JPH01128942A - テトラフルオロエタンの製造法 - Google Patents
テトラフルオロエタンの製造法Info
- Publication number
- JPH01128942A JPH01128942A JP62285428A JP28542887A JPH01128942A JP H01128942 A JPH01128942 A JP H01128942A JP 62285428 A JP62285428 A JP 62285428A JP 28542887 A JP28542887 A JP 28542887A JP H01128942 A JPH01128942 A JP H01128942A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- rhenium
- tetrafluoroethane
- hydrogen
- haloethane
- reaction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 16
- LVGUZGTVOIAKKC-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2-tetrafluoroethane Chemical compound FCC(F)(F)F LVGUZGTVOIAKKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 9
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 39
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 37
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 28
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 26
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 20
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 18
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N rhenium atom Chemical compound [Re] WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 claims abstract description 14
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims abstract description 11
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims abstract description 10
- DDMOUSALMHHKOS-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichloro-1,1,2,2-tetrafluoroethane Chemical compound FC(F)(Cl)C(F)(F)Cl DDMOUSALMHHKOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims abstract description 8
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 25
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 239000000460 chlorine Chemical group 0.000 claims description 16
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 15
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical group [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 13
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 12
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 8
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 4
- BAMUEXIPKSRTBS-UHFFFAOYSA-N 1,1-dichloro-1,2,2,2-tetrafluoroethane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(Cl)Cl BAMUEXIPKSRTBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 abstract description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 3
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 abstract description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 abstract 1
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 17
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 12
