JP7398445B2 - 内部をアクリル系誘電体層で被覆したフィルムコンデンサー - Google Patents

内部をアクリル系誘電体層で被覆したフィルムコンデンサー Download PDF

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Description

関連出願
本出願は、2018年10月3日を出願日とする米国仮出願第62/740,786号の優先権を主張する出願であり、この仮出願の内容を援用する出願である。
本発明は電子機器に使用するコンデンサーに、より具体的にはフィルムコンデンサーに関する。
本発明は誘電体フィルムおよびフィルムコンデンサーに関する。このフィルムコンデンサーの場合、目的の誘電強度に応じて薄く延伸する誘電体フィルムを備えているのが好ましい。誘電体フィルムには電極を設けるのが好ましい。フィルムコンデンサーの電極としては、誘電体フィルムの表面に直接成膜する金属化アルミまたは亜鉛を使用するのが好ましく、あるいは別体として金属箔を使用するのが好ましい。
一般的に、誘電体フィルムの2層を円筒形に巻き付けるのが好ましく、通常はこれを平坦化してプリント回路基板への取り付け必要条件を緩和するか、あるいはこれら単層を複数積層化し、コンデンサー本体を形成する。フィルムコンデンサーは電子機器に使用する最も普遍的なコンデンサー型式であり、多くのAC、DCマイクロエレクトロニクス回路やエレクトロニクス回路に使用されている。
フィルムコンデンサーの場合、単体のコンデンサー層を隣接する形でそれ自体に巻き付け、巻き線を形成するのが好ましい。このフィルムコンデンサーは誘電体フィルム、この誘電体フィルムに形成した第1金属化層、この第1金属化層に形成した誘電体被覆、およびこの誘電体被覆に形成した第2金属化層を備えているのが好ましい。巻き線の外側エッジに金属接触層を形成するのが好ましい。金属接触層の外側エッジに端子を形成するのが好ましい。絶縁材を使用して巻き線、金属接触層、および端子の一部をカプセル化するのが好ましい。
フィルムコンデンサーの形成方法では、フィルムコンデンサー層を形成するのが好ましい。このフィルムコンデンサー層の場合、誘電体フィルムに形成した第1金属化層、この第1金属化層に形成した誘電体被覆、およびこの誘電体被覆に形成した第2金属化層を備えているのが好ましい。巻き線については、フィルムコンデンサー層をそれ自体に隣接する形として巻き付けて形成するのが好ましい。この巻き線の外側エッジに金属接触層を形成するのが好ましく、また金属接触層の外側エッジに端子を形成するのが好ましい。以上の巻き線、金属接触層、および端子の一部を絶縁材で封入するのが好ましい。
添付図面を参照して以下説明を行うが、この説明から本発明をより詳しく理解できるはずである。なお、添付図面中の同じ参照符号は同じ要素を示す。
図1Aは、従来フィルムコンデンサーのキャパシタンス層を示す横断面図である。 図1Bは、誘電体フィルムおよび電極を巻き線として巻き取る従来の方法を示す図である。 図1Cは、従来のフィルムコンデンサーに組み込んだ巻き線を示す横断面図である。 図2は、第1金属化層を誘電体フィルムに形成する態様を示す横断面図である。 図3は、第1金属化層に誘電体被覆を形成する態様を示す横断面図である。 図4は、誘電体被覆に第2金属化層を形成し、フィルムコンデンサー層を形成する態様を示す横断面図である。 図5は、巻き線の一部内にあるフィルムコンデンサー層を示す横断面図である。 図6は、ウェーブカットパターンを示すフィルムコンデンサー層の斜視図である。 図7は、巻き線から形成したフィルムコンデンサーを示す斜視図である。 図8は、誘電体フィルムに第1金属化層を形成する態様を示す図である。 図9は、第1金属化層に誘電体被覆を形成する態様を示す横断面図である。 は、誘電体被覆に第2金属化層を形成し、フィルムコンデンサー層を形成する態様を示す横断面図である。 図11は、巻き線の一部内にあるフィルムコンデンサー層を示す横断面図である。 図12は、ウェーブカットパターンを示すフィルムコンデンサー層の斜視図である。 図13は、巻き線から形成したフィルムコンデンサーを示す横断面図である。 図14は、第1実施例の体積当たりの静電容量(C/V)を示すチャートである。 図15は、第1実施例の誘電被覆の厚さ当たりの破壊電圧を示すチャートである。 図16は、第2実施例の体積当たりの静電容量(C/V)を示すチャートである。 図17は、第2実施例の誘電被覆の厚さ当たりの破壊電圧を示すチャートである。 図18は、第3実施例の体積当たりの静電容量(C/V)を示すチャートである。 図19は、第3実施例の誘電被覆の厚さ当たりの破壊電圧を示すチャートである。 図20は、第4実施例の体積当たりの静電容量(C/V)を示すチャートである。 図21は、第4実施例の誘電被覆の厚さ当たりの破壊電圧を示すチャートである。
