JPH01242536A - テトラフルオロエタンの製造方法 - Google Patents
テトラフルオロエタンの製造方法Info
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- JPH01242536A JPH01242536A JP63067145A JP6714588A JPH01242536A JP H01242536 A JPH01242536 A JP H01242536A JP 63067145 A JP63067145 A JP 63067145A JP 6714588 A JP6714588 A JP 6714588A JP H01242536 A JPH01242536 A JP H01242536A
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はテトラフルオロエタンの製造方法に関するもの
である。
である。
[従来の技術および発明の課題]
式CF3CH2F (R134a)またはCHF2CH
F2 (R−134)で表わされるテトラフルオロエタ
ンの製造方法の一つとして、式CFeXCFYZ(式中
、Xはフッ素または塩素である。
F2 (R−134)で表わされるテトラフルオロエタ
ンの製造方法の一つとして、式CFeXCFYZ(式中
、Xはフッ素または塩素である。
Xがフッ素である場合にはY、 Zは塩素、フッ素ま
たは水素であり、Y、 Zの一方がフッ素である場合
にはY、 Zの他方は水素または塩素である。
たは水素であり、Y、 Zの一方がフッ素である場合
にはY、 Zの他方は水素または塩素である。
Xが塩素である場合には、Y、 Zの一方はフッ素で
あり、Y、 Zの他方は塩素または水素である。)で
表わされる4個または5個のフッ素原子を有するハロエ
タン原料利を、水素化触媒の存在下で水素と反応させる
製造方法がある。典型的なハロエタン原料は、1,2−
ジクロロ−1,1,2,2−テトラフルオロエタン(C
CI F2CCI F2)および1.1−ジクロロ−1
,2,2,2−テトラフルオロエタン (CC12F
CF 3 )の混合物である。この方法においては、ハ
ロエタン原料から2個の塩素原子、または、塩素および
(または)フッ素原子を除去し、これらを水素で置き換
える。このための触媒としては、既知の水素化触媒、す
なわち、ニッケルまたは周期律表の第■a族の金属、そ
れらの合金、または、それらの酸化物、および塩のうち
、特に塩酸耐性を有するものの適用が考えられ、既に、
パラジウムを用いる方法が報告されている(特公昭56
−38131号公報を参照)パラジウムは白金族元素の
中では安価であり、水素化能においても優れているため
、有機還元反応においては最もしばしば用いられる代表
的な触媒元素である。しかし、パラジウムは同族の他元
素とは異なり、濃硝酸や沸騰硫酸に溶解するほか、酸素
が存在する場合には、濃塩酸にも溶解するなど、化学的
変化を受けやすいという欠点を有する。また、白金族の
中では融点が低い、そのため同族の中ではシンタリング
をおこしやすいと言える。したがってパラジウム触媒を
本還元反応に用いた場合、必ずしも寿命が長くないとい
う欠点を有している。
あり、Y、 Zの他方は塩素または水素である。)で
表わされる4個または5個のフッ素原子を有するハロエ
タン原料利を、水素化触媒の存在下で水素と反応させる
製造方法がある。典型的なハロエタン原料は、1,2−
ジクロロ−1,1,2,2−テトラフルオロエタン(C
CI F2CCI F2)および1.1−ジクロロ−1
,2,2,2−テトラフルオロエタン (CC12F
CF 3 )の混合物である。この方法においては、ハ
ロエタン原料から2個の塩素原子、または、塩素および
(または)フッ素原子を除去し、これらを水素で置き換
