JP7299350B2 - Rip-1キナーゼ阻害剤としての二環式化合物およびその使用 - Google Patents

Rip-1キナーゼ阻害剤としての二環式化合物およびその使用 Download PDF

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Description

<関連出願への相互参照>
本出願は、2019年05月31日に出願されたCN201910471672.3、2019年11月08日に出願されたCN201911089490.6および2020年05月20日に出願されたCN202010432710.7に基づく優先権を主張する。
<技術分野>
本発明は、式(I)で表われる化合物、その異性体またはその薬学的に許容される塩二関し、さらに、RIP-1(受容体共役タンパク質)キナーゼに関連する疾患を治療するための医薬の調製におけるそれらの使用に関する。
RIP1は、細胞の壊死とアポトーシスを調節する重要な上流キナーゼであり、また、複数の炎症シグナル伝達経路にも関与し、TNFおよびTLRファミリーリガンドによって刺激されて炎症反応を引き起こすことができる(Weinlich,R.Nat.Rev.Mol.Cell.Biol.2017,18,127;Pasparakis M.et al.Nature 2015,517,311;Berger,S.B.Cell Death Discovery,2016,2,e16056)。RIP1は、TNF受容体1を介して複数の炎症シグナル伝達経路[Fasリガンド、TNF関連アポトーシス誘導リガンド(TNF-related apoptosisinducingligand, TRAIL)、TLR3およびTLR4]を駆動する(Lukens J.R.,et al.Nature,2013,498,224)。RIP1の活性を阻害することは、多くの炎症性疾患の治療手段として使用することができる。
本発明は、式(I)で表われる化合物、その異性体またはその薬学的に許容される塩を提供する。
Figure 0007299350000001
ただし、
はNとCR1tから選択され;
はNとCR2tから選択され;
はNとCR3tから選択され;
はNとCR4tから選択され;
はC(R1e、O、C(=O)、SおよびNR2eから選択され;
環Aは、1,2,4-トリアゾリル、1,2,3-トリアゾリル、イミダゾリル、イソキサゾリル、1,3,4-オキサジアゾリル、
Figure 0007299350000002
テトラゾリル、ピリジル、および
Figure 0007299350000003
からなる群から選択され、前記1,2,4-トリアゾリル、1,2,3-トリアゾリル、イミダゾリル、イソキサゾリル、1,3,4-オキサジアゾリル、
Figure 0007299350000004
テトラゾリル、ピリジル、および
Figure 0007299350000005
が、1個、2個または3個のハロゲンまたはC1-3アルキルで置換されていてもよく;
環Bは、フェニルおよび
Figure 0007299350000006
から選択され;
Lは、単結合、O、C(=O)、S、NHおよびC1-3アルキルからなる群から選択され、ここで、前記C1-3アルキルが、1個、2個または3個のRで置換されていてもよく;
は、HおよびC1-3アルキルから選択され、ここで、前記C1-3アルキルが、1個、2個または3個のRで置換されていてもよく;
1t、R2t、R3tおよびR4tは、それぞれ独立して、H、F、Cl、Br、I、OH、CN、NH、C1-3アルキル、COOHおよび-C(=O)NHからなる群から選択され、ここで、前記C1-3アルキルが、1個、2個または3個のRで置換されていてもよく;
1eは、それぞれ独立して、H、F、Cl、Br、I、OH、CN、NHおよびC1-3アルキルからなる群から選択され、ここで、前記C1-3アルキルが、1個、2個または3個のRで置換されていてもよく;
2eは、HおよびC1-3アルキルから選択され、ここで、前記C1-3アルキルが、1個、2個または3個のRで置換されていてもよく;
は、それぞれ独立して、H、F、Cl、Br、I、OH、NH、CN、C1-3アルキル、およびC1-3アルコキシからなる群から選択され、ここで、前記C1-3アルキルおよびC1-3アルコキシが、1個、2個または3個のRで置換されていてもよく;
nは1、2、3、4または5であり;
、R、R、R、RおよびRは、それぞれ独立して、F、Cl、Br、I、OH、CN、NHおよびDからなる群から選択される。
本発明は、式(I)で表われる化合物、その異性体またはその薬学的に許容される塩を提供する。
Figure 0007299350000007
ただし、
はNとCR1tから選択され;
はNとCR2tから選択され;
はNとCR3tから選択され;
はNとCR4tから選択され;
はC(R1e、O、C(=O)、SおよびNR2eから選択され;
環Aは、1,2,4-トリアゾリル、1,2,3-トリアゾリル、イミダゾリル、イソキサゾリル、1,3,4-オキサジアゾリル、および
Figure 0007299350000008
からなる群から選択され、前記1,2,4-トリアゾリル、1,2,3-トリアゾリル、イミダゾリル、イソキサゾリル、1,3,4-オキサジアゾリル、および
Figure 0007299350000009
が、1個、2個または3個のハロゲンまたはC1-3アルキルで置換されていてもよく;
環Bはフェニルであり;
Lは、単結合、O、C(=O)、S、NHおよびC1-3アルキルからなる群から選択され、ここで、前記C1-3アルキルが、1個、2個または3個のRで置換されていてもよく;
は、HおよびC1-3アルキルから選択され、ここで、前記C1-3アルキルが、1個、2個または3個のRで置換されていてもよく;
1t、R2t、R3tおよびR4tは、それぞれ独立して、H、F、Cl、Br、I、OH、CN、NHおよびC1-3アルキルからなる群から選択され、ここで、前記C1-3アルキルが、1個、2個または3個のRで置換されていてもよく;
1eは、それぞれ独立して、H、F、Cl、Br、I、OH、CN、NHおよびC1-3アルキルからなる群から選択され、ここで、前記C1-3アルキルが、1個、2個または3個のRで置換されていてもよく;
2eは、HおよびC1-3アルキルから選択され、ここで、前記C1-3アルキルが、1個、2個または3個のRで置換されていてもよく;
は、それぞれ独立して、H、F、Cl、Br、I、OH、NH、CNおよびC1-3アルキルからなる群から選択され、ここで、前記C1-3アルキルが、1個、2個または3個のRで置換されていてもよく;
nは1、2、3、4または5であり;
、R、R、R、RおよびRは、それぞれ独立して、F、Cl、Br、I、OH、CN、NHおよびDからなる群から選択される。
本発明は、式(I)で表われる化合物、その異性体またはその薬学的に許容される塩を提供する。
Figure 0007299350000010
ただし、
はNまたはCR1tであり;
はNまたはCR2tであり;
はNまたはCR3tであり;
はNまたはCR4tであり;
はC(R1e、O、C(=O)、SまたはNR2eであり;
環Aは、C1-3アルキルで置換されていてもよい5員ヘテロアリールであり;
環Bは、フェニルまたは6員ヘテロアリールであり;
Lは、O、C(=O)、S、NHまたはC1-3アルキルであり、ここで、前記C1-3アルキルが、1個、2個または3個のRで置換されていてもよく;
は、HおよびC1-3アルキルから選択され、ここで、前記C1-3アルキルが、1個、2個または3個のRで置換されていてもよく;
1t、R2t、R3tおよびR4tは、それぞれ独立して、H、F、Cl、Br、I、OH、CN、NHおよびC1-3アルキルからなる群から選択され、ここで、前記C1-3アルキルが、1個、2個または3個のRで置換されていてもよく;
1eは、それぞれ独立して、H、F、Cl、Br、I、OH、CN、NHおよびC1-3アルキルからなる群から選択され、ここで、前記C1-3アルキルが、1個、2個または3個のRで置換されていてもよく;
2eは、HおよびC1-3アルキルから選択され、ここで、前記C1-3アルキルが、1個、2個または3個のRで置換されていてもよく;
は、それぞれ独立して、H、F、Cl、Br、I、OH、NH、CNおよびC1-3アルキルからなる群から選択され、ここで、前記C1-3アルキルが、1個、2個または3個のRで置換されていてもよく;
nは1、2、3、4または5であり;
、R、R、R、RおよびRは、それぞれ独立して、F、Cl、Br、I、OH、CNおよびNHからなる群から選択される。
本発明の一部の実施形態において、上記のRはHおよびCHから選択され、ここで、前記CHが、1個、2個または3個のRで置換されていてもよく,他の変数は本発明で定義した通りである。
本発明の一部の実施形態において、上記のRはH、CHおよびCDから選択され、他の変数は本発明で定義した通りである。
本発明の一部の実施形態において、上記のRはHおよびCHから選択され、他の変数は本発明で定義した通りである。
本発明の一部の実施形態において、上記のR1t、R2t、R3tおよびR4tは、それぞれ独立してH、F、Cl、Br、I、OH、CN、NH、CH、COOHおよび-C(=O)NHからなる群から選択され、ここで、前記CHが、1個、2個または3個のRで置換されていてもよく,他の変数は本発明で定義した通りである。
本発明の一部の実施形態において、上記のR1t、R2t、R3tおよびR4tは、それぞれ独立してH、F、Cl、Br、I、OH、CN、NHおよびCHからなる群から選択され、ここで、前記CHが、1個、2個または3個のRで置換されていてもよく、他の変数は本発明で定義した通りである。
本発明の一部の実施形態において、上記のR1t、R2t、R3tおよびR4tは、それぞれ独立してH、F、Cl、Br、I、OH、CN、NHおよびCHからなる群から選択され、他の変数は本発明で定義した通りである。
本発明の一部の実施形態において、上記のR1eは、それぞれ独立して、H、F、Cl、Br、I、OH、CN、NHおよびCHからなる群から選択され、他の変数は本発明で定義した通りである。
本発明の一部の実施形態において、上記のR2eはHおよびCHから選択され、他の変数は本発明で定義した通りである。
本発明の一部の実施形態において、上記のEは、CH、O、C(=O)、SまたはNHであり、他の変数は本発明で定義した通りである。
本発明の一部の実施形態において、上記のRは、それぞれ独立してH、F、Cl、Br、I、OH、NH、CN、CHおよびOCHからなる群から選択され、ここで、前記CHおよびOCHが1個、2個または3個のRで置換されていてもよく、他の変数は本発明で定義した通りである。
本発明の一部の実施形態において、上記のRは、それぞれ独立してH、F、Cl、Br、I、OH、NH、CN、CH、OCH、CFおよびOCFからなる群から選択され、他の変数は本発明で定義した通りである。
本発明の一部の実施形態において、上記のRは、それぞれ独立してH、F、Cl、Br、I、OH、NHおよびCNからなる群から選択され、他の変数は本発明で定義した通りである。
本発明の一部の実施形態において、上記の環Aは、
Figure 0007299350000011
からなる群から選択され、前記の
Figure 0007299350000012
が、1個、2個または3個のハロゲンまたはC1-3アルキルで置換されていてもよく、他の変数は本発明で定義した通りである。
本発明の一部の実施形態において、上記の環Aは、
Figure 0007299350000013
Figure 0007299350000014
からなる群から選択される。
本発明の一部の実施形態において、上記の環Aは、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、フリル、チエニル、オキサゾリル、イソキサゾリル、チアゾリル、1,2,3-トリアゾリル、1,2,4-トリアゾリル、又は1,3,4-チアジアゾリルであり、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、フリル、チエニル、オキサゾリル、イソキサゾリル、チアゾリル、1,2,3-トリアゾリル、1,2,4-トリアゾリル、又は1,3,4-チアジアゾリルが、C1-3アルキルで置換されていてもよく、他の変数は本発明で定義した通りである。
本発明の一部の実施形態において、上記のLは単結合、-CH-および-O-から選択され、他の変数は本発明で定義した通りである。
本発明の一部の実施形態において、上記のLは単結合および-CH-から選択され、他の変数は本発明で定義した通りである。
本発明の一部の実施形態において、上記の環Aは、
Figure 0007299350000015
であり、他の変数は本発明で定義した通りである。
本発明の一部の実施形態において、上記の環Bは、フェニルまたはピリジルであり、他の変数は本発明で定義した通りである。
また、本発明は、上記のそれぞれの変数を任意に組み合わせることによって得られるものを含む。
本発明の一部の実施形態において、以下の群から選択される上記の化合物、その異性体またはその薬学的に許容される塩を提供する。
Figure 0007299350000016
Figure 0007299350000017
ここで、
n、T、T、T、R、RおよびRは本発明で定義した通りであり;
「*」が付いた炭素原子はキラル炭素原子であり、単一の(R)または(S)エナンチオマーまたは1つのエナンチオマーが豊富な混合物の形で存在する。
本発明の一部の実施形態において、以下の群から選択される上記の化合物、その異性体またはその薬学的に許容される塩を提供する。
Figure 0007299350000018
ここで、
n、T、T、T、R、RおよびRは本発明で定義した通りであり。
また、本発明は、以下の化合物、その異性体またはその薬学的に許容される塩を提供する。
Figure 0007299350000019
Figure 0007299350000020
Figure 0007299350000021
Figure 0007299350000022
本発明の一部の実施形態において、以下の群から選択される上記の化合物、その異性体またはその薬学的に許容される塩を提供する。
Figure 0007299350000023
Figure 0007299350000024
Figure 0007299350000025
さらに、本発明は、RIP-1キナーゼに関連する疾患を治療するための医薬の調製における上記の化合物、その異性体またはその薬学的に許容される塩の使用を提供する。
本発明化合物は、新規RIP-1キナーゼ阻害剤として、TNFα/QVD-OPhによって誘導されるU937細胞のプログラム細胞ネクロトーシス(Necroptosis)に対して良好な阻害効果を有し;また、TNFαによって誘導される全身性炎症反応症候群(TNF-driven systemic inflammatory response syndrome)のモデルにおいて、優れたマウスの体温低下の抑制効果を示す。
定義と用語
特に明記しない限り、本明細書で使用される以下の用語は、以下の意味を有することを意図している。特定の用語は、特定の定義がない場合に、不定または不明瞭と見なされるべきではないが、通常の意味で理解されるべきである。本明細書に商品名が記載される場合、その対応する商品またはその活性成分を指す。
ここで、用語「薬学的に許容される」とは、これらの化合物、材料、組成物、および/または剤形について、信頼性のある医学的判断の範囲内で、ヒトおよび動物の組織と接触して使用することに適し、過度の毒性、刺激、アレルギー反応または他の問題または合併症を伴うことなく、合理的な利益/リスク比に見合うことをいう。
用語「薬学的に許容される塩」とは、本発明で発見された特定の置換基を有する化合物を比較的毒性のない酸または塩基と反応させることで調製される本発明の化合物の塩を指す。本発明の化合物が比較的酸性の官能基を含む場合、純粋な溶液または適宜な不活性溶媒中で、このような化合物が中性形態として十分な量の塩基と接触させることで、塩基付加塩が得られる。薬学的に許容される塩基付加塩は、ナトリウム、カリウム、カルシウム、アンモニウム、有機アミンもしくはマグネシウムの塩、または類似の塩を含む。本発明の化合物が比較的塩基性の官能基を含む場合、純粋な溶液または適宜な不活性溶媒中で、このような化合物が中性形態として十分な量の酸と接触させることで、酸付加塩を得ることができる。薬学的に許容される酸付加塩は、無機酸塩と有機酸塩を含む。上記の無機酸塩として、例えば、塩酸、臭化水素酸、硝酸、炭酸、重炭酸塩、リン酸、リン酸一水素塩、リン酸二水素塩、硫酸、硫酸水素塩、ヨウ化水素酸、亜リン酸などの無機酸塩が挙げられる。上記の有機酸塩として、例えば、酢酸、プロピオン酸、イソ酪酸、マレイン酸、マロン酸、安息香酸、コハク酸、スベリン酸、フマル酸、乳酸、マンデル酸、フタル酸、ベンゼンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸、クエン酸、酒石酸、メタンスルホン酸などの類似の酸の塩や、アミノ酸(例えばアルギニンなど)の塩、およびグルクロン酸などの有機酸の塩が挙げられる。本発明の一部の特定の化合物は、塩基性官能基と酸性官能基の両方を含むため、塩基付加塩または酸付加塩のいずれかに変換することができる。
本発明の薬学的に許容される塩は、通常の化学的方法によって酸性または塩基性部分を含む親化合物から調製することができる。一般的に、このような塩は、水または有機溶媒或いは両者の混合物中で、これらの化合物を遊離酸または塩基として化学量論量の適宜な塩基または酸と反応させることにで調製される。
特に明記しない限り、「異性体」という用語は、幾何異性体、シス-トランス異性体、立体異性体、鏡像異性体、光学異性体、ジアステレオマー、および互変異性体を含むことを意図している。
本発明の化合物は、特定の幾何異性体または立体異性体として存在してもよい。本発明では、シスとトランス異性体、(-)と(+)エナンチオマー、(R)と(S)エナンチオマー、ジアステレオ異性体、(D)異性体、(L)異性体、およびそのラセミ混合物、他の混合物、例えばエナンチオマーまたはジアステレオ異性体が豊富な混合物を含むすべてのこのような化合物が想定される。これらはすべて本発明の範囲内に含まれる。アルキル基などの置換基は、さらなる不斉炭素原子を有していてもよい。これらの異性体およびそれらの混合物はすべて、本発明の範囲内に含まれる。
特に明記しない限り、「エナンチオマー」または「光学異性体」という用語は、互いに鏡像関係にある立体異性体を指す。
特に明記しない限り、「シス-トランス異性体」または「幾何異性体」という用語は、二重結合や環形成炭素原子間の単結合が自由に回転できないことにより生成される。
