過床(平均気孔直径10μm)を備えた第2の反応
器内に導入した。アンモノリシス生成物を過
し、溶媒で洗浄したものを、ジヤケツト及び直羽
根型Rushtonタービンによる機械的撹拌機を備
えた第3の6の反応器内に導入し、N2でガ
スシールし又は排気して25mbarにし、その中で
接触処理を実施した。 操作前の数時間、全体の装置を不活性雰囲気に
した。全部の反応、アンモノリシス、過及び溶
媒の蒸発を乾燥窒素下で実施した。得られた生成
物は窒素でガスシールした漏れ止めフラスコ内に
入れ、窒素でガスシールしたグローブボツクス内
にて貯蔵し、重量測定をし、取り扱つた。 例 1 純度99%以上のMe2SiCl2258g(2モル)を乾
燥イソプロピルエーテル1.3の存在下で反応器
内に導入した。この反応器内にアンモニアを
10cm3/秒の速度で6時間導入した。NH4Clを
別した後に、環状ポリシラザン140gが回収され
た。188℃にて蒸留した後にDN 3が回収され、これ
をCaCl2上で乾燥させた。 例 2 純度99%以上のCH3SiCl3299g(2モル)を2
℃においてイソプロピルエーテル中でアンモノリ
シスした。アンモニアは10cm3/秒の速度で8時間
(即ちNH3約12モル)導入した。塩化アンモニウ
ムを除去し真空下で溶媒を蒸発させた後に、3官
能価単位(以下、TN Xと呼ぶ)のみを含有する白
色結晶が回収された。 例 3 コアンモノリシスを実施した。乾燥窒素下で反
応器内に下記の成分を導入した: (CH3)2SiCl2 92.5g(0.72モル) ●CH3SiCl3 107.2g(0.72モル) ●イソプロピルエーテル 1.1。 この混合物を、気体状アンモニアの導入の間、
室温に保つた(僅かに発熱反応)。NH3の添加速
度を気体として約6ml/秒に保ち、6時間添加し
た。 試験中に大量の塩化アンモニウムが生成して溶
液が粘性になつた。反応が完結した後に反応器
の焼結ガラス(平均気孔直径10μm)上で生成し
たNH4Clを別した。沈殿を乾燥溶媒で数回洗
浄した。回収された溶液は透明だつた。溶液を真
空下(25mbar、75℃)で蒸発留去させ、溶媒の
最後の痕跡を2mbar、70℃において除去した。 この生成物の特性を表に示す。
【表】
【表】
例 4
例1及び例2のアンモノリシス生成物の混合物
を、DN及びTN単位のモル百分率がこのアンモノ
リシス生成物の混合物内において所望の値になる
ような割合で反応器に導入した。 共重合は迅速であり、架橋したポリシラザンを
生成せしめた。このポリシラザンを熱分解した場
合のセラミツクの総収率 ポリマー収率(PY)×TGA収率/100 は、MeSiCl3単独又は(CH3)2SiCl2単独のアンモ
ノリシスの場合の総収率(それぞれ20及び0)よ
り大きかつた。 ポリマー収率PYは下記のように測定した: ほぼ正確に2gの生成物を乾燥窒素下で容器に入
れ、1.3mbarの真空下で2時間175℃に加熱し
た;冷却後この容器の重量を計り、これによつ
て、ポリマーの重量収率を測定した。 その結果を表に示す。
を、DN及びTN単位のモル百分率がこのアンモノ
リシス生成物の混合物内において所望の値になる
ような割合で反応器に導入した。 共重合は迅速であり、架橋したポリシラザンを
生成せしめた。このポリシラザンを熱分解した場
合のセラミツクの総収率 ポリマー収率(PY)×TGA収率/100 は、MeSiCl3単独又は(CH3)2SiCl2単独のアンモ
ノリシスの場合の総収率(それぞれ20及び0)よ
り大きかつた。 ポリマー収率PYは下記のように測定した: ほぼ正確に2gの生成物を乾燥窒素下で容器に入
れ、1.3mbarの真空下で2時間175℃に加熱し
た;冷却後この容器の重量を計り、これによつ
て、ポリマーの重量収率を測定した。 その結果を表に示す。
【表】
例5、6並びに比較例7C及び8C
例3で得られたコアンモノリシス生成物を反応
器内で接触処理した。この処理の条件及び得ら
れた特性を表に示す。 比較例7Cにおいては触媒を添加せず、且つ加
熱をしなかつた。比較例8Cにおいては触媒を添
加せず、温度を110℃にした。
器内で接触処理した。この処理の条件及び得ら
れた特性を表に示す。 比較例7Cにおいては触媒を添加せず、且つ加
熱をしなかつた。比較例8Cにおいては触媒を添
加せず、温度を110℃にした。
【表】
これらの例から、接触処理によつてセラミツク
の収率を著しく増大させることができるというこ
とがわかつた。
の収率を著しく増大させることができるというこ
とがわかつた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 珪素原子に結合した有機基が炭化水素基であ
るオルガノポリシラザン、オルガノポリ(ジシリ
ル)シラザン及びそれらの混合物から選択される
珪素原子に直接結合する水素原子を含まない少な
くとも1種のポリシラザンを触媒的に有効量の (A) 式M+A-(ここで、M+はアルカリ金属、アル