える。このための触媒としては、既知の水素化触媒、す
なわち、ニッケルまたは周期律表の第■a族の金属、そ
れらの合金、または、それらの酸化物、および塩のうち
、特に塩酸耐性を有するものの適用が考えられ、既に、
パラジウムを用いる方法が報告されている(特公昭56
−38131号公報を参照)パラジウムは白金族元素の
中では安価であり、水素化能においても優れているため
、有機還元反応においては最もしばしば用いられる代表
的な触媒元素である。しかし、パラジウムは同族の他元
素とは異なり、濃硝酸や沸騰硫酸に溶解するほか、酸素
が存在する場合には、濃塩酸にも溶解するなど、化学的
変化を受けやすいという欠点を有する。また、白金族の
中では融点が低い、そのため同族の中ではシンタリング
をおこしやすいと言える。したがってパラジウム触媒を
本還元反応に用いた場合、必ずしも寿命が長くないとい
う欠点を有している。
[課題を解決するための手段]
以上述べたようにパラジウム触媒は耐食性、およびシン
タリングの点で改善の余地がある。前者については、高
耐食性元素への置き換え、または高耐食性元素の添加が
、後者については高融点元素への置き換え、または合金
化が有効であると考えられる。但し、合金化によりパラ
ジウム触媒の初期特性を劣化させることは好ましくない
、水素原子の吸蔵量が多く、表面水素原子濃度が高い元
素または化合物は水素還元特性を得る上で好適な添加成
分と考えられる。これらの条件を満たすものとして種々
の金属、化合物を探索した結果、以下のものが初期特性
、耐久性の点で好適であることを見出し、本発明を提供
するに至ったものである。すなわち、本反応に適用可能
な触媒としては、前述のパラジウムの他、白金、ロジウ
ム、ルテニウム等の白金族元素の中から選ばれる1つt
なはそれ以上の複数の組合せからなる金属、または合金
を主成分とすることが望ましい、中でもパラジウム、白
金、ロジウムが特に好適である。これにイリジウム、ル
テニウム等の比較的高融点の元素を添加したものも主成
分たり得る。これに以下の添加元素を加えることにより
、初期の目的を達成することが可能となる。即ち、水素
との親和性の高い元素から選択されるチタン、ジルコニ
ウム、ハフニウム、ニオブ、タンタルの添加が耐塩酸性
の見地から好ましい、添加量としては主成分に対して、
50〜0.01重足置、好ましくは30〜0.1重量%
が適当である。
タリングの点で改善の余地がある。前者については、高
耐食性元素への置き換え、または高耐食性元素の添加が
、後者については高融点元素への置き換え、または合金
化が有効であると考えられる。但し、合金化によりパラ
ジウム触媒の初期特性を劣化させることは好ましくない
、水素原子の吸蔵量が多く、表面水素原子濃度が高い元
素または化合物は水素還元特性を得る上で好適な添加成
分と考えられる。これらの条件を満たすものとして種々
の金属、化合物を探索した結果、以下のものが初期特性
、耐久性の点で好適であることを見出し、本発明を提供
するに至ったものである。すなわち、本反応に適用可能
な触媒としては、前述のパラジウムの他、白金、ロジウ
ム、ルテニウム等の白金族元素の中から選ばれる1つt
なはそれ以上の複数の組合せからなる金属、または合金
を主成分とすることが望ましい、中でもパラジウム、白
金、ロジウムが特に好適である。これにイリジウム、ル
テニウム等の比較的高融点の元素を添加したものも主成
分たり得る。これに以下の添加元素を加えることにより
、初期の目的を達成することが可能となる。即ち、水素
との親和性の高い元素から選択されるチタン、ジルコニ
ウム、ハフニウム、ニオブ、タンタルの添加が耐塩酸性
の見地から好ましい、添加量としては主成分に対して、
50〜0.01重足置、好ましくは30〜0.1重量%
が適当である。
かくして本発明は、上記知見に基づいて完成されたもの
であり、式CF2XCFYZ(式中、Xはフッ素または
塩素である。Xがフッ素である場合にはY、Zは塩素、
フッ素または水素であり、Y。
であり、式CF2XCFYZ(式中、Xはフッ素または
塩素である。Xがフッ素である場合にはY、Zは塩素、
フッ素または水素であり、Y。
Zの一方がフッ素である場合にはY、 Zの他方は水
素または塩素である。Xが塩素である場合には、Y、
Zの一方はフッ素であり、Y、Zの他方は塩素または
水素である。)で表わされる4個または5個のフッ素原
子を有するハロエタン原料を、白金族元素にジルコニウ
ム、ハフニウム、チタン、ニオブ、及びタンタルから選
ばれる少なくとも1種の元素または化合物を添加してな
る水素化触媒の存在下で水素と反応させることを特徴と
する式CF3CHtFまたはCHF 2 CHF 2で
表わされるテトラフルオロエタンの製造方法を新規に提
供するものである。
素または塩素である。Xが塩素である場合には、Y、
Zの一方はフッ素であり、Y、Zの他方は塩素または
水素である。)で表わされる4個または5個のフッ素原
子を有するハロエタン原料を、白金族元素にジルコニウ
ム、ハフニウム、チタン、ニオブ、及びタンタルから選
ばれる少なくとも1種の元素または化合物を添加してな
る水素化触媒の存在下で水素と反応させることを特徴と
する式CF3CHtFまたはCHF 2 CHF 2で
表わされるテトラフルオロエタンの製造方法を新規に提
供するものである。
本発明において、水素化触媒の担体としては、例えば、
アルミナ、活性炭等が好適である。使用に当たってはか
かる金属の化合物は少なくとも一部還元する。
アルミナ、活性炭等が好適である。使用に当たってはか
かる金属の化合物は少なくとも一部還元する。
而して、ハロエタン原料としては次のものが挙げられる
。
。
1.2−ジクロロ−1,1,2,2−テトラフルオロエ
タン(CCI F2CCI F2: R114)、1.
1−ジクロロ−1,2,2,2−テトラフルオロエタン
(CC12FCF3: R114a)、1−クロロ−
1,1,2,2,2−ペンタフルオロエタン(CCI
F2OF3: R115)、1−クロロ−1,2,2,
2−テトラフルオロエタン(CHCI FeF2: R
124)、2−クロロ−1,1,2,2−テトラフルオ
ロエタン(CHF2CCIF2: R124a)、1、
1.2.2.2−ペンタフルオロエタン(CHF2CF
3: R125) ハロエタン原料としては上記化合物の混合物も使用し得
る。特に好ましくは、R−114とR−114aの混合
物がよい結果を与える。
タン(CCI F2CCI F2: R114)、1.
1−ジクロロ−1,2,2,2−テトラフルオロエタン
(CC12FCF3: R114a)、1−クロロ−
1,1,2,2,2−ペンタフルオロエタン(CCI
F2OF3: R115)、1−クロロ−1,2,2,
2−テトラフルオロエタン(CHCI FeF2: R
124)、2−クロロ−1,1,2,2−テトラフルオ
ロエタン(CHF2CCIF2: R124a)、1、
1.2.2.2−ペンタフルオロエタン(CHF2CF
3: R125) ハロエタン原料としては上記化合物の混合物も使用し得
る。特に好ましくは、R−114とR−114aの混合
物がよい結果を与える。
水素とハロエタン原料の割合は大幅に変動させ得る。し
かしながら、通常、化学量論量の水素を使用してハロゲ
ン原子を除去する。出発物質の全モル数に対して、化学
量論量よりかなり多い量、例えば4モルまたはそれ以上
の水素を使用し得る。
かしながら、通常、化学量論量の水素を使用してハロゲ
ン原子を除去する。出発物質の全モル数に対して、化学
量論量よりかなり多い量、例えば4モルまたはそれ以上
の水素を使用し得る。
反応圧力については、大気圧または大気圧を越える圧力
