JP7320608B2 - ナノ秒パルサー回路での効率的なエネルギー回収 - Google Patents
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Description
〔付記1〕
ナノ秒パルサー回路であって、
高電圧電源と、
前記高電圧電源と電気的に結合され、前記高電圧電源からの電圧を高周波数で切り替えるナノ秒パルサーと、
一次側と二次側を有するトランスであって、前記トランスの一次側に前記ナノ秒パルサーが電気的に結合されている、トランスと、
前記トランスの二次側と電気的に結合されたエネルギー回収回路とを備え、前記エネルギー回収回路が、
高電圧電源と電気的に結合されたエネルギー回収インダクタと、
前記トランスの2次側と並列に配置されたクローバーダイオードと、
前記エネルギー回収インダクタと直列に配置され、負荷から前記エネルギー回収インダクタを介して前記高電圧電源に電流を流すように配置された第2のダイオードとを備えている、ナノ秒パルサー回路。
〔付記2〕
前記エネルギー回収インダクタは約50μHを超えるインダクタンスを有している、付記1に記載のナノ秒パルサー回路。
〔付記3〕
前記ナノ秒パルサーは、前記高電圧電源からの電圧を約400kHzの周波数で切り替える、付記1に記載のナノ秒パルサー回路。
〔付記4〕
前記ナノ秒パルサー回路は、5kVを超える電圧を負荷に供給する、付記1に記載のナノ秒パルサー回路。
〔付記5〕
前記負荷が容量性負荷を含む、付記1に記載のナノ秒パルサー回路。
〔付記6〕
前記負荷がプラズマ成膜室を含む、付記1に記載のナノ秒パルサー回路。
〔付記7〕
前記エネルギー回収回路は、前記第2のダイオード及び前記エネルギー回収インダクタと直列に接続された高電圧スイッチを更に備えている、付記1に記載のナノ秒パルサー回路。
〔付記8〕
前記高電圧スイッチは5kVを超える電圧を切り替える、付記7に記載のナノ秒パルサー回路。
〔付記9〕
前記高電圧電源は1kVを超える電圧の直流電力を供給する、付記1に記載のナノ秒パルサー回路。
〔付記10〕
回路であって、
ストレージコンデンサと、
前記ストレージコンデンサに接続されたスイッチング回路であって、1kVを超える電圧と1kHzを超える周波数の波形を出力するスイッチング回路と、
一次側と二次側を有するトランスであって、前記トランスの一次側に前記スイッチング回路が電気的に結合されている、トランスと、
前記トランスの2次側及び前記ストレージコンデンサと電気的に結合されたエネルギー回収回路とを備え、前記エネルギー回収回路が、
高電圧電源と電気的に結合されたエネルギー回収インダクタと、
前記エネルギー回収インダクタと直列に配置され、負荷から前記エネルギー回収インダクタを経由して前記高圧電源に電流を流すように配置された第2のダイオードとを備えている回路。
〔付記11〕
前記エネルギー回収回路は、前記トランスの二次側と並列に配置されたクローバーダイオードを備えている、付記10に記載の回路。
〔付記12〕
前記スイッチング回路はナノ秒パルサーを備えている、付記10に記載の回路。
〔付記13〕
前記スイッチング回路は、約400kHzを超える周波数で動作するRFドライバを備えている、付記10に記載の回路。
〔付記14〕
前記RFドライバは、ハーフブリッジドライバ又はフルブリッジドライバの何れかを含む付記13に記載の回路。
〔付記15〕
バイアス補償回路を更に備え、前記バイアス補償回路は、前記バイアス補償スイッチと並列に配置されたバイアス補償ダイオードと、前記バイアス補償ダイオード及び前記バイアス補償スイッチと直列に配置された直流電源と含む、付記10に記載の回路。
〔付記16〕
前記エネルギー回収インダクタは50μHを超えるインダクタンスを含む、付記10に記載の回路。
〔付記17〕
高電圧パルス発生方法であって、
パルサースイッチを閉じた状態でバイアス補償回路内のバイアス補償スイッチを開き、前記バイアス補償回路をトランスの二次側に結合するステップと、
ナノ秒パルサーのパルサースイッチを閉じた状態でパルスを発生するステップであって、前記ナノ秒パルサーはトランスの一次側と直流電源に結合され、パルスは前記トランスの二次側で1kVを超える電圧を有する、ステップと、
前記パルサースイッチを閉じた状態でエネルギー回収回路内のエネルギー回収スイッチを開くステップであって、前記エネルギー回収回路は前記トランスの2次側と前記直流電源に結合されているステップと、
約100ナノ秒未満の期間で休止するステップと、
前記ナノ秒パルサーのパルサースイッチを閉じるステップと、
前記パルサースイッチを閉じた状態で前記エネルギー回収回路内の前記エネルギー回収スイッチを開くステップと、を含む方法。
〔付記18〕
前記エネルギー回収回路は、前記エネルギー回収スイッチと直列に接続されたインダクタとダイオードを含む、付記17に記載の高電圧パルス発生方法。
〔付記19〕
前記エネルギー回収スイッチは、直列に配置された複数の電圧分担抵抗器を有する複数のスイッチを含み、前記複数の電圧分担抵抗器の各電圧分担抵抗器が前記複数のスイッチの対応するスイッチを挟んで配置されるようになっている、付記17に記載の高電圧パルス発生方法。
〔付記20〕
前記バイアス補償回路は、前記バイアス補償スイッチと並列に配置されたバイアス補償ダイオードと、前記バイアス補償ダイオードと前記バイアス補償スイッチとに直列に配置された直流電源とを備えている付記17に記載の高電圧パルス発生方法。
〔付記21〕
高電圧パルス発生方法であって、
パルスのバーストの前に、トランスを介してナノ秒パルサーに結合されたバイアス補償回路内のバイアス補償スイッチを開き、前記バイアス補償回路は前記トランスの二次側に結合されるステップと、
前記パルスのバースト中に、ナノ秒パルサーのパルサースイッチの開閉を繰り返して、パルスのバースト内に複数のパルスを生成し、前記ナノ秒パルサーは、前記トランスの一次側と直流電源に結合され、前記パルサースイッチの開閉は、約1kHzを超えるパルス繰り返し周波数で発生し、前記パルサースイッチの閉鎖は、前記トランスの二次側に1kVを超える電圧のパルスを生成するステップと、
前記パルスのバースト中に、エネルギー回収回路内のエネルギー回収スイッチの開閉を繰り返し、前記パルサースイッチが開いているときには前記エネルギー回収スイッチを閉じ、前記パルサースイッチが閉じているときには前記エネルギー回収スイッチを開くようにし、前記エネルギー回収回路を前記トランスの2次側と前記直流電源に結合するステップと、
前記パルスのバーストの後で、前記バイアス補償回路内のバイアス補償スイッチを閉じるステップと、を含む方法。
〔付記22〕
約100マイクロ秒未満の期間休止するステップと、
第2のパルスのバーストの前に前記バイアス補正スイッチを開くステップと、
前記第2のパルスのバースト中に前記パルサースイッチを開閉するステップと、
前記第2のバースト時に前記エネルギー回収スイッチを開閉するステップと、
前記第2のバーストの後で前記バイアス補正スイッチを閉じるステップと、を更に含む付記21に記載の高電圧パルス発生方法。
〔付記23〕
前記エネルギー回収回路は、前記エネルギー回収スイッチと直列に接続されたインダクタとダイオードを含む、付記21に記載の高電圧パルス発生方法。
〔付記24〕
前記エネルギー回収スイッチは、直列に配置され複数の電圧分担抵抗器を有している複数のスイッチを含み、前記複数の電圧分担抵抗器の各電圧分担抵抗器が、前記複数のスイッチの対応するスイッチを挟んで配置されるようになっている、付記21に記載の高電圧パルス発生方法。
〔付記25〕
前記バイアス補償回路は、前記バイアス補償スイッチと並列に配置されたバイアス補償ダイオードと、前記バイアス補償ダイオード及び前記バイアス補償スイッチと直列に配置された直流電源とを含む、付記21に記載の高電圧パルス発生方法。
〔付記26〕
高電圧パルス発生方法であって、
第1のパルスのバースト前に、トランスを介してナノ秒パルサーに接続されたバイアス補償回路内のバイアス補償スイッチを開き、前記バイアス補償回路は前記トランスの2次側に接続されるステップと、
前記第1のパルスのバースト中に、ナノ秒パルサーのパルサースイッチの開閉を繰り返して、前記パルスのバースト内に複数のパルスを生成し、前記ナノ秒パルサーは前記トランスの一次側と直流電源に結合され、前記パルサースイッチの開閉は約1kHzを超えるパルス繰り返し周波数で発生し、前記パルサースイッチの閉鎖は前記トランスの二次側に1kVを超える電圧のパルスを生じさせるステップと、
前記パルスのバースト後に、前記バイアス補償回路内のバイアス補償スイッチを閉じるステップと、
約100マイクロ秒未満の期間休止するステップと、
第2のパルスのバーストの前に、前記バイアス補償スイッチを開くステップと、
前記第2のパルスのバースト中に前記パルサースイッチを開閉するステップと、
前記第2のバーストの後で、前記バイアス補正スイッチを閉じるステップと、を含む方法。
〔付記27〕
前記パルサースイッチが開いているときにエネルギー回収スイッチが閉じ、前記パルサースイッチが閉じているときにエネルギー回収スイッチが開くように、前記第1のパルスのバースト中に、前記エネルギー回収回路内のエネルギー回収スイッチを繰り返し開閉するステップを更に含み、前記エネルギー回収回路が前記トランスの2次側と前記直流電源に結合されている、付記26に記載の高電圧パルス発生方法
〔付記28〕
前記第2のパルスのバースト中に前記エネルギー回収スイッチを開閉する、付記27に記載の高電圧パルス発生方法。
〔付記29〕
高電圧・高周波スイッチング回路であって、
1kVを超える電圧と10kHzを超える周波数を有するパルスを生成する高電圧スイッチング電源と、
一次側と二次側を有するトランスと、
前記トランスの2次側と電気的に結合された出力と、
前記トランスの一次側と電気的に結合され、前記高電圧スイッチング電源と並列に接続された一次シンクであって、前記出力と結合された負荷を放電する少なくとも1つの抵抗器を含む、一次シンクと、を備えた高電圧・高周波スイッチング回路。
〔付記30〕
前記一次シンクは、約1キロワットを超える平均電力を散逸するように構成されている、付記29に記載の高電圧・高周波スイッチング回路。
〔付記31〕
前記一次シンクは、前記少なくとも1つの抵抗器と直列に接続された少なくとも1つのインダクタを備えている、付記29に記載の高電圧・高周波スイッチング回路。
〔付記32〕
前記一次シンクは、前記少なくとも1つの抵抗器と直列に接続されたスイッチを含む、付記29に記載の高電圧・高周波スイッチング回路。
〔付記33〕
前記出力は、概ね容量性であるプラズマ負荷と結合される、付記29に記載の高電圧・高周波スイッチング回路。
〔付記34〕
前記出力は、誘電体バリア放電を含むプラズマ負荷と結合される、付記29に記載の高電圧・高周波スイッチング回路。
〔付記35〕
前記一次シンク内の抵抗器の抵抗値は約400オーム未満の値を有する、付記29に記載の高電圧・高周波スイッチング回路。
〔付記36〕
前記高電圧・高周波スイッチング電源は、100kWを超えるピーク電力を供給する、付記29に記載の高電圧・高周波スイッチング回路。
〔付記37〕
前記一次シンク内の抵抗は抵抗Rを含み、出力は、
〔付記38〕
前記負荷は50nF未満の容量を有する容量性であり、前記負荷の容量は10μsを超える時間は電荷を保持しない、付記29に記載の高電圧・高周波スイッチング回路。
〔付記39〕
前記負荷は本質的に容量性であり、前記高電圧・高周波スイッチング回路は前記負荷容量を急速に充放電する、付記29に記載の高電圧・高周波スイッチング回路。
〔付記40〕
前記高電圧スイッチング電源が高電圧パルスを供給していないとき、前記出力は、プラズマ内で-2kVを超える負のバイアス電圧を生成する、付記29に記載の高電圧・高周波スイッチング回路。
〔付記41〕
前記出力は、1kVを超える電圧と10kHzを超える周波数を有する高電圧パルスを、約400ns未満のパルス立下り時間で生成することができる、付記29に記載の高電圧・高周波スイッチング回路。
〔付記42〕
高電圧・高周波スイッチング回路であって、
1kVを超える電圧と10kHzを超える周波数を有するパルスを生成する高電圧スイッチング電源と、
一次側と二次側を有するトランスと、
前記トランスの2次側と電気的に結合された出力と、
前記トランスの一次側に電気的に結合され、前記高電圧スイッチング電源の出力と並列に配置された一次シンクであって、前記出力に結合された負荷を放電する少なくとも1つの抵抗器と、前記少なくとも1つの抵抗器と直列に配置された少なくとも1つのインダクタとを備える、一次シンクと、を備えた高電圧・高周波スイッチング回路。
〔付記43〕
前記一次シンクは、前記少なくとも1つの抵抗器及び/又は前記少なくとも1つのインダクタと直列に接続されたスイッチを含む、付記12に記載の高電圧・高周波スイッチング回路。
〔付記44〕
前記出力は、1kVを超える電圧を有し、10kHzを超える周波数を有し、約400ns未満のパルス立下り時間を有する高電圧パルスを生成することができる、付記12に記載の高電圧・高周波スイッチング回路。
〔付記45〕
前記一次シンクは、約1キロワットを超える電力を散逸するように構成されている、付記12に記載の高電圧・高周波スイッチング回路。
〔付記46〕
前記高電圧スイッチング電源は、電源、少なくとも1つのスイッチ、及び昇圧トランスを備えている、付記12に記載の高電圧・高周波スイッチング回路。
〔付記47〕
前記一次シンクは10kWより大きいピーク電力を処理する、付記12に記載の高電圧・高周波スイッチング回路。
〔付記48〕
前記一次シンク内の抵抗器の抵抗値が約400オーム未満である付記12に記載の高電圧・高周波スイッチング回路。
〔付記49〕
前記一次シンクはインダクタと抵抗器を含み、前記インダクタのインダクタンスLと前記抵抗器の抵抗値Rは、L/R≒tpを満たすように設定されており、式中tpはパルスのパルス幅である、付記12に記載の高電圧・高周波スイッチング回路。
〔付記50〕
前記一次シンクの抵抗器は抵抗Rを含み、前記出力は、
〔付記51〕
前記出力は、イオンを表面に加速する為に使用される負のバイアス電圧をプラズマ内に生成する、付記12に記載の高電圧・高周波スイッチング回路。
〔付記52〕
前記出力は、前記高電圧スイッチング電源が高電圧パルスを供給していないときに、前記電極又は前記基板(又はウェハ及びプラズマ)からグランドに対して-2kVよりも大きい負の電位差を生成する、付記12に記載の高電圧・高周波スイッチング回路。
〔付記53〕
高電圧・高周波スイッチング回路であって、
1kVを超える電圧と10kHzを超える周波数のパルスを生成する高電圧スイッチング電源と、
一次側と二次側を有するトランスと、
前記トランスの2次側と電気的に結合された出力と、
前記トランスの一次側と電気的に結合され、前記高電圧スイッチング電源の出力と並列に配置された一次シンクであって、前記一次シンクは、直列に配置された少なくとも1つの抵抗器、少なくとも1つのインダクタ、及びスイッチを含む、一次シンクと、を備え、
前記出力は、1kVを超える電圧、10kHzを超える周波数、約400ns未満のパルス立下り時間を有する高電圧パルスを生成することができ、前記出力は、プラズマ型負荷に電気的に接続されている、高電圧・高周波スイッチング回路。
〔付記54〕
前記プラズマ型負荷は、大きさが20nF未満の容量性素子を有するものとしてモデル化され得る、付記53に記載の高電圧・高周波スイッチング回路。
〔付記55〕
前記プラズマ型負荷は、イオンを表面に加速するように設計されている、付記53に記載の高電圧・高周波スイッチング回路。
〔付記56〕
高電圧高周波スイッチング電源の作用により、イオンを表面に加速する為の電位が確立される、付記53に記載の高電圧・高周波スイッチング回路。
〔付記57〕
前記プラズマ型は概ね本質的に容量性である、付記53に記載の高電圧・高周波スイッチング回路。
〔付記58〕
前記プラズマ型負荷は誘電体バリア放電を含む、付記53に記載の高電圧・高周波スイッチング回路。
〔付記59〕
前記高電圧高周波スイッチング電源は100kWを超えるピーク電力を供給する、付記53に記載の高電圧・高周波スイッチング回路。
〔付記60〕
前記高電圧スイッチング電源は、電源と、少なくとも1つのスイッチと、昇圧トランスとを備えている、付記53に記載の高電圧・高周波スイッチング回路。
101 ナノ秒パルサーステージ
103 リードステージ
104 直流バイアス回路
106 負荷ステージ
110 エネルギー回収回路
111 能動エネルギー回収回路
114 受動バイアス補償回路
115 エネルギー回収インダクタ
120 エネルギー回収ダイオード
130、135 ダイオード
134 能動バイアス補償回路
405 バイアス補償ダイオード
410 バイアス補償コンデンサ
700 マッチレスドライバシステム
705 RFドライバ
710 共振回路
900 ウェハバイアスシステム
921 第2のバイアスコンデンサ
925 高電圧パルサー
926 第1のエネルギー回収回路
930 第2の高電圧パルサー
931 第2のエネルギー回収回路
935 プラズマチャンバ
950 第1の電極
955 第2の電極
1205 容量性負荷
1400 高電圧スイッチ
1405 スイッチモジュール
1410 スイッチ
1415 スナバダイオード
1420 スナバコンデンサ
1425 フリーホイールダイオード
1440 電源
1445 絶縁ファイバトリガ
1450 クローバーダイオード
1600 計算システム
1625 ストレージデバイス
1630 通信サブシステム
1635 ワーキングメモリ
1640 オペレーティングシステム
1645 アプリケーションプログラム
1700 空間的可変ウェハバイアスシステム
1725 第1の高電圧パルサー
1726 第1のエネルギー回収回路
1730 第2の高電圧パルサー
1731 第2のエネルギー回収回路
1800 RFドライバシステム
1805 RFドライバ
1906、2006、2106、2206 一次シンク
1915、2415 負荷ステージ
2105 ナノ秒パルサー
2410 バイアス補償回路
C5 スナバコンデンサ
C7 エネルギーストレージコンデンサ
C12 バイアスコンデンサ
D2 フリーホイールダイオード
D4 スナバダイオード
D7 ブロッキングダイオード
L1 浮遊インダクタンス
R1 浮遊抵抗
R3 スナバ抵抗
R5 共振抵抗
S1、S6 スイッチ
S5 エネルギー回収スイッチ
T1 トランス
Claims (16)
- ナノ秒パルサー回路であって、
高電圧電源と、
前記高電圧電源と電気的に結合され、前記高電圧電源からの電圧を高周波数で切り替えるナノ秒パルサーと、
一次側と二次側を有するトランスであって、前記トランスの一次側に前記ナノ秒パルサーが電気的に結合されている、トランスと、
前記トランスの二次側と電気的に結合されたエネルギー回収回路とを備え、前記エネルギー回収回路が、
高電圧電源と電気的に結合されたエネルギー回収インダクタと、
前記トランスの2次側と並列に配置されたクローバーダイオードと、
前記エネルギー回収インダクタと直列に配置され、負荷から前記エネルギー回収インダクタを介して前記高電圧電源に電流を流すように配置された第2のダイオードとを備えている、ナノ秒パルサー回路。 - 前記エネルギー回収インダクタは50μHを超えるインダクタンスを有している、請求項1に記載のナノ秒パルサー回路。
- 前記ナノ秒パルサーは、前記高電圧電源からの電圧を400kHzの周波数で切り替える、請求項1に記載のナノ秒パルサー回路。
- 前記ナノ秒パルサー回路は、5kVを超える電圧を負荷に供給する、請求項1に記載のナノ秒パルサー回路。
- 前記負荷が容量性負荷を含む、請求項1に記載のナノ秒パルサー回路。
- 前記負荷がプラズマ成膜室を含む、請求項1に記載のナノ秒パルサー回路。
- 前記エネルギー回収回路は、前記第2のダイオード及び前記エネルギー回収インダクタと直列に接続された高電圧スイッチを更に備えている、請求項1に記載のナノ秒パルサー回路。
- 前記高電圧スイッチは5kVを超える電圧を切り替える、請求項7に記載のナノ秒パルサー回路。
- 前記高電圧電源は1kVを超える電圧の直流電力を供給する、請求項1に記載のナノ秒パルサー回路。
- 回路であって、
ストレージコンデンサと、
前記ストレージコンデンサに接続されたスイッチング回路であって、1kVを超える電圧と1kHzを超える周波数の波形を出力するスイッチング回路と、
一次側と二次側を有するトランスであって、前記トランスの一次側に前記スイッチング回路が電気的に結合されている、トランスと、
前記トランスの2次側及び前記ストレージコンデンサと電気的に結合されたエネルギー回収回路とを備え、前記エネルギー回収回路が、
高電圧電源と電気的に結合されたエネルギー回収インダクタと、
前記エネルギー回収インダクタと直列に配置され、負荷から前記エネルギー回収インダクタを経由して前記高電圧電源に電流を流すように配置された第2のダイオードとを備えている回路。 - 前記エネルギー回収回路は、前記トランスの二次側と並列に配置されたクローバーダイオードを備えている、請求項10に記載の回路。
- 前記スイッチング回路はナノ秒パルサーを備えている、請求項10に記載の回路。
- 前記スイッチング回路は、400kHzを超える周波数で動作するRFドライバを備えている、請求項10に記載の回路。
- 前記RFドライバは、ハーフブリッジドライバ又はフルブリッジドライバの何れかを含む請求項13に記載の回路。
- バイアス補償回路を更に備え、前記バイアス補償回路は、バイアス補償スイッチと並列に配置されたバイアス補償ダイオードと、前記バイアス補償ダイオード及び前記バイアス補償スイッチと直列に配置された直流電源と含む、請求項10に記載の回路。
- 前記エネルギー回収インダクタは50μHを超えるインダクタンスを含む、請求項10に記載の回路。
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