カリ土類金属又は第4アンモニウムイオンであ
り、A-はハロゲン、SCN-、CN-又はCO3 2-で
ある)のイオン性無機塩 と (B) 次式: N〔−CHR1−CHR2−O−(CHR3 −CHR4−O)o−R5〕3 () (式中、nは0〜10までの整数であり、R1、
R2、R3及びR4は同一であつても異なつてい
てもよく、水素原子及びC1〜C4のアルキル
基から選択され、 R5は同一であつても異なつていてもよく、
水素原子、C1〜C12のアルキル又はシクロア
ルキル基及びアルキル部分がC1〜C12から成
るアルキルフエニル又はフエニルアルキル基
から選択される) の金属封止剤; 環中に15〜30個の原子を含有し且つ4〜10
個の−O−X単位{ここで、Xは−CHR6−
CHR7−又は−CHR6−CHR8−CR9R7−(こ
こでR6、R7、R8及びR9は同一であつても異
なつていてもよく、水素原子又は1〜4個の
炭素原子を含有するアルキル基である)のい
ずれかであり、−O−X単位が基−O−
CHR6−CHR7−を含有する場合、これらX
の1個が−CHR6−CHR8−CR9R7−であつ
てよい}から成る大環状ポリエーテル; 並びに 一般式a又はb: {式中、YはN又はPを表わし、 Aは1〜3個の炭素原子を含有するアルキ
レン基であり、 DはO、S又はN−R11(ここで、R11は1
〜6個の炭素原子を含有するアルキル基であ
る)を表わし、 R10は1〜6個の炭素原子を含有するアル
キル基であり、 p、q及びrは同一であつても異なつてい
てもよく、1〜5までの整数である} の大環状又は二環式化合物: から選択される、前期塩の陽イオンM+を錯化
する錯化剤 とから成る触媒系の存在下で接触処理することに
よつてポリシラザン分子の重合及び(又は)共重
合及び(又は)再配列を生じさせることを特徴と
するポリシラザンの処理方法。 2 反応を塊状で実施することを特徴とする特許
請求の範囲第1項記載の方法。 3 反応を有機溶媒中で溶液状で実施することを
特徴とする特許請求の範囲第1項記載の方法。 4 前記錯化剤を架橋した有機基幹上にグラフト
させたことを特徴とする特許請求の範囲1〜3項
のいずれかに記載の方法。 5 出発物質のオルガノポリシラザン1Kgに対し
てイオン性無機塩を0.01〜5gの濃度で、錯化剤
を0.001〜20gの濃度で使用することを特徴とす
る特許請求の範囲第1〜4項のいずれかに記載の
方法。 6 前記錯化剤を、イオン性無機塩に対するモル
比が0.05〜20であるような量で使用することを特
徴とする特許請求の範囲第5項記載の方法。 7 操作を20〜200℃の温度において実施するこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1〜6項のいず
れかに記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR8506828A FR2581386B1 (fr) | 1985-05-06 | 1985-05-06 | Procede de traitement de polyorganosilazanes et/ou de polyorgano(disilyl)silazanes par un traitement de polyorganosilazanes par un systeme catalytique comprenant un sel mineral ionique et un compose complexant |
FR85/06828 | 1985-05-06 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61255935A JPS61255935A (ja) | 1986-11-13 |
JPS6337140B2 true JPS6337140B2 (ja) | 1988-07-22 |
Family
ID=9318975
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61098421A Granted JPS61255935A (ja) | 1985-05-06 | 1986-04-30 | イオン性無機塩と錯化剤とから成る触媒系によってポリオルガノシラザン及びポリオルガノ(ジシリル)シラザンを処理する方法 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4694060A (ja) |
EP (1) | EP0202176B1 (ja) |
JP (1) | JPS61255935A (ja) |
AT (1) | ATE54003T1 (ja) |
AU (1) | AU585979B2 (ja) |
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