以下添付図面を参照して、異なるフィルムコンデンサーの態様の実施例を説明する。これら実施例は相互に排除するものではなく、ある実施例の特徴は他の一つかそれ以上の実施例における特徴と組み合わせることができ、付加的な態様を実施できる。従って、添付図面に示す実施例は例示のみを目的とし、本発明をどのような意味においても制限するものではない。明細書全体を通して同じ参照符号は同じ要素を指す。
各種の要素を記述するため第1、第2などの用語を使用するが、これら用語によって要素を限定すべきではない。これら用語の意図は一つの要素を他の要素から区別することにある。例えば、第1要素を第2要素と呼んでもよく、同様に第2要素を第1要素と呼んでもよく、いずれの場合も本発明の範囲から逸脱するものではない。また、本明細書で使用する用語“および/または”は、関連してリストした要素のうちの任意のものを、およびすべての組み合わせを包含するものである。
また、層、領域または基体などの要素が別な要素の“上”に存在するか延在すると言及する場合、これは別な要素上に直接存在しているか、あるいは直接延在することを意味し、別な要素が介在してもよいことを意味する。対照的に、ある要素が別な要素の“上に直接存在”するか、あるいは“直接延在”すると言及する場合には、これは別な要素が介在していないことを意味する。また、ある要素が別な要素に“接続”あるいは“結合”していると言及する場合、これは別な要素に直接接続または結合していることを意味し、介在要素を排除するものではない。これら用語は、図面に描かれている向きに加えて要素の異なる向きを包含するものである。
相対的な用語、例えば “底部”または“下”または“上”または“上部”また“下部”または“水平”または“垂直”などは、図面に示す一つの要素、層または領域の別な要素、層または領域に対する関係を記述するために使用するものである。また、これら用語は、図面に描かれている向きに加えてデバイスの異なる向きを包含するものである。
図1Aおよび図1Bに、従来のフィルムコンデンサーアセンブリの異なる態様を示す。図1Aは従来のフィルムコンデンサーのキャパシタンス層102を示す横断面図である。上述したように、従来のフィルムコンデンサーの場合、金属電極106で被覆した2つの誘電体フィルム104から構成し、次にこれらを円筒形巻き線108の形に巻き付けるのが好ましい。この誘電体フィルム104としてはポリプロピレン(PP)、ポリエステル(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリフェニレンスルフィド(PPS)、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、ポリスチレン(PS)、およびポリカーボネート(PC)のうちの一種かそれ以上で構成したプラスチックフィルムが好ましい。誘電体フィルム104としてはポリイミド(PI)、ポリアミド(PA)、ポリフッ化ビニリデン(PVDF)、シロキサン、ポリスルホン(PEx)、および芳香族ポリエステル(FPE)の一種かそれ以上で構成した熱可塑性ポリマーが好ましく、また誘電体フィルム104としては紙も好ましい。
フィルム/箔コンデンサー(または金属箔コンデンサー)の場合、誘電体フィルム104それぞれに薄い金属箔、通常はアルミ箔を成層化し、これらを電極として使用する。このように構成すると、金属箔電極106への電気的接続が簡単になり、また大電流サージに対処できる能力が高くなる。
別な実施例では、フィルムコンデンサーを2枚の金属化誘電体フィルム104で構成するのが好ましい。薄い蒸着金属化(例えば亜鉛やアルミ)については、電極106として作用する誘電体フィルム104の片側か、あるいは両側に適用するのが好ましい。このように構成すると、電極106間の絶縁破壊や短絡が発生しても素子の破壊が必ずしも発生しないという意味で、“自己回復”作用が得られるため好ましい。この設計を適用すると、“欠陥ゼロ”コンデンサーなどの高品質製品を製造でき、かつフィルム/箔構成と比較した場合より小さい筐体(体積効率が高くなる)で(100μFかそれ以上の)より大きなキャパシタンス値をもつ巻き線型コンデンサーを製造できる。なお、金属化構成の場合サージ電流定格が小さいほうが好ましい。
図1Bに、誘電体フィルム104および電極106を巻きとり、巻き線化108する従来の方法を示す。第1ボビン110および第2ボビン112を一緒に巻き取り、円筒形に巻き線化108する。より大きなマザーロール(図示省略)から第1ボビン110および第2ボビン112をスリットし、次に巻き付けるが好ましい。キャパシタンス層102を構成する二枚の誘電体フィルム104および電極106については、相互に若干ずらすのが好ましく、巻き線108の各端部にある電極106の一つのエッジを横方向に延出させることができる。
