JP7473726B1 - シリカ粉末 - Google Patents
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Abstract
Description
しかしながら、シリカの粒子の表面には、吸着水やシラノール基といった極性官能基等が多く存在し、特に、誘電正接が焼結された基板としての特性よりも悪化するという問題点がある。
1. 下記の手順に従って測定される樹脂シートサンプルの40GHz時の誘電正接が2.0×10-3以下であるシリカ粉末であって、
カールフィッシャー法により測定される、200℃になるまでに発生した水分量が500ppm以下、
窒素ガス吸着によるBET1点法により測定される比表面積が0.2m2/g以上5.4m2/g以下、および、
湿式でのレーザー回折散乱法で測定される体積頻度粒度分布における小粒子側からの累積体積が90%となる点の粒子径をD90としたとき、D90が3.0μm以上75μm以下である、
シリカ粉末。
(手順)
当該シリカ粉末を充填量が40体積%となるようにポリエチレン粉末と混合し、得られた混合粉末を用いて前記樹脂シートサンプルを成形する。得られた前記樹脂シートサンプルを用いて、共振法により、40GHz時の誘電正接を測定する。
2. 1.に記載のシリカ粉末であって、
湿式でのレーザー回折散乱法で測定される粒子径頻度分布における最頻径が2.5μm以上40μm以下である、シリカ粉末。
3. 1.又は2.に記載のシリカ粉末であって、
湿式でのレーザー回折散乱法で測定される粒子径頻度分布における最大ピークの頻度が10%以下である、シリカ粉末。
4. 1.~3.のいずれか一つに記載のシリカ粉末であって、
湿式でのレーザー回折散乱法で測定される粒子径頻度分布における最頻径の値をDm(μm)、前記比表面積の値をS(m2/g)としたとき、Dm/Sが0.6以上である、
5. 1.~4.のいずれか一つに記載のシリカ粉末であって、
湿式でのレーザー回折散乱法で測定される粒子径頻度分布における15.7μm以上の粒子径の粒子の頻度が50%以下である、シリカ粉末。
6. 1.~5.のいずれか一つに記載のシリカ粉末であって、
湿式でのレーザー回折散乱法で測定される粒子径頻度分布における0.5μm未満の粒子径の粒子の頻度が15%以下である、シリカ粉末。
7. 1.~6.のいずれか一つに記載のシリカ粉末であって、
湿式でのレーザー回折散乱法で測定される体積頻度粒度分布における小粒子側からの累積体積が10%、50%、100%となるそれぞれの点の粒子径をD10、D50、D90としたとき、(D90-D10)/D50が10以下である、シリカ粉末。
8. 1.~7.のいずれか一つに記載のシリカ粉末であって、
平均球形度が0.85以上である、シリカ粉末。
9. 1.~8.のいずれか一つに記載のシリカ粉末であって、
非晶質率が95.0%以上である、シリカ粉末。
10. 1.~9.のいずれか一つに記載のシリカ粉末であって、
ウラン元素およびトリウム元素の含有率が20ppb以下である、シリカ粉末。
カールフィッシャー法により測定される、200℃になるまでに発生した水分量が500ppm以下、
窒素ガス吸着によるBET1点法により測定される比表面積が0.2m2/g以上5.4m2/g以下、および、
湿式でのレーザー回折散乱法で測定される体積頻度粒度分布における小粒子側からの累積体積が90%となる点の粒子径をD90としたとき、D90が3.0μm以上75μm以下を満たすものである。
ここで、超微粉を配合することにより、樹脂中におけるシリカ粉末の充填状態を向上させることができる一方で、超微粉の比表面積が大きいために、樹脂シートの誘電正接が上昇する恐れがある。発明者による鋭意検討の結果、十分に加熱処理した超微粉を用いることにより、充填性と低誘電正接とを両立することが可能であることが分かった。
また、上記のように粒度特性が適切なシリカ粉末を含む樹脂組成物は、成形時における狭ギャップへの充填性が高まるため、シリカ粉末が高充填され得る。このため、薄厚の樹脂組成物の成形体における誘電正接を低くすることが可能となる。