特に明記しない限り、「ジアステレオマー」という用語は、分子に2つ以上のキラル中心を含み、且つ分子間で非鏡像関係にある立体異性体を指す。
特に明記しない限り、「(D)」または「(+)」とは右旋性異性体を意味し、「(L)」または「(-)」とは左旋性異性体を意味し、「(DL)」または「(±)」とはラセミ体を意味する。
特に明記しない限り、くさび形の実線結合(
Figure 0007299350000026
)およびくさび形の破線結合(
Figure 0007299350000027
)で立体中心の絶対配置を表し、直線形の実線結合(
Figure 0007299350000028
)と直線形の破線結合(
Figure 0007299350000029
)で立体中心の相対配置を表し、波線(
Figure 0007299350000030
)でくさび形の実線結合(
Figure 0007299350000031
)またはくさび形の破線結合(
Figure 0007299350000032
)を表し、或いは波線(
Figure 0007299350000033
)で直線形の実線結合(
Figure 0007299350000034
)と直線形の破線結合(
Figure 0007299350000035
)を表す。
特に明記しない限り、化合物に、例えば炭素-炭素二重結合、炭素-窒素二重結合および窒素-窒素二重結合などの二重結合構造が存在し、且つ二重結合の各原子がいずれも2つの異なる置換基に結合している場合(窒素原子を含む二重結合では、窒素原子上の孤立電子対のペアを、それに結合している置換基の1つとする)、この化合物の二重結合の原子がその置換基と波線(
Figure 0007299350000036
)で連結していると、該化合物は、(Z)型異性体、(E)型異性体、または2つの異性体の混合物を表す。例えば、以下の式(A)は、その化合物が式(A-1)または式(A-2)の単一の異性体として存在し、或いは式(A-1)および式(A-1)の2つの異性体の混合物として存在することを表す。以下の式(B)は、その化合物が式(B-1)または式(B-2)の単一の異性体として存在し、或いは式(B-1)および式(B-2)の2つの異性体の混合物として存在することを表す。以下の式(C)は、その化合物が式(C-1)または式(C-2)の単一の異性体として存在し、或いは式(C-1)および式(C-2)の2つの異性体の混合物として存在することを表す。
Figure 0007299350000037
本発明の化合物は、特定の形態で存在してもよい。特に明記しない限り、「互変異性体」または「互変異性体形態」という用語は、異なる官能基の異性体が室温で動的平衡状態にあり、互いに迅速に変換できることを意味する。互変異性体が可能な場合(例えば、溶液の中に)に、互変異性体の化学平衡を達成できる。例えば、プロトン互変異性体(proton tautomer)(プロトトロピック互変異性体(prototropic tautomer)としても知られる)には、ケト-エノール異性化やイミン-エナミン異性化などのプロトン移動による相互変換が含まれる。原子価互変異性体(valence tautomer)には、一部の結合電子の再結合による相互変換が含まれる。ケト-エノール互変異性化の例としては、ペンタン-2,4-ジオンと4-ヒドロキシペント-3-エン-2-オンとの2つの互変異性体間の相互変換がある。
特に明記しない限り、「1つの異性体に富む」、「異性体に富む」、「1つの鏡像異性体に富む」または「鏡像異性体に富む」という用語は、1つの異性体または鏡像異性体の含有量が100%未満であり、且つその異性体または鏡像異性体の含有量は60%以上、または70%以上、または80%以上、または90%以上、または95%以上、または96%以上、または97%以上、または98%以上、または99%以上、または99.5%以上、または99.6%以上、または99.7%以上、または99.8%以上、または99.9%以上であることを意味する。
特に明記しない限り、「異性体過剰率」または「鏡像異性体過剰率」という用語は、2つの異性体または2つの鏡像異性体の相対パーセンテージ間の差を指す。例えば、一方の異性体または鏡像異性体が90%の量で存在し、他方の異性体または鏡像異性体が10%の量で存在する場合、異性体または鏡像異性体過剰率(ee値)は80%である。
光学活性を有する(R)と(S)異性体、およびDとL異性体は、キラル合成、キラル試薬または他の従来技術を用いて調製される。本発明のある化合物の1種類のエナンチオマーを得たい場合、純粋な所望のエナンチオマーは、不斉合成、または得られたジアステレオマー混合物の分離および補助基の開裂を含む、キラル補助剤による誘導作用によって得ることができる。或いは、分子が塩基性官能基(アミノ基など)または酸性官能基(カルボキシル基など)を含む場合、化合物は適宜な光学活性を有する酸または塩基と反応して、ジアステレオマー異性体の塩を形成し、その後、当技術分野における一般的な方法でジアステレオマーの分離を行い、純粋なエナンチオマーを回収する。さらに、エナンチオマーおよびジアステレオ異性体は、一般的に、キラル固定相を使用した、任意に化学誘導法(例えば、アミンからカルバメートを生成する)と組み合わせたクロマトグラフィーによって単離される。
本発明の化合物は、該化合物を構成する1つ以上の原子で非自然な割合の原子同位体を含んでもよい。本発明の化合物は、この化合物を構成する1つ以上の原子に非天然な割合で同位体原子を含有していてもよい。例えば、トリチウム(H)、ヨウ素-125(125I)またはC-14(14C)のような放射性同位体で標識された化合物が用いられる。別の例として、水素を重水素に置き換えて重水素化薬物を形成することができる。重水素と炭素との結合は、通常の水素と炭素との結合よりも強い。重水素化されていない薬物と比較して、重水素化された薬物は、毒性副作用の低減、薬物の安定性の向上、有効性の向上、および薬物の生物学的半減期の延長などの利点を有する。本発明の化合物のすべての同位体組成の変化は、放射能を有するかどうかにかかわらず、本発明の範囲内に含まれる。
「任意の」または「任意に」という用語は、後続の事項または条件が発生する可能性があるが必ず発生ではないことを意味し、この用語は、上記の事項または条件が発生する場合および上記の事項または条件が発生しない場合を含む。
「置換された」という用語は、特定の原子上の1個以上の水素原子が置換基によって置換されることを指し、また、特定の原子の原子価が正常であり、且つ置換された化合物は安定している限り、重水素および水素の変種を含んでも良い。置換基がオキソ基(即ち、=O)である場合、2個の水素原子が置換されていることを意味する。なお、芳香環基では、オキソ基の置換は起こらない。
「置換されていてもよい」という用語は、原子が置換基で置換されても置換されていなくてもよいことを意味し、特に断りのない限り、置換基の種類および数は、化学的に実現可能である限り任意でもよい。
いずれの変数(例えば、R)でも化合物の組成や構造中に一回以上現れる場合、それぞれの場合での定義は独立している。したがって、例えば、ある基が0~2個のRで置換されている場合、上記の基は多くても2個のRで置換されていてもよく、且つそれぞれの場合におけるRは独立した選択肢を有する。さらに、置換基および/またはその変種の組み合わせは、安定な化合物を生じる場合に限り許容される。
例えば-(CRR)-のような、連結基の数が0である場合、その連結基は単結合であることを意味する。
1個の変数が単結合である場合、該単結合によって結合された2つの基が直接結合していることを意味する。例えば、A-L-ZにおけるLが単結合を表す場合、該構造は実質にA-Zである。
置換基が空いている場合は、該置換基が存在しないことを意味し、例えば、A-XにおけるXが空いている場合、該構造は実質にAである。挙げられた置換基においてどの原子を介して置換される基に結合しているかを明記しない場合、このような置換基は、いずれの原子によって結合しても良く、例えば、置換基としてのピリジル基は、ピリジン環のいずれかの炭素原子を介して、置換される基に結合してもよい。
挙げられた連結基の連結方向を明記しない場合、その連結方向は任意である。例えば、
Figure 0007299350000038
における連結基Lが-M-W-である場合、-M-W-は、左から右への読み取り順序と同じ方向で環Aと環Bを連結して
Figure 0007299350000039
となってもよく、左から右への読み取り順序と逆方向で環Aと環Bを連結して
Figure 0007299350000040
となってもよい。前記した連結基、置換基および/またはその変種の組み合わせは、このような組み合わせが安定な化合物を生じる場合に限り許容される。
特に明記しない限り、用語「ハロ」または「ハロゲン」は、その自体で、または別の置換基の一部として、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素の原子を表す。
特に明記しない限り、用語「C1-3アルコキシ」は、酸素原子を介して分子の他の部分に結合している、1~3個の炭素原子を含むアルキル基を示す。前記のC1-3アルコキシは、C1-2、C2-3、CおよびCのアルコキシなどを含む。C1-3アルコキシの例として、メトキシ、エトキシ、プロポキシ(n-プロポキシおよびイソプロポキシを含む)などが挙げられるが、これらに限定されない。
特に明記しない限り、用語「C1-3アルキル」は、1~3個の炭素原子からなる直鎖または分岐の飽和炭化水素基を示す。前記のC1-3アルキルは、C1-2およびC2-3のアルキルなどを含み;それは、一価の基(例えばメチル基)、二価の基(例えばメチレン基)または多価の基(例えばメチン基)であってもよい。C1-3アルキルの例として、メチル(Me)、エチル(Et)、プロピル(n-プロピルおよびイソプロピルを含む)などが挙げられるが、これらに限定されない。
特に明記しない限り、本発明において、用語「5~6員芳香族ヘテロ環」および「5~6員ヘテロアリール」は交換して使用してもよい。用語「5~6員ヘテロアリール」は、共役π電子系を持つ、5~6個の環原子からなる単環式基を示し、そのうち、1、2、3または4個の環原子は独立してO、SおよびNから選択されるヘテロ原子であり、残りの原子は炭素原子である。ここで、窒素原子は四級化されていてもよく、窒素および硫黄のヘテロ原子は酸化されていてもよい(すなわち、NOおよびS(O)pであっても良く、pが1または2である)。5~6員ヘテロアリールは、ヘテロ原子または炭素原子を介して分子の他の部分に結合してもよい。前記の5~6員ヘテロアリールは、5員および6員のヘテロアリールを含む。前記の5~6員ヘテロアリールの例として、ピロリル(N-ピロリル、2-ピロリル、および3-ピロリルなどを含む)、ピラゾリル(2-ピラゾリルおよび3-ピラゾリルなどを含む)、イミダゾリル(N-イミダゾリル、2-イミダゾリル、4-イミダゾリル、および5-イミダゾリルなどを含む)、オキサゾリル(2-オキサゾリル、4-オキサゾリル、および5-オキサゾリルなどを含む)、トリアゾリル(1H-1,2,3-トリアゾリル、2H-1,2,3-トリアゾリル、1H-1,2,4-トリアゾリル、および4H-1,2,4-トリアゾリルなどを含む)、テトラゾリル、イソオキサゾリル(3-イソオキサゾリル、4-イソオキサゾリル、および5-イソオキサゾリルなどを含む)、チアゾリル(2-チアゾリル、4-チアゾリル、および5-チアゾリルなどを含む)、フリル(2-フリルおよび3-フリルなどを含む)、チエニル(2-チエニルおよび3-チエニルなどを含む)、ピリジル(2-ピリジル、3-ピリジル、および4-ピリジルなどを含む)、ピラジニルまたはピリミジニル(2-ピリミジニルおよび4-ピリミジニルなどを含む)が挙げられるが、これらに限定されない。
特に明記しない限り、Cn-n+mまたはC-Cn+mは、nからn+m個の炭素のいずれかを含む。例えば、C1-12は、C、C、C、C、C、C、C、C、C、C10、C11、およびC12を含み、また、nからn+mのうちの任意の範囲を含み、例えば、C1-12は、C1-3、C1-6、C1-9、C3-6、C3-9、C3-12、C6-9、C6-12、およびC9-12などを含む。同様に、n員からn+m員は、環上の原子の数がnからn+m個であることを意味する。例えば、3~12員環は、3員環、4員環、5員環、6員環、7員環、8員環、9員環、10員環、11員環、および12員環を含み、また、nからn+mのうちの任意の範囲を含み、例えば、3~12員環は、3~6員環、3~9員環、5~6員環、5~7員環、6~7員環、6~8員環、および6~10員環などを含む。
用語「脱離基」とは、置換反応(例えば、求核置換反応)によって別の官能基または原子で置換される官能基または原子を指す。代表的な脱離基として、例えば、トリフレート;塩素、臭素およびヨウ素;メシレート、トシレート、p-ブロモベンゼンスルホネート、p-トルエンスルホネート等のスルホネート基;アセトキシ、トリフルオロアセトキシ等のアシルオキシ基などが挙げられる。
用語「保護基」は、「アミノ保護基」、「ヒドロキシ保護基」または「チオ保護基」を含むが、これらに限定されない。用語「アミノ保護基」とは、アミノ基の窒素位置における副反応を阻止することに適した保護基を指す。代表的なアミノ保護基として、ホルミル;アルカノイル(例えばアセチル、トリクロロアセチルまたはトリフルオロアセチル)等のアシル;tert-ブトキシカルボニル(Boc)等のアルコキシカルボニル;ベンジルオキシカルボニル(Cbz)、9-フルオレニルメトキシカルボニル(Fmoc)等のアリールメトキシカルボニル;ベンジル(Bn)、トリチル(Tr)、1,1-ビス(4’-メトキシフェニル)メチル等のアリールメチル;トリメチルシリル(TMS)およびtert-ブチルジメチルシリル(TBS)等のシリルなど挙げられるが、これらに限定されない。用語「ヒドロキシ保護基」とは、ヒドロキシ基の副反応を阻止することに適した保護基を指す。代表的なヒドロキシ保護基として、メチル、エチルおよびtert-ブチル等のアルキル;アルカノイル(例えば、アセチル)等のアシル;ベンジル(Bn)、p-メトキシベンジル(PMB)、9-フルオレニルメチル(Fm)、ジフェニルメチル(ベンズヒドリル、DPM)等のアリールメチル;トリメチルシリル(TMS)およびtert-ブチルジメチルシリル(TBS)等のシリルなど挙げられるが、これらに限定されない。
本発明の化合物の構造は、当業者に周知の従来の方法によって確認することができる。本発明が化合物の絶対配置に関する場合、その絶対配置は、当技術分野の従来の技術によって確認することができる。例えば、単結晶X線回折法(SXRD)では、得られた単結晶について、Bruker D8 venture回折計(スキャンモード:φ/ωスキャン、光源:CuKα線)を使用して回折強度データを収集した後、さらに、直接法(Shelxs97)で結晶構造を分析し、絶対配置を確認する。
本発明の化合物は、以下の実施形態、それらを他の化学合成方法と組み合わせた実施形態、および当業者に周知の同等置換を含む、当業者に周知の様々な合成方法によって調製される。好ましい実施形態は、本発明の実施例を含むが、これらに限定されない。
本発明で使用される全ての溶媒は市販されている。
本発明は以下の略語を使用する。aqは、水を表す。NaNOは、亜硝酸ナトリウムを表す。HSOは硫酸を表す。CuClは、塩化銅を表す。LiOH・HOは、水酸化リチウム一水和物を表す。NaBHCNは、シアノ水素化ホウ素ナトリウムを表す。HCl/EtOAcは、塩酸/酢酸エチル溶液;HClは、塩酸を表す。COは、二酸化炭素を表す。ACNは、アセトニトリルを表す。FAは、ギ酸を表す。HOは、水を表す。NHOは、アンモニア水を表す。NaSOは、硫酸ナトリウムを表す。MgSOは、硫酸マグネシウムを表す。NCSは、N-クロロクロロスクシンイミドを表す。NHHCOは、炭酸水素アンモニウムを表す。Pd/Cは、パラジウム炭素を表す。psiは、圧力単位を表す。MeCNは、アセトニトリルを表す。TsOH・HOは、p-トルエンスルホン酸一水和物を表す。Pd(dppf)Clは、[1,1’--ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウム(II)ジクロリドを表す。Neuは、中性を表す。HPLCは、高速液体クロマトグラフィーを表す。HATUは、O-(7-アザベンゾトリアゾール-1-イル)-N,N,N’,N’-テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェートを表す。KCOは、炭酸カリウムを表す。EDCは、N-(3-ジメチルアミノプロピル)-N’-エチルカルボジイミド塩酸塩を表す。m-CPBAは、3-クロロペルオキシ安息香酸を表す。eqは、当量または等価を表す。TPは、プロピルホスホン酸無水物を表す。CDIは、カルボニルジイミダゾールを表す。DCMは、ジクロロメタンを表す。PEは、石油エーテルを表す。DIADは、ジイソプロピルアゾジカルボキシレートを表す。DMFは、N,N-ジメチルホルムアミドを表す。DMSOは、ジメチルスルホキシドを表す。EtOAcは、酢酸エチルを表す。EtOHは、エタノールを表す。MeOHは、メタノールを表す。CBzは、アミノ保護基であるベンジルオキシカルボニルを表す。BOCは、アミノ保護基であるtert-ブチルカルボニルを表す。HOAcは、酢酸を表す。NaCNBHは、シアノ水素化ホウ素ナトリウムを表す。r.t.は、室温を表す。O/Nは、一晩を表す。THFは、テトラヒドロフランを表す。BocOは、ジ-tert-ブチルジカーボネートを表す。TFAは、トリフルオロ酢酸を表す。SOClは、塩化チオニルを表す。CSは、二硫化炭素を表す。TsOHは、p-トルエンスルホン酸を表す。NFSIは、N-フルオロ-N-(フェニルスルホニル)ベンゼンスルホンアミドを表す。n-BuNFは、テトラブチルアンモニウムフルオリドを表す。iPrOHは、2-プロパノールを表す。mpは、融点を表す。LDAは、リチウムジイソプロピルアミドを表す。IPAmは、イソプロピルアミンを表す。DIPEAは、ジイソプロピルエチルアミンを表す。Xantphosは、4,5-ビス(ジフェニルホスフィノ)-9,9-ジメチルキサンテンを表す。t-Bu Xphosは、2-ジ-tert-ブチルホスフィノ-2’,4’,6’-トリイソプロピルビフェニルを表す。DPPPは、1,3-ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパンを表す。EtSiHは、トリエチルシランを表す。DMAPは、4-ジメチルアミノピリジンを表す。Pyは、ピリジンを表す。DPBSは、Dulbecco’sリン酸緩衝液を表す。TNF-αは、腫瘍壊死因子を表す。IC50は、半数阻害濃度を表す。mgはミリグラムを表す。kgはキログラムを表す。HEPESは、N-(2-ヒドロキシエチル)ピペラジン-N’-エタンスルホン酸緩衝液を表す。