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 11
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 9
- 229910003449 rhenium oxide Inorganic materials 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- DYIZHKNUQPHNJY-UHFFFAOYSA-N oxorhenium Chemical compound [Re]=O DYIZHKNUQPHNJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 4
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 4
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- WXGNWUVNYMJENI-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrafluoroethane Chemical compound FC(F)C(F)F WXGNWUVNYMJENI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JQZFYIGAYWLRCC-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-1,1,2,2-tetrafluoroethane Chemical compound FC(F)C(F)(F)Cl JQZFYIGAYWLRCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- -1 platinum group metals Chemical class 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- RFCAUADVODFSLZ-UHFFFAOYSA-N 1-Chloro-1,1,2,2,2-pentafluoroethane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)Cl RFCAUADVODFSLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DASQIKOOFDJYKA-UHFFFAOYSA-N CCIF Chemical compound CCIF DASQIKOOFDJYKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- QPAXMPYBNSHKAK-UHFFFAOYSA-N chloro(difluoro)methane Chemical compound F[C](F)Cl QPAXMPYBNSHKAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019406 chloropentafluoroethane Nutrition 0.000 description 1
- 239000003426 co-catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001055 inconels 600 Inorganic materials 0.000 description 1
- FZGIHSNZYGFUGM-UHFFFAOYSA-L iron(ii) fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Fe+2] FZGIHSNZYGFUGM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L palladium(II) chloride Chemical compound Cl[Pd]Cl PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- GTLACDSXYULKMZ-UHFFFAOYSA-N pentafluoroethane Chemical compound FC(F)C(F)(F)F GTLACDSXYULKMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 150000003283 rhodium Chemical class 0.000 description 1
- SONJTKJMTWTJCT-UHFFFAOYSA-K rhodium(iii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Rh+3] SONJTKJMTWTJCT-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はテトラフルオロエタンの製造法に関するもので
ある。
ある。
[従来の技術及び問題点コ
式CF、CI1.F (R−134a)またはCIIF
−CHFz (R1341で表わされるテトラフルオロ
エタンの製造方法の一つとして、式CF、XCFYZ
(式中、Xはフッ素または塩素である。Xがフッ素であ
る場合には、Y、Zは塩素、フッ素または水素であり。
−CHFz (R1341で表わされるテトラフルオロ
エタンの製造方法の一つとして、式CF、XCFYZ
(式中、Xはフッ素または塩素である。Xがフッ素であ
る場合には、Y、Zは塩素、フッ素または水素であり。
Y、Zの一方がフッ素である場合には、Y、Zの他方は
水素または塩素である。Xが塩素である場合には、Y、
Zの一方はフッ素であり、Y、Zの他方は塩素または水
素である。)で表わされる4個または5個のフッ素原子
を有するハロエタン原料を、水素化触媒の存在下で水素
と反応させる製造方法がある。典型的なハロエタン原料
