JP7405938B2 - 埋め込みインダクタンス構造及びその製造方法 - Google Patents
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Description
仮積載板を用意するステップ(a)と、
前記仮積載板の少なくとも片側に、第1の導電コイル層、及び前記第1の導電コイル層上に位置する第1の導電性銅ピラー層を作るステップであって、前記第1の導電コイル層は、第1の導電回路、及び少なくとも1つの第1の導電コイルを含み、前記第1の導電性銅ピラー層は、前記第1の導電回路及び前記第1の導電コイルとそれぞれ導通するステップ(b)と、
前記第1の導電コイル層及び前記第1の導電性銅ピラー層に第1の絶縁層を形成し、前記第1の絶縁層を薄くして、前記第1の導電性銅ピラー層の端部を露出させるステップ(c)と、
ステップ(b)及びステップ(c)を繰り返して、N層の導電コイル層、N-1層の導電性銅ピラー層、及びN層の絶縁層を形成するステップであって、N≧2であるステップ(d)と、
前記仮積載板を除去するステップ(e)と、
N層の導電コイルに、インダクタンスキャビティ、及び前記インダクタンスキャビティの内壁に露出したインダクタンスコイルを形成するステップ(f)と、
前記インダクタンスコイルと直接接触する磁性体を前記インダクタンスキャビティ内に充填してインダクタンスを形成し、前記磁性体を薄くして、前記磁性体の端部を前記インダクタンスコイルと面一にさせるステップ(g)と、
前記N層絶縁層の上面と下面に第Nの導電性銅ピラー層と第N+1の導電性銅ピラー層をそれぞれ作るステップであって、前記第Nの導電性銅ピラー層は、前記インダクタンスコイル及び前記第Nの導電回路とそれぞれ連通し、前記第N+1の導電性銅ピラー層は、前記インダクタンスコイル及び前記第1の導電回路とそれぞれ連通するステップ(h)と、
前記第Nの導電性銅ピラー層及び前記第N+1の導電性銅ピラー層に第N+1の絶縁層及び第N+2の絶縁層をそれぞれ形成し、前記第N+1の絶縁層及び前記第N+2の絶縁層を薄くして、前記第Nの導電性銅ピラー層及び前記第N+1の導電性銅ピラー層の端部をそれぞれ露出させるステップ(i)と、
前記第N+1の絶縁層及び前記第N+2の絶縁層に第N+1の導電回路及び第N+2の導電回路をそれぞれ作るステップであって、前記第N+1の導電回路は、前記第Nの導電性銅ピラー層により前記第Nの導電回路と導通接続され、前記第N+2の導電回路は、前記第N+1の導電性銅ピラー層により前記第1の導電回路と導通接続されるステップ(j)と、を含む。
第1の金属シード層を前記仮積載板の少なくとも片側に形成するステップ(b1)と、
第1のフォトレジスト層を前記第1の金属シード層に施し、前記第1のフォトレジスト層を露光及び現像して、第1の特徴パターンを形成するステップ(b2)と、
前記第1の特徴パターンに銅めっきして、第1の導電コイル層を形成するステップであって、前記第1の導電コイル層は、第1の導電回路及び少なくとも1つの第1の導電コイルを含むステップ(b3)と、
前記第1のフォトレジスト層を除去し、露出した第1の金属シード層をエッチングするステップ(b4)と、
第2のフォトレジスト層を前記第1の導電コイル層に施し、前記第2のフォトレジスト層を露光及び現像して、第2の特徴パターンを形成するステップ(b5)と、
前記第2の特徴パターンに銅めっきして第1の導電性銅ピラー層を形成するステップであって、前記第1の導電性銅ピラー層は、前記第1の導電回路及び前記第1の導電コイルとそれぞれ導通するステップ(b6)と、
前記第2のフォトレジスト層を除去するステップ(b7)と、を含む。
ステップ(j)に続いて、前記第N+1の導電回路及び前記第N+2の導電回路に、第1のソルダーレジスト層及び第2のソルダーレジスト層をそれぞれ形成し、前記第1のソルダーレジスト層及び第2のソルダーレジスト層内に、第1の表面処理層及び第2の表面処理層をそれぞれ形成するステップ(k)をさらに含む。
第1の金属シード層を仮積載板1011に形成するステップ(b1)と、
第1のフォトレジスト層を第1の金属シード層に施し、第1のフォトレジスト層を露光及び現像して、第1の特徴パターンを形成するステップ(b2)と、
第1の特徴パターンに銅めっきして、第1の導電コイル層を形成するステップであって、第1の導電コイル層は、第1の導電回路101a及び少なくとも1つの第1の導電コイル101bを含むステップ(b3)と、
第1のフォトレジスト層を除去し、露出した第1の金属シード層をエッチングするステップ(b4)と、
第2のフォトレジスト層を第1の導電コイル層に施し、第2のフォトレジスト層を露光及び現像して、第2の特徴パターンを形成するステップ(b5)と、
第2の特徴パターンに銅めっきして第1の導電性銅ピラー層102を形成するステップであって、第1の導電性銅ピラー層102は、第1の導電回路101a及び第1の導電コイル101bとそれぞれ導通するステップ(b6)と、
第2のフォトレジスト層を除去するステップ(b7)と、を含む。
磁性材料を処理するサブステップ(g1)と、
磁性材料を充填するサブステップ(g2)と、
磁性材料を硬化させるサブステップ(g3)と、を含むことができる。
第2の金属シード層と第3の金属シード層を前記5層の絶縁層の上面と下面にそれぞれ形成するサブステップと、
第2のフォトレジスト層及び第3のフォトレジスト層を第2の金属シード層及び第3の金属シード層にそれぞれ施し、第2のフォトレジスト層及び第3のフォトレジスト層を露光及び現像して、第2の特徴パターン及び第3の特徴パターンをそれぞれ形成するサブステップと、
第2の特徴パターンに銅を電気めっきして第5の導電性銅ピラー層106aを形成し、第3の特徴パターンに銅を電気めっきして第6の導電性銅ピラー層106bを形成するサブステップと、
露出した第2の金属シード層及び第3の金属シード層をそれぞれエッチングするサブステップと、
第2のフォトレジスト層及び第3のフォトレジスト層をそれぞれ除去するサブステップと、を含むことができる。
第4の金属シード層と第5の金属シード層を絶縁層107の上面と下面にそれぞれ形成するサブステップと、
第4のフォトレジスト層及び第5のフォトレジスト層を第4の金属シード層及び第5の金属シード層にそれぞれ施し、第4のフォトレジスト層及び第5のフォトレジスト層を露光及び現像して、第4の特徴パターン及び第5の特徴パターンをそれぞれ形成するサブステップと、
第4の特徴パターンに銅を電気めっきして第6の導電回路108aを形成し、第5の特徴パターンに銅を電気めっきして第7の導電回路108bを形成するサブステップと、
第2のフォトレジスト層及び第3のフォトレジスト層をそれぞれ除去するサブステップと、
露出した第3の金属シード層及び第4の金属シード層をそれぞれエッチングするサブステップと、を含むことができる。
1011:仮積載板
101a:第1の導電回路
101b:第1の導電コイル
101c:第1の絶縁層
102:第1の導電性銅ピラー層
103:インダクタンスキャビティ
104:インダクタンスコイル
105:磁性体
106a:第5の導電性銅ピラー層
106b:第6の導電性銅ピラー層
107:絶縁層
108a:第6の導電回路
108b:第7の導電回路
109a:第1のソルダーレジスト層
109b:第2のソルダーレジスト層
110a:第1の表面処理層
110b:第2の表面処理層
Claims (20)
- 仮積載板を用意するステップ(a)と、
前記仮積載板の少なくとも片側に、第1の導電コイル層、及び前記第1の導電コイル層上に位置する第1の導電性銅ピラー層を作るステップであって、前記第1の導電コイル層は、第1の導電回路、及び少なくとも1つの第1の導電コイルを含み、前記第1の導電性銅ピラー層は、前記第1の導電回路及び前記第1の導電コイルとそれぞれ導通するステップ(b)と、
前記第1の導電コイル層及び前記第1の導電性銅ピラー層に第1の絶縁層を形成し、前記第1の絶縁層を薄くして、前記第1の導電性銅ピラー層の端部を露出させるステップ(c)と、
ステップ(b)及びステップ(c)を繰り返して、N層の導電コイル層、N-1層の導電性銅ピラー層、及びN層の絶縁層を形成するステップであって、N≧2であるステップ(d)と、
前記仮積載板を除去するステップ(e)と、
N層の導電コイルに、インダクタンスキャビティ、及び前記インダクタンスキャビティの内壁に露出したインダクタンスコイルを形成するステップ(f)と、
前記インダクタンスコイルと直接接触する磁性体を前記インダクタンスキャビティ内に充填してインダクタンスを形成し、前記磁性体を薄くして、前記磁性体の端部を前記インダクタンスコイルと面一にさせるステップ(g)と、
前記N層絶縁層の上面と下面に第Nの導電性銅ピラー層と第N+1の導電性銅ピラー層をそれぞれ作るステップであって、前記第Nの導電性銅ピラー層は、前記インダクタンスコイル及び前記第Nの導電回路とそれぞれ連通し、前記第N+1の導電性銅ピラー層は、前記インダクタンスコイル及び前記第1の導電回路とそれぞれ連通するステップ(h)と、
前記第Nの導電性銅ピラー層及び前記第N+1の導電性銅ピラー層に第N+1の絶縁層及び第N+2の絶縁層をそれぞれ形成し、前記第N+1の絶縁層及び前記第N+2の絶縁層を薄くして、前記第Nの導電性銅ピラー層及び前記第N+1の導電性銅ピラー層の端部をそれぞれ露出させるステップ(i)と、
前記第N+1の絶縁層及び前記第N+2の絶縁層に第N+1の導電回路及び第N+2の導電回路をそれぞれ作るステップであって、前記第N+1の導電回路は、前記第Nの導電性銅ピラー層により前記第Nの導電回路と導通接続され、前記第N+2の導電回路は、前記第N+1の導電性銅ピラー層により前記第1の導電回路と導通接続されるステップ(j)と、を含む、埋め込みインダクタンス構造の製造方法。 - 前記インダクタンスコイルを形成した後、前記N層の導電コイルは、それぞれ、切り欠きを有する環状であり、前記N層の導電コイルは、それぞれ、切り欠きにおいて断線される、請求項1に記載の埋め込みインダクタンス構造の製造方法。
- ステップ(c)において、各導電コイルの上側と下側に位置する導電性銅ピラーは、縦方向における位置が異なる、請求項1に記載の埋め込みインダクタンス構造の製造方法。
- 前記磁性体は、絶縁磁性体を含む、請求項1に記載の埋め込みインダクタンス構造の製造方法。
- 前記仮積載板は、表面に分離層が施された金属板又はガラス基板、犠牲銅箔、又は表面銅張板を含む、請求項1に記載の埋め込みインダクタンス構造の製造方法。
- ステップ(b)は、
第1の金属シード層を前記仮積載板の少なくとも片側に形成するステップ(b1)と、
第1のフォトレジスト層を前記第1の金属シード層に施し、前記第1のフォトレジスト層を露光及び現像して、第1の特徴パターンを形成するステップ(b2)と、
前記第1の特徴パターンに銅めっきして、第1の導電コイル層を形成するステップであって、前記第1の導電コイル層は、第1の導電回路及び少なくとも1つの第1の導電コイルを含むステップ(b3)と、
前記第1のフォトレジスト層を除去し、露出した第1の金属シード層をエッチングするステップ(b4)と、
第2のフォトレジスト層を前記第1の導電コイル層に施し、前記第2のフォトレジスト層を露光及び現像して、第2の特徴パターンを形成するステップ(b5)と、
前記第2の特徴パターンに銅めっきして第1の導電性銅ピラー層を形成するステップであって、前記第1の導電性銅ピラー層は、前記第1の導電回路及び前記第1の導電コイルとそれぞれ導通するステップ(b6)と、
前記第2のフォトレジスト層を除去するステップ(b7)と、を含む、請求項1に記載の埋め込みインダクタンス構造の製造方法。 - N層の導電コイルの断面は、完全な円形、楕円形、又は多角形である、請求項1に記載の埋め込みインダクタンス構造の製造方法。
- N層の導電コイルの断面は、縁部に切り欠きを有する円形、楕円形、又は多角形である、請求項1に記載の埋め込みインダクタンス構造の製造方法。
- N層の導電コイルの断面は、外側縁部に切り欠きを有する環形である、請求項1に記載の埋め込みインダクタンス構造の製造方法。
- 前記絶縁層は、ポリイミド、エポキシ樹脂、ビスマレイミド/トリアジン樹脂、ポリフェニレンエーテル、ポリアクリレート、プリプレグ、フィルム状有機樹脂、又はそれらの組み合わせを含む、請求項1に記載の埋め込みインダクタンス構造の製造方法。
- ステップ(c)は、圧接、シルク印刷、又は感光の方式で、第1の絶縁層を前記第1の導電コイル層及び前記第1の導電性銅ピラー層に形成することを含む、請求項1に記載の埋め込みインダクタンス構造の製造方法。
- ステップ(c)は、基板研磨又はプラズマエッチングの方式で、前記第1の絶縁層を薄くして、前記第1の導電性銅ピラー層の端部を露出させることを含む、請求項1に記載の埋め込みインダクタンス構造の製造方法。
- ステップ(f)は、ルーター加工又はレーザー切断の方式で、N層の導電コイルにインダクタンスキャビティ及び前記インダクタンスキャビティの内壁に露出したインダクタンスコイルを形成することを含む、請求項1に記載の埋め込みインダクタンス構造の製造方法。
- ステップ(g)は、シルク印刷又は接着剤塗布の方式で、前記インダクタンスコイルと直接接触する磁性体を前記インダクタンスキャビティ内に充填することを含む、請求項1に記載の埋め込みインダクタンス構造の製造方法。
- ステップ(j)に続いて、前記第N+1の導電回路及び前記第N+2の導電回路に、第1のソルダーレジスト層及び第2のソルダーレジスト層をそれぞれ形成し、前記第1のソルダーレジスト層及び第2のソルダーレジスト層内に、第1の表面処理層及び第2の表面処理層をそれぞれ形成するステップ(k)をさらに含む、請求項1に記載の埋め込みインダクタンス構造の製造方法。
- ステップ(k)は、シルク印刷、プリント、又は感光の方式で、前記第N+1の導電回路及び前記第N+2の導電回路に第1のソルダーレジスト層及び第2のソルダーレジスト層をそれぞれ形成することを含む、請求項15に記載の埋め込みインダクタンス構造の製造方法。
- ステップ(k)は、抗酸化、無電解ニッケル/無電解パラジウム/置換金めっき、スズめっき、又はイマージョンシルバーの方式で、第1の表面処理層及び第2の表面処理層を前記第1のソルダーレジスト層及び第2のソルダーレジスト層内にそれぞれ形成することを含む、請求項15に記載の埋め込みインダクタンス構造の製造方法。
- 請求項1~17のいずれか1項に記載の埋め込みインダクタンス構造の製造方法で作られる、埋め込みインダクタンス構造。
- 絶縁層、前記絶縁層内に位置するインダクタンス、並びに前記絶縁層内及び前記絶縁層の上面と下面に位置する多層導電回路を含み、前記絶縁層内に位置する多層導電性銅ピラー層をさらに含み、前記インダクタンス及び前記多層導電回路は、前記多層導電性銅ピラー層により導通接続され、前記インダクタンスは、磁性体、及び前記磁性体と直接接触するインダクタンスコイルを含み、前記インダクタンスコイルは、多層導電コイル、及び隣接する導電コイルの間に位置する導電性銅ピラーから構成され、前記多層導電コイルは、それぞれ、切り欠きを有する環状であり、切り欠きにおいて断線され、各導電コイルの上側と下側に位置する導電性銅ピラーは、縦方向における位置が異なる、請求項18に記載の埋め込みインダクタンス構造。
- 前記絶縁層の上面と下面にそれぞれ位置する第1のソルダーレジスト層と第2のソルダーレジスト層、及び前記第1のソルダーレジスト層と前記第2のソルダーレジスト層内にそれぞれ位置する第1の表面処理層と第2の表面処理層をさらに含む、請求項19に記載の埋め込みインダクタンス構造。
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Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005038893A (ja) | 2003-07-15 | 2005-02-10 | Tdk Corp | 積層インダクタ及びその製造方法 |
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JP2015156432A (ja) | 2014-02-20 | 2015-08-27 | 株式会社村田製作所 | インダクタの製造方法 |
US20170221819A1 (en) | 2016-01-29 | 2017-08-03 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Wireless Charging Package with Chip Integrated in Coil Center |
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KR20160084712A (ko) * | 2015-01-06 | 2016-07-14 | 삼성전기주식회사 | 코일 내장형 기판 및 이의 제조방법 |
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Patent Citations (8)
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JP2007281025A (ja) | 2006-04-03 | 2007-10-25 | Sumida Corporation | 積層チップコイル |
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US20170221819A1 (en) | 2016-01-29 | 2017-08-03 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Wireless Charging Package with Chip Integrated in Coil Center |
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