を使用し得る。
を使用し得る。
反応温度は120℃以上が望ましいが、 450°C
を越えない温度において気相で行なうことが適当である
。
を越えない温度において気相で行なうことが適当である
。
接触時間は、反応を気相で行なう場合には通常0.1〜
300秒、特に5〜30秒である。
300秒、特に5〜30秒である。
得られるテトラフルオロエタンは出発物質の選択により
相当変動する。出発物質がR−114aである場合には
、R134a(CFsGHzF)が得られ、R−134
(CHF2CHF2)は殆ど生じない、出発物質がR−
114である場合には、反応生成物は通常テトラフルオ
ロエタンの2種の異性体の混合物からなる。混合物中で
のR−114aの、R−114に対する割合が増大する
につれて、CF z CH2Fの生成量が増大する。
相当変動する。出発物質がR−114aである場合には
、R134a(CFsGHzF)が得られ、R−134
(CHF2CHF2)は殆ど生じない、出発物質がR−
114である場合には、反応生成物は通常テトラフルオ
ロエタンの2種の異性体の混合物からなる。混合物中で
のR−114aの、R−114に対する割合が増大する
につれて、CF z CH2Fの生成量が増大する。
本発明は所望のR−134aまたはこれらの混合物を簡
単かつ好都合な方法により、種々の割合で得ることが出
来るという利点を有する製造方法を提供するものである
。
単かつ好都合な方法により、種々の割合で得ることが出
来るという利点を有する製造方法を提供するものである
。
[実施例コ
以下に本発明の実施例を示す。
調製例 1
活性炭を純水中に浸漬し細孔内部まで水を含浸させた。
これに塩化パラジウムを活性炭の重量に対し金属成分の
全1i量で0.45 %だけ溶解した水溶液にタンタル
酸カリウムをタンタルの重量で活性炭の重量に対し、0
.05%だけ溶解した。
全1i量で0.45 %だけ溶解した水溶液にタンタル
酸カリウムをタンタルの重量で活性炭の重量に対し、0
.05%だけ溶解した。
この水溶液に活性炭を浸漬し、イオンを活性炭に吸着さ
せた。純水を用いて洗浄した後、それを150℃で5時
間乾燥した0次に窒素中550℃で4時間乾燥した後、
水素を導入し、5時間、800℃に保持して還元した。
せた。純水を用いて洗浄した後、それを150℃で5時
間乾燥した0次に窒素中550℃で4時間乾燥した後、
水素を導入し、5時間、800℃に保持して還元した。
触媒微粒子の粒径は50〜100人であった。
調製例 2
活性炭を純水中に浸漬し細孔内部まで水を含浸させた。
これに塩化パラジウムを活性炭のifに対し金属成分の
全重量で0.45 %だけ溶解した水溶液に粒径25μ
m以下のタンタル微粒子をを活性炭の重量に対し0.0
5%だけ分散させた。
全重量で0.45 %だけ溶解した水溶液に粒径25μ
m以下のタンタル微粒子をを活性炭の重量に対し0.0
5%だけ分散させた。
この液を少しずつ滴下し、攪拌した。しかる後、純水を
用いて洗浄した後、それを150”Cで5時間乾燥した
0次に窒素中550℃で4時間乾燥した後、水素を導入
し、5時間、800℃に保持して還元した。 触媒微粒
子の粒径は50〜100人であった。
用いて洗浄した後、それを150”Cで5時間乾燥した
0次に窒素中550℃で4時間乾燥した後、水素を導入
し、5時間、800℃に保持して還元した。 触媒微粒
子の粒径は50〜100人であった。
′:A製例 3
活性炭を純水中に浸漬し細孔内部まで水を含浸させた。
これに塩化パラジウムを活性炭の重量に対し金属成分の
全重量で0.45 %だけ溶解した水溶液にニオブ酸マ
グネシウムをニオブの重量で活性炭の重量に対し、0.
05%だけ溶解した。
全重量で0.45 %だけ溶解した水溶液にニオブ酸マ
グネシウムをニオブの重量で活性炭の重量に対し、0.
