JP3143445B2 - 合成石英の製造方法 - Google Patents
合成石英の製造方法Info
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01413—Reactant delivery systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/80—Feeding the burner or the burner-heated deposition site
- C03B2207/85—Feeding the burner or the burner-heated deposition site with vapour generated from liquid glass precursors, e.g. directly by heating the liquid
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- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、合成石英の製造方
法に関する。詳しくは、長期間、安定して高品質の合成
石英を製造する方法に関する。
法に関する。詳しくは、長期間、安定して高品質の合成
石英を製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】光ファイバプリフォームや半導体フォト
マスク等の製造に使用される合成石英は、ＶＡＤ法、Ｏ
ＶＤ法、ＭＣＶＤ法あるいはＰＣＶＤ法等により、テト
ラクロロシランやテトラクロロゲルマニウム等の原料ガ
スを酸水素炎中で加熱して、気相加水分解させるか又は
酸素ガスによって気相酸化させ、生成したガラス微粒子
を出発部材上に堆積させて製造している。合成石英の製
造において、原料ガスは、原料ガス供給装置から反応装
置に供給され、そこで気相加水分解又は気相酸化され
る。この原料ガス供給装置は一般に、精密流量制御装置
であるマスフローコントローラ、バルブ、フィルタ、継
手及び配管等から構成され、原料ガスは単独あるいはキ
ャリアガスと共に、配管及び配管部品内を流れる。
マスク等の製造に使用される合成石英は、ＶＡＤ法、Ｏ
ＶＤ法、ＭＣＶＤ法あるいはＰＣＶＤ法等により、テト
ラクロロシランやテトラクロロゲルマニウム等の原料ガ
スを酸水素炎中で加熱して、気相加水分解させるか又は
酸素ガスによって気相酸化させ、生成したガラス微粒子
を出発部材上に堆積させて製造している。合成石英の製
造において、原料ガスは、原料ガス供給装置から反応装
置に供給され、そこで気相加水分解又は気相酸化され
る。この原料ガス供給装置は一般に、精密流量制御装置
であるマスフローコントローラ、バルブ、フィルタ、継
手及び配管等から構成され、原料ガスは単独あるいはキ
ャリアガスと共に、配管及び配管部品内を流れる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
合成石英の製造方法では、キャリアガスに起因すると見
られる、配管等の内面へのパーティクルの付着や、更に
その付着物が剥れて、配管等が詰まり、そのため、原料
ガス流量の経時変化が生じて、長期間、安定して高品質
の合成石英を製造することは困難であった。また、この
パーティクルが、原料ガスを酸水素バーナ等で加熱し
て、堆積、成長させているスート上に付着するため、そ
のスートを加熱焼結して得られる透明ガラスの内部に気
泡が発生してしまい、合成石英の品質及び歩留が低下す
るという問題があった。そのため、配管等の途中にフィ
ルタを設置して、上記問題の解決を図ったが、フィルタ
自体に詰まりが生じ、また、フィルタより下流でもパー
ティクルの発生があるので、上記問題を完全に解決をす
ることはできなかった。さらに、合成石英の製造におい
て、反応停止時には、配管及び配管部品内に残留してい
る原料ガスを、パージガスによりパージするのが一般的
であるがその場合もキャリアガスの場合と同様の問題が
生じた。そこで、本発明は、キャリアガスやパージガス
に起因して発生するパーティクルの付着を防止し、気泡
のない良好な品質をもつ合成石英を、長期間、安定して
製造できる方法の提供を目的とする。
合成石英の製造方法では、キャリアガスに起因すると見
