JP7310373B2 - ガラス原料供給装置およびガラス原料供給装置のフィルタ交換方法 - Google Patents
ガラス原料供給装置およびガラス原料供給装置のフィルタ交換方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7310373B2 JP7310373B2 JP2019124296A JP2019124296A JP7310373B2 JP 7310373 B2 JP7310373 B2 JP 7310373B2 JP 2019124296 A JP2019124296 A JP 2019124296A JP 2019124296 A JP2019124296 A JP 2019124296A JP 7310373 B2 JP7310373 B2 JP 7310373B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pipe
- valve
- filter
- gas
- raw material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/14—Other methods of shaping glass by gas- or vapour- phase reaction processes
- C03B19/1415—Reactant delivery systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C1/00—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels
- C03C1/02—Pretreated ingredients
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/80—Feeding the burner or the burner-heated deposition site
- C03B2207/81—Constructional details of the feed line, e.g. heating, insulation, material, manifolds, filters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/80—Feeding the burner or the burner-heated deposition site
- C03B2207/85—Feeding the burner or the burner-heated deposition site with vapour generated from liquid glass precursors, e.g. directly by heating the liquid
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
Description
ガラス原料供給装置を稼働し続けると、フィルタ内に不純物が溜ってきて、フィルタが詰まるおそれがある。このため、フィルタが詰まる前に、新しいフィルタに交換する必要がある。このフィルタ交換時に、フィルタ内の残留ガスが外に漏れると、安全衛生上の問題が生じるため、残留ガスを労働安全衛生法で定められた基準以下にしてからでないとフィルタを取り外すことができない。そのため、窒素ガス等によってフィルタ内の残留ガスをパージする必要があるが、残留ガスのパージには時間がかかる。したがって、フィルタ交換のために、長時間、ガラス原料供給装置を停止する必要があった。
ガラス原料を気化させて原料ガスにする気化装置と、
前記原料ガスの流路となる第一配管と、
前記原料ガスの不純物を取り除くフィルタ部と、
不純物を取り除いた前記原料ガスの流路となる第二配管と、
前記原料ガスの流量を制御する流量制御装置と、
第一接続継手と、
第二接続継手と、
を有し、
前記フィルタ部は、第一バルブと、ガスラインフィルタと、第二バルブと、を有し、
前記気化装置は、前記第一配管の一端部に接続され、
前記第一配管の他端部は、前記第一接続継手を介して前記第一バルブの一方の開口部に接続され、
前記第一バルブの他方の開口部は、前記ガスラインフィルタのガスの流入側端部に接続され、
前記ガスラインフィルタのガスの排出側端部は、前記第二バルブの一方の開口部に接続され、
前記第二バルブの他方の開口部は、前記第二接続継手を介して前記第二配管の一端部に接続され、
前記第二配管の他端部は、前記流量制御装置に接続されている。
ガラス原料を気化させて原料ガスにする気化装置と、
前記原料ガスの流路となる第一配管と、
前記原料ガスの不純物を取り除くフィルタ部と、
不純物を取り除いた前記原料ガスの流路となる第二配管と、
前記原料ガスの流量を制御する流量制御装置と、
第一接続継手と、
第二接続継手と、
を有し、
前記フィルタ部は、第一バルブと、ガスラインフィルタと、第二バルブと、を有し、
前記気化装置は、前記第一配管の一端部に接続され、
前記第一配管の他端部は、前記第一接続継手を介して前記第一バルブの一方の開口部に接続され、