化合物は、当技術分野における一般的な命名法又はChemDraw(登録商標)ソフトウェアによって命名され、市販の化合物は、メーカのカタログ名を使用する。
本発明は、実施例により以下に詳細に記載される。しかしながら、これらの例が本発明に対して不利な制限を有することは意図されていない。本発明は本明細書で詳細に説明されており、実施形態も開示されている。本発明の精神および範囲から逸脱することなく、本明細書に開示される実施形態に様々な変更および修正を加えることができることは当業者には明らかであろう。
参考例1:フラグメントBB-1
Figure 0007299350000041
合成経路:
Figure 0007299350000042
工程1:化合物BB-1-3の合成
予備乾燥した100mLフラスコに、BB-1-1(2.60g,17.31mmol,1.00eq)および溶媒EtOH(11.25mL)とイソプロピルエーテル(37.50mL)を加え、撹拌しながら、BB-1-2(2.59g,17.83mmol,1.03eq)をゆっくりと加えた。反応を20℃で12時間撹拌し、濾過し、得られたフィルターケーキをイソプロピルエーテル(30mL*3)で洗浄し、化合物BB-1-3を得た。H NMR(400MHz,DMSO-d) δ=9.95(s,1H),9.90(s,1H),7.39-7.08(m,6H),4.21-4.19(m,2H),3.82(s,2H),1.27-1.23(m,3H);LCMS m/z=250.1[M+H]
工程2:化合物BB-1-4の合成
予備乾燥した250mLフラスコに、化合物BB-1-3(7.00g,28.08mmol,1.00eq)およびキシレン(100.00mL)を加え、Dean-Starkトラップを取り付けた。反応系を180℃で10時間反応させた。反応系に100mLのイソプロピルエーテルを加え、氷水浴で30分間撹拌し、濾過し、得られたフィルターケーキを50mLのn-ヘキサンで洗浄し、化合物BB-1-4を得た。H NMR(400MHz,DMSO-d) δ=14.44(br s,1H),7.42-7.14(m,4H),4.29(q,J=6.5Hz,2H),4.13(br s,2H),1.28(br t,J=7.0Hz,3H);LCMS m/z=232.2[M+H]
工程3:化合物BB-1の合成
サムボトル(thumb bottle)に、化合物BB-1-4(4.10g,17.73mmol,1.00eq)、テトラヒドロフラン(1.00mL)および水(200.00μL)を加えた後、水酸化リチウム一水和物(1.74g,41.49mmol,2.34eq)を加え、該溶液を20℃で12時間撹拌した。溶媒を減圧下で除去し、撹拌しながら、系のpHが2になるまで25Mlの1N塩酸水溶液を滴下し、吸引濾過した後に、化合物BB-1を得た。LCMS m/z=202.1[M-H]
参考例2:フラグメントBB-2
Figure 0007299350000043
合成経路:
Figure 0007299350000044
工程1:化合物BB-2-2の合成
23℃でBB-2-1(2.5g,15.51mmol,2.94mL,1eq)のジクロロメタン溶液(40mL)に、メタノール(4.97g,155.13mmol,6.28mL,10eq)を加えた後、TMSCHN(2M,9.31mL,1.2eq)を加え、さらに2時間撹拌した。TLC(石油エーテル:酢酸エチル=5:1)によって、原料が完全に消費されたことをモニタリングした。反応液に0.1mLの氷酢酸を添加し、減圧濃縮してBB-2-2を得た。
工程2:化合物BB-2-3の合成
BB-2-2(3g,17.12mmol,1eq)のメタノール(30mL)に、ヒドラジン水和物(3.21g,51.37mmol,3.12mL,80%純度,3eq)を加えた後、70℃の油浴で2時間撹拌した。LCMSによって、原料が完全に消費されたことをモニタリングし、目的シグナルが現れた。反応液を減圧濃縮して溶媒を除去し、さらに50mLの酢酸エチルを添加し、30mLの飽和食塩水で洗浄し、有機相を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、減圧濃縮して、BB-2-3を得た。H NMR(400 MHz,DMSO-d) δ=9.25(br s,1H),7.66-7.74(m,2H),7.45-7.65(m,2H),4.24(s,2H),3.43(s,2H);LCMS m/z=176.1[M+H]
工程3:化合物BB-2-4の合成
予備乾燥した三つ口フラスコに、BB-1-2(2.07g,14.27mmol,1eq)およびエタノール(10mL)、イソプロピルエーテル(20mL)を加えた後、BB-2-3(2.5g,14.27mmol,1eq)を加え、25℃で5時間反応させた。LCMSによって、原料が完全に消費されたことをモニタリングし、目的シグナルが現れた。反応液を濾過し、フィルターケーキを50mLの石油エーテルで洗浄し、BB-2-4を得た。LCMS m/z=275.2[M+H]
工程4:化合物BB-2-5の合成
BB-2-4(0.5g,1.82mmol,1eq)、モレキュラーシーブ(4Å,0.05g)及びキシレン(15mL)をマイクロ波反応管に加え、密閉した後、マイクロ波反応装置内、150℃で4時間撹拌した。LCMSによってモニタリングし、目的シグナルが現れた。反応液に30mLのアセトニトリルを添加し、濾過し、濾液を減圧濃縮してBB-2-5を得た。LCMS m/z=257.1[M+H]
工程5:化合物BB-2の合成
21℃の条件下で、BB-2-5(1g,3.90mmol,1eq)のテトラヒドロフラン溶液(50mL)に、水酸化リチウム一水和物(654.96mg,15.61mmol,4eq)の水溶液(15mL)を加え、さらに12時間撹拌した。LCMSによって、原料が完全に消費されたことをモニタリングし、目的シグナルが現れた。反応液に15mLの水を添加し、酢酸エチル(30mL)で抽出し、得られた水相を2N塩酸水溶液でpHが約3になるまで調整し、凍結乾燥してBB-2を得た。LCMS m/z=227.0[M-H]
参考例3:フラグメントBB-3
Figure 0007299350000045
合成経路:
Figure 0007299350000046
工程1:化合物BB-3-3の合成
BB-3-2(20.00g,97.46mmol,1.00eq)をDMF(50mL)に溶解させ、NaH(8.19g,204.67mmol,60%純度,2.10eq)のDMF懸濁液(150mL)に滴下した。その後、化合物BB-3-1(13.75g,97.46mmol,10.26mL,1.00eq)を滴下した。該反応液を20℃で16時間撹拌した後、反応液に酢酸エチル(200mL)および水(200mL)を添加し、塩酸でpHが約1になるまで水相を調整し、酢酸エチル(200mL)で抽出し、有機相を無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過し、減圧濃縮して、化合物BB-3-3を得た。LCMS m/z=227.1[M-100+H]
工程2:化合物BB-3-4の合成
水素雰囲気下(15psi)で化合物BB-3-3(20.00g,61.29mmol,1.00eq)と湿ったPd/C(5.00g,5%純度)とのメタノール溶液(200.00mL)を20℃で5時間撹拌した。反応終了後、反応液を濾過し、濾液を減圧濃縮して化合物BB-3-4を得た。LCMS m/z=297.1[M+H]
工程3:化合物BB-3-5の合成
化合物BB-3-4(10.00g,33.75mmol,1.00eq)とN,N-ジイソプロピルエチルアミン(4.36g,33.75mmol,5.89mL,1.00eq)とのDMSO(100.00mL)溶液に、HATU(12.83g,33.75mmol,1.00eq)を加えた。反応を20℃で2時間撹拌した。反応終了後、反応液に水(200mL)および酢酸エチル(200mL)を添加し、分液し、有機相を減圧濃縮して粗生成物を得た。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(石油エーテル:酢酸エチル=10:1~1:1)により精製して、化合物BB-3-5を得た。LCMS m/z=223.1[M-56+H]
工程4:化合物BB-3-6の合成
乾燥した250mL三つ口フラスコに、化合物BB-3-5(6.00g,21.56mmol,1.00eq)、DMF(60.00mL)および炭酸セシウム(10.54g,32.34mmol,1.50eq)を加えた後、ヨードメタン(3.06g,21.56mmol,1.34mL,1.00eq)を滴下し、内部温度を20℃未満に制御し、該反応を16℃で16時間撹拌した。反応終了後、水(100mL)、酢酸エチル(100mL)を系に添加し、分液し、有機相を飽和食塩水(100mL*2)で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過し、減圧濃縮して化合物BB-3-6を得た。LCMS m/z=237.1[M-56+H]
工程5:化合物BB-3-7の合成
20℃で五硫化二リン(760.35mg,3.42mmol,363.80μL,5eq)のTHF(10mL)に炭酸ナトリウム(362.57mg,3.42mmol,5eq)を加えた後、さらに0.5時間撹拌し、BB-3-6(0.2g,684.16μμmol,1eq)を加え、反応を70℃の油浴で9.5時間撹拌した。LCMSによってモニタリングし、目的シグナルが現れた。反応液に20mLの酢酸エチルを添加し、濾過し、得られた濾液を減圧濃縮して化合物BB-3-7を得た。LCMS m/z=253.1[M-56+H]
工程6:化合物BB-3の合成
BB-3-7(630.84mg,2.05mmol,1eq)を塩酸の酢酸エチル溶液(4M,20.00mL,39.11eq)に加え、23℃で1時間撹拌した。LCMSによって、原料が完全に消費されたことをモニタリングし、目的シグナルが現れた。反応液を減圧濃縮して粗生成物を得た。その後、30mLの炭酸水素ナトリウム飽和水溶液を添加し、酢酸エチル(15mL*3)で抽出し、有機相を合わせ、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、減圧濃縮して化合物BB-3を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ=7.21-7.32(m,3H),7.15-7.19(m,1H),4.40(dd,J=9.92,6.62Hz,1H),4.10(dd,J=11.36,9.81Hz,1H),3.77-3.94(m,4H);LCMS m/z=209.1[M+H]
参考例4:フラグメントBB-4
Figure 0007299350000047
合成経路:
Figure 0007299350000048
工程1:化合物BB-4-2の合成
BB-3-2(13.13g,63.98mmol,1eq)のDMF(100mL)に、NaH(5.12g,127.96mmol,60%純度,2eq)を0℃で加え、さらに1時間撹拌した後、BB-4-1(10g,70.38mmol,1.1eq)を加え、28℃で9時間撹拌した。LCMSによってモニタリングし、目的シグナルが現れた。反応液を1000mLの水に注ぎ、酢酸エチル(300mL*4)で抽出し、得られた水相を2N塩酸でpHが約5になるまで調整し、その後、酢酸エチル(300mL*5)で抽出し、有機相を合わせ、有機相を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、減圧濃縮して、化合物BB-4-2を得た。LCMS m/z=326.0[M-H]
工程2:化合物BB-4-3の合成
23℃の条件下で、BB-4-2(20.00g,61.11mmol,1eq)のメタノール溶液(200mL)に、湿ったPd/C(10g,30.55mmol,5%純度)を加え、水素雰囲気下(15psi)で10時間撹拌した。LCMSによって、原料が完全に消費されたことをモニタリングし、目的シグナルが現れた。反応液を濾過し、得られた濾液を減圧濃縮して、化合物BB-4-3を得た。LCMS m/z=298.1[M+H]
工程3:化合物BB-4-4の合成
23℃でBB-4-3(16.00g,53.82mmol,1eq)の酢酸エチル溶液(400mL)に、N,N-ジイソプロピルエチルアミン(20.87g,161.45mmol,28.12mL,3eq)、トリ-n-ブチルリン酸無水物(68.49g,107.63mmol,64.01mL,50%純度の酢酸エチル溶液,2eq)を加えた後、さらに2時間撹拌した。LCMSによって、原料が完全に消費されたことをモニタリングし、目的シグナルが現れた。飽和食塩水で反応液(200mL*2)を洗浄し、有機相を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、減圧濃縮して粗生成物を得た。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(石油エーテル:酢酸エチル=10:1~1:1)により分離して、化合物BB-4-4を得た。LCMS m/z=224.1[M-56+H]
工程4:化合物BB-4-5の合成
20℃で、BB-4-4(1g,3.58mmol,1eq)のDMF(30mL)に、炭酸セシウム(1.40g,4.30mmol,1.2eq)、ヨードメタン(609.86mg,4.30mmol,267.48μL,1.2eq)を加えた後、さらに1時間撹拌した。LCMSによって、原料が完全に消費されたことをモニタリングし、目的シグナルが現れた。反応液を100mLの水に注ぎ、酢酸エチル(30mL*5)で抽出し、有機相を合わせ、50mLの飽和食塩水で洗浄し、有機相を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、減圧濃縮して、化合物BB-4-5を得た。LCMS m/z=238.1[M-56+H]
工程5:化合物BB-4-6の合成
20℃で、五硫化二リン(3.79g,17.05mmol,10eq)のテトラヒドロフラン溶液(30mL)に、炭酸ナトリウム(1.81g,17.05mmol,10eq)を加えた後、さらに0.5時間撹拌し、その後、BB-4-5(0.5g,1.70mmol,1eq)を加え、反応を70℃の油浴で9.5時間撹拌した。LCMSによって、原料がほぼ完全に消費されたことをモニタリングし、目的シグナルが現れた。反応液を濾過して濾液をを得た。濾液に50mLの酢酸エチルを添加し、30mLの飽和食塩水で洗浄し、有機相を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、減圧濃縮して粗生成物を得た。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(石油エーテル:酢酸エチル=10:1~1:1)により分離して、化合物BB-4-6を得た。LCMS m/z=310.3[M+H]
工程6:化合物BB-4の合成。
BB-4-6(0.6g,1.94mmol,1eq)に、塩酸の酢酸エチル溶液(4M,20mL,41.25eq)を加え、23℃で1時間撹拌した。LCMSによって、原料が完全に消費されたことをモニタリングし、目的シグナルが現れた。反応液を減圧濃縮して粗生成物を得た。30mLの飽和炭酸水素ナトリウム溶液を添加し、酢酸エチル(20mL*3)で抽出し、有機相を合わせ、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、減圧濃縮して化合物BB-4を得た。LCMS m/z=210.1[M+H]
参考例5:フラグメントBB-5
Figure 0007299350000049
合成経路:
Figure 0007299350000050
工程1:化合物BB-5-1の合成
25℃で、BB-4-4(0.1g,358.05μmol,1eq)のテトラヒドロフラン(5mL)に、重水素化ヨードメタン(101.64mg,716.10μmol,43.62μL,2eq)、炭酸セシウム(349.98mg,1.07mmol,3eq)を加えた後、さらに2時間撹拌した。反応液に酢酸エチル(20mL)を添加し、飽和食塩水(10mL)で洗浄し、濾過し、減圧濃縮して粗生成物を得た。粗生成物をメチルtert-ブチルエーテル(5mL)でスラリー化し、精製して化合物BB-5-1を得た。LCMS m/z=297.2[M+H]
工程2:化合物BB-5-2の合成
30℃で、五硫化二リン(2.25g,10.12mmol,1.08mL,10eq)のテトラヒドロフラン(10mL)に、炭酸ナトリウム(1.07g,10.12mmol,10eq)を加え、0.5時間撹拌した後、BB-5-1(0.3g,1.01mmol,1eq)を加え、70℃の油浴で10時間撹拌した。反応液に酢酸エチル(20mL)を添加し、セライトで濾過し、濾液を減圧濃縮して粗生成物を得た。粗生成物をカラムクロマトグラフィー(石油エーテル:酢酸エチル=10:1~1:1)により分離し、精製して化合物BB-5-2を得た。LCMS m/z=312.9[M+H]
工程3:化合物BB-5の合成
28℃で、BB-5-2(0.12g,384.12μmol,1eq)をHCl/EtOAc(4M,5.69mL,59.27eq)に加え、1時間撹拌した。反応液を減圧濃縮して化合物BB-5を得た。LCMS m/z=213.1[M+H]
参考例6:フラグメントBB-6
Figure 0007299350000051
合成経路:
Figure 0007299350000052
工程1:化合物BB-6-2の合成
25℃の条件下で、BB-6-1(2g,14.27mmol,1eq)とCsCO(5.11g,15.70mmol,1.1eq)とのDMF溶液(20mL)に、臭化ベンジル(2.44g,14.27mmol,1.70mL,1eq)を加えた後、さらに3時間撹拌した。LCMSによって、原料が完全に消費されたことをモニタリングし、目的MSが現れた。反応液を水(100mL)に注ぎ、酢酸エチル(30mL*5)で抽出し、有機相を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、減圧濃縮して、粗生成物をフラッシュシリカゲルカラムクロマトグラフィー(石油エーテル:酢酸エチル=10:1~1:1)により分離して、BB-6-2を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ=7.58(d,J=1.00Hz,1H),7.55(s,1H),7.33-7.40(m,3H),7.14-7.20(m,2H),5.13(s,2H),4.34(q,J=7.20Hz,2H),1.36(t,J=7.20Hz,3H);LCMS m/z=231.1[M+1]