られる、配管等の内面へのパーティクルの付着や、更に
その付着物が剥れて、配管等が詰まり、そのため、原料
ガス流量の経時変化が生じて、長期間、安定して高品質
の合成石英を製造することは困難であった。また、この
パーティクルが、原料ガスを酸水素バーナ等で加熱し
て、堆積、成長させているスート上に付着するため、そ
のスートを加熱焼結して得られる透明ガラスの内部に気
泡が発生してしまい、合成石英の品質及び歩留が低下す
るという問題があった。そのため、配管等の途中にフィ
ルタを設置して、上記問題の解決を図ったが、フィルタ
自体に詰まりが生じ、また、フィルタより下流でもパー
ティクルの発生があるので、上記問題を完全に解決をす
ることはできなかった。さらに、合成石英の製造におい
て、反応停止時には、配管及び配管部品内に残留してい
る原料ガスを、パージガスによりパージするのが一般的
であるがその場合もキャリアガスの場合と同様の問題が
生じた。そこで、本発明は、キャリアガスやパージガス
に起因して発生するパーティクルの付着を防止し、気泡
のない良好な品質をもつ合成石英を、長期間、安定して
製造できる方法の提供を目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記課題を
解決するため鋭意検討した結果、キャリアガスあるいは
パージガス中に含まれる水分が多いと、配管及び配管部
品内で、原料ガスが加水分解され、それによって生成し
たパーティクルが上記問題を引き起こすことを見いだ
し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、
原料ガスを気相加水分解又は気相酸化させて生成したガ
ラス微粒子を出発部材上に堆積させる合成石英の製造方
法において、原料ガスに同伴するキャリアガス及びパー
ジガスの含有水分量を１０μｇ／ｌ以下、望ましくは１
μｇ／ｌ以下とすることを特徴とする合成石英の製造方
法である。
解決するため鋭意検討した結果、キャリアガスあるいは
パージガス中に含まれる水分が多いと、配管及び配管部
品内で、原料ガスが加水分解され、それによって生成し
たパーティクルが上記問題を引き起こすことを見いだ
し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、
原料ガスを気相加水分解又は気相酸化させて生成したガ
ラス微粒子を出発部材上に堆積させる合成石英の製造方
法において、原料ガスに同伴するキャリアガス及びパー
ジガスの含有水分量を１０μｇ／ｌ以下、望ましくは１
μｇ／ｌ以下とすることを特徴とする合成石英の製造方
法である。
【０００５】
【発明の実施の形態】本発明の特徴は、ＶＡＤ法やＯＶ
Ｄ法等の一般的な合成石英の製造方法において、上記し
たように、キャリアガス及びパージガスの含有水分量を
１０μｇ／ｌ以下、望ましくは１μｇ／ｌ以下とする点
にある。これにより、上記ガスに起因するパーティクル
による配管等の詰まりや合成石英内の気泡の発生を防止
することができる。含有水分量を上記範囲にまで低減さ
せる方法としては、上記ガスを超高純度精製装置で精製
するなどの方法がある。
Ｄ法等の一般的な合成石英の製造方法において、上記し
たように、キャリアガス及びパージガスの含有水分量を
１０μｇ／ｌ以下、望ましくは１μｇ／ｌ以下とする点
にある。これにより、上記ガスに起因するパーティクル
による配管等の詰まりや合成石英内の気泡の発生を防止
することができる。含有水分量を上記範囲にまで低減さ
せる方法としては、上記ガスを超高純度精製装置で精製
するなどの方法がある。
【０００６】キャリアガスは、原料ガスを酸水素火炎中
で気相加水分解させるか、又は酸素ガスによって気相酸
化させるため、原料ガスと共に原料ガス供給装置から反
応装置に供給される。キャリアガスとしては、アルゴ
ン、ヘリウム、酸素、水素等が使用される。原料ガス
は、精密流量制御装置等によりコントロールされたキャ
リアガスにより液体原料をバブリング気化して、キャリ
アガスに同伴させるか、又は液体原料を蒸発器等で加熱
蒸発させてキャリアガスに同伴させることにより調製さ
れる。液体原料としてはテトラクロロシラン及び／又は
テトラクロロゲルマニウムが使用される。
で気相加水分解させるか、又は酸素ガスによって気相酸