前記第一バルブの他方の開口部は、前記ガスラインフィルタのガスの流入側端部に接続され、
前記ガスラインフィルタのガスの排出側端部は、前記第二バルブの一方の開口部に接続され、
前記第二バルブの他方の開口部は、前記第二接続継手を介して前記第二配管の一端部に接続され、
前記第二配管の他端部は、前記流量制御装置に接続されている、
ガラス原料供給装置において、前記フィルタ部を交換するフィルタ交換方法であって、
前記第一バルブおよび前記第二バルブを閉状態にして、前記第一配管および第二配管の前記フィルタ部側の少なくとも一部に対して、窒素ガスを流してパージを行う第一工程と、
窒素ガスを流しながら、前記フィルタ部を当該ガラス原料供給装置から取り外す第二工程と、
前記フィルタ部と同じ構成で、前記第一バルブおよび前記第二バルブが閉状態となっている新フィルタ部を用意し、当該新フィルタ部を当該ガラス原料供給装置に取り付ける第三工程と、
前記第一バルブおよび前記第二バルブを開状態にして、前記第一配管および第二配管の前記フィルタ部側の少なくとも一部と、前記新フィルタ部内とに対して、窒素ガスによるパージを行う第四工程と、を含む。
最初に本開示の実施態様を列記して説明する。
本開示の一態様に係るガラス原料供給装置は、
(1)ガラス原料を気化させて原料ガスにする気化装置と、
前記原料ガスの流路となる第一配管と、
前記原料ガスの不純物を取り除くフィルタ部と、
不純物を取り除いた前記原料ガスの流路となる第二配管と、
前記原料ガスの流量を制御する流量制御装置と、
第一接続継手と、
第二接続継手と、
を有し、
前記フィルタ部は、第一バルブと、ガスラインフィルタと、第二バルブと、を有し、
前記気化装置は、前記第一配管の一端部に接続され、
前記第一配管の他端部は、前記第一接続継手を介して前記第一バルブの一方の開口部に接続され、
前記第一バルブの他方の開口部は、前記ガスラインフィルタのガスの流入側端部に接続され、
前記ガスラインフィルタのガスの排出側端部は、前記第二バルブの一方の開口部に接続され、
前記第二バルブの他方の開口部は、前記第二接続継手を介して前記第二配管の一端部に接続され、
前記第二配管の他端部は、前記流量制御装置に接続されている。
上記ガラス原料供給装置によれば、フィルタ部の前後にバルブ(第一バルブおよび第二バルブ)があるので、これらのバルブを閉状態にして、フィルタ部を取り外すことができる。これにより、フィルタ部の交換時に、フィルタ部内に窒素ガスを流してフィルタ部内の残留ガスを除去する必要がないので、フィルタ部の交換時間を短縮することができる。したがって、フィルタ交換の際にガラス原料供給装置を停止する時間を短くできるので、ガラス原料が供給されるガラス母材の製造装置を停止する時間を短縮することができる。
前記第一配管の分岐部と、前記第二配管の分岐部とを接続するバイパス配管を有し、
前記バイパス配管は、当該バイパス配管の途中に流路を開閉する第三バルブを有してもよい。
上記ガラス原料供給装置によれば、第一配管側(或いは第二配管側)からのみ窒素ガスを供給しても、バイパス配管を通して、第二配管側(或いは第一配管側)にも窒素ガスを供給することができる。これにより、窒素ガスの供給経路を単純化することができる。
(3)ガラス原料を気化させて原料ガスにする気化装置と、
前記原料ガスの流路となる第一配管と、
前記原料ガスの不純物を取り除くフィルタ部と、
不純物を取り除いた前記原料ガスの流路となる第二配管と、
前記原料ガスの流量を制御する流量制御装置と、
第一接続継手と、
第二接続継手と、
を有し、
前記フィルタ部は、第一バルブと、ガスラインフィルタと、第二バルブと、を有し、
前記気化装置は、前記第一配管の一端部に接続され、
前記第一配管の他端部は、前記第一接続継手を介して前記第一バルブの一方の開口部に接続され、
前記第一バルブの他方の開口部は、前記ガスラインフィルタのガスの流入側端部に接続され、
前記ガスラインフィルタのガスの排出側端部は、前記第二バルブの一方の開口部に接続され、
前記第二バルブの他方の開口部は、前記第二接続継手を介して前記第二配管の一端部に接続され、
前記第二配管の他端部は、前記流量制御装置に接続されている、
ガラス原料供給装置において、前記フィルタ部を交換するフィルタ交換方法であって、
前記第一バルブおよび前記第二バルブを閉状態にして、前記第一配管および第二配管の前記フィルタ部側の少なくとも一部に対して、窒素ガスを流してパージを行う第一工程と、
窒素ガスを流しながら、前記フィルタ部を当該ガラス原料供給装置から取り外す第二工程と、
前記フィルタ部と同じ構成で、前記第一バルブおよび前記第二バルブが閉状態となっている新フィルタ部を用意し、当該新フィルタ部を当該ガラス原料供給装置に取り付ける第三工程と、
前記第一バルブおよび前記第二バルブを開状態にして、前記第一配管および第二配管の前記フィルタ部側の少なくとも一部と、前記新フィルタ部内とに対して、窒素ガスによるパージを行う第四工程と、を含む。
上記ガラス原料供給装置のフィルタ交換方法によれば、フィルタ部の前後にあるバルブ(第一バルブおよび第二バルブ)を閉状態にして、フィルタ部を交換することができる。これにより、フィルタ部の交換時に、フィルタ部内に窒素ガスを流してフィルタ部内の残留ガスを除去する必要がないので、フィルタ部の交換時間を短縮することができる。したがって、フィルタ交換の際にガラス原料供給装置を停止する時間を短くできるので、ガラス原料が供給されるガラス母材の製造装置を停止する時間を短縮することができる。
前記第四工程は、前記第一バルブおよび前記第二バルブを閉状態にして、前記第一配管および第二配管の前記フィルタ部側の少なくとも一部に対して、窒素ガスによるパージを行ってもよい。
上記ガラス原料供給装置のフィルタ交換方法によれば、予め窒素ガスが充填された新フィルタ部に交換するので、新フィルタ部内に対して窒素ガスによるパージを行う必要がないので、第四工程の時間を短縮できる。これにより、フィルタ部の交換時間をさらに短縮することができる。
本開示の実施形態に係るガラス原料供給装置およびガラス原料供給装置のフィルタ交換方法の具体例を、図面を参照しつつ説明する。
なお、本発明はこれらの例示に限定されるものではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
図3は、図1におけるフィルタ部50周辺部分を示した図である。フィルタ部50の交換方法は、例えば図3において左から右へと進行する各工程により示される。なお、図3における各弁の色(白黒)は、黒い場合は開状態、白い場合は閉状態を示すものである。
表1に示すように、フィルタ構成が異なるガラス原料供給装置(比較例と実施例)を用意し、各ガラス原料供給装置を用いたフィルタ交換方法(比較例は図4参照、実施例は図3参照)における各工程の所要時間を比較した。なお、交換前の所要時間とは、フィルタ取り外しに必要な残留ガス濃度(HCl濃度2ppm未満)を達成するのに必要な時間である。交換後の所要時間とは、新しいフィルタの使用開始に必要な露点温度(-70℃以下)を達成するのに必用な時間である。
また、フィルタ交換に伴って発生する母材製造の機会損失(比率)を比較例の1に対して実施例では0.05~0.1に減少することができる。さらに、母材の線引時断線頻度(比率)を比較例の1に対して実施例では1/2に減少することができる。また、MFCの故障頻度(比率)を比較例の1に対して実施例では1/5に減少することができる。
10:気化装置
21:原料弁
30:原料ガス配管(第一配管の一例)
32,61:分岐部
40:パージガス配管
41:パージ弁
50:フィルタ部
51:ガスラインフィルタ
52:流入側弁(第一バルブの一例)
53:排出側弁(第二バルブの一例)
60:原料ガス配管(第二配管の一例)
70:MFC(流量制御装置の一例)
71:原料ガス供給管
80:バイパス配管
81:バイパス用弁(第三バルブの一例)
90A:流入側継手(第一接続継手の一例)
90B:排出側継手(第二接続継手の一例)
100:反応容器
101:バーナ
Claims (4)
- ガラス原料を気化させて原料ガスにする気化装置と、
前記原料ガスの流路となる第一配管と、
前記原料ガスの不純物を取り除くフィルタ部と、
不純物を取り除いた前記原料ガスの流路となる第二配管と、
前記原料ガスの流量を制御する流量制御装置と、
第一接続継手と、
第二接続継手と、
を有するガラス原料供給装置であって、
前記フィルタ部は、第一バルブと、ガスラインフィルタと、第二バルブと、を有し、
前記気化装置は、前記第一配管の一端部に接続され、
前記第一配管の他端部は、前記第一接続継手を介して前記第一バルブの一方の開口部に接続され、
前記第一バルブの他方の開口部は、前記ガスラインフィルタのガスの流入側端部に接続され、
前記ガスラインフィルタのガスの排出側端部は、前記第二バルブの一方の開口部に接続され、
前記第二バルブの他方の開口部は、前記第二接続継手を介して前記第二配管の一端部に接続され、
前記第二配管の他端部は、前記流量制御装置に接続され、
前記フィルタ部は、前記第一接続継手および前記第二接続継手を介して、前記ガラス原料供給装置に対し着脱可能に設けられている、
ガラス原料供給装置。 - 前記第一配管および前記第二配管は、配管の途中にそれぞれ分岐部が設けられており、
前記第一配管の分岐部と、前記第二配管の分岐部とを接続するバイパス配管を有し、
前記バイパス配管は、当該バイパス配管の途中に流路を開閉する第三バルブを有する、
請求項1に記載のガラス原料供給装置。 - ガラス原料を気化させて原料ガスにする気化装置と、
前記原料ガスの流路となる第一配管と、
前記原料ガスの不純物を取り除くフィルタ部と、
不純物を取り除いた前記原料ガスの流路となる第二配管と、
前記原料ガスの流量を制御する流量制御装置と、
第一接続継手と、
第二接続継手と、
を有し、
前記フィルタ部は、第一バルブと、ガスラインフィルタと、第二バルブと、を有し、
前記気化装置は、前記第一配管の一端部に接続され、
前記第一配管の他端部は、前記第一接続継手を介して前記第一バルブの一方の開口部に接続され、
前記第一バルブの他方の開口部は、前記ガスラインフィルタのガスの流入側端部に接続され、
前記ガスラインフィルタのガスの排出側端部は、前記第二バルブの一方の開口部に接続され、
前記第二バルブの他方の開口部は、前記第二接続継手を介して前記第二配管の一端部に接続され、
前記第二配管の他端部は、前記流量制御装置に接続されている、