上記40GHz時の誘電正接の上限は、2.0×10-3以下、好ましくは1.9×10-3以下、より好ましくは1.5×10-3以下、さらに好ましくは0.5×10-3以下である。
上記40GHz時の誘電正接の下限は、とくに限定されないが、例えば、1.0×10-6以上としてもよい。
シリカ粉末を充填量が40体積%となるようにポリエチレン粉末と混合し、得られた混合粉末を用いて樹脂シートサンプルを成形する。得られた樹脂シートサンプルを用いて、共振法により、40GHz時の誘電正接を測定する。
シリカ粉末は、シリカ(Si02)を主成分として含むものであればよい。
主成分とは、シリカ粉末全量中、質量換算で、シリカ(Si02)を、例えば、50%以上、好ましくは80%以上、より好ましくは90%以上含むことを意味する。
シリカ粉末は、純度が高い方が好ましいが、原料や製造過程で不可避に混入する不純物の存在を許容する。
シリカ粉末の非晶質率、例えば、95.0%以上、好ましくは97.0%以上、より好ましくは99.0%以上である。
シリカ質粉末の場合、結晶質シリカは、26.7°に主ピークが存在するが、非晶質シリカではピークは存在しない。非晶質シリカと結晶質シリカが混在していると、結晶質シリカの割合に応じた26.7°のピーク高さが得られる。
そうすると、結晶質シリカ標準試料のX線強度に対する試料のX線強度の比から、結晶質シリカ混在比(試料のX線回折強度/結晶質シリカのX線回折強度)を算出し、式、非晶質率(%)=(1-結晶質シリカ混在比)×100から非晶質率(%)を算出することができる。
実体顕微鏡(たとえば、ニコン社製モデル「SMZ-10型」)、走査型電子顕微鏡等にて撮影した粒子像を画像解析装置(たとえば、日本アビオニクス社製など)に取り込む。
写真から粒子の投影面積(A)と周囲長(PM)を測定する。
周囲長(PM)に対応する真円の面積を(B)とすると、その粒子の真円度はA/Bとして表示できる。そこで、試料粒子の周囲長(PM)と同一の周囲長を持つ真円を想定すると、PM=2πr、B=πr2であるから、B=π×(PM/2π)2となり、個々の粒子の球形度は、球形度=A/B=A×4π/(PM)2として算出することができる。
このようにして得られた任意の粒子200個の真円度を求めその平均値を平均球形度とした。
一方、上記BET比表面積の下限は、0.2m2/g以上、好ましくは0.3m2/g以上、より好ましくは0.4m2/g以上である。これにより、樹脂に配合したときの流動性の低下を抑制できる。
一方、上記最頻径の下限は、例えば、2.5μm以上、好ましくは3.0μm以上、より好ましくは4.0μm以上である。これにより、シリカ粉末を配合した樹脂材料の粘度上昇を抑制できる。
一方、上記最大ピークの頻度の下限は、例えば、2.0%以上、好ましくは3.5%以上、より好ましくは4.0%以上である。上記の最大ピークの頻度の上限を満たす粒子径頻度分布は、比較的ブロードなプロファイルを有する。これにより、シリカ粉末を配合した樹脂材料の充填性を向上できる。
シリカ粉末におけるDm/Sの上限は、とくに限定されないが、例えば、50以下、好ましくは40以下、より好ましくは30以下である。これにより、シリカ粉末を配合した樹脂材料の充填性をより向上できる。
一方、上記Dm/Sの下限は、例えば、0.5以上、好ましくは1.2以上、より好ましくは1.6以上である。これにより、シリカ粉末を配合した樹脂材料の充填性を向上できる。
シリカ粉末が複数のピークを有する場合、頻度が最大となるピークを「最大ピーク」と定義する。
一方、上記15.7μm以上の粒子径の粒子の頻度の下限は、特に限定されないが、0%以上でもよく、0.1%以上でもよい。
一方、上記0.5μm未満の粒子径の粒子の頻度の下限は、特に限定されないが、0%以上でもよく、0.1%以上でもよい。
一方、D90の下限が、3.0μm以上、好ましくは4.0μm以上、より好ましくは5.0μm以上である。これにより、シリカ粉末を配合した樹脂材料の粘度上昇を抑制できる。
一方、(D90-D10)/D50の下限が、例えば、0.3以上、好ましくは0.7以上、より好ましくは1.0以上である。
一方、上記の物理吸着水の下限は、とくに限定されないが、0ppm以上でもよく、1ppm以上でもよい。
具体的には、微量水分測定装置(三菱化学社製、モデルCA-05)を用い、粉末を水分気化機構中の石英管にセットし、電気ヒーターで室温から900℃まで加熱しながら、脱水処理されたアルゴンガスをキャリアガスとして供給し、粉末表面から揮発した水蒸気を水分測定機構に導き、水分量を測定した。電気ヒーターの加熱温度が200℃となるまでに発生した水分を物理吸着水とみなす。
一方、上記ウラン元素およびトリウム元素の含有率の下限は、とくに限定されないが、例えば、0.1ppb以上でもよい。
本実施形態の製造方法の一例としては、乾式法で製造された原料シリカ粉末を、分級処理した後、超微粉配合処理することにより、シリカ粉末を得ることができる。
また、分級処理は、異なる粒度構成を持つシリカ粉末の適切量の混合または分級によって行うことができる。工業的には、篩や精密風力分級機等の分級機による分級が望ましく、分級操作は乾式法が好ましい。乾式法で製造した原料シリカ粉末を乾式分級することにより、湿式法で製造された原料シリカ粉末および/または湿式分級を使用した場合と比べて、シリカ粉末の凝集を抑制でき、ハンドリング性等を向上させることが可能となる。
なお、得られたシリカ粉末は、防湿袋に保管することが望ましい。
加熱処理は、500~1100℃の温度で、かつ、加熱温度(℃)×加熱時間(h)を1000~26400(℃・h)とする所定時間(例えば、約1~52時間)、好ましくは、1800~17600(℃・h)とする所定時間(例えば、約2~35時間)、熱風あるいは電気炉にて処理する。
加熱温度が500~1100℃であれば、加熱前後にて比表面積および平均粒子径は変化しないことから、分級する工程は加熱前に実施し、所望の比表面積および平均粒子径に調整の後、加熱処理をすることが望ましい。
加熱処理後、電気炉内にて自然放冷後、110℃~300℃の状態でシリカ粉末を回収し、さらに湿度40%RH以下の環境下にて25℃にまで冷却し、15~25℃にて保管し、防湿アルミ袋にて回収して保管してもよい。
本実施形態のシリカ粉末を樹脂組成物に配合したものを、樹脂材料として好適に使用できる。
樹脂組成物は、本実施形態のシリカ粉末の他に、樹脂や公知の樹脂添加剤などを含む。
なお、本明細書中、「~」は、特に明示しない限り、上限値と下限値を含むことを表す。
他のフィラーの平均粒子径は5~100μm程度のものが使用され、その粒度構成及び形状については特に制約はない。
以下、参考形態の例を付記する。
1. 下記の手順に従って測定される樹脂シートサンプルの40GHz時の誘電正接が2.0×10 -3 以下であるシリカ粉末であって、
カールフィッシャー法により測定される、200℃になるまでに発生した水分量が500ppm以下、
窒素ガス吸着によるBET1点法により測定される比表面積が0.2m 2 /g以上5.4m 2 /g以下、および、
湿式でのレーザー回折散乱法で測定される体積頻度粒度分布における小粒子側からの累積体積が90%となる点の粒子径をD 90 としたとき、D 90 が3.0μm以上75μm以下である、
シリカ粉末。
(手順)
当該シリカ粉末を充填量が40体積%となるようにポリエチレン粉末と混合し、得られた混合粉末を用いて前記樹脂シートサンプルを成形する。得られた前記樹脂シートサンプルを用いて、共振法により、40GHz時の誘電正接を測定する。
2. 1.に記載のシリカ粉末であって、
湿式でのレーザー回折散乱法で測定される粒子径頻度分布における最頻径が2.5μm以上40μm以下である、シリカ粉末。
3. 1.又は2.に記載のシリカ粉末であって、
湿式でのレーザー回折散乱法で測定される粒子径頻度分布における最大ピークの頻度が10%以下である、シリカ粉末。
4. 1.又は2.に記載のシリカ粉末であって、
湿式でのレーザー回折散乱法で測定される粒子径頻度分布における最頻径の値をDm(μm)、前記比表面積の値をS(m 2 /g)としたとき、Dm/Sが0.6以上である、
5. 1.又は2.に記載のシリカ粉末であって、
湿式でのレーザー回折散乱法で測定される粒子径頻度分布における15.7μm以上の粒子径の粒子の頻度が50%以下である、シリカ粉末。
6. 1.又は2.に記載のシリカ粉末であって、
湿式でのレーザー回折散乱法で測定される粒子径頻度分布における0.5μm未満の粒子径の粒子の頻度が15%以下である、シリカ粉末。
7. 1.又は2.に記載のシリカ粉末であって、
湿式でのレーザー回折散乱法で測定される体積頻度粒度分布における小粒子側からの累積体積が10%、50%、100%となるそれぞれの点の粒子径をD 10 、D 50 、D 90 としたとき、(D 90 -D 10 )/D 50 が10以下である、シリカ粉末。
8. 1.又は2.に記載のシリカ粉末であって、
平均球形度が0.85以上である、シリカ粉末。
9. 1.又は2.に記載のシリカ粉末であって、
非晶質率が95.0%以上である、シリカ粉末。
10. 1.又は2.に記載のシリカ粉末であって、
ウラン元素およびトリウム元素の含有率が20ppb以下である、シリカ粉末。
<シリカ粉末の調製>
[実施例1~5]
シリカ粉末は、以下の手順で調製した。
原料には、乾式法で製造された市販のシリカ粉末Aを用いた。原料に使用したシリカ粉末Aには、2.5~40.0μmの範囲に、最頻径のピークが1個であった。
まず、原料のシリカ粉末に対して、大きな粒子径を除外するため、精密風力分級機を用いて乾式分級を実施した。粒子径頻度分布における15.7μm以上の粒子径の粒子の頻度が表1の値を示すものが得られた。
次に、乾式分級後のシリカ粉末に対して、D50が2μm以下のシリカ超微粉を所定量配合した。粒子径頻度分布における0.5μm未満の粒子径の粒子の頻度が表1の値を示すものが得られた。
実施例1,3では、超微粉配合前に、乾式分級後のシリカ粉末に対して加熱処理を実施した。
加熱処理において、シリカ粉末をアルミナ坩堝に充填し、大気下、電気炉内温度1000℃にて4時間加熱処理した。加熱処理後、炉内で200℃まで冷却し、デシケーター内(23℃、10%RH)で室温まで冷却し、加熱処理されたシリカ粉末を回収した。
実施例1~5では、超微粉配合前に、D50が2μm以下のシリカ超微粉に対して加熱処理を実施した。
加熱処理において、シリカ粉末をアルミナ坩堝に充填し、大気下、電気炉内温度1000℃にて4時間加熱処理した。加熱処理後、炉内で200℃まで冷却し、デシケーター内(23℃、10%RH)で室温まで冷却し、加熱処理されたシリカ超微粉を回収した。
乾式法で製造された市販品のシリカ粉末Bを使用し、上記の(乾式分級)および上記(後処理1:加熱処理)を実施して、シリカ粉末を得た。
シリカ粉末Bには、2.5~40.0μmの範囲に最頻径のピークがなく、40.0μm越えた範囲に最頻径のピークが1個であった。
原料には、乾式法で製造された市販のシリカ粉末Cを使用し、上記の(乾式分級)のみを実施して、シリカ粉末を得た。
原料に使用したシリカ粉末Cは、2.5~40.0μmの範囲に最頻径のピークがなく、2.5μm未満の範囲に最頻径のピークが1個であった。
原料には、乾式法で製造された市販のシリカ粉末Dを使用し、上記の(乾式分級)および上記(後処理1:加熱処理)のみを実施して、シリカ粉末を得た。
原料に使用したシリカ粉末Dは、2.5~40.0μmの範囲に最頻径のピークがなく、2.5μm未満の範囲に最頻径のピークが1個であった。
原料には、乾式法で製造された市販のシリカ粉末Eを使用し、上記の(乾式分級)、上記(後処理1:加熱処理)、および上記(超微粉配合)のみを実施して、上記シリカ粉末を得た。
原料に使用した原料に使用したシリカ粉末Eには、2.5~40.0μmの範囲に、最頻径のピークが1個であった。
原料には、乾式法で製造された市販のシリカ粉末Fを使用し、上記(後処理2:加熱処理)を実施せず、上記の(乾式分級)および上記(後処理1:加熱処理)のみを実施して、シリカ粉末を得た。
原料に使用した原料に使用したシリカ粉末Fには、2.5~40.0μmの範囲に、最頻径のピークが1個であった。
シリカ粉末を充填量が40体積%となるようにポリエチレン粉末(住友精化社製、フローセンUF-20S)とを、加速度60g、処理時間2分の条件下、振動式ミキサー(Resodyn社製)を用いて混合した。
得られた混合粉末を所定体積分(厚みが約0.3mmになるように)計量し、直径3cmの金枠内に入れ、熱プレス機(井元製作所社製「IMC-1674-A型」)にて、140℃、10MPa、15分の成形条件にて成形して、1.5cm角、厚0.3mmの樹脂シートサンプルを成形した。なお、樹脂シートサンプルの形状やサイズは、測定器に搭載できれば評価結果に影響しない。
得られた樹脂シートサンプルを用いて、40GHz空洞共振器(サムテック社製)をベクトルネットワークアナライザ(85107、キーサイトテクノロジー社製)に接続し、共振器に設けられた直径10mmの穴をふさぐようセットし、共振周波数(f0)、無負荷Q値(Qu)を測定した。
測定ごとにサンプルを回転させ、同様に測定を5回繰り返し、得られたf0、Quの平均をとって測定値とした。f0より誘電率、Quより誘電正接(tanδc)を解析ソフト(サムテック社製ソフトウェア)にて算出した。測定温度は20℃、湿度は60%RHであった。
得られたtanδcを、樹脂シートサンプルの誘電正接とした。
シリカ粉末の比表面積を、窒素ガス吸着によるBET1点法により測定した。
具体的には、比表面積測定装置(Anton Paar社製、装置名:NOVA 800 BET)を用いて、窒素ガスを真空ポンプで輸送し、試料0.1~5.0gを300℃、30分間の条件で乾燥脱気してから測定を行った。
シリカ粉末の粒子径頻度分布および体積頻度粒度分布を、粒度分布測定装置(コールター社製、LS13 320)を用いて、湿式でのレーザー回折散乱法により体積頻度粒度分布を求めた。溶媒には水を用い、前処理として、120秒以上、ホモジナイザーを用いて500Wの出力をかけて分散処理して測定した。また、PIDS(Polarization Intensity Differential Scattering)濃度を45~55%になるように調製して測定した。なお、水の屈折率には1.33を用い、粉末の屈折率については粉末の材質の屈折率を考慮する。たとえば、非晶質シリカについては屈折率を1.50として測定した。
得られた粒子径頻度分布に基づいて、「最頻径」、「最大ピークの頻度」「0.5μm未満の粒子径の頻度」および「15.7μm以上の粒子径の頻度」を算出した。
得られた体積頻度粒度分布に基づいて、小粒子径側からの累積値がX%となる粒子径(DX)を算出した。
シリカ粉末の平均球形度を、実体顕微鏡(たとえば、ニコン社製モデル「SMZ-10型」)、走査型電子顕微鏡等にて撮影した粒子像を画像解析装置(たとえば、日本アビオニクス社製など)に取り込み、次のようにして測定した。すなわち、写真から粒子の投影面積(A)と周囲長(PM)を測定する。周囲長(PM)に対応する真円の面積を(B)とすると、その粒子の真円度はA/Bとして表示できる。そこで、試料粒子の周囲長(PM)と同一の周囲長を持つ真円を想定すると、PM=2πr、B=πr2であるから、B=π×(PM/2π)2となり、個々の粒子の球形度は、球形度=A/B=A×4π/(PM)2として算出することができる。このようにして得られた任意の粒子200個の真円度を求めその平均値を平均球形度とした。
シリカ粉末中の水分量を、カールフィッシャー法により測定した。
具体的には、微量水分測定装置(三菱化学社製、モデルCA-05)を用い、粉末を水分気化機構中の石英管にセットし、電気ヒーターで室温から900℃まで加熱しながら、脱水処理されたアルゴンガスをキャリアガスとして供給し、粉末表面から揮発した水蒸気を水分測定機構に導き、水分量を測定した。
電気ヒーターの加熱温度が200℃となるまでに発生した水分を物理吸着水とみなし、200℃を超え550℃になるまでに発生した水分を水素結合OH基由来する水とみなし、550℃を超え900℃になるまでに発生した水分を孤立OH基の脱水縮合による水とした。
シリカ粉末の非晶質率は、粉末X線回折装置(RIGAKU社製商品名「モデルMiniFlex」)を用い、CuKα線の2θが26°~27.5°の範囲においてX線回折分析を行い、特定回折ピークの強度比から測定した。
具体的には、結晶質シリカ標準試料のX線強度に対する試料(得られたシリカ粉末)のX線強度の比から、結晶質シリカ混在比(試料のX線回折強度/結晶質シリカのX線回折強度)を算出し、式:非晶質率(%)=(1-結晶質シリカ混在比)×100から非晶質率(%)を求めた。
シリカ粉末について、誘導結合プラズマ質量分析装置(ICP-MS)を用いてウラン元素およびトリウム元素の含有率(ppb)を測定した。
上記で得られたシリカ粉末85.0質量%、エポキシ樹脂(日本化薬社製、NC-3000P)8.04質量%、フェノール樹脂(明和化成社製、MEH-7851SS)6.08質量%、シランカップリング剤(信越化学社製、KBM-573)0.35質量%、硬化促進剤(トリフェニルホスフィン、TPP)0.26質量%、エステルワックス(クラリアントケミカルズ社製、Lico-WAX E)0.27質量%を混合して、均一化した後、80℃に加熱した2軸ロールで加熱・混練して、押出し、冷却固化後、粉砕機で所定の粒度に粉砕して、常温で固体状の粉末状のエポキシ樹脂組成物(測定サンプル)を得た。
得られた測定サンプルを用い、次の条件でトランスファー成形したときのスパイラルフロー(cm)を測定した。結果を表1に示す。
(条件)
・金型サイズ:φ3mmのスパイラル形状
・金型温度:175℃
・注入圧力:65kgf/cm2
・成形時間:90秒
得られたスパイラルフローが、40cm以上のとき流動性が優、40cm未満のとき流動性が不良と判断した。
上記で得られた測定サンプルを用い、次の条件でトランスファー成形したときの狭隙充填長(cm)を測定した。結果を表1に示す。
(条件)
・金型サイズ:5mm×60mm×0.03mm(幅×長さ×厚み)
・金型温度:175℃
・注入圧力:65kgf/cm2
・成形時間:90秒
得られた狭隙充填長が、20cm以上のとき狭ギャップ時充填性が優、20cm未満のとき狭ギャップ時充填性が不良と判断した。
Claims (9)
- 下記の手順に従って測定される樹脂シートサンプルの40GHz時の誘電正接が2.0×10-3以下であるシリカ粉末であって、
湿式でのレーザー回折散乱法で測定される粒子径頻度分布における最大ピークの頻度が10%以下、
カールフィッシャー法により測定される、200℃になるまでに発生した水分量が500ppm以下、
窒素ガス吸着によるBET1点法により測定される比表面積が0.2m2/g以上5.4m2/g以下、および、
湿式でのレーザー回折散乱法で測定される体積頻度粒度分布における小粒子側からの累積体積が90%となる点の粒子径をD90としたとき、D90が3.0μm以上75μm以下である、
シリカ粉末。
(手順)
当該シリカ粉末を充填量が40体積%となるようにポリエチレン粉末と混合し、得られた混合粉末を用いて前記樹脂シートサンプルを成形する。得られた前記樹脂シートサンプルを用いて、共振法により、40GHz時の誘電正接を測定する。 - 請求項1に記載のシリカ粉末であって、
湿式でのレーザー回折散乱法で測定される粒子径頻度分布における最頻径が2.5μm以上40μm以下である、シリカ粉末。 - 請求項1又は2に記載のシリカ粉末であって、
湿式でのレーザー回折散乱法で測定される粒子径頻度分布における最頻径の値をDm(μm)、前記比表面積の値をS(m2/g)としたとき、Dm/Sが0.6以上である、 - 請求項1又は2に記載のシリカ粉末であって、
湿式でのレーザー回折散乱法で測定される粒子径頻度分布における15.7μm以上の粒子径の粒子の頻度が50%以下である、シリカ粉末。 - 請求項1又は2に記載のシリカ粉末であって、
湿式でのレーザー回折散乱法で測定される粒子径頻度分布における0.5μm未満の粒子径の粒子の頻度が15%以下である、シリカ粉末。 - 請求項1又は2に記載のシリカ粉末であって、
湿式でのレーザー回折散乱法で測定される体積頻度粒度分布における小粒子側からの累積体積が10%、50%、100%となるそれぞれの点の粒子径をD10、D50、D90としたとき、(D90-D10)/D50が10以下である、シリカ粉末。 - 請求項1又は2に記載のシリカ粉末であって、
平均球形度が0.85以上である、シリカ粉末。 - 請求項1又は2に記載のシリカ粉末であって、
非晶質率が95.0%以上である、シリカ粉末。 - 請求項1又は2に記載のシリカ粉末であって、
ウラン元素およびトリウム元素の含有率が20ppb以下である、シリカ粉末。
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