05%だけ溶解した。
この水溶液に活性炭を浸漬し、イオンを活性炭に吸着さ
せた。純水を用いて洗浄した後、それを150’Cで5
時間乾燥した0次に窒素中550℃で4時間乾燥した後
、水素を導入し、5時間、800℃に保持して還元した
。触媒微粒子の粒径は50〜100人であった。
せた。純水を用いて洗浄した後、それを150’Cで5
時間乾燥した0次に窒素中550℃で4時間乾燥した後
、水素を導入し、5時間、800℃に保持して還元した
。触媒微粒子の粒径は50〜100人であった。
調製例 4
活性炭をエタノールに浸漬し細孔内部までエタノールを
含浸させた。これに塩化パラジウムを活性炭の重量に対
し金属成分の全重量で0.45 %だけ溶解したエタノ
ール溶液にチタン酸カリウムをチタンの重量で活性炭の
重量に対し、o、o 5%だけ溶解した。この溶液を少
しずつ滴下し、攪拌する。それを100℃で5時間乾燥
した6次に窒素中550℃で4時間乾燥しな後、水素を
導入し、5時間、800℃に保持して還元した。触媒微
粒子の粒径は50〜100人であった。
含浸させた。これに塩化パラジウムを活性炭の重量に対
し金属成分の全重量で0.45 %だけ溶解したエタノ
ール溶液にチタン酸カリウムをチタンの重量で活性炭の
重量に対し、o、o 5%だけ溶解した。この溶液を少
しずつ滴下し、攪拌する。それを100℃で5時間乾燥
した6次に窒素中550℃で4時間乾燥しな後、水素を
導入し、5時間、800℃に保持して還元した。触媒微
粒子の粒径は50〜100人であった。
調製例 5
活性炭を純水中に浸漬し細孔内部まで水を含浸させた。
これに塩化パラジウムを活性炭の重量に対し金属成分の
全重量で0.45 %だけ溶解した水溶液に硫酸ジルコ
ニウムをジルコニウム成分の重量で活性炭の重量に対し
、0.05%だけ添加した。この水溶液に活性炭を浸漬
し、イオンを活性炭に吸着させた。純水を用いて洗浄し
た後、それを150℃で5時間乾燥した6次に窒素中5
50℃で4時間乾燥した後、水素を導入し、5時間、7
00℃に保持して還元した。触is微粒子の粒径は50
〜100人であった。
全重量で0.45 %だけ溶解した水溶液に硫酸ジルコ
ニウムをジルコニウム成分の重量で活性炭の重量に対し
、0.05%だけ添加した。この水溶液に活性炭を浸漬
し、イオンを活性炭に吸着させた。純水を用いて洗浄し
た後、それを150℃で5時間乾燥した6次に窒素中5
50℃で4時間乾燥した後、水素を導入し、5時間、7
00℃に保持して還元した。触is微粒子の粒径は50
〜100人であった。
調製例 6
活性炭を純水中に浸漬し細孔内部まで水を含浸させな、
これに塩化パラジウムを活性炭の1fi量に対し金属成
分の全重量で0.45 %だけ溶解した水溶液に塩化ハ
フニウムをハフニウム成分のffi量で活性炭の重量に
対し、0.05%だけ添加した。
これに塩化パラジウムを活性炭の1fi量に対し金属成
分の全重量で0.45 %だけ溶解した水溶液に塩化ハ
フニウムをハフニウム成分のffi量で活性炭の重量に
対し、0.05%だけ添加した。
この水溶液に活性炭を浸漬し、イオンを活性炭に吸着さ
せた。純水を用いて洗浄した後、それを150℃で5時
間乾燥した。 次に窒素中550℃で4時間乾燥した
後、水素を導入し、5時間、700℃に保持して還元し
た。触媒微粒子の粒径は50〜100人であった。
せた。純水を用いて洗浄した後、それを150℃で5時
間乾燥した。 次に窒素中550℃で4時間乾燥した
後、水素を導入し、5時間、700℃に保持して還元し
た。触媒微粒子の粒径は50〜100人であった。
調製例 7
活性炭を純水中に浸漬し細孔内部まで水を含浸させた。
これに塩化白金酸を活性炭の重量に対し金属成分の全重
量で0.45 %だけ溶解した水溶液に硫酸ジルコニウ
ムをジルコニウム成分の重量で活性炭の重量に対し、0
,05%だけ添加した。
量で0.45 %だけ溶解した水溶液に硫酸ジルコニウ
ムをジルコニウム成分の重量で活性炭の重量に対し、0
,05%だけ添加した。
この水溶液に活性炭を浸漬し、イオンを活性炭に吸着さ
せた。純水を用いて洗浄した後、それを150°Cで5
時間乾燥した0次に窒素中550℃で4時間乾燥した後
、水素を導入し、5時間、700℃に保持して還元した
。触媒微粒子の粒径は50〜100人であった。
せた。純水を用いて洗浄した後、それを150°Cで5
時間乾燥した0次に窒素中550℃で4時間乾燥した後
、水素を導入し、5時間、700℃に保持して還元した
。触媒微粒子の粒径は50〜100人であった。
調製例 5
活性炭を純水中に浸漬し細孔内部まで水を含浸させた。
これに塩化ロジウムを活性炭の重量に対し金属成分の全