工程2:化合物BB-6の合成
28℃の条件下で、BB-6-2(1.50g,6.51mmol,1eq)のテトラヒドロフラン溶液(26mL)に、水酸化リチウム一水和物(2.19g,52.11mmol,8eq)の水溶液(26mL)を加えた後、さらに12時間撹拌した。LCMSによって、原料が完全に消費されたことをモニタリングし、目的MSが現れた。反応液を減圧濃縮して、溶媒を除去した後、水(20mL)を添加し、2N塩酸でpHが約2になるまで調整し、析出した固体を濾過してBB-6を得た。H NMR(400 MHz,DMSO-d) δ=7.87(d,J=2.20Hz,2H),7.27-7.43(m,5H),5.24(s,2H);LCMS m/z=201.1[M-1]
参考例7:フラグメントBB-7
Figure 0007299350000053
合成経路:
Figure 0007299350000054
工程1:化合物BB-7-2の合成
0℃の条件下で、BB-7-1(5g,29.65mmol,1eq)のトルエン溶液(70mL)に、シュウ酸ジエチル(4.77g,32.62mmol,4.45mL,1.1eq)、ナトリウムエトキシド(2.62g,38.55mmol,1.3eq)を加え、20℃で12時間反応した。LCMS分析によって、原料が完全に消費されたことをモニタリングし、目的ピークが現れた。反応液を減圧濃縮して、酢酸エチル(200mL)で希釈し、飽和食塩水(200mL)で洗浄し、有機相を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、減圧濃縮して粗生成物を得た。精製せずに次の工程でそのまま使用した。化合物BB-7-2を得た。H NMR(400 MHz,CDCl) δ=6.87-7.19(m,4H),5.78(br s,1H),4.04(br s,2H),2.92-3.44(m,2H),1.18(br s,3H);LCMS m/z=269.1[M+1]
工程2:化合物BB-7-3の合成
BB-7-2(7g,26.05mmol,1eq)のエタノール溶液(200mL)に、塩酸ヒドロキシルアミン(1.81g,26.05mmol,1eq)を加え、80℃で12時間反応した。LCMS分析によって、原料が完全に消費されたことをモニタリングし、目的ピークが現れた。反応液を減圧濃縮してBB-7-3を得た。H NMR(400 MHz,CDCl) δ=7.33(m,2H); 7.20(m,2H),6.35(s,1H),4.41-4.47(m,2H),4.13(q,J=7.20Hz,2H),1.30-1.33(t,3H);LCMS m/z=266.1[M+1]
工程3:化合物BB-7-4の合成
BB-7-3(4g,15.06mmol,1eq)のエタノール溶液(100mL)に、Pd/C(4g,5%純度)を加え、H雰囲気下(30psi)、30℃で12時間反応した。LCMS分析によって、原料が完全に消費されたことをモニタリングし、目的ピークが現れた。反応液をセライトで濾過し、減圧濃縮して粗生成物を得た。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ジクロロメタン:メタノール=10:1)により分離して、化合物BB-7-4を得た。LCMS m/z=232.1[M+1]
工程4:化合物BB-7の合成
BB-7-4(0.5g,2.16mmol,1eq)のテトラヒドロフラン(15mL)と水との溶液(5mL)に、水酸化リチウム一水和物(453.17mg,10.80mmol,5eq)を加え、30℃で2時間反応した。TLC(石油エーテル:酢酸エチル=5:1)によって、原料が完全に消費されたことをモニタリングし、新しいスポットが現れた。反応液を減圧濃縮して有機溶媒を除去し、2M塩酸溶液でpHを2程度になるまで調整し、析出した白色固体を濾過し、フィルターケーキを回収して、BB-7を得た。H NMR(400 MHz,DMSO-d) δ=7.24-7.41(m,5H),6.57(s,1H),4.22(s,2H)。
参考例8:フラグメントBB-8
Figure 0007299350000055
合成経路:
Figure 0007299350000056
工程1:化合物BB-8-2の合成
BB-8-1(2g,15.74mmol,1eq)のDMF(32mL)に、炭酸セシウム(6.67g,20.46mmol,1.3eq)、臭化ベンジル(3.23g,18.88mmol,2.24mL,1.2eq)を加え、該反応を20℃で2時間撹拌した。LCMS分析によって、原料が完全に消費されたことをモニタリングし、目的ピークが現れた。反応液に水(30mL)および酢酸エチル(30mL)を添加し、分液し、有機相を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、減圧濃縮して粗生成物を得た。粗生成物をフラッシュシリカゲルカラムクロマトグラフィー(石油エーテル:酢酸エチル=10:1-3:1)により分離して、BB-8-2を得た。H NMR(400 MHz,CDCl) δ=8.11(s,1H),7.34-7.43(m,3H),7.27-7.33(m,2H),5.43(s,2H),4.00(s,3H);LCMS m/z=218.1[M+1]
工程2:化合物BB-8の合成
BB-8-2(0.3g,1.38mmol,1eq)を、テトラヒドロフラン(12mL)および水(4mL)に溶解させ、水酸化リチウム一水和物(173.85mg,4.14mmol,3eq)を加え、該反応を25℃で12時間撹拌した。LCMS分析によって、原料が完全に消費されたことをモニタリングし、目的ピークが現れた。反応液に酢酸エチル(10mL)を添加し、水相を1M塩酸でpH=3-4に調整し、析出した固体を濾過してBB-8を得た。H NMR(400 MHz,DMSO-d) δ=13.25(br s,1H),8.78(s,1H),7.27-7.40(m,5H),5.47(s,2H);LCMS m/z=204.1[M+1]
参考例9:フラグメントBB-9
Figure 0007299350000057
合成経路:
Figure 0007299350000058
工程1:化合物BB-9-2の合成
0℃で、NaNO(662.86mg,9.60mmol,1.5eq)を、BB-9-1(1g,6.40mmol,1eq)のHSO(1M,12.80mL,2eq)と水との溶液(10mL)に加え、0℃で0.5時間撹拌し、CuCl(1.72g,12.80mmol,2eq)を濃塩酸(15mL)に溶解させ、上記の混合液に加え、さらに0℃で1.5時間撹拌した。LCMS分析によって、原料が完全に消費されたことをモニタリングし、目的ピークが現れた。反応液に酢酸エチル(10mL)を添加し、水相を酢酸エチル(15mL*2)で抽出し、有機相を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、減圧濃縮して、粗生成物をフラッシュシリカゲルカラムクロマトグラフィー(石油エーテル:酢酸エチル=10:1~1:2)により分離し、精製してBB-9-2を得た。H NMR(400MHz,CDCl)=4.46(q,J=21.60Hz,2H),1.38(t,J=14.40Hz,3H);LCMS m/z=176.0[M+1]
工程2:化合物BB-9-3の合成
BB-9-2(760.78mg,4.33mmol,1eq)のDMF(5mL)に、炭酸セシウム(1.84g,5.63mmol,1.3eq)、3-シアノベンジルブロミド(889.31mg,5.20mmol,617.58μL,1.2eq)を加え、該反応を20℃で2時間撹拌した。LCMS分析によって、原料が完全に消費されたことをモニタリングし、目的ピークが現れた。反応液に水(10mL)を添加し、酢酸エチル(10mL*2)で抽出し、有機相を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、減圧濃縮して、粗生成物をフラッシュシリカゲルカラムクロマトグラフィー(石油エーテル:酢酸エチル=20:1~2:1)により分離して、BB-9-3を得た。LCMS m/z=291.0[M+1]
工程3:化合物BB-9の合成
BB-9-3(0.08g,301.10μmol,1eq)をテトラヒドロフラン(6mL)と水(2mL)に溶解させ、水酸化リチウム一水和物(37.90mg,903.29μmol,3eq)を加え、2℃で12時間反応した。LCMS分析によって、原料が完全に消費されたことをモニタリングし、目的ピークが現れた。反応液に酢酸エチル(5mL)を添加し、水相を1M塩酸でpHが約6になるまで調整し、凍結乾燥してBB-9を得た。LCMS m/z=263.1[M+1]
参考例10:フラグメントBB-10
Figure 0007299350000059
合成経路:
Figure 0007299350000060
工程1:化合物BB-10-1の合成
BB-1-1(3g,19.98mmol,1eq)のジクロロメタン溶液(90mL)に、トリエチルアミン(6.06g,59.93mmol,8.34mL,3eq)を加え、クロロオキソ酢酸エチル(3.55g,25.97mmol,2.91mL,1.3eq)を加え、25℃で5時間撹拌した。LCMS分析によって、原料が完全に消費されたことをモニタリングし、目的ピークが現れた。反応液を水(60mL)でクエンチし、ジクロロメタン(60mL*3)で抽出し、有機相を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、減圧濃縮して、粗生成物をフラッシュシリカゲルカラムクロマトグラフィー(石油エーテル: 酢酸エチル=5:1-1:1)により精製して、BB-10-1を得た。H NMR(400MHz,DMSO-d) δ=10.73(br s,1H),10.30(br s,1H),7.22-7.34(m,5H),4.26(q,J=7.00Hz,2H),3.51(s,2H),1.27(t,J=7.10Hz,3H);LCMS m/z=251.1[M+1]
工程2:化合物BB-10の合成
BB-10-1(529.69mg,2.12mmol,1eq)のアセトニトリル溶液(15mL)に、オキシ塩化リン(486.82mg,3.17mmol,295.04μL,1.5eq)を加え、該反応を90℃で2時間撹拌した。反応液を飽和炭酸水素ナトリウム溶液(20mL)に注ぎ、5分間激しく撹拌し、酢酸エチル(20mL)で2回抽出し、有機相を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、減圧濃縮してBB-10を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ=7.23-7.10(m,5H),4.36-4.29(m,2H),4.12(s,2H),1.34-1.23(m,3H);LCMS m/z=233.1[M+1]
参考例11:フラグメントBB-11A、BB-11B
Figure 0007299350000061
合成経路:
Figure 0007299350000062
工程1:化合物BB-11-2の合成
BB-11-1(5g,26.01mmol,1eq)の氷酢酸(39mL)とテトラヒドロフラン(150mL)に、カルバジン酸tert-ブチル(17.19g,130.07mmol,5eq)を加え、55℃で12時間反応した。室温(25℃)まで冷却し、NaBHCN(8.17g,130.07mmol,5eq)をバッチで加え、55℃に昇温し、さらに12時間反応した。室温まで冷却し、反応液に飽和炭酸水素ナトリウム溶液を加えてpH=7~8に調整し、酢酸エチル(150mL*2)で抽出し、有機相を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、減圧濃縮してBB-11-2を得た。LCMS m/z=221.1[M-56+1]
工程2:化合物BB-11-3の合成
11-2(7g,25.33mmol,1eq)をHCl/EtOAc(4M,60mL)に加え、25℃で2時間反応した。反応液を減圧濃縮して粗生成物を得た。粗生成物に飽和炭酸水素ナトリウム溶液を加えてpH=7~8に調整し、酢酸エチル(50mL*2)で抽出し、有機相を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、減圧濃縮して粗生成物BB-11-3を得た。LCMS m/z=177.1[M+1]
工程3:化合物BB-11-4の合成。
BB-11-3(4g,22.70mmol,1eq)のエタノール(50mL)溶液に2-エトキシ-2-イミノ酢酸エチル(16.47g,113.50mmol,5eq)を加え、85℃で12時間反応した。反応液を減圧濃縮して粗生成物を得た。粗生成物をカラムクロマトグラフィー(ジクロロメタン:メタノール=10:0~5:1)により分離し、精製してBB-11-4を得た。LCMS m/z=276.2[M+1]
工程4:化合物BB-11-5の合成
25℃で、BB-11-4(1.3g,4.72mmol,1eq)をオキシ塩化リン(30mL)に加え、120℃で3時間反応した。反応液を室温まで冷却し、温水(150mL)にゆっくりと注ぎ、飽和炭酸水素ナトリウムでpH=7~8に調整し、酢酸エチル(100mL*2)で抽出し、有機相を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、減圧濃縮して粗生成物を得た。粗生成物をカラムクロマトグラフィー(ジクロロメタン:メタノール=10:0~10:1)により分離し、精製してBB-11-5を得た。H NMR(400MHz,DMSO-d) δ=7.34-7.43(m,3H),7.21-7.28(m,2H),5.58(br t,J=7.12Hz,1H),4.27(br dd,J=6.80, 5.04Hz,2H),2.88-3.28(m,4H),1.26(br t,J=7.12Hz,3H)。LCMS m/z=258.2[M+1]
工程5:化合物BB-11AおよびBB-11Bの合成
化合物BB-11を超臨界流体クロマトグラフィー(Chiralcel AD-3 3μm, 0.46cm id x 15m L;移動相:A for SFC CO and B for MeOH(0.05%IPAm);Gradient: B in A from 10% to 40% in 6 minutes;Flow rate:4.0mL/min;Wavelength: 220nm)により分析した。BB-11AおよびBB-11Bの保持時間は、それぞれ2.217min、2.427minであり;超臨界流体クロマトグラフィー(カラム:DAICEL CHIRALPAK AD(250mm*50mm,10μm);移動相:[0.1%NHO MEOH];MeOH%:30%-30%,2.56min)により分離してBB-11AおよびBB-11Bを得た。化合物BB-11Aを超臨界流体クロマトグラフィー(Chiralcel AD-3 3μm,0.46cm id x 15m L;移動相:Aは超臨界二酸化炭素であり、Bはメタノール(0.05%IPAmを含む)であり;グラジエント:Bの比例は10%から40%になり、合計6分間;流量:4.0mL/min;波長:220nm)の分析により、BB-11Aの保持時間が2.235minであり、BB-11Bの保持時間が2.439minであることが分かった。
参考例12:フラグメントBB-12
Figure 0007299350000063
合成経路:
Figure 0007299350000064
工程1:化合物BB-12の合成。
25℃で、BB-12-1のエタノール(100mL)溶液に、I(11.40g,44.92mmol,9.05mL,1eq)、AgSO4(14.01g,44.92mmol,7.61mL,1eq)を加え、さらに12時間撹拌した。反応をセライトで濾過し、濾液に水(150mL)および酢酸エチル(150mL)を添加し、分液し、水相を酢酸エチル(50mL*2)で抽出し、有機相を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、減圧濃縮して粗生成物を得た。粗生成物を酢酸エチルに溶解させ、塩酸/酢酸エチル(4M)を添加して常温で0.5h撹拌し、濾過し、フィルターケーキを回収し、フィルターケーキに酢酸エチル(50mL)を添加し、飽和炭酸水素ナトリウムを加えてpH=8~9に調整し、分液し、水相を酢酸エチル(25mL*2)で抽出し、有機相を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、減圧濃縮(水ポンプ、45℃)して粗生成物を得た。カラムクロマトグラフィー(石油エーテル:酢酸エチル=10:1~1:1)精製し、BB-12を得た。H NMR(400 MHz,CDCl) δ=7.22(dt,J=7.68, 2.37Hz,1H),6.83(ddd,J=10.85,8.22,2.76Hz,1H),3.97(br s,2H)。
参考例13:フラグメントBB-13
Figure 0007299350000065
合成経路:
Figure 0007299350000066
工程1:化合物BB-13-1の合成
BB-9-2(760.78mg,4.33mmol,1eq)のDMF(5mL)に、炭酸セシウム(1.84g,5.63mmol,1.3eq)、臭化ベンジル(889.31mg,5.20mmol,617.58μL,1.2eq)を加え、該反応を20℃で2時間撹拌した。LCMS分析によって、原料が完全に消費されたことをモニタリングし、目的ピークが現れた。反応液に水(10mL)を添加し、酢酸エチル(10mL*2)で抽出し、有機相を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、減圧濃縮して、粗生成物をフラッシュシリカゲルカラムクロマトグラフィー(石油エーテル:酢酸エチル=20:1~2:1)により分離して、BB-13-1を得た。H NMR(400 MHz,CDCl) δ=7.34-7.41(m,3H),7.29-7.34(m,2H),5.42(s,2H),4.47(q,J=22.40Hz,2H),1.43(t,J=15.60Hz,3H);LCMS m/z=266.0[M+1]
工程2:化合物BB-13の合成
BB-13-1(0.08g,301.10μmol,1eq)をテトラヒドロフラン(6mL)および水(2mL)に溶解させ、水酸化リチウム一水和物(37.90mg,903.29μmol,3eq)を加え、25℃で12時間反応した。LCMS分析によって、原料が完全に消費されたことをモニタリングし、目的ピークが現れた。反応液に5mLの酢酸エチルを添加し、水相を1M塩酸でpHが約6になるまで調整し、凍結乾燥してBB-13を得た。H NMR(400 MHz,DMSO-d) δ=7.32-7.42(m,3H),7.25-7.30(m,2H),5.48(s,2H);LCMS m/z=238.1[M+1]