化させるため、原料ガスと共に原料ガス供給装置から反
応装置に供給される。キャリアガスとしては、アルゴ
ン、ヘリウム、酸素、水素等が使用される。原料ガス
は、精密流量制御装置等によりコントロールされたキャ
リアガスにより液体原料をバブリング気化して、キャリ
アガスに同伴させるか、又は液体原料を蒸発器等で加熱
蒸発させてキャリアガスに同伴させることにより調製さ
れる。液体原料としてはテトラクロロシラン及び／又は
テトラクロロゲルマニウムが使用される。
【０００７】パージガスは、合成石英の製造反応を停止
した時に、精密流量制御装置や配管等の内部に残留して
いる原料ガスをパージするためのガスである。本発明で
は、パージガスもキャリアガスの場合と同様に、含有水
分量を１０μｇ／ｌ以下、望ましくは１μｇ／ｌ以下に
する。パージガスとしては、窒素、ヘリウム又はアルゴ
ン等の不活性ガスが使用される。
した時に、精密流量制御装置や配管等の内部に残留して
いる原料ガスをパージするためのガスである。本発明で
は、パージガスもキャリアガスの場合と同様に、含有水
分量を１０μｇ／ｌ以下、望ましくは１μｇ／ｌ以下に
する。パージガスとしては、窒素、ヘリウム又はアルゴ
ン等の不活性ガスが使用される。
【０００８】
【実施例】以下、本発明を実施例、比較例をもって具体
的に説明する。本発明はこれらの実施例に限定されるも
のではない。 （実施例１）図１に示した製造装置を用いて、ＶＡＤ法
によりシングルモード光ファイバプリフォーム１２を製
造した。原料ガスとして、テトラクロロシラン及びテト
ラクロロゲルマニウムを使用し、０．１ＭＰａの圧力に
て、各原料ガスの流量をマスフローコントローラ４、５
により制御し、その後、含有水分量が０．６μｇ／ｌの
アルゴンガスをキャリアガス１３として原料ガスに混合
し、ＶＡＤ装置に供給した。このアルゴンガスは、通常
の液化アルゴンを気化させて得られたアルゴンガスを、
更に超高純度精製装置により精製して、特に含有水分量
を上記量にまで低減させたものを用いた。また、反応停
止時には、上記のマスフローコントローラ４、５を用い
て、パージガス（窒素ガス）１４により、原料ガスのパ
ージを行った。窒素ガスは、空気分離装置で発生させ、
アルゴンガスと同様に、超高純度精製装置で精製して、
特に含有水分量を０．６μｇ／ｌまで低減させたものを
用いた。また、マスフローコントローラのすぐ上流及び
ＶＡＤ装置の手前には、有効開口径が０．５μｍのテフ
ロンメンブレン製のフィルタ１５を設置した。その結
果、１バッチ当たり２４時間、連続８０００時間にわた
りメンテナンスなしで製造を行ったが、フィルタ、マス
フローコントローラ、バルブ等で詰まりに起因するトラ
ブルの発生は皆無であった。また、得られたシングルモ
ード光ファイバプリフォームは、いずれも１バッチ中の
長手方向の特性安定性、バッチ間の特性安定性とも極め
て良好で、配管内からのパーティクルの飛散によって生
じる気泡も皆無であった。その後も、約４年間にわたり
メンテナンスなしで製造が可能であった。また、８００
０時間毎の定期修理時に、配管内の汚れ状態の確認を行
ったが、内面は鏡面のままで、付着物は全くなかった。
的に説明する。本発明はこれらの実施例に限定されるも
のではない。 （実施例１）図１に示した製造装置を用いて、ＶＡＤ法
によりシングルモード光ファイバプリフォーム１２を製
造した。原料ガスとして、テトラクロロシラン及びテト
ラクロロゲルマニウムを使用し、０．１ＭＰａの圧力に
て、各原料ガスの流量をマスフローコントローラ４、５
により制御し、その後、含有水分量が０．６μｇ／ｌの
アルゴンガスをキャリアガス１３として原料ガスに混合
し、ＶＡＤ装置に供給した。このアルゴンガスは、通常
の液化アルゴンを気化させて得られたアルゴンガスを、
更に超高純度精製装置により精製して、特に含有水分量
を上記量にまで低減させたものを用いた。また、反応停
止時には、上記のマスフローコントローラ４、５を用い
て、パージガス（窒素ガス）１４により、原料ガスのパ
ージを行った。窒素ガスは、空気分離装置で発生させ、
アルゴンガスと同様に、超高純度精製装置で精製して、
特に含有水分量を０．６μｇ／ｌまで低減させたものを
用いた。また、マスフローコントローラのすぐ上流及び
ＶＡＤ装置の手前には、有効開口径が０．５μｍのテフ
ロンメンブレン製のフィルタ１５を設置した。その結
果、１バッチ当たり２４時間、連続８０００時間にわた
りメンテナンスなしで製造を行ったが、フィルタ、マス
フローコントローラ、バルブ等で詰まりに起因するトラ
ブルの発生は皆無であった。また、得られたシングルモ
ード光ファイバプリフォームは、いずれも１バッチ中の
長手方向の特性安定性、バッチ間の特性安定性とも極め
て良好で、配管内からのパーティクルの飛散によって生
じる気泡も皆無であった。その後も、約４年間にわたり
メンテナンスなしで製造が可能であった。また、８００
０時間毎の定期修理時に、配管内の汚れ状態の確認を行
ったが、内面は鏡面のままで、付着物は全くなかった。
【０００９】（実施例２）超高純度精製装置により、ア
ルゴンガスと窒素ガスの含有水分量を、それぞれ５．５
μｇ／ｌにまで低減させた以外は、実施例１と同様にし
て、ＶＡＤ法によりシングルモード光ファイバプリフォ
ームを製造した。その結果、１バッチ当たり２４時間、
連続８０００時間にわたりメンテナンスなしで製造を行
ったが、ＶＡＤ装置のバーナー７の手前に設置してある
フィルタ１５の圧損が、設備の運転開始当初の０．００
５ＭＰａから、８０００時間後に０．０２０ＭＰａへ上
昇した点を除き、マスフローコントローラ、バルブ等で
詰まりに起因するトラブルの発生は皆無であった。ま
た、上記のフィルタの詰まりも、原料ガスの流量に影響
を与えるレベルには至らず、得られたシングルモード光
ファイバプリフォームは、いずれも１バッチ中の長手方
向の特性安定性、バッチ間の特性安定性とも極めて良好
で、配管内からのパーティクルの飛散によって生じる気
泡の発生も皆無であった。また、８０００時間毎の定期
修理時に、配管内の汚れ状態の確認を行ったが、内面が
若干曇っており、ごく薄い付着物が存在しているようで
あるが、パーティクルが飛散する可能性はないことが確
認できた。
ルゴンガスと窒素ガスの含有水分量を、それぞれ５．５
μｇ／ｌにまで低減させた以外は、実施例１と同様にし
て、ＶＡＤ法によりシングルモード光ファイバプリフォ
ームを製造した。その結果、１バッチ当たり２４時間、
連続８０００時間にわたりメンテナンスなしで製造を行
ったが、ＶＡＤ装置のバーナー７の手前に設置してある
フィルタ１５の圧損が、設備の運転開始当初の０．００
５ＭＰａから、８０００時間後に０．０２０ＭＰａへ上
昇した点を除き、マスフローコントローラ、バルブ等で
詰まりに起因するトラブルの発生は皆無であった。ま
た、上記のフィルタの詰まりも、原料ガスの流量に影響
を与えるレベルには至らず、得られたシングルモード光
ファイバプリフォームは、いずれも１バッチ中の長手方
向の特性安定性、バッチ間の特性安定性とも極めて良好
で、配管内からのパーティクルの飛散によって生じる気
泡の発生も皆無であった。また、８０００時間毎の定期
修理時に、配管内の汚れ状態の確認を行ったが、内面が
若干曇っており、ごく薄い付着物が存在しているようで
あるが、パーティクルが飛散する可能性はないことが確
認できた。
【００１０】（比較例１）超高純度精製装置により、ア
ルゴンガスと窒素ガスの含有水分量を低減させなかった
以外は、実施例１と同様にして、ＶＡＤ法によりシング
ルモード光ファイバプリフォームを製造した。この時、
アルゴンガスと窒素ガスの含有水分量を測定したとこ
ろ、アルゴンガスは１０．９μｇ／ｌ、窒素ガスは２
０．６μｇ／ｌであった。その結果、１バッチ当たり２
４時間、連続４０００時間まではメンテナンスなしで製
造を行ったが、４０００時間を過ぎたあたりから、マス
フローコントローラの上流とＶＡＤ装置のバーナーの手
前に設置してあるフィルタの圧損がいずれも上昇し始
め、それに伴い、原料ガスの実流量が徐々に低下し始め
た。そして、２２０バッチ目で入口側フィルタの圧損
が、設備の運転開始当初の０．００５ＭＰａから０．０
２０ＭＰａへ上昇し、設定値の９７％まで原料ガスの流
量が低下したが、マスフローコントローラの微調整を行
いながら製造を継続した。その結果、８０００時間の時
点で、入口側フィルタの圧損が０．０２０ＭＰａまで上
昇し、また、バーナーの手前に設置してあるフィルタの
圧損が０．０３５ＭＰａまで上昇して、原料ガスの流量
が設定値の９５％まで低下したので定期修理時に両フィ
ルタと配管の一部を交換する必要性が生じた。 得られ
たシングルモード光ファイバプリフォームは、バッチ間
の特性についてややバラツキが認められたものの、それ
らは許容範囲内であり問題はなかったが配管内からのパ
ーティクルの飛散が原因と考えられる気泡が見られた。
また、配管内の汚れ状態を調べたところ、配管の内面に
皮膜状の付着物が存在しており、一部が剥れている状態
が確認できたので、マスフローコントローラの上流の原
料ガスとパージガスの切替バルブから、下流の配管及び
配管部分を全て交換した。
ルゴンガスと窒素ガスの含有水分量を低減させなかった
以外は、実施例１と同様にして、ＶＡＤ法によりシング
ルモード光ファイバプリフォームを製造した。この時、
アルゴンガスと窒素ガスの含有水分量を測定したとこ
ろ、アルゴンガスは１０．９μｇ／ｌ、窒素ガスは２
０．６μｇ／ｌであった。その結果、１バッチ当たり２
４時間、連続４０００時間まではメンテナンスなしで製
造を行ったが、４０００時間を過ぎたあたりから、マス
フローコントローラの上流とＶＡＤ装置のバーナーの手
前に設置してあるフィルタの圧損がいずれも上昇し始
め、それに伴い、原料ガスの実流量が徐々に低下し始め
た。そして、２２０バッチ目で入口側フィルタの圧損
が、設備の運転開始当初の０．００５ＭＰａから０．０
２０ＭＰａへ上昇し、設定値の９７％まで原料ガスの流
量が低下したが、マスフローコントローラの微調整を行
いながら製造を継続した。その結果、８０００時間の時
点で、入口側フィルタの圧損が０．０２０ＭＰａまで上
昇し、また、バーナーの手前に設置してあるフィルタの
圧損が０．０３５ＭＰａまで上昇して、原料ガスの流量
が設定値の９５％まで低下したので定期修理時に両フィ
ルタと配管の一部を交換する必要性が生じた。 得られ
たシングルモード光ファイバプリフォームは、バッチ間
の特性についてややバラツキが認められたものの、それ
らは許容範囲内であり問題はなかったが配管内からのパ
ーティクルの飛散が原因と考えられる気泡が見られた。
また、配管内の汚れ状態を調べたところ、配管の内面に
皮膜状の付着物が存在しており、一部が剥れている状態
が確認できたので、マスフローコントローラの上流の原
料ガスとパージガスの切替バルブから、下流の配管及び
配管部分を全て交換した。
【００１１】
【発明の効果】本発明により、気相法による合成石英の
製造において、原料ガス、キャリアガス及びパージガス
が流れる配管部分等の詰まりに起因するガス流量の変動
や経時変化を防止することができ、配管等の内部で生成
したパーティクルの飛散が原因と考えられる気泡の発生
も防止することができる。それにより、使用装置のメン
テナンスの周期を延長することができ、頻繁なメンテナ
ンスが不要となる。その結果、長期間、安定して高品質
の合成石英を製造することができる。
製造において、原料ガス、キャリアガス及びパージガス
が流れる配管部分等の詰まりに起因するガス流量の変動
や経時変化を防止することができ、配管等の内部で生成
したパーティクルの飛散が原因と考えられる気泡の発生
も防止することができる。それにより、使用装置のメン
テナンスの周期を延長することができ、頻繁なメンテナ
ンスが不要となる。その結果、長期間、安定して高品質
の合成石英を製造することができる。
【図１】本発明に使用される製造装置の１例の縦断面図
である。
である。
１、２…バブラー、３…切替バルブ、４、５…マスフロ
ーコントローラ、６…燃焼ガス、７…バーナ、８…排気
口、９…反応容器、１０…出発基材、１１…回転引上装
置、１２…光ファイバプリフォーム、１３…キャリアガ
ス、１４…パージガス、１５…フィルタ
ーコントローラ、６…燃焼ガス、７…バーナ、８…排気
口、９…反応容器、１０…出発基材、１１…回転引上装
置、１２…光ファイバプリフォーム、１３…キャリアガ
ス、１４…パージガス、１５…フィルタ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 島田 忠克 群馬県安中市磯部２丁目３番１号 信越 化学工業株式会社 精密機能材料研究所 内 (72)発明者 平沢 秀夫 群馬県安中市磯部２丁目３番１号 信越 化学工業株式会社 精密機能材料研究所 内 (56)参考文献 特開 昭64−83664（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−319980（ＪＰ，Ａ) 実公 平３−22257（ＪＰ，Ｙ２) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C03B 8/04 C03B 37/018
Claims (6)
- 【請求項１】 原料ガスを気相加水分解又は気相酸化さ
せて生成したガラス微粒子を出発部材上に堆積させる合
成石英の製造方法において、該原料ガスに同伴するキャ
リアガスの含有水分量を１０μｇ／ｌ以下とすることを
特徴とする合成石英の製造方法。 - 【請求項２】 原料ガスが、液体原料をキャリアガスで
バブリング気化したものである請求項１記載の製造方
法。 - 【請求項３】 原料ガスが、液体原料を加熱により気化
させたものである請求項１記載の製造方法。 - 【請求項４】 原料ガスを気相加水分解又は気相酸化さ
せて生成したガラス微粒子を出発部材上に堆積させる合
成石英の製造方法において、該原料ガスをパージするた
めのパージガスの含有水分量を１０μｇ／ｌ以下とする
ことを特徴とする合成石英の製造方法。 - 【請求項５】 合成石英が光ファイバプリフォームであ
る請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の製造方
法。 - 【請求項６】 液体原料が、テトラクロロシラン及び／
又はテトラクロロゲルマニウムである請求項２又は３記
載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11065825A JP3143445B2 (ja) | 1999-03-12 | 1999-03-12 | 合成石英の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11065825A JP3143445B2 (ja) | 1999-03-12 | 1999-03-12 | 合成石英の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000264648A JP2000264648A (ja) | 2000-09-26 |
| JP3143445B2 true JP3143445B2 (ja) | 2001-03-07 |
Family
ID=13298203
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11065825A Expired - Fee Related JP3143445B2 (ja) | 1999-03-12 | 1999-03-12 | 合成石英の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3143445B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20210246065A1 (en) * | 2018-06-15 | 2021-08-12 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Method for producing glass particulate deposit |
| JP7058627B2 (ja) * | 2019-06-11 | 2022-04-22 | 信越化学工業株式会社 | 光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造装置および製造方法 |
| JP7428632B2 (ja) * | 2020-12-14 | 2024-02-06 | 信越化学工業株式会社 | 多孔質ガラス母材の製造方法及び製造装置 |
-
1999
- 1999-03-12 JP JP11065825A patent/JP3143445B2/ja not_active Expired - Fee Related
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|---|---|
| JP2000264648A (ja) | 2000-09-26 |
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