巻き線108については、機械的圧力を印加することによって楕円形に平坦化するのが好ましい。プリント回路基板のコストは平方ミリメートル当たりで計算するため、コンデンサーの取り付け面積が小さくなると、回路の全体コストが下がることになる。
図1Cに、従来のフィルムコンデンサー100に組み付けた巻き線108を示す。巻き線108の突き出ている端部電極106については、液化接触金属(スズ、亜鉛やアルミなど)で覆って、金属接触層114を形成するのが好ましい。金属接触層114については、巻き線108の横方向の両端に圧縮空気を噴射するのが好ましい。電極106間に電圧を印加することによって巻き線108を“回復する”のが好ましく、欠陥がある場合にはこれを“焼失する”のが好ましい。シリコーンオイルなどの絶縁流体を巻き線108に含侵させ、環境影響に対するコンデンサーの保護を強化するのが好ましい。金属接触層114に端子116をはんだ付けするか、あるいは溶接するのが好ましく、また絶縁材118内に巻き線108を封入するのが好ましい。
デバイスサイズが小さくなり続けているため、より小さなフィルムコンデンサーが必要である。一般に、フィルムコンデンサーの全体サイズについては、誘電体フィルムの厚さ全体を(圧伸、延伸など)によって小さく抑えるのが好ましい。なお、薄いフィルムコンデンサーの誘電体フィルムが薄くなるに従って、漏れ電流の増加、耐電圧性の劣化や誘電体フィルムの欠陥数増加を原因とする短絡故障数の増加などの問題が発生する。望ましいキャパシタンス/静電容量(C/V)および破壊電圧をもつ、横断面積の小さいフィルムコンデンサーを製造することが望まれている。
以下に説明するように、誘電体被覆によって分離しかつ単体誘電体フィルムに形成した複数の金属化層を使用して、単体誘電体フィルム内に少なくとも一つのキャパシタンス層を形成する。この単体誘電体フィルムをそれ自体に巻き付け、巻き線化して巻き線内の隣接層間に付加的なキャパシタンス層を形成するが好ましい。
一実施例の場合、フィルムコンデンサーの最終キャパシタンスについては、巻き線内の異なる層間にある並列コンデンサー、誘電体被覆間の並列コンデンサー、および誘電体被覆上の直列コンデンサーによって実現するのが好ましい。
誘電体フィルム202上に第1金属化層204を形成する態様を示す横断面図である図2を参照して説明を続けると、電気絶縁材から誘電体フィルム202を構成するのが好ましい。誘電体フィルム202については、PP、PET、PEN、PPS、PTFE、PS、およびPCのひとつかそれ以上で構成したプラスチックフィルムであるのが好ましく、またPI、PA、PVDF、シロキサン、PEx、およびFPEの一つかそれ以上で構成した熱可塑性ポリマーであるのが好ましい。誘電体フィルム202は紙であってもよい。この誘電体フィルム202の厚さについては、ほぼ1μm未満~ほぼ20μmの範囲内にあればよい。
一実施例では、従来の成箔方法を使用して誘電体フィルム202上に第1金属化層204を形成するのが好ましい。別な実施例では、従来の金属化方法を使用して誘電体フィルム202に第1金属化層204を形成するのが好ましい。誘電体フィルム202の上面に薄い真空蒸着金属化(亜鉛やアルミなど)を行えばよい。第1金属化層204の厚さについては、ほぼ1nm未満~ほぼ数nmの範囲内にあるのが好ましい。
誘電体フィルム202の非金属化部分のフリーマージン206が残存するように、マスキング方法を利用して第1金属化層204を形成することが好ましい。これらフリーマージン206については、誘電体フィルム202のエッジの各側部に形成するのが好ましく、またオイルマスキングやバンドマスキングなどの従来のマスキング方法を使用して形成するのが好ましい。
次に、第1金属化層204に誘電体被覆302を形成する態様を示す横断面図である図3を参照して説明を続ける。誘電体被覆302については、電気絶縁材から構成するのが好ましい。誘電体被覆302については、フィルムとして使用するのが好ましい誘電体特性を示すアクリル系被覆やμ以下の被覆が好ましく、図2に示すようにフリーマージン206の上全体に延在しているのが好ましい。誘電体被覆302の幅は、誘電体フィルム202の幅と同じであるのが好ましい。この誘電体被覆302の厚さはほぼ0.1μm~数μmであればよい。
誘電体被覆302上に第2金属化層402を形成し、フィルムコンデンサー層400を形成する態様を示す横断面図である図4を参照して説明を続ける。従来の成箔方法を使用して誘電体被覆302上に第2金属化402を形成するのが好ましい。別な実施例では、従来の金属化方法を使用して誘電体被覆302に第2金属化層402を形成するのが好ましい。誘電体被覆302の上面に薄い真空蒸着金属化(亜鉛やアルミなど)を行うのが好ましい。第2金属化層402の厚さについては、ほぼ1nm未満~ほぼ数nmの範囲内にあるのが好ましい。
誘電体被覆302の非金属化部分の隙間404が残存するように、マスキング方法を使用して第2金属化層402を形成するのが好ましい。この隙間404については、オイルマスキングやバンドマスキングなどの従来のマスキング方法を使用して形成するのが好ましい。
図4に示すように、フィルムコンデンサー層400の内部に少なくとも一つのコンデンサー層402を形成するのが好ましい。第2金属化層402の第2部分と第1金属化層204との間に第1コンデンサーCを形成し、また第2金属化層402の第2部分と第1金属化層204との間に第2コンデンサーCを形成するのが好ましい。換言すると、第2金属化層402の第1部分および第2金属化層402の第2部分が2つのコンデンサーを直列状態で形成するのが好ましい。
巻き線500の一部内にあるフィルムコンデンサー層400の態様を示す横断面図である図5を参照して説明を続ける。図5に示すように、巻き線500を形成し、かつ最終的にフィルムコンデンサーを形成するために一つのみのフィルムコンデンサー層400(即ち一つのみの誘電体フィルム)があればよい。フィルムコンデンサー層400については、巻き線500内においてそれ自体に隣接しているのが好ましい。このため、製造工程を簡略できる。というのは、巻き線500を形成するためにはボビン(図1Bを参照)が一つあればよいからである。さらに、この構成では、フィルムコンデンサーの最終容積がほぼ30~50%小さくなる。
フィルムコンデンサー層400については、それ自体と巻き線500内の隣接層との間に少なくとも2つの付加的なコンデンサーを有しているのが好ましい。第1金属化層204と隣接層内の第2金属化層402の第1部分との間に第4コンデンサーCを形成するのが好ましい。また、第1金属化層204と隣接層内の第2金属化層402の第2部分との間に第5コンデンサーCを形成するのが好ましい。
図5に示すように、フィルムコンデンサー層400については、ウェーブカットを行ってから巻き付け、巻き線500を形成するのが好ましい。ウェーブカットでは、フィルムコンデンサー層400のそれぞれから部分502をカットによって除去するのが好ましく、フィルムコンデンサー層400の隣接層の交互に現れるエッジが巻き線500の外側エッジ504まで横方向に延出する。ウェーブカットを行うと、以下にさらに詳しく説明するように、フィルムコンデンサー層400の一つのエッジの第2金属化層402の一方の側部が横方向に延出し、金属接触層702に接触し、かつ隣接するフィルムコンデンサー層400の第2金属化層402の対向側部が金属接触層702に接触するため好ましい。またウェーブカットを行うと、第2金属化層402と金属接触層702との間の電気的接触が優れたものに成るため好ましい。このウェーブカットについては、フィルムコンデンサー層400をより広いマザーロールから切り出すさいに行うのが好ましい。
ウェーブカットパターンを示すフィルムコンデンサー層400のうちの2つの層の斜視図である図6を参照して説明を続ける。この図6には、フィルムコンデンサー層400をそれ自体に巻き付け、巻き線400を形成する方法を示す。
巻き線500から形成したフィルムコンデンサー700の態様を示す横断面図である図7を参照して説明を続ける。巻き線500については、機械的圧力を印加することによって楕円形に平坦化するのが好ましい。プリント回路基板のコストは平方ミリメートル当たりで計算するため、コンデンサーの取り付け面積が小さくなると、回路の全体コストが下がることになる。
第2金属化層402の突き出ている端部については、液化接触金属(スズ、亜鉛やアルミなど)で覆って、金属接触層702を形成するのが好ましい。金属接触層702については、巻き線500の横方向の両端に圧縮空気を噴射するのが好ましい。第2金属化層402間に電圧を印加することによって巻き線500を“回復する”のが好ましく、欠陥がある場合にはこれを“焼失する”のが好ましい。シリコーンオイルなどの絶縁流体を巻き線500に含侵し、環境影響に対するコンデンサーの保護を強化するのが好ましい。金属接触層702外側エッジに端子704をはんだ付けするか、あるいは溶接するのが好ましく、また絶縁材706内に巻き線500を封入するのが好ましい。なお、例示を目的としてフィルムコンデンサー700の場合、フィルムコンデンサー層400の繰り返し数を減らして図示してあるが、フィルムコンデンサー層400の繰り返し数については、用途に応じて変更するのが好ましい。
別な実施例では、フィルムコンデンサーの最終キャパシタンスに関しては、巻き線内の異なる層間にコンデンサーを並列配置するか、誘電体被覆間にコンデンサーを並列配置することによって実現するのが好ましい。
誘電体フィルム802に第1金属化層804を形成する態様を示す横断面図である図8を参照して説明を続けると、電気絶縁材から誘電体フィルム802を構成するのが好ましい。誘電体フィルム802については、PP、PET、PEN、PPS、PTFE、PS、およびPCのひとつかそれ以上で構成したプラスチックフィルムであるのが好ましく、またPI、PA、PVDF、シロキサン、PEx、およびFPEの一つかそれ以上で構成した熱可塑性ポリマーであるのが好ましい。誘電体フィルム802は紙であるのが好ましい。この誘電体フィルム802の厚さについては、ほぼ1μm~ほぼ20μmの範囲内にあるのが好ましい。
一実施例では、従来の成箔方法を使用して誘電体フィルム802上に第1金属化804を形成するのが好ましい。別な実施例では、従来の金属化方法を使用して誘電体フィルム802に第1金属化層804を形成するのが好ましい。誘電体フィルム802の上面に薄い真空蒸着金属化(亜鉛やアルミなど)を行うのが好ましい。第1金属化層804の厚さについては、ほぼ1nm未満~ほぼ数nmの範囲内にあるのが好ましい。
誘電体フィルム802の非金属化部分の第1マージン806が残存するように、マスキング方法を利用して第1金属化層804を形成することが好ましい。第1マージン806については、誘電体フィルム802のエッジの一方の側部に形成するのが好ましく、またオイルマスキングやバンドマスキングなどの従来のマスキング方法を使用して形成するのが好ましい。
第1金属化層804に誘電体被覆902を形成する態様を示す横断面図である図9を参照して説明を続ける。電気絶縁材から誘電体被覆902を構成するのが好ましい。誘電体被覆902については、フィルムとして使用するのが好ましい誘電体特性を示すアクリル系被覆やμ以下の被覆が好ましく、図8に示される第1マージン806の上全体に延在しているのが好ましい。誘電体被覆902については、被覆されていない第1金属化層804の第2マージン904が第1マージン802の対向エッジに残存するように形成するのが好ましい。誘電体被覆902の幅は誘電体フィルム202の幅よりも狭いのが好ましい。この誘電体被覆902の厚さはほぼ0.1μm~数μmの範囲内にあるのが好ましい。
誘電体被覆902に第2金属化層1002を形成し、フィルムコンデンサー層1000を形成する態様を示す横断面図である図10を参照して説明を続ける。この第2金属化層1002については、従来の成箔方法を使用して誘電体被覆902上に形成するのが好ましい。別な実施例では、従来の金属化方法を使用して誘電体被覆902に第2金属化層1002を形成するのが好ましい。誘電体被覆902の上面に薄い真空蒸着金属化(亜鉛やアルミなど)を行うのが好ましい。第2金属化層1002の厚さについては、ほぼ1nm未満~ほぼ数nmの範囲内にあるのが好ましい。
誘電体被覆1002の非金属化部分が第2マージン904と同じエッジに残存するように、マスキング方法を利用して第2金属化層1002を形成することが好ましい。この非金属化部分についてはオイルマスキングやバンドマスキングなどの従来のマスキング方法を使用して形成するのが好ましい。
図10に示すように、フィルムコンデンサー層1000の内部に少なくとも一つのコンデンサーを形成するのが好ましい。第6コンデンサーCについては、第2金属化層1002と第1金属化層804との間に形成するのが好ましい。
巻き線1100の一部内にあるフィルムコンデンサー層1000の態様を示す横断面図である図11を参照して説明を続ける。図11に示すように、巻き線1100を形成し、かつ最終的にフィルムコンデンサーを形成するために一つのみのフィルムコンデンサー層1000(即ち一つのみの誘電体フィルム)があればよい。フィルムコンデンサー層1000については、巻き線1100内においてそれ自体に隣接しているのが好ましい。このため、製造工程を簡略できる。というのは、巻き線1100を形成するためにはボビン(図1Bを参照)が一つあればよいからである。さらに、この構成では、フィルムコンデンサーの最終容積がほぼ30~50%小さくなる。そして別な第7コンデンサーCを第1金属化層804と隣接層の第2金属化層1002との間に形成するのが好ましい。
図11に示すように、フィルムコンデンサー層1000については、ウェーブカットを行ってから巻き付け、巻き線1100を形成するのが好ましい。ウェーブカットでは、フィルムコンデンサー層のそれぞれから部分1102をカットによって除去するのが好ましく、フィルムコンデンサー層1000の隣接層の交互に現れるエッジが巻き線1100の外側エッジ1104まで横方向に延出する。ウェーブカットを行うと、以下にさらに詳しく説明するように、フィルムコンデンサー層1000の一つのエッジの第1金属化層804が横方向に延出し、金属接触層1302に接触し、かつ隣接するフィルムコンデンサー層1000の対向エッジの第2金属化層1002が金属接触層1302に接触するため横方向に延出するのが好ましい。またウェーブカットを行うと、第1金属化層402と金属接触層1302との間の電気的接触が優れたものになるため好ましい。このウェーブカットについては、フィルムコンデンサー層1000をより広いマザーロールから切り出すさいに行うのが好ましい。
図12に、ウェーブカットパターンを示すフィルムコンデンサー層の斜視図を示す。
巻き線1100から形成したフィルムコンデンサー1300の態様を示す横断面図である図13を参照して説明を続けると、この巻き線1100については、機械的圧力を印加することによって楕円形に平坦化するのが好ましい。プリント回路基板のコストは平方ミリメートル当たりで計算するため、コンデンサーの取り付け面積が小さくなると、回路の全体コストが下がることになる。
第1金属化層804の突き出ている端部および巻き線の反対側にある第2金属化層1002の突き出ている端部については、液化接触金属(例えばスズ、亜鉛やアルミなど)で覆って金属接触層1302を形成するのが好ましい。金属接触層1302については、巻き線1100の横方向の両端に圧縮空気を噴射するのが好ましい。第1金属化層804間に、かつ第2金属化層1002間に電圧を印加することによって巻き線1100を“回復する”のが好ましく、欠陥がある場合にはこれを“焼失する”のが好ましい。シリコーンオイルなどの絶縁流体を巻き線1100に含侵し、環境影響に対するコンデンサーの保護を強化するのが好ましい。金属接触層1302の外側エッジに端子1304をはんだ付けするか、あるいは溶接するのが好ましく、また絶縁材1306内に巻き線1300を封入するのが好ましい。なお、例示を目的としてフィルムコンデンサー1300の場合、フィルムコンデンサー層1000の繰り返し数を減らして図示してあるが、フィルムコンデンサー層1000の繰り返し数については、用途に応じて変更するのが好ましい。
63V印加時の従来の金属化フィルムコンデンサーと比較したフィルムコンデンサー700の体積当たりのキャパシタンス(静電容量)(C/V)を示すチャートである図14を参照して説明を続ける。この実施例では、誘電体フィルム202をポリエステルで構成するのが好ましい。誘電体フィルム202の厚さおよび従来の金属化フィルムコンデンサー層の厚さの場合、ほぼ1.4μmが好ましい。図示のように、体積当たりの静電容量はy軸測定で、測定単位μF/cmであるのが好ましい。一方、x軸は単位μmで測定した誘電体被覆302の異なる厚さであるのが好ましい。誘電体被覆302の厚さがほぼ0.5μmよりも薄い場合、C/Vは従来の金属化フィルムコンデンサーよりもすぐれているといえる。
上記印加時の誘電体被覆302の厚さあたりの破壊電圧(V/μm)を示すチャートである図15を参照して説明を続ける。V/μmを制御するためには、誘電体被覆302の厚さをできるだけ小さくほぼ0.1μmに抑えるのが好ましい。
500V印加時の従来の金属化フィルムコンデンサーと比較したフィルムコンデンサー700のC/Vを示すチャートである図16を参照して説明を続ける。この実施例では、誘電体フィルム202をポリプロピレンから構成するのが好ましい。誘電体フィルム202の厚さおよび従来の金属化フィルムコンデンサー層の誘電体フィルムの厚さについては、ほぼ2.5μmであるのが好ましい。図示のように、体積当たりの静電容量はy軸測定で、測定単位はμF/cmであるのが好ましい。一方、x軸は単位μmで測定した誘電体被覆302の異なる厚さであるのが好ましい。誘電体被覆302の厚さがほぼ1.2μm未満の場合、C/Vは従来の金属化フィルムコンデンサーよりもすぐれているといえる。
上記印加時の誘電体被覆302の厚さあたりの破壊電圧(V/μm)を示すチャートである図17を参照して説明を続ける。V/μmを制御するためには、誘電体被覆302の厚さをできるだけ小さくほぼ0.4μmに抑えるのが好ましい。
63V印加時の従来の金属化フィルムコンデンサーと比較したフィルムコンデンサー1300のC/Vを示すチャートである図18を参照して説明を続ける。この実施例では、誘電体フィルム802をポリエステルから構成するのが好ましい。誘電体フィルム802の厚さおよび従来の金属化フィルムコンデンサー層の誘電体フィルムの厚さについては、ほぼ1.4μmであるのが好ましい。図示のように、体積当たりの静電容量はy軸測定で、測定単位はμF/cmであるのが好ましい。一方、x軸は単位μmで測定した誘電体被覆902の異なる厚さであるのが好ましい。誘電体被覆902の厚さがほぼ1.4μm未満の場合、C/Vは従来の金属化フィルムコンデンサーよりもすぐれているといえる。
上記印加時の誘電体被覆902の厚さ当たりの破壊電圧(V/μm)を示すチャートである図19を参照して説明を続ける。V/μmを制御するためには、誘電体被覆902の厚さをできるだけ小さくほぼ0.15μmに抑えるのが好ましい。
500V印加時の従来の金属化フィルムコンデンサーと比較したフィルムコンデンサー1300のC/Vを示すチャートである図20を参照して説明を続ける。この実施例では、誘電体フィルム802をポリプロピレンから構成するのが好ましい。誘電体フィルム802の厚さおよび従来の金属化フィルムコンデンサー層の誘電体フィルムの厚さについては、ほぼ2.5μmであるのが好ましい。図示のように、体積当たりの静電容量はy軸測定で、測定単位はμF/cmであるのが好ましい。一方、x軸は単位μmで測定した誘電体被覆902の異なる厚さであるのが好ましい。誘電体被覆902の厚さがほぼ1.7μm未満の場合、C/Vは従来の金属化フィルムコンデンサーよりもすぐれているといえる。
上記印加時の誘電体被覆902の厚さ当たりの破壊電圧(V/μm)を示すチャートである図21を参照して説明を続ける。V/μmを制御するためには、誘電体被覆902の厚さをできるだけ小さくほぼ1.0μmに抑えるのが好ましい。
本発明の特徴および要素を具体的に組み合わせて説明してきたが、当業者ならば、各特徴または要素は単独でも使用でき、あるいは他の特徴および要素と組み合わせて使用できることを理解できるはずである。さらに、本明細書に記載した方法はコンピュータまたはプロセッサーで実行可能なコンピュータ可読式媒体に組み込んだコンピュータプログラム、ソフトウェア、またはファームウェアで実行可能である。コンピュータ可読式媒体の実例には電子信号(有線接続または無線接続で配信される)、およびコンピュータ可読式保存媒体がある。限定を意図するわけではないが、コンピュータ可読式保存媒体にはリードオンリーメモリ(ROM)、ランダムアクセスメモリ(RAM)、レジスター、キャッシュメモリ、半導体メモリデバイス、内部ハードディスクや着脱式ディスクなどの磁気媒体、磁気光学媒体、CD-ROMディスクなどの光学媒体、およびデジタル多用途ディスク(DVD)などがある。
100 従来のフィルムコンデンサー
102 キャパシタンス層
104 誘電体フィルム
106 金属電極
108 円筒形巻き線
110 第1ボビン
112 第2ボビン
114 金属接触層
116 端子
118 絶縁材
202 誘電体フィルム
204 第1金属化層
206 フリーマージン
302 誘電体被覆
400 フィルムコンデンサー層
402 第2金属化層
404 隙間
500 巻き線
502 部分
504 外側エッジ
700 フィルムコンデンサー
702 金属接触層
704 端子
706 絶縁材
802 誘電体フィルム
804 第1金属化層
806 第1マージン
902 誘電体被覆
904 第2マージン
1000 フィルムコンデンサー層
1002 第2金属化層
1100 巻き線
1102 部分
1104 外側エッジ
1300 フィルムコンデンサー
1302 金属接触層
1304 端子
1306 絶縁材

Claims (20)

  1. 隣接層の形でそれ自体に巻き付け、巻き線を形成する単体フィルムコンデンサー層を有するフィルムコンデンサーであって、
    このフィルムコンデンサー層が、
    誘電体フィルムと、
    この誘電体フィルムに形成した第1金属化層と、
    この第1金属化層に形成した誘電体被覆と、
    この誘電体被覆に形成した第2金属化層と、
    を有し、
    前記フィルムコンデンサー層が第1外側部と、この第1外側部に対向する第2外側部を有し、この第1外側部および第2外側部をウェーブカットして、前記第1外側部に、前記フィルムコンデンサー層の第1外側エッジまで横方向に延在する第1の交互に現れる領域および前記フィルムコンデンサー層の前記第1外側エッジからカーブを描いて離間する第2の交互に現れる領域を形成し、そして前記第2外側部に、前記フィルムコンデンサー層の第2外側エッジまで横方向に延在する第の交互に現れる領域および前記フィルムコンデンサー層の前記第2外側エッジからカーブを描いて離間する第2の交互に現れる領域を形成し、
    隣接層の交互に現れるエッジが前記巻き線の外側エッジまで横方向に延在するように、前記第1の交互に現れる領域および第2の交互に現れる領域を配列し、
    前記第1外側部の前記ウェーブカットが前記第2金属化層、前記誘電化被覆、および前記フィルムコンデンサー層の誘電体フィルムを介して延在し、
    前記巻き線の第1外側エッジに形成した第1金属接触層および前記巻き線の第2外側エッジに形成した第2金属接触層と、
    この第1金属接触層の外側エッジに形成した第1端子および第2金属接触層の外側エッジに形成した第2端子と、
    前記巻き線、前記第1および第2の金属接触層、および前記第1および第2の端子の一部を封入する絶縁材と、
    を有することを特徴とするフィルムコンデンサー。
  2. 前記誘電体フィルムの非金属化部分が前記誘電体フィルムの一つかそれ以上のエッジにそって露出状態にある請求項1に記載のフィルムコンデンサー。
  3. 前記誘電体被覆が前記誘電体フィルムの前記非金属化部分全体に延在している請求項2に記載のフィルムコンデンサー。
  4. 前記誘電体フィルムがプラスチックフィルム、熱可塑性フィルム、または紙の一つかそれ以上を有する請求項1に記載のフィルムコンデンサー。
  5. 前記誘電体被覆の幅が前記誘電体フィルムの幅と実質的に同じである請求項1に記載のフィルムコンデンサー。
  6. 隙間によって、前記第2金属化層の第1部分が前記第2金属化層の第2部分から横方向に分離している請求項5に記載のフィルムコンデンサー。
  7. 前記第1金属化層の一部が露出し、第1金属化層のこの部分が横方向に前記誘電体フィルムのエッジまで延在するように前記誘電体被覆の幅が、前記誘電体フィルムの幅よりも狭い請求項1に記載のフィルムコンデンサー。
  8. 前記誘電体被膜の一部および第1金属化層の前記部分が露出したままになっているように、前記第2金属化層の幅が前記誘電体被覆の幅よりも狭い請求項7に記載のフィルムコンデンサー。
  9. 前記誘電体被覆がアクリル系被覆を有する請求項1に記載のフィルムコンデンサー。
  10. 前記第1外側の第1の交互に現れる領域が前記第2外側部の第2の交互に現れる領域から横方向に横断する位置にあり、かつ前記第1外側部の前記第2の交互に現れる領域が前記第2側部の前記1の交互に現れる領域から横方向に横断する位置にある請求項1に記載のフィルムコンデンサー。
  11. フィルムコンデンサーの形成方法であって、
    誘電体フィルムに形成した第1金属化層と、
    この第1金属化層に形成した誘電体被覆と、
    この誘電体被覆に形成した第2金属化層と、
    を有するフィルムコンデンサー層を形成し、
    前記フィルムコンデンサー層をそれ自体に隣接層として巻き取ることによって巻き線を形成し、
    前記フィルムコンデンサー層の第1外側部およびこれに対向する第2外側部にウェーブカットを形成して、前記第1外側部に、前記フィルムコンデンサー層の第1外側エッジまで横方向に延在する第1の交互に現れる領域および前記フィルムコンデンサー層の前記第1外側エッジからカーブを描いて離間する第2の交互に現れる領域を形成し、そして前記第2外側部に、前記フィルムコンデンサー層の第2外側エッジまで横方向に延在する第1の交互に現れる領域および前記フィルムコンデンサー層の前記第2外側エッジからカーブを描いて離間する第2の交互に現れる領域を形成し、
    隣接層の交互に現れるエッジが前記巻き線の外側エッジまで横方向に延在するように、前記第1の交互に現れる領域および第2の交互に現れる領域を配列し、
    前記第1外側部の前記ウェーブカットが前記第2金属化層、前記誘電体被覆、および前記フィルムコンデンサー層の誘電体フィルムとを介して延在させ、
    この巻き線の外側エッジに第1金属接触層を形成し、
    この第1金属接触層の外側エッジに端子を形成し、そして
    絶縁材に前記巻き線、前記第1金属接触層、および前記端子の一部を封入することを特徴とするフィルムコンデンサーの形成方法。
  12. 前記誘電体フィルムの非金属化部分が前記誘電体フィルムの一つかそれ以上のエッジにそって露出状態にあるように、マスキング工程を使用して前記第1金属化層を形成する請求項11に記載の形成方法。
  13. 前記誘電体被覆が前記誘電体フィルムの前記非金属化部分全体に延在している請求項12に記載の形成方法。
  14. 前記誘電体フィルムがプラスチックフィルム、熱可塑性フィルム、または紙の一つかそれ以上を有する請求項11に記載の形成方法。
  15. 前記誘電体被覆の幅が前記誘電体フィルムの幅と実質的に同じである請求項11に記載の形成方法。
  16. 隙間によって、前記第2金属化層の第1部分が前記第2金属化層の第2部分から横方向に分離するように、マスキング工程を使用して前記第2金属化層を形成する請求項15に記載の形成方法。
  17. 前記第1金属化層の一部が露出し、第1金属化層のこの部分が横方向に前記誘電体フィルムのエッジまで延在するように前記誘電被覆の幅が、前記誘電体フィルムの幅よりも狭い請求項11に記載の形成方法。
  18. 前記第2金属化層の幅が前記誘電体被膜の幅よりも狭くなるように、マスキング工程を使用して前記第2金属化層を形成し、前記誘電体被膜の一部および第1金属化層の前記部分が露出したままになっている請求項17に記載の形成方法。
  19. 前記誘電体被覆がアクリル系被覆を有する請求項11に記載の形成方法。
  20. 前記第1外側部の第1の交互に現れる領域が前記第2外側部の第2の交互に現れる領域から横方向に横断する位置にあり、かつ前記第1外側部の前記第2の交互に現れる領域が前記第2外側部の前記第1の交互に現れる領域から横方向に横断する位置にある請求項11に記載の形成方法。
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