ガラス原料供給装置において、前記フィルタ部を交換するフィルタ交換方法であって、
前記第一バルブおよび前記第二バルブを閉状態にして、前記第一配管および第二配管の前記フィルタ部側の少なくとも一部に対して、窒素ガスを流してパージを行う第一工程と、
窒素ガスを流しながら、前記フィルタ部を当該ガラス原料供給装置から取り外す第二工程と、
前記フィルタ部と同じ構成で、前記第一バルブおよび前記第二バルブが閉状態となっている新フィルタ部を用意し、当該新フィルタ部を当該ガラス原料供給装置に取り付ける第三工程と、
前記第一バルブおよび前記第二バルブを開状態にして、前記第一配管および第二配管の前記フィルタ部側の少なくとも一部と、前記新フィルタ部内とに対して、窒素ガスによるパージを行う第四工程と、
を含む、ガラス原料供給装置のフィルタ交換方法。 - ガラス原料を気化させて原料ガスにする気化装置と、
前記原料ガスの流路となる第一配管と、
前記原料ガスの不純物を取り除くフィルタ部と、
不純物を取り除いた前記原料ガスの流路となる第二配管と、
前記原料ガスの流量を制御する流量制御装置と、
第一接続継手と、
第二接続継手と、
を有し、
前記フィルタ部は、第一バルブと、ガスラインフィルタと、第二バルブと、を有し、
前記気化装置は、前記第一配管の一端部に接続され、
前記第一配管の他端部は、前記第一接続継手を介して前記第一バルブの一方の開口部に接続され、
前記第一バルブの他方の開口部は、前記ガスラインフィルタのガスの流入側端部に接続され、
前記ガスラインフィルタのガスの排出側端部は、前記第二バルブの一方の開口部に接続され、
前記第二バルブの他方の開口部は、前記第二接続継手を介して前記第二配管の一端部に接続され、
前記第二配管の他端部は、前記流量制御装置に接続されている、
ガラス原料供給装置において、前記フィルタ部を交換するフィルタ交換方法であって、
前記第一バルブおよび前記第二バルブを閉状態にして、前記第一配管および第二配管の前記フィルタ部側の少なくとも一部に対して、窒素ガスを流してパージを行う第一工程と、
窒素ガスを流しながら、前記フィルタ部を当該ガラス原料供給装置から取り外す第二工程と、
前記フィルタ部と同じ構成で、前記第一バルブおよび前記第二バルブが閉状態となっているとともに予め窒素ガスが充填されている新フィルタ部を用意し、当該新フィルタ部を当該ガラス原料供給装置に取り付ける第三工程と、
前記第一バルブおよび前記第二バルブを閉状態のまま、前記第一配管および第二配管の前記フィルタ部側の少なくとも一部に対して、窒素ガスによるパージを行う第四工程と、
を含む、ガラス原料供給装置のフィルタ交換方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019124296A JP7310373B2 (ja) | 2019-07-03 | 2019-07-03 | ガラス原料供給装置およびガラス原料供給装置のフィルタ交換方法 |
CN202010637401.3A CN112174496A (zh) | 2019-07-03 | 2020-07-03 | 玻璃原料供给装置及玻璃原料供给装置的过滤器更换方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019124296A JP7310373B2 (ja) | 2019-07-03 | 2019-07-03 | ガラス原料供給装置およびガラス原料供給装置のフィルタ交換方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021008391A JP2021008391A (ja) | 2021-01-28 |
JP7310373B2 true JP7310373B2 (ja) | 2023-07-19 |
Family
ID=73919193
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019124296A Active JP7310373B2 (ja) | 2019-07-03 | 2019-07-03 | ガラス原料供給装置およびガラス原料供給装置のフィルタ交換方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7310373B2 (ja) |
CN (1) | CN112174496A (ja) |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1998007509A1 (fr) | 1996-08-23 | 1998-02-26 | Nikon Corporation | Procede et systeme d'alimentation en matiere liquide |
JP2000109195A (ja) | 1998-09-22 | 2000-04-18 | L'air Liquide | 液体状化学薬品の分配方法並びにシステム |
JP2001026429A (ja) | 1999-07-13 | 2001-01-30 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 石英ガラスの原料ガス供給系 |
JP2001185500A (ja) | 1990-01-08 | 2001-07-06 | Lsi Logic Corp | Cvdチャンバを現場でエッチングして清浄化するための装置及び方法 |
JP2002219351A (ja) | 2001-01-26 | 2002-08-06 | Canon Inc | 真空処理方法および真空処理装置 |
JP2003212562A (ja) | 2002-01-25 | 2003-07-30 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 多孔質ガラス母材原料ガスの供給装置 |
JP2003277072A (ja) | 2002-03-25 | 2003-10-02 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 流量調整器のサイクルパージ方法 |
JP2004207713A (ja) | 2002-12-13 | 2004-07-22 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置及び処理方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0255293A (ja) * | 1988-08-18 | 1990-02-23 | Nec Corp | 減圧気相成長装置 |
JP3186446B2 (ja) * | 1994-07-27 | 2001-07-11 | 信越化学工業株式会社 | シリカガラスの製造方法 |
JPH09306846A (ja) * | 1996-05-15 | 1997-11-28 | Hitachi Ltd | 排気装置 |
DE19818953C1 (de) * | 1998-04-28 | 1999-07-08 | Sorg Gmbh & Co Kg | Verfahren und Anordnung zum Schmelzen von Glas in U-Flammen und Querflammenwannenöfen unter Reduzierung der Gehalte an NO¶x¶ und CO in den Abgasen |
JP4868439B2 (ja) * | 2005-03-04 | 2012-02-01 | エイブル株式会社 | ガス混合装置及びガス混合方法 |
CN101772516B (zh) * | 2007-08-07 | 2012-10-10 | 花王株式会社 | 阻气用材料 |
EA017908B1 (ru) * | 2007-12-05 | 2013-04-30 | Институт Насьональ Де Ля Решерш Сьентифик | СПОСОБ ИЗВЛЕЧЕНИЯ GeClИ/ИЛИ SiClИЗ ОПТИЧЕСКИХ ВОЛОКОН ИЛИ СТЕКЛЯННЫХ ОТХОДОВ ДЛЯ ПОЛУЧЕНИЯ SiClИЗ МАТЕРИАЛОВ, СОДЕРЖАЩИХ SiO |
JP4809401B2 (ja) * | 2008-07-18 | 2011-11-09 | 信越化学工業株式会社 | 石英ガラスの製造方法及び装置 |
JP6809302B2 (ja) * | 2017-03-08 | 2021-01-06 | 住友電気工業株式会社 | ガラス微粒子堆積体の製造方法および製造装置 |
-
2019
- 2019-07-03 JP JP2019124296A patent/JP7310373B2/ja active Active
-
2020
- 2020-07-03 CN CN202010637401.3A patent/CN112174496A/zh active Pending
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001185500A (ja) | 1990-01-08 | 2001-07-06 | Lsi Logic Corp | Cvdチャンバを現場でエッチングして清浄化するための装置及び方法 |
WO1998007509A1 (fr) | 1996-08-23 | 1998-02-26 | Nikon Corporation | Procede et systeme d'alimentation en matiere liquide |
JP2000109195A (ja) | 1998-09-22 | 2000-04-18 | L'air Liquide | 液体状化学薬品の分配方法並びにシステム |
JP2001026429A (ja) | 1999-07-13 | 2001-01-30 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 石英ガラスの原料ガス供給系 |
JP2002219351A (ja) | 2001-01-26 | 2002-08-06 | Canon Inc | 真空処理方法および真空処理装置 |
JP2003212562A (ja) | 2002-01-25 | 2003-07-30 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 多孔質ガラス母材原料ガスの供給装置 |
JP2003277072A (ja) | 2002-03-25 | 2003-10-02 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 流量調整器のサイクルパージ方法 |
JP2004207713A (ja) | 2002-12-13 | 2004-07-22 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置及び処理方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN112174496A (zh) | 2021-01-05 |
JP2021008391A (ja) | 2021-01-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7310373B2 (ja) | ガラス原料供給装置およびガラス原料供給装置のフィルタ交換方法 | |
JP6809302B2 (ja) | ガラス微粒子堆積体の製造方法および製造装置 | |
KR102498115B1 (ko) | 반도체 공정 시 발생하는 반응부산물 포집 장치의 신속 교체를 통한 공정 정지 로스 감축 시스템 | |
US20040055339A1 (en) | Method for producing glass-particle deposited body | |
JP5252258B2 (ja) | 合成石英ガラス母材の製造装置及びそれを用いた合成石英ガラス母材の製造方法 | |
JP4460062B2 (ja) | 光ファイバ母材の製造方法 | |
EP1468971A1 (en) | Method of manufacturing glass particulate sedimentary body, and method of manufacturing glass base material | |
WO2020116522A1 (ja) | ガラス微粒子堆積体製造用の原料供給装置および原料供給方法 | |
CN100371276C (zh) | 用于制备光纤预型体的改进的化学气相沉积设备 | |
JP6102261B2 (ja) | ガラス合成用流体供給装置 | |
JPH08165130A (ja) | 合成石英ガラス製造装置 | |
JP6683077B2 (ja) | ガラス合成用流体供給装置 | |
JP2006219309A (ja) | 多孔質石英ガラス母材の製造方法及び装置 | |
JPH0881234A (ja) | 光ファイバ母材の製造装置 | |
JP6839558B2 (ja) | 光ファイバ多孔質母材の製造方法及び製造装置 | |
JP3143445B2 (ja) | 合成石英の製造方法 | |
JP2004131337A (ja) | 合成石英ガラスの製造装置 | |
CN111468473A (zh) | 一种vad喷灯清洁装置及其清洁方法 | |
KR200250037Y1 (ko) | 티이오에스가스공급관정화장치 | |
WO2023038124A1 (ja) | 光ファイバ用ガラス母材の製造装置および光ファイバ用ガラス母材の製造方法 | |
US11370690B2 (en) | Apparatus and method for manufacturing glass preforms for optical fibers | |
JP5479467B2 (ja) | 適応性の向上したバーナーアセンブリ及びこのバーナーアセンブリを有する炉 | |
JP4449272B2 (ja) | ガラス微粒子堆積体の製造方法 | |
CN212469084U (zh) | 一种vad喷灯清洁装置 | |
JPH0489322A (ja) | 原料供給装置に使用されている流量制御装置内の付着物除去方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220421 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20221019 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20221122 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20230120 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230320 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230606 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230619 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7310373 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |