JP7358044B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
C 基板搬送容器
2 容器搬出入部
60A,60B 処理ユニット
33,50A,50B,4A,4B,4C 搬送空間
33 第1搬送エリア
50A,50B,50C 第2搬送エリア
4A,4B,4C 連絡エリア(受け渡しユニット)
32,51A,51B 基板搬送機構(基板搬送装置)
32 第1基板搬送装置
51A,51B,51C 第2基板搬送装置
76A,76B,66 第1ガス供給路
67、79A,79B 第1ガス排出路(排気路)
81,82,80L,811~813,821~824 循環路
801a 第2ガス供給路
804 第2ガス排出路
37,56A,56B,72 メンテナンスドア
802a 循環系通気路
69 ユニット通気路
39,57,74,ロック機構
S1~S4 酸素濃度センサ
100 制御部(安全装置)
Claims (10)
- 基板を収容した基板搬送容器が載置される容器搬出入部と、
前記基板に処理を施す処理ユニットと、
前記容器搬出入部と前記処理ユニットとの間で基板が搬送される搬送空間と、
前記搬送空間内において、前記容器搬出入部と前記処理ユニットとの間で、前記基板を搬送する基板搬送機構と、
前記処理ユニットに雰囲気調整ガスを供給するための第1ガス供給路と、
前記処理ユニットから前記雰囲気調整ガスを排出するための第1ガス排出路と、
前記搬送空間に接続され、前記搬送空間から流出した前記雰囲気調整ガスを前記搬送空間に戻す循環路と、
前記搬送空間と前記循環路とから構成された循環系に前記雰囲気調整ガスを供給するための第2ガス供給路と、
前記循環系から前記雰囲気調整ガスを排出するための第2ガス排出路と、
を備えた基板処理装置であって、
前記搬送空間は、前記容器搬出入部に面した第1搬送エリアと、前記処理ユニットに面した第2搬送エリアと、前記第1搬送エリアと前記第2搬送エリアとを連通させる連絡エリアと、を有し、
前記基板搬送機構は、前記第1搬送エリアに設けられた第1基板搬送装置と、前記第2搬送エリアに設けられた第2基板搬送装置と、を有し、
前記循環路は、前記第1搬送エリアに接続され、前記第1搬送エリアから流出した前記雰囲気調整ガスを前記第1搬送エリアに戻す第1循環路部分と、前記第2搬送エリアに接続され、前記第2搬送エリアから流出した前記雰囲気調整ガスを前記第2搬送エリアに戻す第2循環路部分と、を有し、
前記連絡エリアに、基板を一時的に保持することができる受け渡しユニットが設けられ、前記第1基板搬送装置は、前記受け渡しユニットとの間で基板の受け渡しが可能であり、前記第2基板搬送装置は、前記受け渡しユニットとの間で基板の受け渡しが可能であり、これにより、前記連絡エリアにおいて、前記受け渡しユニットを介して前記第1基板搬送装置と前記第2基板搬送装置との間で基板の受け渡しが可能であり、
前記循環系に設けられ、前記搬送空間内の圧力を調節する圧力調節機器をさらに備え、前記圧力調節機器は、前記搬送空間の前記連絡エリア内の圧力が、前記第1搬送エリア内の圧力よりも高く、かつ前記第2搬送エリア内の圧力よりも高く維持されるよう動作する、基板処理装置。 - 前記圧力調節機器は、前記第2搬送エリア内の圧力が前記処理ユニット内の圧力よりも高く維持されるように動作する、請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記圧力調節機器はファンまたはダンパを含む、請求項1または2に記載の基板処理装置。
- 前記雰囲気調整ガスは空気よりも酸素濃度が低いガスである、請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記処理ユニットの内部の空間の雰囲気を前記雰囲気調整ガスから空気雰囲気に置換するために前記処理ユニットに空気を導入するユニット通気路をさらに備えた、請求項4に記載の基板処理装置。
- 前記処理ユニットはメンテナンスドアを有し、前記メンテナンスドアを開くことにより、前記処理ユニットの内部の空間が前記基板処理装置の周囲の雰囲気に開放される、請求項5に記載の基板処理装置。
- 前記処理ユニットの内部の空間の酸素濃度を検出する酸素濃度センサと、
前記メンテナンスドアに付設されたロック機構と、
前記酸素濃度センサにより検出された酸素濃度が予め定められた閾値より高い場合に前記ロック機構の解錠を許可する安全装置と、
をさらに備えた請求項6に記載の基板処理装置。 - 前記循環系の雰囲気を前記雰囲気調整ガスから空気雰囲気に置換するために前記循環系に空気を導入する循環系通気路をさらに備えた、請求項2に記載の基板処理装置。
- 前記搬送空間にアクセスするためのメンテナンスドアを有し、前記メンテナンスドアを開くことにより、前記搬送空間の内部の空間が前記基板処理装置の周囲の雰囲気に開放される、請求項8に記載の基板処理装置。
- 前記搬送空間の内部の空間の酸素濃度を検出する酸素濃度センサと、
前記メンテナンスドアに付設されたロック機構と、
前記酸素濃度センサにより検出された酸素濃度が予め定められた閾値より高い場合にの み前記ロック機構の解錠を許可する安全装置と、
をさらに備えた請求項9に記載の基板処理装置。
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