重量で0.45 %だけ溶解した水溶液に硫酸ジルコニ
ウムをジルコニウム成分の重量で活性炭の重量に対し、
0.05%だけ添加した。この水溶液に活性炭を浸漬し
、イオンを活性炭に吸着させた。純水を用いて洗浄した
後、それを150℃で5時間乾燥した。 次に窒素中
550℃で4時間乾燥した後、水素を導入し、5時間、
700℃に保持して還元した。触媒微粒子の粒径は50
〜100人であった。
重量で0.45 %だけ溶解した水溶液に硫酸ジルコニ
ウムをジルコニウム成分の重量で活性炭の重量に対し、
0.05%だけ添加した。この水溶液に活性炭を浸漬し
、イオンを活性炭に吸着させた。純水を用いて洗浄した
後、それを150℃で5時間乾燥した。 次に窒素中
550℃で4時間乾燥した後、水素を導入し、5時間、
700℃に保持して還元した。触媒微粒子の粒径は50
〜100人であった。
実施例 1
調製例のようにして調製した触媒を300cc充填した
内径的2.6cm、長さ100cmのインコネル600
製反応管を塩浴炉中に浸漬しな、。
内径的2.6cm、長さ100cmのインコネル600
製反応管を塩浴炉中に浸漬しな、。
水素と出発物質(1,1−ジクロロ−1,2゜2.2
−テトラフルオロエタンと1.2−ジクロロー1、1.
2.2−テトラフルオロエタンよりなる0モル比で40
: 60)を2: 1のモル比で反応管に導入した。
−テトラフルオロエタンと1.2−ジクロロー1、1.
2.2−テトラフルオロエタンよりなる0モル比で40
: 60)を2: 1のモル比で反応管に導入した。
水素、出発物質の流量はそれぞれ、100cc/分、5
0cc/分としな0反応管出口のガス組成をガスクロを
用いて分析しな、その結果を第1表に示す。
0cc/分としな0反応管出口のガス組成をガスクロを
用いて分析しな、その結果を第1表に示す。
比較例 l
触媒として活性炭に0.5%のパラジウムを調製例と同
様に担持したものを用いる以外は実施例1と同様にして
、還元反応を行なった。結果を第1表に示す、なお、触
jXv1粒子の初期粒径は50〜100人であった。
様に担持したものを用いる以外は実施例1と同様にして
、還元反応を行なった。結果を第1表に示す、なお、触
jXv1粒子の初期粒径は50〜100人であった。
第1表 触媒の初期特性および使用後粒径反応条件:
反応温度=250℃ 1(2/出発物質=2 接触時間=20秒 [発明の効果] 本発明における還元触媒は、実施例に示すように、初期
性能が優れているとともに、耐久性の向上においても優
れた特性を有する。
反応温度=250℃ 1(2/出発物質=2 接触時間=20秒 [発明の効果] 本発明における還元触媒は、実施例に示すように、初期
性能が優れているとともに、耐久性の向上においても優
れた特性を有する。
代理人(弁理士)半相4・ljす
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、式CF_2XCFYZ(式中、Xはフッ素または塩
素である。Xがフッ素である場合には、Y、Zは塩素、
フッ素または水素であり、Y、Zの一方がフッ素である
場合には、Y、Zの他方は水素または塩素である。Xが
塩素である場合には、Y、Zの一方はフッ素であり、Y
、Zの他方は塩素または水素である。)で表わされる4
個または5個のフッ素原子を有するハロエタン原料を、
白金族元素にジルコニウム、ハフニウム、チタン、ニオ
ブ、及びタンタルから選ばれる少なくとも1種の元素ま
たは化合物を添加してなる水素化触媒の存在下で、水素
と反応させることを特徴とする式CF_3CH_2Fま
たはCHF_2CHF_2で表わされるテトラフルオロ
エタンの製造方法。 2、ハロエタン原料が、1,2−ジクロロ−1,1,2
,2−テトラフルオロエタンである特許請求の範囲第1
項記載の製造方法。 3、ハロエタン原料が、1,1−ジクロロ−1,2,2
,2−テトラフルオロエタンである特許請求の範囲第1
項記載の製造方法。 4、ハロエタン原料が、1,2−ジクロロ−1,1,2
,2−テトラフルオロエタンと1,1−ジクロロ−1,
2,2,2−テトラフルオロエタンとの混合物である特
許請求の範囲第1項記載の製造方法。 5、ハロエタン原料に対して少なくとも化学量論量の水
素を使用してハロエタン原料中の1個または複数個のハ
ロゲン原子を除去する特許請求の範囲第1項〜第4項の
いずれか一項に記載の製造方法。 6、ハロエタン原料1モル当り4モルまでの水素を使用
する特許請求の範囲第1項〜第5項のいずれか一項に記
載の製造方法。 7、触媒成分が活性炭担体上に担持されている水素化触