は、1.2−ジクロロ−1,1,2,2−テトラフルオ
ロエタン(CCIF2CCIF21および1.1−ジク
ロロ−1,2,2,2−テトラフルオロエタンFCCI
。FeF2)の混合物である。この方法においては、ハ
ロエタン原料から2個の塩素原子、または、塩素および
(または)フッ素原子を除去し、これらを水素で置き換
える。このための触媒として、既知の水素化触媒、すな
わち、ニッケルまたは周期律表の第Vffl a族の金
属、それらの合金、または、それらの酸化物、および塩
のうち、特に塩酸耐性を有するものの適用が考えられ、
既に、比較的低コストであるパラジウムを用いる方法が
報告されている(特公昭56−38131号公報を参照
)。しかし、本還元反応においては、例えばF式に示す
ように塩化水素が副生ずるため触媒には耐酸性が必要で
ある。
水素または塩素である。Xが塩素である場合には、Y、
Zの一方はフッ素であり、Y、Zの他方は塩素または水
素である。)で表わされる4個または5個のフッ素原子
を有するハロエタン原料を、水素化触媒の存在下で水素
と反応させる製造方法がある。典型的なハロエタン原料
は、1.2−ジクロロ−1,1,2,2−テトラフルオ
ロエタン(CCIF2CCIF21および1.1−ジク
ロロ−1,2,2,2−テトラフルオロエタンFCCI
。FeF2)の混合物である。この方法においては、ハ
ロエタン原料から2個の塩素原子、または、塩素および
(または)フッ素原子を除去し、これらを水素で置き換
える。このための触媒として、既知の水素化触媒、すな
わち、ニッケルまたは周期律表の第Vffl a族の金
属、それらの合金、または、それらの酸化物、および塩
のうち、特に塩酸耐性を有するものの適用が考えられ、
既に、比較的低コストであるパラジウムを用いる方法が
報告されている(特公昭56−38131号公報を参照
)。しかし、本還元反応においては、例えばF式に示す
ように塩化水素が副生ずるため触媒には耐酸性が必要で
ある。
CF3CC1□F+11゜ −CF、CIICIF+1
ICICF3CIICIF÷11□−CF 、 CII
、 F + It CIパラジウムは白金族の中では
安価であり、水素化能においても優れている。しかし、
水素吸蔵能が高く、最高、原子比で1−1まで水素が吸
蔵する。水素の吸蔵mが多くなると格子の歪も大きくな
り、機械的な劣化を受は易くなる。
ICICF3CIICIF÷11□−CF 、 CII
、 F + It CIパラジウムは白金族の中では
安価であり、水素化能においても優れている。しかし、
水素吸蔵能が高く、最高、原子比で1−1まで水素が吸
蔵する。水素の吸蔵mが多くなると格子の歪も大きくな
り、機械的な劣化を受は易くなる。
また、パラジウムは同族の他元素とは異なり、濃硝酸や
沸騰硫酸に溶解するほか、酸素が存在する場合には、C
塩酸にも溶解するなど、化学的変化を受は易いという欠
点を有する。
沸騰硫酸に溶解するほか、酸素が存在する場合には、C
塩酸にも溶解するなど、化学的変化を受は易いという欠
点を有する。
[問題点を解決するための手段]
したがって、より耐食性の優れた触媒を用いることは、
触媒の長寿命化に有効であると考えられる。レニウムは
電位−pH図[M、 l’ourba i x 。
触媒の長寿命化に有効であると考えられる。レニウムは
電位−pH図[M、 l’ourba i x 。
“ALIas of Electrochemical
Equilibria 1nAquenus 5o
lutions ” 、Pergamon Pr
ess、0xford(+9661]によればplI=
1付近、またはより酸性の領域の還元雰囲気において、
安定な領域を有しており、白金族以外の元素としては、
本反応において耐食性を示しうる数少ない元素の1つで
ある。また、金属レニウムは電極として用いた場合、水
素発生反応に対して、白金、パラジウム、ロジウム等の
白金族同様、またはそれ以−トに触媒作用が大きく、水
素化電圧は非常に小さい。したがって5レニウム金属は
それ自身触媒として、または白金族元素との合金触媒と
して、従来のパラジウム触媒に替わる触媒となり得るこ
とが見出された。
Equilibria 1nAquenus 5o
lutions ” 、Pergamon Pr
ess、0xford(+9661]によればplI=
1付近、またはより酸性の領域の還元雰囲気において、
安定な領域を有しており、白金族以外の元素としては、
本反応において耐食性を示しうる数少ない元素の1つで
ある。また、金属レニウムは電極として用いた場合、水
素発生反応に対して、白金、パラジウム、ロジウム等の
白金族同様、またはそれ以−トに触媒作用が大きく、水
素化電圧は非常に小さい。したがって5レニウム金属は
それ自身触媒として、または白金族元素との合金触媒と
して、従来のパラジウム触媒に替わる触媒となり得るこ
とが見出された。
一方、レニウム酸化物は11〜■の多くの酸化状態を取
り得るが、それらはすべて何らかの触媒作用を有してい
る。例えば、レニウム黒と呼ばれる、低位のレニウム酸
化物(Red、、 Xく3)は種々の有機化合物の水素
化に有効である。而して、レニウム酸化物(ReOい)
などは白金、パラジウム等への添加剤として用いた場合
、本還元反応において触媒の寿命を大幅に増加させるこ
とが見出された。これは、レニウム酸化物などが、白金
またはパラジウムの分散度をよくし、その機能の劣化を
抑制するためであると考えられる。すなわち、本還元反
応において、それ自身で従来の触媒性能を発揮するとと
もに、パラジウム、白金、ロジウム等の白金族触媒に適
当量添加することにより、それらの触媒活性および耐久
性を向上させることが見出されたものである。
り得るが、それらはすべて何らかの触媒作用を有してい
る。例えば、レニウム黒と呼ばれる、低位のレニウム酸
化物(Red、、 Xく3)は種々の有機化合物の水素
化に有効である。而して、レニウム酸化物(ReOい)
などは白金、パラジウム等への添加剤として用いた場合
、本還元反応において触媒の寿命を大幅に増加させるこ
とが見出された。これは、レニウム酸化物などが、白金
またはパラジウムの分散度をよくし、その機能の劣化を
抑制するためであると考えられる。すなわち、本還元反
応において、それ自身で従来の触媒性能を発揮するとと
もに、パラジウム、白金、ロジウム等の白金族触媒に適
当量添加することにより、それらの触媒活性および耐久
性を向上させることが見出されたものである。
以上のように、レニウム金属またはレニウム酸化物は、
ハロエタンの還元反応における触媒、助触媒としてきわ
めて好適な特性を有していることが判った。
ハロエタンの還元反応における触媒、助触媒としてきわ
めて好適な特性を有していることが判った。
かくして本発明は、上記知見に基づいて完成されたもの
であり、式CF2XCFYZ f式中、Xはフッ素また
は塩素である。Xがフッ素である場合には、Y、Zは塩
素゛、フッ素または水素であり、Y、Zの一方がフッ素
である場合には、Y、Zの他方は水素または塩素である
。Xが塩素である場合には、Y、Zの一方はフッ素であ
り、Y、Zの他方は塩素または水素である。)で表わさ
れる4個または5個のフッ素原子を有するハロエタン原
料を、白金族とレニウムからなる水素化触媒の存在下で
水素と反応させることを特徴とする式CF、C11,F
またはCIIF zcIIF 2で表わされるテトラフ
ルオロエタンの製造法を新規に提供するものである。
であり、式CF2XCFYZ f式中、Xはフッ素また
は塩素である。Xがフッ素である場合には、Y、Zは塩
素゛、フッ素または水素であり、Y、Zの一方がフッ素
である場合には、Y、Zの他方は水素または塩素である
。Xが塩素である場合には、Y、Zの一方はフッ素であ
り、Y、Zの他方は塩素または水素である。)で表わさ
れる4個または5個のフッ素原子を有するハロエタン原
料を、白金族とレニウムからなる水素化触媒の存在下で
水素と反応させることを特徴とする式CF、C11,F
またはCIIF zcIIF 2で表わされるテトラフ
ルオロエタンの製造法を新規に提供するものである。
本発明において、水素化触媒の担体としては、例えば、
アルミナ、活性炭等が好適である。担持方法は、従来の
貴金属触媒の調製法が適用可能である。なお、使用に当
ってはかかる金属の化合物は少なくとも一部還元する。
アルミナ、活性炭等が好適である。担持方法は、従来の
貴金属触媒の調製法が適用可能である。なお、使用に当
ってはかかる金属の化合物は少なくとも一部還元する。
而して、ハロエタン原料としては次のものが挙げられる
。
。
1.2−ジクロロ川、 I、 2.2−テトラフルオロ
エタン(CCIF、CClF2:R−1141゜1.1
−ジクロロ−1,2,2,2−テトラフルオロエタン(
CCIJCF−:R−114a)、1−クロロ−1,1
,2,2,2−ペンタフルオロエタン(CCIF2CF
、:R−1151、 l−クロロ−1,2,2,2−テトラフルオロエタン(
CllCIFCF3:R−124)、2−クロロ−1,
1,2,2−テトラフルオロエタン(CIIF2CCI
F−:R−124a)、1.1,2,2.2−ペンタフ
ルオロエタン+Cl1F、CF、:R−1251 八ロエタン原料としては上記化合物の混合物も使用し得
る。特に好ましくはR−114とR−114aの混合物
がよい結果を与える。
エタン(CCIF、CClF2:R−1141゜1.1
−ジクロロ−1,2,2,2−テトラフルオロエタン(
CCIJCF−:R−114a)、1−クロロ−1,1
,2,2,2−ペンタフルオロエタン(CCIF2CF
、:R−1151、 l−クロロ−1,2,2,2−テトラフルオロエタン(
CllCIFCF3:R−124)、2−クロロ−1,
1,2,2−テトラフルオロエタン(CIIF2CCI
F−:R−124a)、1.1,2,2.2−ペンタフ
ルオロエタン+Cl1F、CF、:R−1251 八ロエタン原料としては上記化合物の混合物も使用し得
る。特に好ましくはR−114とR−114aの混合物
がよい結果を与える。
水素とハロエタン原料の割合は大幅に変動させ得る。−
しかしながら、通常、化学M論量の水素を使用してハロ
ゲン原子を除去する。出発物質の全モル数に対して、化
学■論量よりかなり多い川、例えば4モルまたはそれ以
上の水素を使用し得る。
しかしながら、通常、化学M論量の水素を使用してハロ
ゲン原子を除去する。出発物質の全モル数に対して、化
学■論量よりかなり多い川、例えば4モルまたはそれ以
上の水素を使用し得る。
反応圧力については常圧、または常圧以−1−の圧力が
使用し得る。
使用し得る。
反応温度は120℃以上が望ましいが、450℃を越え
ない温度において気相で行なうことが適当である。
ない温度において気相で行なうことが適当である。
接触時間は、反応を気相で行なう場合には通常0.1〜
300秒、特には5〜30秒である。
300秒、特には5〜30秒である。
得られるテトラフルオロエタンは出発物質の選択により
相当変動する。出発物質が2.2−ジクロロ刊、I、2
.2−テトラフルオロエタンである場合には1,1,1
.2−テトラフルオロエタン(CF、CII□F)が得
られ、1,1.2.2−テトラフルオロエタン(C’1
lFzC1lFz)は殆ど生じない。出発物質が1.2
−ジクロロ −1.1,2.2−テトラフルオロエタン
である場合には、反応生成物は通常テトラフルオロエタ
ンの2種の異性体の混合物からなる。混合物中での2.
2−ジクロロ−1,1,1,2−テトラフルオロエタン
の1.2−ジクロロ−1,1,2,2−テトラフル才ロ
エタンに対する割合が増大するにつれて、CF3Cl1
2Fの生成量が増大する。
相当変動する。出発物質が2.2−ジクロロ刊、I、2
.2−テトラフルオロエタンである場合には1,1,1
.2−テトラフルオロエタン(CF、CII□F)が得
られ、1,1.2.2−テトラフルオロエタン(C’1
lFzC1lFz)は殆ど生じない。出発物質が1.2
−ジクロロ −1.1,2.2−テトラフルオロエタン
である場合には、反応生成物は通常テトラフルオロエタ
ンの2種の異性体の混合物からなる。混合物中での2.
2−ジクロロ−1,1,1,2−テトラフルオロエタン
の1.2−ジクロロ−1,1,2,2−テトラフル才ロ
エタンに対する割合が増大するにつれて、CF3Cl1
2Fの生成量が増大する。
本発明は所望の1.1,1.2−テトラフルオロエタン
、1,1,2.2−テトラフルオロエタンまたはこれら
の混合物を簡単かつ好都合な方法により、種々の割合で
得ることができるという利点を有する製造方法を提供す
るものである。
、1,1,2.2−テトラフルオロエタンまたはこれら
の混合物を簡単かつ好都合な方法により、種々の割合で
得ることができるという利点を有する製造方法を提供す
るものである。
[実施例]
以下に本発明の実施例を示す。
含浸させた。これに塩化パラジウムと過レニウム酸カリ
ウムをそれぞれの金属成分の重量比で90:10の割合
で、活性炭の重量に対し金属成分の全重量で0.5%だ
け溶解した水溶液を少しずつ滴下しイオン成分を活性炭
に吸着させた。純水を用いて洗浄した後、それを150
℃で5時間乾燥した。次に窒素中550℃で4時間乾燥
した後、水素を導入し、5時間、360℃に保持して還
元した。
ウムをそれぞれの金属成分の重量比で90:10の割合
で、活性炭の重量に対し金属成分の全重量で0.5%だ
け溶解した水溶液を少しずつ滴下しイオン成分を活性炭
に吸着させた。純水を用いて洗浄した後、それを150
℃で5時間乾燥した。次に窒素中550℃で4時間乾燥
した後、水素を導入し、5時間、360℃に保持して還
元した。
実施例1
調製例のようにして調製した触媒を300cc充填した
内径2.54cm、長さ100cmのインコネル600
製反応管を塩溶炉中に浸漬した。
内径2.54cm、長さ100cmのインコネル600
製反応管を塩溶炉中に浸漬した。
水素と出発物質(1,1−ジクロロ−1,2,2,2−
テトラフルオロエタンと1.2−ジクロロ−1,1,2
,2−テトラフルオロエタンよりなる。モル比で40=
60)を2=1のモル比で反応管に導入した。水素、出
発物質の流量はそれぞれ、100cc /分、50cc
/分とした。反応管出口のガス組成をガスクロを用いて
分析した。その結果を第1表に示す。
テトラフルオロエタンと1.2−ジクロロ−1,1,2
,2−テトラフルオロエタンよりなる。モル比で40=
60)を2=1のモル比で反応管に導入した。水素、出
発物質の流量はそれぞれ、100cc /分、50cc
/分とした。反応管出口のガス組成をガスクロを用いて
分析した。その結果を第1表に示す。
第1表
R−114aの250°Cにおける反応率は、反応初期
において99.1%、6ケ月後では98.2%であった
。
において99.1%、6ケ月後では98.2%であった
。
実施例2
水素と出発物質のモル比を3:lとしたこと以外は、実
施例1と同様の条件で還元反応を行なった。出発物質の
流量は実施例1と同じである。結果を第2表に示す。
施例1と同様の条件で還元反応を行なった。出発物質の
流量は実施例1と同じである。結果を第2表に示す。
第2表
R−114aの250℃における反応率は、反応初期に
おいて98.8%、6ケ月後では98.1%であった。
おいて98.8%、6ケ月後では98.1%であった。
実施例3
出発物質としてR−114a (純度98.0%、残部
はR−114>を使用する以外は、実施例1と同様の条
件で還元反応を行なった。結果を第3表に示す。
はR−114>を使用する以外は、実施例1と同様の条
件で還元反応を行なった。結果を第3表に示す。
第3表
R−114aの250℃における反応率は、反応初期に
おいて99.0%、6ケ月後では98.1%であった。
おいて99.0%、6ケ月後では98.1%であった。
実施例4
触媒担持雀を5%とする他は調製例と同様に担持したも
のを用いる他は、実施例1と同様にして還元反応を行な
った。結果を第4表に示す。
のを用いる他は、実施例1と同様にして還元反応を行な
った。結果を第4表に示す。
第4表
R−114aの250℃における反応率は、反応初期に
おいて99.3%、6ケ月後では99,1%であった。
おいて99.3%、6ケ月後では99,1%であった。
実施例5
パラジウムとレニウムの割合を99:1としたこと以外
は調製例と同様にして触媒を調製し、実施例1と同様に
して還元反応を行なった。結果を第5表に示す。
は調製例と同様にして触媒を調製し、実施例1と同様に
して還元反応を行なった。結果を第5表に示す。
第5表
R−114aの250℃における反応率は、反応初期に
おいて98.9%、6ケ月後では98.0%であった。
おいて98.9%、6ケ月後では98.0%であった。
実施例6
担持材料としてアルミナを用いた以外は、実施例1と同
様にして還元反応を行なった。結果を第6表に示す。
様にして還元反応を行なった。結果を第6表に示す。
第6表
R−114aの250℃における反応率は、反応初期に
おいて98.0%、6ケ月後では97.2%であった。
おいて98.0%、6ケ月後では97.2%であった。
実施例7
触媒材料としてロジウムとレニウムを重量比90:10
の割合で用いるほかは調製例と同様にして触媒を調製し
た。ロジウム塩としては塩化ロジウムを用いた。この触
媒を用いて、実施例1と同様にして還元反応を行なった
。結果を第7表に示す。
の割合で用いるほかは調製例と同様にして触媒を調製し
た。ロジウム塩としては塩化ロジウムを用いた。この触
媒を用いて、実施例1と同様にして還元反応を行なった
。結果を第7表に示す。
第7表
R−114aの250°Cにおける反応率は、反応初期
において99.3%、6ケ月後では99.0%であった
。
において99.3%、6ケ月後では99.0%であった
。
実施例8
触媒材料として白金とレニウムを[12M比90:10
の割合で用いるほかは調製例と同様にして触媒を調製し
た。白金源としては塩化白金酸を用いた。このようにし
て調製した触媒を用いる他は、実施例1と同様に還元反
応を行なった。結果を第8表に示す。
の割合で用いるほかは調製例と同様にして触媒を調製し
た。白金源としては塩化白金酸を用いた。このようにし
て調製した触媒を用いる他は、実施例1と同様に還元反
応を行なった。結果を第8表に示す。
第8表
R−114aの250℃における反応率は、反応初期に
おいて98.4%、6ケ月後では98.0%であった。
おいて98.4%、6ケ月後では98.0%であった。
比較例1
触媒として活性炭に0.5%のパラジウムを調製例と同
様に担持したものを用いる以外は、実施例1と同様に還
元反応を行なった。結果を第9表に示す。
様に担持したものを用いる以外は、実施例1と同様に還
元反応を行なった。結果を第9表に示す。
第9表
R114aの250℃における反応率は、反応初期にお
いて98.0%、6ケ月後では32.1%であった。
いて98.0%、6ケ月後では32.1%であった。
比較例2
触媒として活性炭に0,5%のロジウムを調製例と同様
に担持したものを用いる他は、実施例1と同様にして還
元反応を行なった。結果を第1O表に示す。
に担持したものを用いる他は、実施例1と同様にして還
元反応を行なった。結果を第1O表に示す。
第10表
R−114aの250℃における反応率は、反応初期に
おいて99.0%、6ケ月後では60.4%であった。
おいて99.0%、6ケ月後では60.4%であった。
比較例3
触媒として活性炭に0.5%の白金を調製例と同様に担
持したものを用いる他は、実施例1と同様にして還元反
応を行なった。結果を第11表に示す。
持したものを用いる他は、実施例1と同様にして還元反
応を行なった。結果を第11表に示す。
第11表
R−l14aの250℃における反応率は、反応初期に
おいて98.3%、6ケ月後では65.4%であった。
おいて98.3%、6ケ月後では65.4%であった。
比較例4
触媒として活性炭に5%のパラジウムを調製例と同様に
担持したものを用いる他は、実施例1と同様にして還元
反応を行なった。結果を第12表に示す。
担持したものを用いる他は、実施例1と同様にして還元
反応を行なった。結果を第12表に示す。
第12表
R−114aの250℃における反応率は、反応初期に
おいて98.3%、6ケ月後では48.3%であった。
おいて98.3%、6ケ月後では48.3%であった。
比較例5
触媒としてアルミナに0.5%のパラジウムを調製例と
同様に担持したものを用いる他は、実施例1と同様にし
て還元反応を行なった。結果を第13表に示す。
同様に担持したものを用いる他は、実施例1と同様にし
て還元反応を行なった。結果を第13表に示す。
第13表
R−114aの250℃における反応率は、反応初期に
おいて97.8%、6ケ月後では41,3%であった。
おいて97.8%、6ケ月後では41,3%であった。
[発明の効果]
本発明は、実施例に示すように、触媒の初期性能を向−
ヒさせるとともに、耐久性の向」−においても優れた効
果を有する。
ヒさせるとともに、耐久性の向」−においても優れた効
果を有する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、式CF_2XCFYZ(式中、Xはフッ素または塩
素である。Xがフッ素である場合には、Y、Zは塩素、
フッ素または水素であり、Y、Zの一方がフッ素である
場合には、Y、Zの他方は水素または塩素である。Xが
塩素である場合に は、Y、Zの一方はフッ素であり、Y、Zの他方は塩素
または水素である。)で表わされる4個または5個のフ
ッ素原子を有するハロエタン原料を、白金族とレニウム
からなる水素化触媒の存在下で水素と反応させることを
特徴とする式CF_3CH_2FまたはCHF_2CH
F_2で表わされるテトラフルオロエタンの製造法。 2、ハロエタン原料が、1,2−ジクロロ−1,1,2
,2−テトラフルオロエタンである特許請求の範囲第1
項記載の製造法。 3、ハロエタン原料が、1,1−ジクロロ−1,2,2
,2−テトラフルオロエタンである特許請求の範囲第1
項記載の製造法。 4、ハロエタン原料が、1,2−ジクロロ−1,1,2
,2−テトラフルオロエタンと1,1−ジクロロ−1,
2,2,2テトラフルオロエタンとの混合物である特許
請求の範囲第1項記載の製造法。 5、ハロエタン原料に対して少なくとも化学量論量の水
素を使用してハロエタン原料中の1個または複数個のハ
ロゲン原子を除去する特許請求の範囲第1項〜第4項の
いずれか一項に記載の製造法。 6、水素化触媒が白金族とレニウムからなる合金または
その酸化物である特許請求の範囲第1項〜第5項のいず
れか一項に記載の製造 法。 7、レニウムの割合が0.01〜90重量%である白金
族とレニウムからなる合金またはその酸化物を水素化触
媒として用いる特許請求の範囲第1項〜第6項のいずれ
か一項に記載の製造法。 8、レニウムの割合が0.1〜50重量%である白金族
とレニウムからなる合金またはその酸化物を水素化触媒
として用いる特許請求の範囲第1項〜第7項のいずれか
一項に記載の製造法。 9、白金族とレニウムからなる合金またはその酸化物が
活性炭担体上に担持されている水素化触媒を用いる特許
請求の範囲第1項〜第8項のいずれか一項に記載の製造
法。 10、白金族とレニウムからなる合金またはその酸化物
がアルミナ担体上に担持されている水素化触媒を用いる
特許請求の範囲第1項〜第8項のいずれか一項に記載の
製造法。 11、反応を気相中において120℃〜450℃の温度
範囲で行なう特許請求の範囲第1項〜第10項のいずれ
か一項に記載の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62285428A JP2531205B2 (ja) | 1987-11-13 | 1987-11-13 | 1,1,1,2−テトラフルオロエタンの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62285428A JP2531205B2 (ja) | 1987-11-13 | 1987-11-13 | 1,1,1,2−テトラフルオロエタンの製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01128942A true JPH01128942A (ja) | 1989-05-22 |
JP2531205B2 JP2531205B2 (ja) | 1996-09-04 |
Family
ID=17691395
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62285428A Expired - Fee Related JP2531205B2 (ja) | 1987-11-13 | 1987-11-13 | 1,1,1,2−テトラフルオロエタンの製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2531205B2 (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01172348A (ja) * | 1987-12-25 | 1989-07-07 | Asahi Glass Co Ltd | テトラフルオロエタンの製造法 |
EP0347830A2 (en) * | 1988-06-21 | 1989-12-27 | Asahi Glass Company Ltd. | Process for producing 1,1,1,2-tetrafluoroethane |
US5068473A (en) * | 1989-02-03 | 1991-11-26 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Hydrogenolysis/dehydrohalogenation process |
US5136113A (en) * | 1991-07-23 | 1992-08-04 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Catalytic hydrogenolysis |
US5146018A (en) * | 1989-02-03 | 1992-09-08 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Hydrogenolysis/dehydrohalogenation process |
US5447896A (en) * | 1992-06-23 | 1995-09-05 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Hydrodehalogenation catalysts and their preparation and use |
US5523501A (en) * | 1994-12-22 | 1996-06-04 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Catalytic hydrogenolysis |
US6218587B1 (en) | 1990-12-26 | 2001-04-17 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Catalytic hydrogenolysis |
JP2003516438A (ja) * | 1999-12-08 | 2003-05-13 | ダウ グローバル テクノロジーズ インコーポレーテッド | 不飽和ポリマーを水素化する方法 |
-
1987
- 1987-11-13 JP JP62285428A patent/JP2531205B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01172348A (ja) * | 1987-12-25 | 1989-07-07 | Asahi Glass Co Ltd | テトラフルオロエタンの製造法 |
EP0347830A2 (en) * | 1988-06-21 | 1989-12-27 | Asahi Glass Company Ltd. | Process for producing 1,1,1,2-tetrafluoroethane |
US5068473A (en) * | 1989-02-03 | 1991-11-26 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Hydrogenolysis/dehydrohalogenation process |
US5146018A (en) * | 1989-02-03 | 1992-09-08 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Hydrogenolysis/dehydrohalogenation process |
US6218587B1 (en) | 1990-12-26 | 2001-04-17 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Catalytic hydrogenolysis |
US5136113A (en) * | 1991-07-23 | 1992-08-04 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Catalytic hydrogenolysis |
US5447896A (en) * | 1992-06-23 | 1995-09-05 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Hydrodehalogenation catalysts and their preparation and use |
US5629462A (en) * | 1992-06-23 | 1997-05-13 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Hydrodehalogenation catalysts and their preparation and use |
US5523501A (en) * | 1994-12-22 | 1996-06-04 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Catalytic hydrogenolysis |
JP2003516438A (ja) * | 1999-12-08 | 2003-05-13 | ダウ グローバル テクノロジーズ インコーポレーテッド | 不飽和ポリマーを水素化する方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2531205B2 (ja) | 1996-09-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5136113A (en) | Catalytic hydrogenolysis | |
EP0347830B1 (en) | Process for producing 1,1,1,2-tetrafluoroethane | |
JP3158440B2 (ja) | 1,1,1,2,3−ペンタフルオロプロペンの製造方法及び1,1,1,2,3−ペンタフルオロプロパンの製造方法 | |
JP2019196347A (ja) | フルオロオレフィンの製造方法 | |
JP2008179602A (ja) | トリフルオロヨードメタンとペンタフルオロヨードエタンを製造するための触媒プロモーター | |
JPH01128942A (ja) | テトラフルオロエタンの製造法 | |
JPH06510048A (ja) | Cc1↓3cf↓3の接触製造方法 | |
JP2814606B2 (ja) | ペンタフルオロエタンを製造する方法 | |
JP2531215B2 (ja) | テトラフルオロエタンの製造法 | |
US6218587B1 (en) | Catalytic hydrogenolysis | |
JP2551051B2 (ja) | 1、1、1、2ーテトラフルオロエタンの製法 | |
JP2551052B2 (ja) | 1、1、1、2ーテトラフルオロエタンの製法 | |
JPH01242536A (ja) | テトラフルオロエタンの製造方法 | |
JP2541256B2 (ja) | テトラフルオロエタンの製造法 | |
JPH01319441A (ja) | 1,1−ジクロロ−2,2,2−トリフルオロエタンの製造方法 | |
JP2581170B2 (ja) | 1,1−ジクロロ−2,2,2−トリフルオロエタンの製造方法 | |
JP2586129B2 (ja) | 1,1,1,2―テトラフルオロエタンの製造法 | |
JPH01132538A (ja) | テトラフルオロエタンの製造方法 | |
JP2581169B2 (ja) | R−134aの製造法 | |
US5602288A (en) | Catalytic process for producing CF3 CH2 F | |
JPH0733342B2 (ja) | 1,1,1,2―テトラフルオロエタンの製造方法 | |
JPH05140008A (ja) | 1,3−ジクロロ−1,2,2,3,3−ペンタフルオロプロパンの製造方法 | |
JP2508807B2 (ja) | R−134aの製造法 | |
JP2581168B2 (ja) | R−134aの製造法 | |
JPH01319442A (ja) | テトラフルオロエタンの製造法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |