JP7385486B2 - スポンジチタンの製造方法 - Google Patents
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Description
減圧分離工程が完了すると、スポンジチタン塊は金属製還元反応容器から取り出されて、破砕工程に供され、所定のサイズのスポンジチタンになる。
このような一連の工程について記載された文献としては、特許文献1等がある。
さらに、この際に所定の低温としたことにより、スポンジチタン塊が溶融浴に浸漬している間の、金属製還元反応容器から溶融浴への不純物の移行も抑えられる。その結果、スポンジチタン塊への当該不純物の混入を抑制することができる。
この発明の一の実施形態に係るスポンジチタンの製造方法は、金属製還元反応容器内の溶融浴にて四塩化チタンを金属マグネシウムで還元し、溶融浴中にスポンジチタン塊を生成させる還元工程と、金属製還元反応容器内にスポンジチタン塊を残しつつ、金属製還元反応容器から溶融浴を排出させる浴抜き操作を一回以上行う浴排出工程とを含む。浴排出工程では、一回以上の浴抜き操作のうち、少なくとも一回目の浴抜き操作を800℃未満の温度で行うこととする。
還元工程では、図1に例示するような金属製還元反応容器1を用いる。この金属製還元反応容器1は、円筒状その他の筒状の側壁2と、側壁2の軸線方向の一端側(図1では下端側)を密閉する底部3と、側壁2の軸線方向の他端側(図1では上端側)の開口部に取り付けられた蓋体4とを備えるものである。側壁2には、側壁2の底部3寄りの部分等に連結された排出管5が設けられ、また蓋体4には、供給管6が設けられている。金属製還元反応容器1内の底部3側には一般に、図示の例のように、金属製還元反応容器1からスポンジチタン塊TSを取り出す際にスポンジチタン塊TSを押し上げるべく作動するパンチ7が配置される。なお、パンチ7は図1に示すように一体成型物としてもよいし、スポンジチタン塊TSと接する面に着脱可能の板材等(例えばロストル等)を有していてもよい。着脱可能の板材等を備える場合はスポンジチタン塊TSとパンチ7との分離が容易になる。金属製還元反応容器1は還元炉8内に配置されて、還元工程が行われる。
還元工程の終了後、金属製還元反応容器1内は、還元反応で用いられなかった金属マグネシウムや、還元反応で生成した副生成物の塩化マグネシウム等を含む溶融浴が貯留し、その溶融浴Bm中にスポンジチタン塊TSが浸漬している。浴排出工程では、金属製還元反応容器1内にスポンジチタン塊TSを残した状態で、金属製還元反応容器1内から溶融浴Bmを排出させる。
一回目の浴抜き操作を行う際には、スポンジチタン塊の大部分が溶融浴に浸漬しているので、ニッケルが溶解した金属マグネシウムは、スポンジチタン塊TSの大部分に接触する。ここで、金属マグネシウムに溶出したニッケルはスポンジチタン塊TSの金属チタンには移行しにくいと考えられ、後述の減圧分離工程で金属マグネシウム等が除去された際に、ニッケルはスポンジチタン塊TSに置き去りにされる。これにより、スポンジチタン塊TS、さらには破砕工程後に得られるスポンジチタンのニッケル含有量が増大する。
減圧分離工程では、たとえば、金属製還元反応容器1を1000℃~1080℃程度に加熱しながら、金属製還元反応容器1内を減圧して例えば30Pa以下の真空雰囲気等にする。これにより、金属製還元反応容器1内に残っていた比較的少量の金属マグネシウムや塩化マグネシウム等は揮発して吸引され、金属製還元反応容器1内から取り除かれる。その結果、金属製還元反応容器1内のスポンジチタン塊TSから、金属マグネシウムや塩化マグネシウム等を分離させることができる。
金属製還元反応容器1内から取り出したスポンジチタン塊TSは、破砕工程で、所定の大きさの粒状等のスポンジチタンになるように破砕することができる。ここでは、たとえば、はじめに、手作業等によりハツリを行い、さらにはギロチン式のシャー等を用いて、不純物が多く含まれることが多いスポンジチタン塊TSの上部や下部、外周部等を取り除く。その後、スポンジチタン塊TSの所望の部位に対し、ある程度の大きさまで砕く破砕を行うことができる。低鉄量のスポンジチタンを得る場合はスポンジチタン塊TSの中央部を破砕に供する。鉄はチタンに対して親和性が高いため、金属マグネシウムに含まれる鉄は金属製還元反応容器1から溶出した後にスポンジチタン塊TSの表面に多く集積するからである。他方、ニッケルは金属マグネシウムに対してより大きな親和性を示すため、スポンジチタン塊TSの中央部にまで入り込みやすい。すなわち、鉄とニッケルとは金属マグネシウムやチタンに対する挙動が異なる。
ここでは、スポンジチタン塊TSの中央部R2の周囲に位置する上述した外周部R1内から任意の部位を取り出し、この外周部R1を破砕してスポンジチタンとすることにより、ニッケル含有量の少ないスポンジチタンを製造することができる。
このことを利用し、たとえば、スポンジチタン塊TSの外周部R1のものと中央部R2のものとを、所定の割合で混合して調整すること等により、鉄及びニッケルをそれぞれ望ましい含有量としたスポンジチタンを製造することも可能になる。
図1に示すような構成を備える金属製還元反応容器及び還元炉を用いて還元工程を行い、スポンジチタン塊を得た。ここで、金属製還元反応容器は、その側壁及び底部が、ニッケル及びクロムを含有するステンレス鋼と炭素鋼(SS400又はSM400A、ニッケル含有量が150質量ppm以下のもの)とのクラッド鋼を使用し、内面側に前記炭素鋼を配置した。還元工程では、金属製還元反応容器内に金属マグネシウムを充填して溶融浴とし、そこに精製四塩化チタンを滴下した。還元工程の開始前における当該金属マグネシウムのニッケル含有量は0.1質量ppm~0.3質量ppm程度であった。この還元工程で生成されたスポンジチタン塊は、高さが1.8m~2.0m程度、直径が1.8m~1.9m程度であった。
浴排出工程で、一回目の浴抜き操作における金属製還元反応容器の温度を775℃とし、二回目から八回目までの浴抜き操作における金属製還元反応容器の温度を900℃としたことを除いて、実施例1と同様にしてスポンジチタンを製造した。
このスポンジチタンにおけるニッケル含有量が0.50質量ppm以下であるものの割合は、外周部R1では90%であり、中央部R2では60%であった。また、外周部R1から得られたスポンジチタンのニッケル含有量の、20ロットの平均値は、0.40質量ppmであった。
浴排出工程で、一回目から八回目までの浴抜き操作における金属製還元反応容器の温度を900℃としたことを除いて、実施例1と同様にしてスポンジチタンを製造した。
このスポンジチタンにおけるニッケル含有量が0.50質量ppm以下であるものの割合は、外周部R1では70%であり、中央部R2では50%であった。また、外周部R1から得られたスポンジチタンのニッケル含有量の、20ロットの平均値は、0.60質量ppmであった。
浴排出工程で、一回目から三回目までの浴抜き操作における金属製還元反応容器の温度を900℃とし、四回目から八回目までの浴抜き操作における金属製還元反応容器の温度を775℃としたことを除いて、実施例1と同様にしてスポンジチタンを製造した。
このスポンジチタンにおけるニッケル含有量が0.50質量ppm以下であるものの割合は、外周部R1では70%であり、中央部R2では50%であった。また、外周部R1から得られたスポンジチタンのニッケル含有量の、20ロットの平均値は、0.60質量ppmであった。
実施例1の外周部R1及び中央部R2のそれぞれから得られたスポンジチタンを用いて、溶解鋳造により純チタンインゴットを作製した。このインゴットに含まれていた不純物である鉄、アルミニウム及びニッケルの合計含有量は、4.3質量ppmであり、そのうちのニッケル含有量は0.3質量ppmであった。
2 側壁
3 底部
4 蓋体
5 排出管
6 供給管
7 パンチ
8 還元炉
TS スポンジチタン塊
Bm 溶融浴
Sb 浴面
Hc 中心軸の位置での高さ
Dmax 最大直径
Rmax 半径
HP 水平面
CL 中心軸
Ah R1の高さ方向の範囲
Ar R1の径方向の範囲
R1 外周部
R2 中央部
R3 頂上部
Claims (7)
- スポンジチタンの製造方法であって、
金属製還元反応容器内で、四塩化チタンを金属マグネシウムで還元し、溶融浴中にスポンジチタン塊を生成させる還元工程と、
当該金属製還元反応容器から溶融浴を排出させる浴抜き操作を一回以上行う浴排出工程と、
前記浴排出工程の後、前記金属製還元反応容器の内圧を低下させ、前記スポンジチタン塊から不純物を分離させる減圧分離工程と、
前記減圧分離工程の後、前記金属製還元反応容器から取り出した前記スポンジチタン塊を破砕する破砕工程と
を含み、
前記浴排出工程で、一回以上の前記浴抜き操作のうち、少なくとも一回目の浴抜き操作を800℃未満の温度で行い、
前記破砕工程で得られるスポンジチタンのニッケル含有量が0.50質量ppm以下である、スポンジチタンの製造方法。 - 前記浴排出工程で、前記浴抜き操作の回数を三回以上とし、一回目から三回目までの浴抜き操作を800℃未満の温度で行う、請求項1に記載のスポンジチタンの製造方法。
- 前記浴排出工程で、前記浴抜き操作の回数を二回以上とし、800℃未満の温度での前記浴抜き操作の後、840℃以上の温度で浴抜き操作を行う、請求項1又は2に記載のスポンジチタンの製造方法。
- 前記浴排出工程で、前記一回目の浴抜き操作により、質量基準で、該浴排出工程前における前記金属製還元反応容器内の溶融浴の50%以上の溶融浴を排出させる、請求項1~3のいずれか一項に記載のスポンジチタンの製造方法。
- 前記破砕工程で、前記スポンジチタン塊から、当該スポンジチタン塊の高さ方向で底面からの高さが中心軸位置での高さの15%~80%の範囲内で、かつ、径方向で中心軸からの離隔距離が半径の25%~75%の範囲内にある部位を取り出す、請求項1~4のいずれか一項に記載のスポンジチタンの製造方法。
- 前記金属製還元反応容器の側壁及び底部が、ステンレス鋼製、又は、炭素鋼とステンレス鋼とのクラッド鋼製である、請求項1~5のいずれか一項に記載のスポンジチタンの製造方法。
- 前記金属製還元反応容器の側壁及び底部が、炭素鋼とステンレス鋼とのクラッド鋼製であり、前記炭素鋼のニッケル含有量が150質量ppm以下である、請求項1~6のいずれか一項に記載のスポンジチタンの製造方法。
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