媒を用いる特許請求の範囲第1項〜第6項のいずれか一
項に記載の製造方法。 8、触媒成分がアルミナ担体上に担持されている水素化
触媒を用いる特許請求の範囲第1項〜第6項のいずれか
一項に記載の製造方法。 9、反応を気相中において120〜450℃の温度範囲
で行なう特許請求の範囲第1項〜第8項のいずれか一項
に記載の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63067145A JP2636314B2 (ja) | 1988-03-23 | 1988-03-23 | テトラフルオロエタンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63067145A JP2636314B2 (ja) | 1988-03-23 | 1988-03-23 | テトラフルオロエタンの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01242536A true JPH01242536A (ja) | 1989-09-27 |
JP2636314B2 JP2636314B2 (ja) | 1997-07-30 |
Family
ID=13336447
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63067145A Expired - Fee Related JP2636314B2 (ja) | 1988-03-23 | 1988-03-23 | テトラフルオロエタンの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2636314B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05501878A (ja) * | 1989-10-10 | 1993-04-08 | イー・アイ・デユポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | ハロカーボンの水素化分解 |
WO1994011328A1 (en) * | 1992-11-11 | 1994-05-26 | Daikin Industries, Ltd. | Process for producing difluoromethane |
WO1996025379A1 (fr) * | 1995-02-13 | 1996-08-22 | Daikin Industries, Ltd. | Procede de preparation de 1,1,1,3,3-pentafluoropropane |
-
1988
- 1988-03-23 JP JP63067145A patent/JP2636314B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05501878A (ja) * | 1989-10-10 | 1993-04-08 | イー・アイ・デユポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | ハロカーボンの水素化分解 |
WO1994011328A1 (en) * | 1992-11-11 | 1994-05-26 | Daikin Industries, Ltd. | Process for producing difluoromethane |
US6700026B1 (en) * | 1992-11-11 | 2004-03-02 | Daikin Industries Ltd. | Method for preparing difluoromethane |
WO1996025379A1 (fr) * | 1995-02-13 | 1996-08-22 | Daikin Industries, Ltd. | Procede de preparation de 1,1,1,3,3-pentafluoropropane |
US5821392A (en) * | 1995-02-13 | 1998-10-13 | Daikin Industries Ltd. | Manufacturing method for 1,1,1,3,3-pentafluoropropane |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2636314B2 (ja) | 1997-07-30 |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |