JPS6357454B2

JPS6357454B2 -

Info

Publication number: JPS6357454B2
Application number: JP61039349A
Authority: JP
Inventors: Ruburan Janjatsuku; Horuto Yugu
Original assignee: ROONU PUURAN SUPESHIARITE SHIMIIKU
Current assignee: ROONU PUURAN SUPESHIARITE SHIMIIKU
Priority date: 1985-02-27
Filing date: 1986-02-26
Publication date: 1988-11-11
Also published as: DE3660915D1; EP0197863B1; BR8600789A; CA1252474A; US4689382A; FR2577933A1; EP0197863A1; JPS61203135A; ATE37891T1; AU577674B2; AU5389186A; FR2577933B1

Description

【発明の詳細な説明】

発明の分野本発明は、改良された熱的挙動を有するオルガ
ノポリシラザン及びオルガノポリ（ジシリル）シ
ラザンの製造法並びに特にセラミツク前駆物質と
してのその使用に関する。発明の背景オルガノポリシラザン及びオルガノポリ（ジシ
リル）シラザン（以後、ポリシラザンと称する）
は、単量体、オリゴマー及び環状又は線状重合体
の形態で、また樹脂質重合体の形態でも存在する
周知の化合物である。これらのポリシラザンは、
広範囲の出発物質から様々の方法に従つて製造す
ることができる。これらのポリシラザンは、特に成形することが
でき、そしてSi₃N₄、SiC又はそれらの混合物の
形態に熱分解することができる。また、これらは
連続繊維に紡糸することができ、そしてこの熱分
解によつてセラミツク繊維が生成する。更に、これらは、種々の厚さを有するフイルム
に、またセラミツク繊維又は炭素繊維用のバイン
ダーとして、また多孔質セラミツク部品用の焼結
用バインダーとしての塊状物に転化させることが
できる。これらのポリシラザンの利用は、それら
の主な利点のうちの１つになる。しかしながら、熱分解に対してかなり安定であ
りそして特に熱分解後に高い重量収率でセラミツ
ク物質を生成するポリシラザンを得るための方法
を見い出すのが望ましく、これが本発明の目的で
ある。これを達成するためには、ポリシラザン
は、熱分解時に、固体状態までの範囲に及ぶ高分
子量及び（又は）高粘度によつて提供され得る耐
熱性を有しなければならない。特公昭52―160446号公報は、酸性土を触媒とし
て使用することによつて高分子量のオルガノポリ
シラザンを重合する方法を記載している。しかし
ながら、この方法は、高粘度に達することができ
る重合体の場合には溶剤の使用を包含する過に
よつて固体触媒を分離することを必要とするとい
う大きな不利益を有している。発明の概要本発明は、不均質触媒作用に固有の不利益を招
かずに上記の目的を満たすことができる。実際に、本発明は、オルガノポリシラザン、オ
ルガノポリ（ジシリル）シラザン及びこれらの混
合物から選定されるポリシラザン（こゝで、けい
素原子に結合された有機基は飽和又は芳香族炭化
水素基であり、そしてけい素原子に直接結合され
た水素原子は含まない）をHClO₄及びCF₃SO₃H
から選定される触媒的有効量の酸触媒の存在下に
均質相において接触処理することを特徴とするポ
リシラザンの処理法に関する。詳細な記述用いられるオルガノポリシラザンは、(a)式 RaX₄―_aSi () 〔式中、Ｒ基は、同じ又は異なるものであつ
て、そして１〜12個の炭素原子を含有する任意に
ハロゲン化される線状又は分枝状アルキル基、５
〜７個の炭素原子を含有するシクロアルキル基、
フエニル基及びナフチル基の如きアリール基、ア
リールアルキル基又はアルキルアリール基（こゝ
で、線状又は分枝状アルキル部分は１〜６個の炭
素原子を含有する）から選定され、しかもＲ基は
水素原子以外のものであり、そしてａは０，１，
２又は３である〕の少なくとも１種のオルガノハ
ロシランと、(b)少なくとも１個のNH₂又はNH基
を含有する例えばアンモニア、第一又は第二アミ
ン、シリルアミン、アミド、ヒドラジン、ヒドラ
ジド等の如き有機又はオルガノシリル化合物との
反応生成物であつてよい。一般式（）において、アルキル基Ｒの例とし
ては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ベン
チル、ヘキシル、ヘプチル及びオクチル基、シク
ロアルキル基Ｒとしては、シクロペンチル、シク
ロヘキシル及びシクロヘプチル基、アリールアル
キル基Ｒの例としては、ベンジル及びフエニルエ
チル基、そしてアルキルアリール基Ｒの例として
はトリル及びキシリル基をそれぞれ挙げることが
できる。Ｘは、ハロゲンでそして一般には塩素原子であ
る。単独で又は混合して用いることができるオルガ
ノハロシランとしては、（CH₃）₂SiCl₂、
（CH₃）₃SiCl、CH₃SiCl₃、SiCl₄（CH₃）₂Si
（CH₂Cl）₂、（CH₃）₃SiCH₂Cl、CH₃Si（CH₂Cl）₃
（C₆H₅）₂SiCl₂、（C₆H₅）（CH₃）SiCl₂及び
C₆H₅SiCl₃（CH₃）（CH₃CH₂）SiCl₂を挙げること
ができる。これらのポリシラザンは、周知でありそして製
造するのが容易である。より具体的に言えば、そ
れらは、式 H₂N（R₂SiNH）_pSiR₂NH₂ () 及び R₃SiNH（R₂SiNH）_p′SiR₃ () 〔式中、Ｒは上記の意味を有し、そしてｐ及び
p′は１〜1000一般には３〜300の間であつてよい
整数である〕に相当する線状重合体を包含する。式（）の重合体はジオルガノジクロルシラン
をアンモニアと接触させることによつて、そして
式（）の重合体はトリオルガノシクロルシラン
又はジオルガノジクロルシランとトリオルガノク
ロルシランとの混合物とアンモニアとの反応によ
つて製造することができる（フランス特許第
1086932号及び米国特許第2564674号を参照された
い）。一般的には、オルガノハロシランと有機アミン
との反応は米国特許第3853567号及び同第3892583
号に記載され、そしてオルガノハロシランとジシ
ラザンとの反応はベルギー特許第888787号に記載
されている。式：（R₂SiNH）_o () 〔式中、ｎは３〜10であり一般にはｎ＝3.4、
そしてＲは上記式（）について記載した意味を
有する〕に相当する環状重合体について言えば、
これらは、特に英国特許第881178号に記載されて
いる。式：R₃SiNH_0.5、R₂SiNH、RSiNH_1.5及びSi
（NH）₂のものから選定される単位よりなる樹脂
質重合体について言えば、これらは、対応するオ
ルガノクロルシラン又はこれらのシランの混合物
をアンモニアと好ましくは有機溶媒中において接
触させることによつて有利に製造される（フラン
ス特許第1379243号、同第1392853号及び同第
1393728号を参照されたい）。これらの樹脂質重合体は、多量のSi―NH―Si
結合及び少量のSiNH₂結合を含有し、そして架
橋重合体の他に、場合によつては線状及び環状重
合体を包含する。後者は、出発オルガノクロルシ
ランの中にジオルガノジクロルシランが存在する
ときのみ形成することができる。オルガノポリ（ジシリル）シラザンは、(a)少な
くとも１個のNH₂又はNH基を含有する有機又は
オルガノシリル化合物例えばアンモニア、第一又
は第二アミン、シリルアミン、アミド、ヒドラジ
ン及びヒドラジド等と、(b)式 R_bX₃―_bSiSiR_cX₃―_c () 〔式中、Ｒ基は、同じ又は異なるものであつ
て、先に記載したと同じ意味を有し、ｂは０，
１，２又は３であり、ｃは０，１又は２であり、
そしてＸはハロゲン一般には塩基である〕の少な
くとも１種のオルガノハロジシランとの反応によ
つて製造することができる。式（）の化合物の例としては、次のもの、
（CH₃）₂ClSiSi（CH₃）₂Cl、（CH₃）₂ClSiSiCH₃Cl₂
及びCH₃Cl₂SiSiCH₃Cl₂を挙げることができる。少なくとも１個のNH₂又はNH基を含有しそし
て上記ポリシラザンの合成に使用することができ
る化合物の例としては、アンモニア、メチルアミ
ン、ジメチルアミン、エチルアミン、シクロプロ
ピルアミン、ヒドラジン、メチルヒドラジン、エ
チレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ヘキ
サメチレンジアミン、アニリン、メチルアニリ
ン、ジフエニルアミン、トルイジン、グアニジ
ン、アミノグアニジン、尿素、ヘキサメチルジシ
ラザン、ジフエニルテトラメチルジシラザン、テ
トラフエニルジメチルジシラザン、テトラメチル
ジビニルジシラザン、ジメチルジフエニルジビニ
ルジシラザン及びテトラメチルジシラザンを挙げ
ることができる。ハロジシランとアンモニアとを随意にハロシラ
ンの存在下に反応させることは、ヨーロツパ特許
第75826号に記載されている。ハロジシランとジ
シラザンとの反応は、フランス特許第2497812号
に記載されている。ポリシラザンの製造に関する
上記文献のすべてを参考文献としてこゝに記載す
る。ヨーロツパ特許第75826号に記載されるように、
上記アミノ誘導体と上記式（）及び（）のハ
ロゲン化生成物の混合物との反応によつてオルガ
ノポリ〔（ジシリル）シラザン―シラザン〕を製
造することができる。アンモニアから製造される出発ポリシラザンは
一般にはアンモノリセートと称され、そして先に
記載の如くアミノ化合物から製造される出発ポリ
シラザンはアミノリセートと称され、従つてこれ
はアンモノリセートを包含する。以下において、出発ハロシラン又はハロジシラ
ンの官能価ｆ及び本発明の方法に従つて処理され
る出発アミノリセート又はアミノリセートの平均
官能価f^Nは次の如く定義される。ハロシランでは、官能価ｆはけい素原子に直接
結合されたハロゲンの数に等しく、そしてｆは０
〜４の範囲内である。例：（CH₃）₂SiCl₂ ｆ＝２ハロジシランでは、Si―Si単位は特定の構成要
素と見なされ、即ち、官能価はこの部分に直接結
合されたハロゲンの数に等しくそして０〜６の間
を変動してよい。例：CH₃Cl₂SiSiCl₂CH₃ ｆ＝４アミノリセートでは、官能価の概念は、≡Si―
Ｎ結合に基因する官能価f^N＝１を定めることによ
つて変えられる。かくして、ポリシラザン型のアミノリセートで
は、次の単位を区別することができる。は、単官能性と見なされ、は、二官能性と見なされ、は、三官能性と見なされ、そしては、四官能性と見なされる。ポリ（ジシリル）シラザン型のアミノリセート
では、ジシリル単位の官能価f^Nは、ハロゲン原子
の代わりに窒素含有置換基を考えることによつて
ハロジシラザンの官能価として計算される。アミノリセートの平均官能価f^N _nはアミノリセー
トを構成する各単位のモル％にそれらの比官能価
を加重することから計算される。かくして、ｎが
異なる単位では、例：アミノリセート、D^N＝60モル％ f^N _n＝60×２＋40×３／100＝2.4 T^N＝40モル％出発アミノリセートは、通常、低又は高粘度の
液体の形態にあるか、又は固体状態までの範囲に
及ぶペーストの形態にさえある。こゝで、これらのアミノリセートは、通常、あ
る割合（これは高くてよい）の低分子量種を含有
するが、この低分子量種は、熱分解間に気化させ
ることができ、その結果として、出発物質に基づ
いたセラミツク生成物の重量収率を比例的に減少
させる。加えて、これらのアミノリセートは、特にそれ
が高含量の二官能性けい素（例えばD^N）を含む
場合には、熱分解間に十分なだけ熱安定性でな
い。これらは、 ≡Si―NH又は≡Si― 結合の切断によつて分解して揮発性オリゴマー
を生成し、かくして出発物質を基にしたセラミツ
ク生成物の重量収率を比例的に減少させる。全く予測されない態様で、均質酸触媒作用処理
からなる本発明の方法は、一方においてアミノリ
セートのマクロ分子中に揮発分を組み込むのを可
能にし、そして他方においては三官能性けい素含
有単位（例えばT^N）の存在下にアミノリセート
網状構造を転化し且つ超架橋させることを可能に
し、この結果としてそれは熱分解間により熱安定
性になる。出発アミノリセートの性状に応じて、
本発明の触媒処理は、分子の重合及び（又は）共
重合び（又は）転位をもたらす。本発明に従つた酸処理から得られる他の特に重
要な利益は、酸素及び湿気に対して向上した抵抗
性を有する処理アミノリセートが製造されること
である。触媒は、出発ポリシラザンを基にして通常１〜
10000ppmそして好ましくは10〜5000ppmの濃度
で用いられる。重合温度は、20〜180℃好ましくは120〜160℃
の間である。反応は塊状で実施することができ、これは明確
な利益である。しかしながら、トルエン、塩化メ
チレン、ベンゼン、キシレン、ヘキサン、ヘプタ
ン等の如き有機溶剤を用いることができる。反応
は、大気圧、加圧又は減圧下に実施することがで
きる。反応時間は、当然のことゝして、触媒濃度
及び反応温度の函数である。120〜160℃の温度及
び10〜5000ppmの酸濃度では、重合時間は有益に
は30分〜30時間である。全く驚くべきそして予測されない態様で、本発
明は、僅か２種の強酸即ちHClO₄及びCF₃SO₃H
特にCF₃SO₃Hが好適であることを例示すること
を可能にした。HF、H₂SO₄及びCCl₃COOHの如
き他の強酸では、望ましい結果を得ることができ
ない。本発明の方法は、種々のポリシラザンを単独で
又は例えば様々の種類のオルガノポリ（ジシリ
ル）シラザン又はオルガノポリシラザンと混合し
て用い実施することができる。かくして、特に、（CH₃）₂SiCl₂のアミノリセートの重合、（CH₃）₂ClSiSiCl（CH₃）₂のアミノリセートの
重合、（CH₃）₂SiCl₂のアミノリセートとCH₃SiCl₃の
アミノリセートとの共重合、 CH₃SiCl₃のアミノリセートの存在下でのポリ
ジメチルシラザンの転位、（CH₃）₂SiCl₂とCH₃SiCl₃とのコアミノリセー
トの転位、（CH₃）SiCl₂と（CH₃）₃―_bCl_bSiSiCl_c（CH₃）₃
―_ｃとのコアミノリセートの転位、を実施することが可能であり、上記においてｂ及びｃは上記式（）における如く規定さ
れ、更に平均官能価f^N _n＞２である。操作が完了したときに、反応混合物は、適当な
手段によつて、例えばNH₃、Et₃N等の如き塩基
性化合物を反応混合物に添加することによつて失
活される。本発明の範囲を限定することなく本発明を例示
する以下の実施例では、得られた、触媒処理され
た又は未処理のポリシラザンは、窒素化に２℃／
分の温度上昇速度において周囲温度（20℃）から
1400℃まで熱分解させることによる動的熱重量分
析（TGA）によつて分析される。各実施例には、
TGA収率（1300〜1400℃における固体残留物の
重量％）が示されている。実験式（CH₃）_xSi（NH）_y が計算されるが、これは、熱分解後に、 α（Si₃N₄）＋βSiC （もしｙ＜４／３ならば、α＝3y／４及びβ
＝１−α もしｙ＞4/3ならば、α＝１及びβ＝０）を理
論的に与えることができる。ハロシラン及びポリシラザンは感湿性であるの
で、取り扱いはすべて、加水分解によるシロキサ
ン結合の形成（熱分解間におけるシリカ形成によ
つてセラミツクの品質を阻害する）を回避するた
めに不活性雰囲気中において実施される。粘度は、25℃において測定されそしてmPa_s単
位で与えられる。例１及び２並びに比較例３〜９用いる物質は、ジメチルジクロルシラン
（CH₃）₂SiCl₂とNH₃との反応によつて得られるヘ
キサメチルシクロトリシラザンD^N ₃（D^N＝―Si
（CH₃）₂NH―）である。生成物を蒸留によつて精製すると、沸点が188
℃で融点が−10℃である留分が集められる。これ
をCaCl₂で乾燥させる。用いる装置は、機械的撹拌機、垂直凝縮器及び
温度計を備えた３の反応器である。反応器を乾
燥窒素でパージする。水を含まないD^N ₃（4.2モル）
をN₂下に導入し、そしてこれを所要の反応温度
に加熱する。次いで、注射器で隔壁を経て触媒を
加える。所要時にアンモニア又はトリエチルアミンの添
加によつて反応混合物を失活させる。結果を以下の表に示す。

【表】

【表】表から、HClO₄及びCF₃SO₃Hのみが有益な
効果を有してシクロシラザンを重合させることが
明らかである。例10及び11 例１の操作手順を正確に反復するが、但し、重
合は溶媒中において様々な温度で実施される。結
果を表に示すが、用いた触媒は4500ppmの濃度
におけるCF₃SO₃Hである。

【表】重合は溶媒中において適当に行われるが、しか
し収率は、操作を低い温度で実施すると低下す
る。例 12 例22に記載の操作手順に従つて製造した
（CH₃）₂ClSiSiCl（CH₃）₂のアンモノリセートは、
主として次の化合物よりなる。

【式】

【式】これらのオルガノ（ジシリル）シラザンは、例
１〜11に記載したと同じ条件下に重合させること
ができるが、得られた結果を以下の表に示す。

【表】例13，14及び15 これらの例では、（CH₃）₂SiCl₂とCH₃SiCl₃との
コアンモノリシスを溶媒中において実施する。機械的撹拌機、ガス流入管及び凝縮器を備えた
ジヤケツト付き３反応器に、乾燥窒素下に、
0.72モルの（CH₃）₂SiCl₂（92.5ｇ）及び0.72モルの
CH₃SiCl₃（107.2ｇ）、即ち、理論平均コアンモノ
リセート官能価約2.5（例13及び14）、 0.48モルの（CH₃）₂SiCl₂（61.9ｇ）及び0.96モル
のCH₃SiCl₃（143.5ｇ）、即ち、理論平均コアンモ
ノリセート官能価約2.67（例15）、を例13及び15では1.1のイソプロピルエーテル
の存在下又は例14ではモレキユラシーブで乾燥さ
せた1.1のトルエンの存在下に加える。混合物
を、周囲温度に保ち（例13及び14）、又は３℃に
冷却しこの温度をNH₃ガスの導入間保つ（例
15）。反応は、僅かに発熱的である。NH₃の添加
速度は１秒当りガス約６mlに維持され、そして添
加は６時間にわたつて行われる。試験間に多量の塩化アンモニウムが生成され、
これによつて溶液は濃厚になる。試験の終りに、
形成したNH₄Clを焼結ガラス（10μm平均孔径）
で別する。沈殿物を乾燥溶剤で数回洗浄する。
回収された溶液は透明である。溶剤を減圧下（70
℃で25ミリバール）に蒸発させ、そして溶剤の痕
跡を70℃及び２ミリバールで除去する。生成物の特性を以下の表に示す。例16，17及び18 これらの例では、例13，14及び15からのコアン
モノリセートを塊状又は溶液状でトリフルオルメ
タンスルホン酸（4500ppm）で処理する。操作条件及び結果を以下の表に記載する。

【表】

【表】これらの例から、陽イオン転位は迅速であるこ
と及び揮発分を全格子中に組み込むことによつて
その割合を大きく減少させることができることが
明らかである。生成物の粘度は急速に上昇し、そ
して周囲温度において重合コアンモノリセートは
トルエン、イソプロピルエーテル、キシレン等の
如き通常の溶剤中に可溶性の硬質でもろい固体の
外観を有する。最とも重要な結果は、TGAによつて測定した
ときにセラミツクの収率が大きく向上することで
ある。例19，20及び21 これらの例では、生成物は、例13及び14からの
コアンモノリセート又は例17₁からの重合コアン
モノリセートのデボラチリゼーシヨンによつて得
られる。揮発分の除去は、1.3ミリバールの圧力におい
て170℃で30分間実施される。揮発性生成物は、
主として低分子量の環式又は多環式化合物（T^N
及びD^N単位よりなるがしかし平均コアンモノリ
セートよりも低いT^N／D^Nを有する）よりなる。結果を以下の表に記載する。

【表】デボラチリゼーシヨンによつて、出発コアンモ
ノリセートよりも粘性の生成物を得ることが可能
になりそして不揮発分に関する限り高いTGA収
率が提供されることが分かる。しかしながら、重
合とは対照をなして、この結果は、生成物の
T^N／D^N比のかなりの変動によつて得られる。同様に、TGA収率の向上だけが明らかである。
と云うのは、出発コアンモノリセートに対するセ
ラミツクの収率は変動しないからである。これとは逆に、本発明に従つた方法によつて、
低分子量化合物を全格子中に組み込むことによつ
てセラミツクの真の収率を向上させることができ
る。これは表に例示されているが、この場合に例
14からのコアンモノリセートの100ｇが、次の４
つの方法、即ち、 (a) 直接熱分解 (b) デボラチリゼーシヨンそれに続く残留物の熱
分解、 (c) CF₃SO₃Hによる酸処理それに続く熱分解、及び (d) CF₃SO₃Hによる酸処理それに続く熱分解、のうちの１つによつて処理される。

【表】表は、デボラチリゼーシヨンと熱分解の開始
との間に存在する均等性及び形成したセラミツク
の品質に及ぼすコアンモノリセートの酸処理の影
響を明確に示す。例22及び23 例22では、生成物は、0.375モルの
（CH₃）₂SiCl₂（48.49）と、平均式（CH₃）_2.48Si₂Cl_3.52 を有する0.562モル（128.3ｇ）のメチルクロルジ
シランの混合物とを乾燥イソプロピルエーテル
（1200ml）中において20℃でコアンモノリシスす
ることによつて得られる。かゝる混合物は、 CH₃Cl₂SiSiCH₃Cl₂、即ち、（CH₃）₂SiCl₄：59
モル％ CH₃Cl₂SiSi（CH₃）₂Cl、即ち、（CH₃）₃Si₂Cl₃：
34モル％（CH₃）₂ClSiSiCH₃ClとCH₃Cl₂SiSi（CH₃）₃と
の混合物、即ち、（CH₃）₄Si₂Cl₂：７モル％、
即ち、f^N _nのコアンモノリセートの平均官能基数
＝2.91 よりなる。 90％収率で得られた生成物は、50000mPa_sの粘
度を有する。例23では、生成物は、例22からのコアンモノリ
セートの酸処理によつて合成される。反応は、
4500ppmのCF₃SO₃Hの存在下に塊状で130℃にお
いて３時間行われる。重合収率は94重量％であ
る。得られた生成物は、通常の溶剤中に可溶性の
硬質でもろい固体の形態である。例22からの生成物にジシラン単位を組み込むこ
とによつて、CH₃SiCl₃及び（CH₃）₂SiCl₂とのコ
アンモノリセートそれ自体（例13，14及び15）と
比較して著しく向上したセラミツクのTGA収率
によつて特徴づけられる架橋物質を得ることが可
能になる。高い官能価を持つコアンモノリセート
は、コアンモノリセス収率の低下をもたらす生成
物ゲル化を招かずにクロルジシランによつて合成
することができる。ジシランコアンモノリセートの酸処理後、熱分
解間のTGA収率が向上され、84％のTGA収率か
ら92％への向上が得られる（例23の生成物）。

【表】例24，25，26，27及び28 これらの例では、（CH₃）₂SiCl₂のアンモノリセ
ートとCH₃SiCl₃のアンモノリセートとの共重合
が実施される。反応は、1000ppmの濃度の
CF₃SO₃Hによつて110℃で１時間触媒される。以
下の表に記載の結果によれば、T^N／D^N比の増
大は重合体収率及びTGA収率の向上をもたらす
ことが示されている。

【表】表わす。
例 29 以下に記載の例は、ポリジメチルシラザン（例
９に従つてCF₃SO₃HによるD^N ₃の重合によつて得
られる）をCH₃SiCl₃のアンモノリセートで転位
することが可能であることを例示する。結果を以下の表に記載する。

【表】転位は、1275ppmの濃度のCF₃SO₃Hによつて
110℃で１時間触媒される。シラザン100ｇ当り得
られるセラミツクの重量は、ポリジメチルシラザ
ン単独の場合に得られるよりもずつと大きい（例
24の２に比較して49）。

Claims

【特許請求の範囲】１オルガノポリシラザン、オルガノポリ（ジシ
リル）シラザン及びそれらの混合物から選定され
るポリシラザン（ここで、けい素原子に結合した
有機基は飽和又は芳香族炭化水素基であり、そし
てけい素原子に直接結合した水素原子は含まな
い）を、HClO₄及びCF₃SO₃Hから選定される触
媒的有効量の酸触媒の存在下に均質相において接
触処理して分子の重合及び（又は）共重合及び
（又は）転位を引き起こさせることを特徴とする
ポリシラザンの処理法。２反応が塊状で実施されることを特徴とする特
許請求の範囲第１項記載の方法。３反応が有機溶剤中において溶液状で実施され
ることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
方法。４酸が出発ポリシラザン単独の重量に対して10
〜10000ppmの濃度で使用されることを特徴とす
る特許請求の範囲第１〜３項のいずれか一項記載
の方法。５重合温度が周囲温度〜180℃の間であること
を特徴とする特許請求の範囲第１〜４項のいずれ
か一項記載の方法。６重合反応時間が30分〜30時間の間であること
を特徴とする特許請求の範囲第１〜５項のいずれ
か一項記載の方法。７処理が常圧、加圧又は減圧において実施され
ることを特徴とする特許請求の範囲第１〜６項の
いずれか一項記載の方法。８酸が、該酸を中和するのに十分な量の塩基の
添加によつて失活されることを特徴とする特許請
求の範囲第１〜７項のいずれか一項記載の方法。