実施例1:WX001
Figure 0007299350000067
合成経路:
Figure 0007299350000068
工程1:化合物WX001の合成
化合物BB-3(0.58g,2.78mmol,1eq)、化合物BB-1(849mg,4.18mmol,1.5eq)、N,N-ジイソプロピルエチルアミン(1.26g,9.75mmol,1.70mL,3.5eq)を酢酸エチル(10mL)に溶解させた後、トリ-n-ブチルリン酸無水物(4.43g,6.96mmol,4.14mL,50%純度の酢酸エチル溶液、2.5eq)を滴下し、その後、25℃で12時間撹拌した。反応液に20mLの水を添加し、酢酸エチル(5mL*2)で抽出した。有機相を合わせ、飽和食塩水(10mL)で洗浄し、有機相を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、減圧濃縮して粗生成物を得た。粗生成物をシリカゲルカラムで精製し、SFC(Chiralcel OJ-3, 3μm,0.46cm id x 5cm L;移動相:Aは超臨界二酸化炭素であり、Bはメタノール(0.05% IPAmを含む)であり;グラジエント:Bの比例は10%から40%になり、合計5分間;流量:4.0mL/min;波長h:220nm)で分離し、化合物WX001を得た。H NMR(400 MHz,CDCl) δ=8.71(d,J=7.53Hz,1H),7.20-7.38(m,9H),5.15-5.25(m,1H),4.67(dd,J=6.53,9.54Hz,1H),4.29(dd,J=9.79,10.79Hz,1H),4.21(s,2H),3.89(s,3H);LCMS m/z=394.1[M+H]。超臨界流体クロマトグラフィー(キラルカラム:カラム:Chiralpak OD -3, 3μm,0.46cm id x 5cm L;移動相:A :CO ,B:MeOH(0.05%IPAm);グラジエント:B/A=10%-40%,3分間;流量:4.0mL/min;波長:220nm)の分析により、ee%=96.36%である。
実施例2:WX002
Figure 0007299350000069
合成経路:
Figure 0007299350000070
工程1:化合物WX002の合成
BB-3(0.06g,288.07μmol,1eq)およびBB-2(131.48mg,576.15μmol,2eq)のDMF溶液(10mL)に、トリ-n-ブチルリン酸無水物(458.30mg,720.19μmol,428.32μL,50%純度の酢酸エチル溶液,2.5eq)およびN,N-ジイソプロピルエチルアミン(111.69mg,864.22μmol,150.53μL,3eq)を加えた後、25℃で10時間撹拌した。LCMSによって、原料が完全に消費されたことをモニタリングし、目的シグナルが現れた。反応液に20mLの酢酸エチルを添加し、15mLの飽和食塩水で洗浄し、有機相を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、減圧濃縮して粗生成物を得た。粗生成物を分取HPLC(カラム:Xtimate C18 150mm*25mm*5μm;移動相:[水(10mM NHHCO)-ACN];アセトニトリル%:35%-65%,10.5min)により分離し、精製して、化合物WX002を得た。H NMR(400 MHz,DMSO-d) δ=8.60(br d,J=8.16Hz,1H),7.69-7.81(m,2H),7.51-7.65(m,3H),7.36-7.46(m,2H),7.25-7.33(m,1H),4.97(dt,J=10.58,7.72Hz,1H),4.35-4.52(m,2H),4.21(s,2H),3.79(s,3H);LCMS m/z=419.1[M+H]。超臨界流体クロマトグラフィー(キラルカラム:カラム:Chiralpak OD -3, 3μm,0.46cm id x 5cm L;移動相:A:CO ,B:MeOH(0.05% IPAm);グラジエント:B/A=10%-40%,3分間;流量:4.0mL/min;波長:220nm)分析により、ee%=100%である。
実施例3:WX003
Figure 0007299350000071
合成経路:
Figure 0007299350000072
工程1:化合物WX003の合成
BB-4(60mg,286.71μmol,1eq)およびBB-1(87.39mg,430.07μmol,1.5eq)のDMF溶液(10mL)に、トリ-n-ブチルリン酸無水物(456.13mg,716.78μmol,426.29μL,50%純度の酢酸エチル溶液,2.5eq)およびN,N-ジイソプロピルエチルアミン(111.16mg,860.13μmol,149.82μL,3eq)を加えた後、25℃で10時間撹拌した。LCMSによって、原料が完全に消費されたことをモニタリングし、目的シグナルが現れた。反応液に30mLの酢酸エチルを添加し、20mLの飽和食塩水で洗浄し、有機相を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、減圧濃縮して粗生成物を得た。粗生成物を分取HPLC(カラム:Xtimate C18 150mm*25mm*5μm;移動相:[水(10mM NHHCO)-ACN];アセトニトリル%:35%-65%,10.5min)により分離し、精製して、化合物WX003を得た。H NMR(400 MHz,DMSO-d) δ=8.63(br s,1H),8.46(dd,J=4.63,1.54Hz,1H),7.79(d,J=7.94Hz,1H),7.48(dd,J=8.05,4.74Hz,1H),7.23-7.37(m,5H),5.01(dt,J=10.80,7.28Hz,1H),4.43-4.72(m,2H),4.14(br s,2H),3.80(s,3H);LCMS m/z=395.2[M+H]。超臨界流体クロマトグラフィー(キラルカラム:カラム:Chiralpak OD -3, 3μm,0.46cm id x 5cm L;移動相:A :CO,B:MeOH(0.05% IPAm);グラジエント:B/A=10%-40%,3分間;流量:4.0mL/min;波長:220nm)分析により、ee%=96.3%である。
実施例4:WX004
Figure 0007299350000073
合成経路:
Figure 0007299350000074
工程1:化合物WX004の合成
BB-4(60mg,286.71μmol,1eq)およびBB-2(130.86mg,573.43μmol,2eq)のDMF溶液(10mL)に、トリ-n-ブチルリン酸無水物(456.13mg,716.78μmol,426.29μL,50%純度の酢酸エチル溶液,2.5eq)およびN,N-ジイソプロピルエチルアミン(111.16mg,860.14μmol,149.82μL,3eq)を加えた後、25℃で10時間撹拌した。LCMSによって、原料が完全に消費されたことをモニタリングし、目的シグナルが現れた。反応液に30mLの酢酸エチルを添加し、20mLの飽和食塩水で洗浄し、有機相を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、減圧濃縮して粗生成物を得た。粗生成物を分取HPLC(カラム:Xtimate C18 15mm*25mm*5μm;移動相:[水(10mM NH4HCO)-ACN];アセトニトリル%:35%-65%,10.5min)により分離し、精製して、化合物WX004を得た。H NMR(400 MHz,DMSO-d) δ=8.73(br s,1H),8.46(d,J=4.85Hz,1H),7.69-7.86(m,3H),7.44-7.65(m,3H),5.01(dt,J=11.08,7.14Hz,1H),4.48-4.68(m,2H),4.22(s,2H),3.80(s,3H);LCMS m/z=420.1[M+H]。超臨界流体クロマトグラフィー(キラルカラム:カラム:Chiralpak OD -3, 3μm,0.46cm id x 5cm L;移動相:A:CO,B:MeOH(0.05% IPAm);グラジエント:B/A=10%-40%,3分間;流量:4.0mL/min;波長:220nm)分析により、ee%=100%である。
実施例5:WX005
Figure 0007299350000075
合成経路:
Figure 0007299350000076
工程1:化合物WX005の合成
BB-5(100mg,471.06μmol,1eq)およびBB-1(130.86mg,573.43μmol,1.2eq)のDMF溶液(10mL)に、トリ-n-ブチルリン酸無水物(599.53mg,942.12μmol,560.31μL,50%純度の酢酸エチル溶液,2.5eq)およびN,N-ジイソプロピルエチルアミン(182.64mg,1.41mmol,246.15μL,3eq)を加えた後、25℃で10時間撹拌した。LCMSによって、原料が完全に消費されたことをモニタリングし、目的シグナルが現れた。反応液に酢酸エチル(30mL)を添加し、飽和食塩水(20mL)で洗浄し、有機相を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、減圧濃縮して粗生成物を得た。粗生成物を分取HPLC(カラム:Phenomenex Luna C18 150mm*30mm*5μm;移動相:[水(0.05%HCl)-ACN];アセトニトリル%:20%-50%,12min)により分離し、精製して、化合物WX005を得た。H NMR(400 MHz,DMSO-d) δ=8.62(br s,1H),8.46(dd,J=1.75, 4.82Hz,1H),7.79(dd,J=1.32,7.89Hz,1H),7.48(dd,J=4.82,7.89Hz,1H),7.20-7.37(m,5H),5.01(td,J=7.34, 11.18Hz,1H),4.60(br s,1H),4.49-4.55(m,1H),4.14(br s,2H);LCMS m/z=398.2[M+H]。超臨界流体クロマトグラフィー(キラルカラム:カラム:Chiralpak OD -3, 3μm,0.46cm id x 5cm L;移動相:A:CO,B:MeOH(0.05% IPAm);グラジエント:B/A=10%-40%,3分間;流量:4.0mL/min;波長:220nm)分析により、ee%=100%である。
実施例6:WX006
Figure 0007299350000077
合成経路:
Figure 0007299350000078
工程1:化合物WX006の合成
BB-4(10mg,47.79μmol,1eq)およびBB-1(11.60mg,57.34μmol,1.2eq)のDMF溶液(1mL)に、トリ-n-ブチルリン酸無水物(60.82mg,95.57μmol,56.84μL,50%純度の酢酸エチル溶液,2.5eq)およびN,N-ジイソプロピルエチルアミン(18.53mg,143.36μmol,24.97μL,3eq)を加えた後、25℃で10時間撹拌した。LCMSによって、原料が完全に消費されたことをモニタリングし、目的シグナルが現れた。反応液をそのまま分取HPLC(カラム:Phenomenex Luna C18 150mm*30mm*5μm;移動相:[水(0.05%HCl)-ACN];アセトニトリル%:20%-50%,12min)により分離し、精製して、化合物WX006を得た。H NMR(400 MHz,CDCl) δ=9.01(br s,1H),8.34-8.46(m,2H),7.51-7.64(m,2H),7.43(br s,3H),7.28-7.31(m,2H),7.22-7.26(m,1H),5.29(br s,2H),5.20(br d,J=7.02Hz,1H),4.58-4.69(m,2H),3.91(s,3H);LCMS m/z=394.2[M+H]。超臨界流体クロマトグラフィー(キラルカラム:カラム:Chiralpak OD -3, 3μm,0.46cm id x 5cm L;移動相:A:CO,B:MeOH(0.05% IPAm);グラジエント:B/A=10%-40%,3分間;流量:4.0mL/min;波長:220nm)分析により、ee%=100%である。
実施例7:WX007
Figure 0007299350000079
合成経路:
Figure 0007299350000080
工程1:化合物WX007の合成
BB-4(10mg,47.79μmol,1eq)およびBB-7(11.65mg,57.35μmol,1.2eq)のDMF溶液(1mL)に、トリ-n-ブチルリン酸無水物(60.82mg,95.57μmol,56.84μL,50%純度の酢酸エチル溶液,2.5eq)およびN,N-ジイソプロピルエチルアミン(18.53mg,143.36μmol,24.97μL,3eq)を加えた後、25℃で10時間撹拌した。LCMSによって、原料が完全に消費されたことをモニタリングし、目的シグナルが現れた。反応液をそのまま分取HPLC(カラム:Phenomenex Luna C18 150mm*30mm*5μm;移動相:[水(0.05%HCl)-ACN];アセトニトリル%:20%-50%,12min)により分離し、精製して、化合物WX007を得た。H NMR(400 MHz,DMSO-d) δ=8.98(d,J=8.33Hz,1H),8.46(dd,J=1.32,4.82Hz,1H),7.77(dd,J=1.75,7.89Hz,1H),7.47(dd,J=4.60,8.11Hz,1H),7.22-7.40(m,5H),6.54(s,1H),5.00(td,J=7.45,11.40Hz,1H),4.59-4.70(m,1H),4.48-4.56(m,1H),4.22(s,2H),3.79(s,3H);LCMS m/z=395.1[M+H]。超臨界流体クロマトグラフィー(キラルカラム:カラム:Chiralpak OD -3, 3μm,0.46cm id x 5cm L;移動相:A:CO,B:MeOH(0.05% IPAm);グラジエント:B/A=10%-40%,3分間;流量:4.0mL/min;波長:220nm)分析により、ee%=100%である。
実施例8:WX008
Figure 0007299350000081
合成経路:
Figure 0007299350000082
工程1:化合物WX008の合成
BB-4(10mg,47.79μmol,1eq)およびBB-8(15.06mg,57.35μmol,1.2eq)のDMF溶液(1mL)に、トリ-n-ブチルリン酸無水物(60.82mg,95.57μmol,56.84μL,50%純度の酢酸エチル溶液,2.5eq)およびN,N-ジイソプロピルエチルアミン(18.53mg,143.36μmol,24.97μL,3eq)を加えた後、25℃で10時間撹拌した。LCMSによって、原料が完全に消費されたことをモニタリングし、目的シグナルが現れた。反応液をそのまま分取HPLC(カラム:Phenomenex Luna C18 150mm*30mm*5μm;移動相:[水(0.05%HCl)-ACN];アセトニトリル%:20%-50%,12min)により分離し、精製して、化合物WX008を得た。H NMR(400 MHz,DMSO-d) δ=8.85(d,J=7.89Hz,1H),8.46(d,J=3.07Hz,1H),7.75-7.89(m,3H),7.61(d,J=4.82Hz,2H),7.48(dd,J=4.82,7.89Hz,1H),5.58(s,2H),4.94-5.06(m,1H),4.65(t,J=10.74Hz,1H),4.45-4.57(m,1H),3.80(s,3H);LCMS m/z=454.1[M+H]。超臨界流体クロマトグラフィー(キラルカラム:カラム:Chiralpak OD -3, 3μm,0.46cm id x 5cm L;移動相:A:CO,B:MeOH(0.05% IPAm);グラジエント:B/A=10%-40%,3分間;流量:4.0mL/min;波長:220nm)分析により、ee%=100%である。
実施例9:WX009
Figure 0007299350000083
合成経路:
Figure 0007299350000084
工程1:化合物WX009の合成
BB-4(10mg,47.79μmol,1eq)およびBB-9(11.65mg,57.35μmol,1.2eq)のDMF溶液(1mL)に、トリ-n-ブチルリン酸無水物(60.82mg,95.57μmol,56.84μL,50%純度の酢酸エチル溶液,2.5eq)およびN,N-ジイソプロピルエチルアミン(18.53mg,143.36μmol,24.97μL,3eq)を加えた後、25℃で10時間撹拌した。LCMSによって、原料が完全に消費されたことをモニタリングし、目的シグナルが現れた。反応液をそのまま分取HPLC(カラム:Phenomenex Luna C18 150mm*30mm*5μm;移動相:[水(0.05%HCl)-ACN];アセトニトリル%:20%-50%,12min)により分離し、精製して、化合物WX009を得た。H NMR(400 MHz,DMSO-d) δ=8.84(s,1H),8.71(d,J=7.89Hz,1H),8.46(dd,J=1.53,4.60Hz,1H),7.79(dd,J=1.53,8.11Hz,1H),7.48(dd,J=4.82,7.89Hz,1H),7.26-7.42(m,5H),5.49(s,2H),4.94-5.08(m,1H),4.48-4.63(m,2H),3.80(s,3H);LCMS m/z=395.1[M+H]。超臨界流体クロマトグラフィー(キラルカラム:カラム:Chiralpak OD -3, 3μm,0.46cm id x 5cm L;移動相:A:CO,B:MeOH(0.05% IPAm);グラジエント:B/A=10%-40%,3分間;流量:4.0mL/min;波長:220nm)分析により、ee%=100%である。
実施例10:WX010
Figure 0007299350000085
合成経路:
Figure 0007299350000086
工程1:化合物WX010の合成
BB-4(10mg,47.79μmol,1eq)およびWX010-1(11.65mg,57.35μmol,1.2eq)のDMF溶液(1mL)に、トリ-n-ブチルリン酸無水物(60.82mg,95.57μmol,56.84μL,50%純度の酢酸エチル溶液,2.5eq)およびN,N-ジイソプロピルエチルアミン(18.53mg,143.36μmol,24.97μL,3eq)を加えた後、25℃で10時間撹拌した。LCMSによって、原料が完全に消費されたことをモニタリングし、目的シグナルが現れた。反応液をそのまま分取HPLC(カラム:Phenomenex Luna C18 150mm*30mm*5μm;移動相:[水(0.05%HCl)-ACN];アセトニトリル%:20%-50%,12min)により分離し、精製して、化合物WX010を得た。H NMR(400 MHz,DMSO-d) δ=8.75(d,J=8.33Hz,1H),8.69(s,1H),8.46(dd,J=1.53,4.60Hz,1H),7.79(dd,J=1.53,8.11Hz,1H),7.48(dd,J=4.82,7.89Hz,1H),7.30-7.41(m,5H),5.65(s,2H),4.97-5.10(m,1H),4.58-4.68(m,1H),4.47-4.57(m,1H),3.80(s,3H);LCMS m/z=395.1[M+H]。超臨界流体クロマトグラフィー(キラルカラム:カラム:Chiralpak OD -3, 3μm,0.46cm id x 5cm L;移動相:A:CO,B:MeOH(0.05% IPAm);グラジエント:B/A=10%-40%,3分間;流量:4.0mL/min;波長:220nm)分析により、ee%=100%である。
実施例11:WX011
Figure 0007299350000087
合成経路:
Figure 0007299350000088
工程1:化合物WX011の合成
BB-4(10mg,47.79μmol,1eq)およびBB-13(14.76mg,62.13μmol,1.2eq)のDMF溶液(1mL)に、トリ-n-ブチルリン酸無水物(60.82mg,95.57μmol,56.84μL,50%純度の酢酸エチル溶液,2.5eq)およびN,N-ジイソプロピルエチルアミン(18.53mg,143.36μmol,24.97μL,3eq)を加えた後、25℃で10時間撹拌した。LCMSによって、原料が完全に消費されたことをモニタリングし、目的シグナルが現れた。反応液をそのまま分取HPLC(カラム:Phenomenex Luna C18 150mm*30mm*5μm;移動相:[水(0.05%HCl)-ACN];アセトニトリル%:20%-50%,12min)により分離し、精製して、化合物WX011を得た。H NMR(400 MHz,DMSO-d) δ=8.83(d,J=7.89Hz,1H),8.41-8.49(m,1H),7.77(dd,J=1.32, 7.89Hz,1H),7.46(dd,J=4.82,7.89Hz,1H),7.30-7.42(m,3H),7.26(d,J=7.02Hz,2H),5.48(s,2H),4.98(td,J=7.13,11.62Hz,1H),4.59-4.67(m,1H),4.49(dd,J=6.80, 9.87Hz,1H),3.78(s,3H);LCMS m/z=429.0[M+H]。超臨界流体クロマトグラフィー(キラルカラム:カラム:Chiralpak OD -3, 3μm,0.46cm id x 5cm L;移動相:A:CO,B:MeOH(0.05% IPAm);グラジエント:B/A=10%-40%,3分間;流量:4.0mL/min;波長:220nm)分析により、ee%=100%である。
実施例12:WX012
Figure 0007299350000089
合成経路:
Figure 0007299350000090
工程1:化合物WX012の合成
BB-4(15mg,71.68μmol,1eq)およびBB-10(33.29mg,143.36μmol,2eq)のトルエン溶液(3mL)に、トリメチルアルミニウム(2M,53.76μL,1.5eq)を加えた後、25℃で1時間撹拌した。LCMSによって、原料が完全に消費されたことをモニタリングし、目的シグナルが現れた。反応液をそのまま分取HPLC(カラム:Phenomenex Luna C18 150mm*30mm*5μm;移動相:[水(0.05%HCl)-ACN];アセトニトリル%:20%-50%,12min)により分離し、精製して、化合物WX012を得た。LCMS m/z=396.2[M+H]
実施例13:WX013
Figure 0007299350000091
合成経路:
Figure 0007299350000092
工程1:化合物WX013-1の合成
LiOH・HO(245.59mg,5.85mmol,3eq)を、BB-11B(501.93mg,1.95mmol,1eq)のテトラヒドロフラン(9mL)と水(3mL)との溶液に加え、25℃で2時間反応させた。反応液に水(10mL)および酢酸エチル(10mL)を添加し、分液し、水相を酢酸エチル(10mL*2)で抽出し、水相を1M HClでpH=5~6に調整し、酢酸エチル(10mL*2)で抽出し、有機相を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、減圧濃縮(水ポンプ、45℃)してWX013-1を得た。LCMS m/z=230.2[M+1]H NMR(400 MHz,DMSO-d) δ=12.75-13.57(m,1H),7.33-7.44(m,3H),7.18-7.28(m,2H),5.57(dd,J=7.97,6.21Hz,1H),3.06-3.22(m,2H),2.94-3.03(m,1H),2.53-2.61(m,1H)。
工程2:化合物WX013の合成
N,N-ジイソプロピルエチルアミン(23.16mg,179.20μmol,31.21μL,2.5eq)、WX013-1(24.65mg,107.52μmol,1.5eq)を、BB-1(15mg,71.68μmol,1eq)のDMF(1.5mL)溶液に加え、さらにプロピルホスホン酸無水物(TP,68.42mg,107.52μmol,63.94μL,50% purity, 1.5eq)を加え、25℃で1時間反応させ、反応液を濾過し、濾液を回収した。分取HPLC(カラム:Phenomenex Luna C18 150mm*30mm*5μm;移動相:[水(0.05%HCl)-ACN];アセトニトリル%:20%-50%,12min)により分離して、WX013を得た。LCMS m/z=421.1[M+1]H NMR(400 MHz,DMSO-d) δ=8.68(d,J=8.04Hz,1H),8.46(dd,J=4.72,1.32Hz,1H),7.78(dd,J=8.04,1.38Hz,1H),7.47(dd,J=8.04,4.64Hz,1H),7.32-7.43(m,3H),7.24(br d,J=6.65Hz,2H),5.44-5.68(m,1H),5.00(dt,J=11.40,7.40Hz,1H),4.42-4.68(m,2H),3.79(s,3H),2.90-3.23(m,4H)。
実施例14:WX014
Figure 0007299350000093
合成経路:
Figure 0007299350000094
工程1:化合物WX014-2の合成
WX014-1をTHF(100mL)とMeOH(100mL)との溶液に溶解させ、反応フラスコを氷水浴(0℃)に入れ、反応フラスコに、トリメチルシリルジアゾメタン(2M,47.89mL,2.1eq)を加え、25℃まで自然に昇温し、2時間撹拌した。反応液が淡黄色になるまで氷酢酸を滴下し、減圧濃縮して化合物WX014-2を得た。
工程2:化合物WX014-3の合成
25℃の条件下、トリフェニルホスフィン(14.30g,54.53mmol,1.2eq)およびイミダゾール(3.71g,54.53mmol,1.2eq)をジクロロメタン(120mL)に溶解させ、I(13.84g,54.53mmol,10.98mL,1.2eq)を上記の混合溶液にゆっくりと添加し、10分間撹拌し、WX014-2のDCM(80mL)溶液を上記の溶液に添加し、25℃で12時間反応した。反応液を濾過し、濾液を減圧濃縮して粗生成物を得た。粗生成物をカラムクロマトグラフィー(石油エーテル:酢酸エチル=10:1~1:1)により分離して、精製し、WX014-3を得た。LCMS m/z=244.1[M-100+1]H NMR(400 MHz,CDCl) δ=5.10(br d,J=4.82Hz,1H),4.35(br d,J=3.96Hz,1H),3.77(s,3H),3.18(t,J=7.46Hz,2H),2.30-2.49(m,1H),2.18(dq,J=14.32,7.22Hz,1H),1.43-1.47(m,9H)。
工程3:化合物WX014-4の合成
1,2-ジブロモエタン(82.12mg,437.12μmol,32.98μL,0.3eq)を亜鉛粉末(285.83mg,4.37mmol,3eq)のDMF(2mL)に加え、60℃で30分間撹拌し、室温(25℃)まで冷却し、反応フラスコに、トリメチルクロロシラン(9.50mg,87.42μmol,11.10μL,0.06eq)を加え、25℃で30分間撹拌し、WX014-2のDMF(2mL)溶液を上記の溶液に加え、25℃で30分間反応した。30分間静置させ、上部のエマルジョンを取り出し、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(44.08mg,48.14μmol,0.05eq)、トリ-o-メチルフェニルホスフィン(58.61mg,192.55μmol,0.2eq)およびBB-12のDMF(2mL)溶液にゆっくりと加え、20℃で1時間反応させた。反応液に水(5mL)およびメチルtert-ブチルエーテル(5mL)を添加し、分液し、水相をメチルtert-ブチルエーテル(5mL*2)で抽出し、有機相を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、減圧濃縮してWX014-4を得た。LCMS m/z=289.1[M-56+1]
工程4:化合物WX014-5の合成
LiOH・HO(219.33mg,5.23mmol,3eq)を、WX014-4のテトラヒドロフラン(15mL)と水(15mL)との溶液に加え、25℃で2時間反応させた。反応液に、10mLの水および10mLの酢酸エチルを添加し、分液し、水相を酢酸エチル(10mL*2)で抽出し、水相を1M HClでpH=5~6に調整し、酢酸エチル(10mL*2)で抽出し、有機相を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、減圧濃縮してWX014-5を得た。LCMS m/z=275.1[M-56+1]
工程5:化合物WX014-6の合成
プロピルホスホン酸無水物(895.80mg,1.41mmol,837.20μL,50%purity,1.5eq)を、N,N-ジイソプロピルエチルアミン(303.22mg,2.35mmol,408.65μL,2.5eq)、WX014-5のDMF(20mL)溶液に加え、25℃で2時間反応させた。反応液に、水(15mL)および酢酸エチル(15mL)を添加し、分液し、水相を酢酸エチル(15mL*2)で抽出し、有機相を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、減圧濃縮して粗生成物を得た。粗生成物をカラムクロマトグラフィー(石油エーテル:酢酸エチル=10:1~1:1)により精製して、WX014-6を得た。H NMR(400 MHz,CDCl) δ=7.40(br s,1H),6.76-6.87(m,2H),5.46(br d,J=7.46Hz,1H),4.22-4.37(m,2H),2.88-3.03(m,1H),2.63-2.73(m,2H),1.42(s,9H)。
工程6:化合物WX014-7の合成
20℃で、ローソン試薬(77.70mg,192.12μmol,1.5eq)をWX014-6(40mg,128.08μmol,1eq)のトルエン(5mL)溶液に加え、70℃で12時間反応させ、反応液を減圧濃縮して粗生成物を得た。粗生成物をカラムクロマトグラフィー(石油エーテル:酢酸エチル=10:1~1:1)により分離し、精製して、WX014-7を得た。LCMS m/z=273.1[M-56+1]
工程7:化合物WX014-8の合成
HCl/EtOAc(4M,2mL)を、WX014-7の酢酸エチル(3mL)溶液に加え、25℃で2時間反応させた。反応液を減圧濃縮(水ポンプ、40℃)して粗生成物WX014-8を得た。LCMS m/z=229.2[M+1]
工程8:化合物WX014の合成
DIPEA(18.31mg,141.66μmol,24.67μL,2.5eq)、TP(54.09mg,84.99μmol,50.55μL,50% purity,1.5eq)を、WX014-8(15mg,56.66μmol,1eq,HCl)、BB-1(14.97mg,73.66μmol,1.3eq)のDMF(2mL)に加え、25℃で2時間反応させた。反応液に水(5mL)および酢酸エチル(5mL)を添加し、分液し、水相を酢酸エチル(5mL*2)で抽出し、有機相を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、減圧濃縮して粗生成物を得た。粗生成物を分取HPLC(カラム:Phenomenex Luna C18 150mm*30mm*5μm;移動相:[水(0.05%HCl)-ACN];アセトニトリル%:20%-50%,12min)により分離して、WX014を得た。LCMS m/z=414.2[M+1]H NMR(400 MHz,CDOD) δ=7.21-7.37(m,5H),6.97-7.13(m,2H),4.71(br d,J=4.14Hz,1H),4.18(br s,2H),2.84-2.96(m,1H),2.64-2.83(m,2H),2.17(td,J=11.67,7.78Hz,1H)。
実施例15:WX015
Figure 0007299350000095
合成経路:
Figure 0007299350000096
工程1:化合物WX015の合成
N,N-ジメチルホルムアミド(10mL)を入れた丸底フラスコに、BB-3(20mg,96.02μmol,1.1eq)、DIPEA(23.69mg,183.32μmol,31.93μL,2.1eq)を加えて溶解させた後、BB-14(21.24mg,87.30μmol,1eq)、TP(55.55mg,87.30μmol,51.92μL,50%純度,1eq)をさらに加え、25℃で撹拌しながら12時間反応させた。LCMSによって、原料がほぼ完全に消費されたことをモニタリングした。反応液を5mL程度まで減圧濃縮し、HPLC(カラム:Welch Xtimate C18 150*25mm*5μm;移動相:[水(0.225%FA)-ACN];アセトニトリル%:35%-65%,8min)により分離して、精製して、生成物WX015を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ= 8.78(br d,J=7.5Hz,1H),7.43-7.35(m,5H),7.35-7.26(m,4H),5.82(s,2H),5.21(td,J=6.9,11.0Hz,1H),4.71(dd,J=6.5,9.5Hz,1H),4.33-4.21(m,1H),3.87(s,3H);LCMS m/z=395.1[M+1]
実施例16:WX016
Figure 0007299350000097
合成経路:
Figure 0007299350000098
工程1:化合物WX016-2の合成
丸底フラスコに、DMSO(10mL)を加えた後、WX016-1(1.31g,8.44mmol,1eq)、KCO3(1.40g,10.13mmol,1.2eq)および臭化ベンジル(1.59g,9.29mmol,1.10mL,1.1eq)をゆっくりと加え、25℃で12時間連続的に撹拌した。反応終了後、反応液に水(50mL)を添加し、酢酸エチル(30mL×2)で2回抽出し、有機相を合わせ、飽和食塩水(5mL×2)で洗浄し、減圧濃縮して粗生成物を得た。カラムクロマトグラフィー(石油エーテル酢酸エチル=100:1~1:1)により分離して、精製して、WX016-2を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ=7.39-7.30(m,3H),7.19(dd,J=1.8,7.6Hz,2H),5.39(s,2H),4.49(q,J=7.1Hz,2H),2.43(s,3H),1.44(t,J=7.1Hz,3H);LCMS m/z=246.1[M+1]
工程2:化合物WX016-3の合成
丸底フラスコに、THF(7.5mL)およびHO(2.5mL)を加えた後、WX016-2(1g,4.08mmol,1eq)およびLiOH・HO(513.26mg,12.23mmol,3eq)をゆっくりと加え、25℃で撹拌しながら2時間反応させ、反応液を減圧濃縮し、2N塩酸を滴下してpH酸性に調整し、濾過してフィルターケーキを回収し、目的化合物WX016-3を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ=7.42-7.28(m,3H),7.25-7.19(m,2H),5.40(s,2H),2.56(s,3H);LCMS m/z=217.9[M+1]
工程3:化合物WX016の合成
丸底フラスコに、N,N-ジメチルホルムアミド(1mL)、WX016-3(80mg,368.28μmol,1eq)およびBB-4(77.07mg,368.28μmol,1eq)を加えた後、TP(351.54mg,552.43μmol,328.55μL,50%純度,1.5eq)およびDIPEA(142.79mg,1.10mmol,192.45μL,3eq)を加え、25℃で5時間連続的に撹拌した。濃縮した後、粗生成物を分取HPLC(カラム:Welch Xtimate C18 150*25mm*5μm;移動相:[水(0.225%FA)-ACN];アセトニトリル%:35%-65%,8min)により分離し、化合物WX016を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ=8.72(br d,J=7.3Hz,1H),8.37(dd,J=1.4, 4.6Hz,1H),7.56(dd,J=1.3, 8.0Hz,1H),7.38-7.27(m,4H),7.18(br d,J=6.0Hz,2H),5.36(s,2H),5.23(td,J=6.8, 11.0Hz,1H),4.78(dd,J=6.5, 9.5Hz,1H),4.32(dd,J=9.8, 11.0Hz,1H),3.93(s,3H),2.41(s,3H);LCMS m/z=409.1[M+1]
実施例17:WX017
Figure 0007299350000099
合成経路:
Figure 0007299350000100
工程1:化合物WX017-2の合成
25℃で、反応フラスコに、水素化アルミニウムリチウム(629.99mg,16.60mmol,2eq)、THF(5mL)を加え、その後、WX017-1(1.08g,8.30mmol,1eq)のTHF(5mL)溶液をゆっくりと滴下し、35℃に昇温し、1時間連続的に撹拌した。6mLの飽和NaSO水溶液で反応をクエンチし、濾過し、酢酸エチル(10mL×3回)で洗浄し、有機相を合わせ、無水MgSOで乾燥させ、濾過し、減圧濃縮した。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(石油エーテル:酢酸エチル=100:1~5:1)により精製して、化合物WX017-2を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ=3.84(s,2H),2.01(d,J=2.5Hz,6H)。
工程2:化合物WX017-3の合成
反応フラスコに、WX017-2、DCM(10mL)、ピリジン(1.40g,17.70mmol,1.43mL,4.11eq)を加えた後、p-トルエンスルホニルクロリド(1.23g,6.46mmol,1.5eq)をゆっくりと加え、40℃に昇温し、24時間反応させた。TLC(石油エーテル:酢酸エチル=5:1)によって、新しいスポット(Rf=0.7)が現れた。反応液をそのまま減圧濃縮し、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(石油エーテル:酢酸エチル=100:1~30:1)により精製して、化合物WX017-3を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ=7.78(d,J=8.3Hz,2H),7.35(d,J=8.0Hz,2H),4.24(s,2H),2.46(s,3H),1.99(d,J=2.3Hz,6H)。
工程3:化合物WX017-4の合成
25℃で、ナス型フラスコに、アセトニトリル(10mL)、WX017-3(500mg,1.85mmol,1.1eq)およびBB-8-1(213.72mg,1.68mmol,1eq)を加え、その後、KCO(278.88mg,2.02mmol,1.2eq)を加え、70℃に昇温し、48時間反応させた。反応液を濃縮し、粗生成物をシリカゲルカラム(溶離液が石油エーテル:酢酸エチル=100:1~1:2)により分離し、精製して、化合物WX017-4を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ=8.12(s,1H),4.57(s,2H),4.01(s,3H),2.05(d,J=2.5Hz,6H)。
工程4:化合物WX017-5の合成
25℃で、THF(2mL)を入れた丸底フラスコにWX017-4(100mg,444.01μmol,1eq)を加えて溶解させた後、LiOH・HO(55.90mg,1.33mmol,3eq)のMeOH(1mL)溶液を滴下し、25℃で5時間反応させた。減圧濃縮した後、テトラヒドロフラン(5mL)で溶解させ、1Nの希塩酸でpH4に調整し、トルエン(5mL)を添加し、均一に混合し、溶媒を減圧下で蒸発乾固させて、WX017-5の粗生成物を得た。生成物を精製せずに次の工程でそのまま使用した。
工程5:化合物WX017の合成
25℃で、反応フラスコに、酢酸エチル(10mL)、WX017-5(207mg,588.09μmol,1eq)およびBB-4(143.52mg,588.09μmol,1eq)を加えて溶解させ、TP(1.12g,1.76mmol,1.05mL,50% purity,3eq)およびDIPEA(228.02mg,1.76mmol,307.30μL,3eq)を加え、25℃で8時間反応させた。反応終了後、酢酸エチル(10mL)を添加し、水(10mL×3回)で洗浄し、飽和食塩水(10mL×1回)で洗浄し、減圧濃縮して粗生成物を得た。さらに、分取HPLC(カラム:Welch Xtimate C18 150*25mm*5μm;移動相:[水(0.05%NHO)-ACN];アセトニトリル%:35%-65%,8min)により分離して、化合物WX017を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ=8.83(br d,J=6.8Hz,1H),8.37(dd,J=1.4, 4.6Hz,1H),8.08(s,1H),7.57(dd,J=1.3,8.0Hz,1H),7.29(dd,J=4.8,8.0Hz,1H),5.20(td,J=6.7,11.2Hz,1H),4.80(dd,J=6.4,9.4Hz,1H),4.54(s,2H),4.33(dd,J=9.8,11.0Hz,1H),3.94(s,3H),2.05(d,J=2.3Hz,6H);LCMS m/z=403.2[M+1]
実施例18:WX018
Figure 0007299350000101
合成経路:
Figure 0007299350000102
化合物WX018の合成
N,N-ジメチルホルムアミド(10mL)を入れた丸底フラスコに、BB-4(200mg,955.71μmol,1.1eq)、DIPEA(235.80mg,1.82mmol,317.80μL,2.1eq)を加えて溶解させた後、BB-14(210.50mg,868.83μmol,1eq)、TP(552.89mg,868.83μmol,516.72μL,50%純度,1eq)をさらに加え、25℃で撹拌しながら12時間反応させ、反応液を5mL程度まで減圧濃縮し、HPLC(カラム:Welch Xtimate C18 150*25mm*5μm;移動相:[水(0.225%FA)-ACN];アセトニトリル%:35%-65%,8min)により分離し、精製して、化合物WX018を得た。HNMR(400MHz,CDCl) δ=8.86(br d,J=6.8Hz,1H),8.38(dd,J=1.6, 4.6Hz,1H),7.69-7.27(m,7H),5.83(s,2H),5.20(td,J=6.7, 11.2Hz,1H),4.78(dd,J=6.3, 9.5Hz,1H),4.33(dd,J=9.7, 11.2Hz,1H),3.93(s,3H);LCMS m/z=396.1[M+1]
実施例19:WX019
Figure 0007299350000103
合成経路:
Figure 0007299350000104
工程1:化合物WX019の合成
N,N-ジメチルホルムアミド(10mL)を入れた丸底フラスコに、BB-15(156.11mg,745.97μmol,1.1eq)、BB-4(150mg,678.16μmol,1eq)、TP(431.55mg,678.16μmol,403.32μL,50%純度,1eq)、DIPEA(184.06mg,1.42mmol,248.06μL,2.1eq)を加えた後、25℃で撹拌しながら12時間反応させた。反応終了後、反応液を5mL程度まで減圧濃縮し、HPLC(カラム:Welch Xtimate C18 150*25mm*5μm;移動相:[水(0.225%FA)-ACN];アセトニトリル%:35%-65%,8min)により分離し、精製して、生成物WX019を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ= 8.81(br d,J=7.3Hz,1H),8.37(dd,J=1.5, 4.8Hz,1H),8.14(s,1H),7.56(dd,J=1.5, 8.0Hz,1H),7.41-7.27(m,3H),7.21-7.06(m,2H),5.45(s,2H),5.20(td,J=6.7, 11.2Hz,1H),4.78(dd,J=6.5, 9.5Hz,1H),4.31(dd,J=9.5, 11.0Hz,1H),3.93(s,3H);19F NMR(376MHz,CDCl3) δ= -109.59~-130.05(m,1F);LCMS m/z=413.1[M+1]
実施例20:WX020
Figure 0007299350000105
合成経路:
Figure 0007299350000106
工程1:化合物WX020-2の合成
アセトニトリル(15mL)に、WX020-1(3g,23.60mmol,1eq)、2,6-ジフルオロベンジルブロミド(5.37g,25.96mmol,1.1eq)、KCO(3.91g,28.32mmol,1.2eq)を加えた後、撹拌しながら、50℃で12時間反応させた。TLCによって反応終了をモニタリングした後、反応液を濾過してKCOを除去し、フィルターケーキを酢酸エチル(15mL)で3回洗浄し、濾液に飽和食塩水(50mL)を添加し、有機相を抽出し、水相をEA(30mL)でさらに抽出し、有機相を合わせ、減圧濃縮して粗生成物を得た。粗生成物をシリカゲルカラム(溶離液が石油エーテル:酢酸エチル=100:1~100:100)により分離し、精製して、化合物WX020-2を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ= 8.17(s,1H),7.46-7.33(m,1H),7.04-6.91(m,2H),5.51(s,2H),4.13-3.85(m,3H)。
工程2:化合物WX020-3の合成
THF(30mL)を入れた丸底フラスコに、WX020-2(1g,3.95mmol,1eq)を加えて溶解させた後、LiOH・HO(331.43mg,7.90mmol,2eq)のHO(5mL)溶液をさらに加え、20℃で撹拌しながら2時間反応させた。反応液を1Mの希塩酸でpH6に調整し、さらに減圧濃縮して溶媒を除去し、粗生成物WX020-3を得た。LCMS m/z=239.9[M+1]
工程3:化合物WX020の合成
N,N-ジメチルホルムアミド(10mL)を入れた丸底フラスコに、BB-4(192.49mg,919.82μmol,1.1eq)、WX020-3(200mg,836.20μmol,1eq)、TP(532.12mg,836.20μmol,497.31μL,50%純度,1eq)、DIPEA(226.95mg,1.76mmol,305.86μL,2.1eq)を加えた後、25℃で撹拌しながら12時間反応させ、反応液を5mL程度まで減圧濃縮し、分取HPLC(カラム:Welch Xtimate C18 150*25mm*5μm;移動相:[水(0.225%FA)-ACN];アセトニトリル%:35%-65%,8min)により分離して、精製し、化合物WX020を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ=8.79(br d,J=7.0Hz,1H),8.36(dd,J=1.5,4.8Hz,1H),8.14(s,1H),7.55(dd,J=1.5,8.0Hz,1H),7.43-7.26(m,2H),6.97(t,J=7.9Hz,2H),5.49(s,2H),5.19(td,J=6.7,11.1Hz,1H),4.77(dd,J=6.3,9.5Hz,1H),4.30(dd,J=9.7,10.9Hz,1H),3.92(s,3H);19F NMR(376MHz,CDCl) δ=-104.74~-120.36(m,1F);LCMS m/z =431.1[M+1]
実施例21:WX021
Figure 0007299350000107
合成経路:
Figure 0007299350000108
工程1:化合物WX021-1の合成
DCM(20mL)を入れた丸底フラスコに、BB-3-4(2g,6.73mmol,1eq)を加えた後、40℃で撹拌し、NCS(988.11mg,7.40mmol,1.1eq)をゆっくりと加え、40℃で継続的に撹拌しながら5時間反応させ、反応液を減圧濃縮して粗生成物を得た。粗生成物をシリカゲルカラム(溶離液がDCM:MeOH=100:1~100:10)により分離し、精製して、化合物WX021-1を得た。H NMR(400MHz,CDOD) δ= 7.54(d,J=1.5Hz,1H),7.34(d,J=1.8Hz,1H),6.95-6.77(m,1H),5.49(s,2H),4.70-4.60(m,2H),4.53(br dd,J=4.3, 9.5Hz,1H),4.39-4.26(m,1H),1.46(s,9H)。LCMS m/z=331.9[M+1]
工程2:化合物WX021-2の合成
DCM(10mL)を入れた丸底フラスコに、WX021-1(1.60g,4.82mmol,1eq)、TP(6.14g,9.65mmol,5.74mL,50%純度,2eq)、DIPEA(1.87g,14.47mmol,2.52mL,3eq)を加え、20℃で3時間反応させた。反応液を飽和食塩水(300mL)に注ぎ、分離して有機相を得た。水相を酢酸エチル(100mL)で2回抽出し、有機相を合わせ、減圧濃縮して粗生成物を得た。粗生成物をシリカゲルカラム(石油エーテル:酢酸エチル=100:20~100:100)により分離し、精製して、化合物WX021-2を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ= 8.22(br s,1H),8.04(d,J=2.0Hz,1H),7.41(d,J=2.3Hz,1H),5.59(br s,1H),4.71-4.46(m,2H),4.23-4.05(m,1H),1.46(s,9H);LCMS m/z=257.8[M-56+1]
工程3:化合物WX021-3の合成
N,N-ジメチルアセトアミド(10mL)を入れた丸底フラスコに、WX021-2(200mg,637.48μmol,1eq)、ヨードメタン(1.17g,8.24mmol,513.16μL,12.93eq)、炭酸セシウム(415.41mg,1.27mmol,2eq)を加え、窒素ガス保護下、25℃で撹拌しながら1時間反応させた。反応終了後、反応液を飽和食塩水(20mL)に注ぎ、酢酸エチル(15mL)で3回抽出し、有機相を合わせ、減圧濃縮して粗生成物を得た。粗生成物を酢酸エチル(2mL)で溶解させ、分取TLC(石油エーテル:酢酸エチル=3:1)により分離し、精製して、生成物WX021-3を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ= 8.23(d,J=2.3Hz,1H),7.47(d,J=2.0Hz,1H),5.55(br s,1H),4.82-4.49(m,2H),4.35-4.14(m,1H),3.47(s,3H),1.41(s,9H)。
工程4:化合物WX021-4の合成
25℃で、トルエン(10mL)を入れた丸底フラスコに、WX021-3(177mg,540.02μmol,1eq)、ローソン試薬(327.63mg,810.04μmol,1.5eq)を加えた後、110℃にゆっくりと昇温し、12時間反応させ、反応液を飽和食塩水(100mL)に注ぎ、酢酸エチル(30mL)で3回抽出し、有機相を合わせ、減圧濃縮して粗生成物を得た。粗生成物を分取TLC(石油エーテル:酢酸エチル=3:1)により分離し、精製して、化合物WX021-4を得た。LCMS m/z=287.8[M-56+1]
工程5:化合物WX021-5の合成
25℃で、ジクロロメタン(5mL)を入れた丸底フラスコに、WX021-4(35mg,101.80μmol,1eq)を加え、撹拌しながら、トリフルオロ酢酸(174.10mg,1.53mmol,113.06μL,15eq)を滴下し、さらに2時間反応させ、反応液を減圧下で蒸発乾固させて、WX021-5粗生成物を得た。そのまま次の工程で使用した
工程6:化合物WX021の合成
N,N-ジメチルアセトアミド(5mL)を入れた丸底フラスコに、WX021-5(20mg,82.06μmol,1eq)、BB-8(16.68mg,82.06μmol,1eq)、TP(52.22mg,82.06μmol,48.81μL,50%純度,1eq)、DIPEA(22.27mg,172.33μmol,30.02μL,2.1eq)を加え、25℃で5時間反応させ、飽和食塩水(30mL)を添加し、酢酸エチル(30mL×3)で抽出し、有機相を減圧濃縮して粗生成物を得た。粗生成物をHPLC(ギ酸系)(カラム:Xtimate C18 100*30mm*3μm;移動相[水(0.225%FA)-ACN];アセトニトリル%:40%-70%,8min)により分離して、精製して、化合物WX021を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ= 8.77(br d,J=7.3Hz,1H),8.32(d,J=2.3Hz,1H),8.04(s,1H),7.57(d,J=2.0Hz,1H),7.44-7.34(m,3H),7.32-7.27(m,2H),5.40(s,2H),5.26-5.16(m,1H),4.77(dd,J=6.3,9.5Hz,1H),4.39-4.27(m,1H),3.90(s,3H);LCMS m/z=429.0[M+1]
実施例22:WX022
Figure 0007299350000109
合成経路:
Figure 0007299350000110
工程1:化合物WX022の合成
N,N-ジメチルアセトアミド(5mL)に、WX021-5(20mg,82.06μmol,1eq)、BB-15(18.15mg,82.06μmol,1eq)、TP(52.22mg,82.06μmol,48.81μL,50%純度,1eq)、DIPEA(22.27mg,172.33μmol,30.02μL,2.1eq)を加え、25℃で5時間反応させ、30mLの飽和食塩水を添加し、酢酸エチル(30mL×3)で抽出して有機相を得た。減圧濃縮して、粗生成物を分取HPLC(カラム:Xtimate C18 100*30mm*3μm;移動相:[水(0.225%FA)-ACN]; アセトニトリル%:42%-72%,8min)により分離し、精製して、化合物WX022を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ= 8.77(br d,J=6.5Hz,1H),8.32(d,J=2.0Hz,1H),8.14(s,1H),7.57(d,J=2.3Hz,1H),7.41-7.31(m,2H),7.20-7.07(m,2H),5.45(s,2H),5.30-5.08(m,1H),4.76(dd,J=6.3,9.5Hz,1H),4.32(t,J=10.3Hz,1H),3.93-3.87(m,1H); 19F NMR(376MHz,CDCl3) δ= -110.66~-127.90(m,1F);LCMS m/z=447.1[M+1]
実施例23:WX023
Figure 0007299350000111
合成経路:
Figure 0007299350000112
工程1:化合物WX023-1の合成
25℃で、DCM(30mL)にBB-4-3(3.00g,10.09mmol,1eq)およびN-ブロモスクシンイミド(1.98g,11.10mmol,1.1eq)をゆっくりと加え、窒素ガス保護下、反応液を25℃でさらに12時間撹拌した。反応液を水(100mL)にゆっくりと注ぎ、ジクロロメタン(100mL×2)で抽出し、有機相を合わせ、水(100mL)、飽和食塩水(100mL)で順次に洗浄し、有機相を得た。減圧濃縮して粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ジクロロメタン:メタノール=100:1~100:5)により精製して、化合物WX023-1を得た。
工程2:化合物WX023-2の合成
25℃で、丸底フラスコに、酢酸エチル(100mL)を加え、WX023-1(5.60g,14.89mmol,1eq)、TP(14.21g,22.33mmol,13.28mL,50%純度,1.5eq)およびDIPEA(3.85g,29.77mmol,5.19mL,2eq)をゆっくりと加え、窒素ガス保護下、反応液を25℃でさらに1時間撹拌した。反応液を水(200mL)にゆっくりと注ぎ、酢酸エチル(200mL×2)で抽出し、有機相を合わせ、水(200mL)、飽和食塩水(200mL)で順次に洗浄し、有機相を得た。減圧濃縮して粗生成物をシリカゲルカラム(石油エーテル:酢酸エチル=100:1~1:1)により精製して、化合物WX023-2を得た。
工程3:化合物WX023-3の合成
25℃で、丸底フラスコに、N,N-ジメチルホルムアミド(10mL)を加え、WX023-2(1.80g,5.03mmol,1eq)、ヨードメタン(5.71g,40.23mmol,2.50mL,8.01eq)および炭酸セシウム(3.60g,11.06mmol,2.2eq)をゆっくりと加え、窒素ガス保護下、反応液を25℃でさらに1時間撹拌し、反応液を水(100mL)にゆっくりと注ぎ、酢酸エチル(100mL×2)で抽出し、有機相を合わせ、水(100mL)、飽和食塩水(100mL)で順次に洗浄し、有機相を減圧濃縮して粗生成物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(石油エーテル:酢酸エチル=100:1~3:1)により精製して、化合物WX023-3を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ=8.32(d,J=2.0Hz,1H),7.61(d,J=2.3Hz,1H),5.55(brd,J=4.8Hz,1H),4.79-4.44(m,2H),4.34-4.11(m,1H),3.46(s,3H),1.40(s,9H)。
工程4:化合物WX023-4の合成
25℃で、丸底フラスコに、トルエン(50mL)を加え、WX023-3(1.35g,3.63mmol,1eq)およびローソン試薬(2.20g,5.44mmol,1.5eq)をゆっくりと加え、窒素ガス保護下、反応液を110℃でさらに11時間撹拌した。反応液を水(100mL)にゆっくりと注ぎ、酢酸エチル(100mL×2)で抽出し、有機相を合わせ、水(100mL)、飽和食塩水(100mL)で順次に洗浄し、有機相を減圧濃縮して粗生成物を得た。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(石油エーテル:酢酸エチル=100:1~1:1)により精製して、化合物WX023-4を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ=8.38(d,J=2.0Hz,1H),7.65(d,J=2.3Hz,1H),6.10(br d,J=7.3Hz,1H),4.81-4.67(m,1H),4.58(dd,J=6.1,9.4Hz,1H),4.23(dd,J=9.5,11.3Hz,1H),3.87(s,3H),1.41(s,9H)。
工程5:化合物WX023-5の合成
25℃で、丸底フラスコに、ジクロロメタン(40mL)を加え、WX023-4(980mg,2.52mmol,1eq)およびトリフルオロ酢酸(6.16g,54.02mmol,4,21.40eq)をゆっくりと加え、反応液を25℃でさらに11時間撹拌した。反応液を炭酸水素ナトリウム飽和水溶液(100mL)にゆっくりと注ぎ、ジクロロメタン(100mL×2)で2回抽出し、有機相を合わせ、水(100mL)、飽和食塩水(100mL)で順次に洗浄し、有機相を合わせ、減圧濃縮して化合物WX023-5の粗生成物を得た。精製せず、そのまま次の工程で使用した。H NMR(400MHz,CDCl) δ=8.32(d,J=2.0Hz,1H),7.59(d,J=2.3Hz,1H),4.40(dd,J=6.3,10.0Hz,1H),4.10(t,J=10.8Hz,1H),3.88-3.71(m,4H)。
工程6:化合物WX023の合成
25℃で、丸底フラスコに、N,N-ジメチルアセトアミド(5mL)を加え、WX023-5(288mg,999.43μmol,1eq)、TP(954.00mg,1.50mmol,891.59μL,50%純度,1.5eq)、BB-8(406.16mg,2.00mmol,2eq)およびDIPEA(387.50mg,3.00mmol,522.24μL,3eq)をゆっくりと加え、窒素ガス保護下、反応液を25℃でさらに2時間撹拌した。反応液を水(100mL)にゆっくりと注ぎ、酢酸エチル(100mL×2)で抽出し、有機相を合わせ、水(100mL)、飽和食塩水(100mL)で順次に洗浄し、有機相を減圧濃縮して粗生成物を得た。粗生成物を分取HPLC(カラム:Xtimate C18 100*30mm*3μm; 移動相:[水(0.225%FA)-ACN]; アセトニトリル%:42%-72%,8min)により分離して、化合物WX023を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ=8.77(br d,J=7.0Hz,1H),8.42(d,J=2.0Hz,1H),8.04(s,1H),7.71(d,J=2.0Hz,1H),7.45-7.33(m,3H),7.33-7.27(m,2H),5.40(s,2H),5.21(td,J=6.7,11.3Hz,1H),4.77(dd,J=6.3,9.5Hz,1H),4.33(dd,J=9.8,11.0Hz,1H),3.90(s,3H);LCMS m/z =475.0[M+1]
実施例24:WX024
Figure 0007299350000113
合成経路:
Figure 0007299350000114
工程1:化合物WX024-2の合成
丸底フラスコに、THF(100mL)を加えた後、WX024-1(10g,50.22mmol,1eq)、BB-3-2(11.34g,55.24mmol,1.1eq)および炭酸セシウム(29.45g,90.39mmol,1.8eq)をゆっくりと加え、65℃でさらに16時間攪拌し、反応液を水(300mL)に注ぎ、2M希塩酸を滴下してpH3に調整し、酢酸エチル(500mL×2)で抽出し、有機相を合わせ、飽和食塩水(50mL×2)で洗浄し、有機相を減圧濃縮して、化合物WX024-2を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ= 8.46(d,J=1.8Hz,1H),8.20(dd,J=2.0,8.8Hz,1H),7.12(d,J=8.8Hz,1H),5.62(br d,J=8.0Hz,1H),4.83-4.61(m,2H),4.45(dd,J=3.0,9.3Hz,1H),3.93(s,3H),1.45(s,10H)。
工程2:化合物WX024-3の合成
水素化用フラスコにMeOH(300mL)を加えた後、WX024-2(25.8g,67.13mmol,1eq)、パラジウム炭素触媒(2.6g,26.02mmol,10%純度)をゆっくりと加え、アルゴンガスで3回置換し、H(40Psi)雰囲気下、30℃でさらに24時間撹拌した。TLC(石油エーテル:酢酸エチル:醋酸=1:1:0.1)によってモニタリングし、新しいスポットが現れた。反応液をセライトで濾過し、濾液を減圧濃縮して化合物WX024-3を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ=7.50-7.44(m,1H),7.39(br s,1H),6.70(d,J=8.5Hz,1H),6.53(br s,2H),6.00(br d,J=7.5Hz,1H),4.73(br d,J=7.0Hz,1H),4.43(br d,J=8.5Hz,1H),4.31-4.24(m,1H),3.85(s,3H),1.41(s,9H)。
工程3:化合物WX024-4の合成
丸底フラスコに、酢酸エチル(200mL)を加えた後、WX024-3、TP(33.67g,52.91mmol,31.47mL,50%純度,1.5eq)、DIEA(13.68g,105.83mmol,18.43mL,3eq)をゆっくりと加え、25℃でさらに2時間撹拌し、反応液に水(200mL)を添加し、抽出して分離し、水相を酢酸エチル(200mL×2)で抽出し、有機相を合わせ、飽和食塩水(100mL×2)で洗浄し、有機相を減圧濃縮した。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(石油エーテル:酢酸エチル=100:1~1:1)により精製して、化合物WX024-4を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ= 8.15(br s,1H),7.80(dd,J=2.0, 8.5Hz,1H),7.73(d,J=2.0Hz,1H),7.13(d,J=8.3Hz,1H),5.62(br d,J=5.3Hz,1H),4.71-4.59(m,2H),4.33-4.23(m,1H),3.95-3.89(m,3H),1.43(s,9H)。
工程4:化合物WX024-5の合成
丸底フラスコに、N,N-ジメチルホルムアミド(200mL)を加えた後、WX024-4(17g,50.54mmol,1eq)、炭酸セシウム(49.40g,151.63mmol,3eq)およびヨードメタン(21.52g,151.63mmol,9.44mL,3eq)をゆっくりと加え、25℃でさらに2時間撹拌し、反応液に水(300mL)を添加し、酢酸エチル(300mL×2)で抽出し、有機相を合わせ、飽和食塩水(100mL×2)で洗浄し、有機相を減圧濃縮して、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(石油エーテル:酢酸エチル=100:1~1:1)により精製して、化合物WX024-5を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ= 7.92-7.83(m,2H),7.18(d,J=8.4Hz,1H),5.50(br d,J=6.1Hz,1H),4.72-4.52(m,2H),4.28-4.17(m,1H),3.92(s,3H),3.42(s,3H),1.38(s,9H)。
工程5:化合物WX024-6の合成
丸底フラスコに、トルエン(40mL)を加え後、WX024-5(4.01g,11.45mmol,1eq)、ローソン試薬(5.09g,12.59mmol,1.1eq)およびBocO(10.60g,48.55mmol,11.15mL,4.24eq)をゆっくりと加え、110℃に昇温し、12時間撹拌し、反応液を飽和食塩水(30mL)にゆっくりと注ぎ、酢酸エチル(100mL×2)で抽出し、有機相を合わせ、飽和食塩水(30mL×2)で洗浄し、有機相を減圧濃縮して粗生成物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(石油エーテル:酢酸エチル=100:1~1:1)により精製して、化合物WX024-6を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ= 7.99-7.92(m,2H),7.21(d,J=8.3Hz,1H),6.02(br d,J=7.8Hz,1H),4.80-4.69(m,1H),4.53(dd,J=6.3,9.5Hz,1H),4.22(dd,J=9.5,11.3Hz,1H),3.94(s,3H),3.86(s,3H),1.46-1.33(m,9H)。
工程6:化合物WX024-7の合成
丸底フラスコに、酢酸エチル(10mL)を加えた後、WX024-6(500mg,1.36mmol,1eq)およびHCl/酢酸エチル(4M,10mL,29.31eq)をゆっくりと加え、25℃でさらに2時間撹拌し、反応液を減圧濃縮して、化合物WX024-7を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ= 8.04-7.89(m,2H),7.28(br s,1H),4.93(br s,1H),4.63(br s,1H),4.44(br s,1H),3.93(s,3H),3.88-3.85(m,1H),3.81(s,3H)。
工程7:化合物WX024-8の合成
丸底フラスコに、N,N-ジメチルホルムアミド(5mL)を加えた後、WX024-7(245mg,809.18μmol,1eq,HCl)、BB-8(164.42mg,809.18μmol,1eq)、HATU(461.51mg,1.21mmol,1.5eq)およびDIPEA(313.74mg,2.43mmol,422.83μL,3eq)をゆっくりと加え、25℃でさらに2時間撹拌し、反応液を水(20mL)に注ぎ、酢酸エチル(20mL×2)で抽出し、有機相を合わせ、飽和食塩水(5mL×2)で洗浄し、有機相を減圧濃縮して粗生成物を得た。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(石油エーテル:酢酸エチル=100:1~1:100)により精製して、化合物WX024-8を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ= 8.70(br d,J=7.3Hz,1H),8.02-7.94(m,3H),7.42-7.34(m,3H),7.31-7.28(m,2H),5.39(s,2H),5.20(td,J=6.8,11.0Hz,1H),4.72(dd,J=6.5,9.4Hz,1H),4.31(t,J=10.3Hz,1H),3.95(s,3H),3.89(s,3H)。
工程8:化合物WX024の合成
丸底フラスコに、THF(4mL)およびHO(1mL)を加え後、WX024-8(50mg,110.74μmol,1eq)およびLiOH・HO(4.65mg,110.74μmol,12.79μL,1eq)をゆっくりと加え、25℃でさらに2時間撹拌し、反応液をHPLC(カラム:Phenomenex Gemini-NX 80*40mm*3μm;移動相:[水(0.05% NH・HO+10mM NHHCO)-ACN];アセトニトリル%:11%-31%,8min)により分離して、化合物WX024を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ= 8.78(br s,1H),8.18-7.82(m,3H),7.36(br s,5H),5.64-5.32(m,2H),5.26(br s,1H),4.72(br s,1H),4.32(br s,1H),3.86(br s,3H);LCMS m/z=438.1[M+1]
実施例25:WX025
Figure 0007299350000115
合成経路:
Figure 0007299350000116
工程1:化合物WX025-2の合成
0℃、窒素ガス保護下で、NaH(2.78g,69.38mmol,60%純度,2.2eq)を、BB-3-2(7.12g,34.69mmol,1.1eq)のN,N-ジメチルホルムアミド(80mL)溶液に加え、2時間反応させた。反応を氷水浴に入れ、WX025-1(5g,31.54mmol,1eq)を上記の溶液に加え、反応液を25℃に昇温し、12時間反応させた。反応液を氷水(100mL)にゆっくりと加え、酢酸エチル(150mL×2)で抽出し、水相を1M HClでpH=5~6に調整し、酢酸エチル(150mL×2)で抽出し、有機相を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、減圧濃縮して化合物WX025-2を得た。LCMS m/z=328.1[M+1]
工程2:化合物WX025-3の合成
Pd/C(3g,5%純度)をWX025-2(9g,27.50mmol,1eq)の酢酸エチル(60mL)とメタノール(30mL)との溶液に加え、Hで3回置換した後、H(15psi)雰囲気下、25℃で12時間反応させた。反応液をセライトで濾過し、濾液を減圧濃縮して化合物WX025-3を得た。LCMS m/z=298.1[M+1]
工程3:化合物WX025-4の合成
P(20.87g,32.79mmol,19.50mL,50%純度,1.5eq)を、DIPEA(7.06g,54.66mmol,9.52mL,2.5eq)、WX025-3(6.5g,21.86mmol,1eq)のN,N-ジメチルホルムアミド(200mL)溶液に加え、25℃で3時間反応させた。冰浴で反応液に水(200mL)を添加し、酢酸エチル(200mL×2)で抽出し、有機相を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、減圧濃縮して粗生成物を得た。粗生成物をカラムクロマトグラフィー(石油エーテル:酢酸エチル=10:1~1:2)により分離し、精製して、化合物WX025-4を得た。H NMR(400 MHz,CDCl) δ=8.37(br s,1H),8.20-8.31(m,2H),6.97(d,J=5.70Hz,1H),5.69(br d,J=4.38Hz,1H),4.54-4.71(m,2H),4.22-4.35(m,1H),1.45-1.52(m,9H);LCMS m/z=280.1[M+1]
工程4:化合物WX025-5の合成
ヨードメタン(384.21mg,2.71mmol,168.51μL,1.05eq)を、WX025-4(0.72g,2.58mmol,1eq)、炭酸セシウム(1.01g,3.09mmol,1.2eq)のテトラヒドロフラン溶液(14mL)に加え、20℃で12時間反応させた。反応液に水(25mL)および酢酸エチル(25mL)を添加し、分液し、水相を酢酸エチル(25mL×2)で抽出し、有機相を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、減圧濃縮して粗生成物を得た。粗生成物をカラムクロマトグラフィー(ジクロロメタン:メタノール=10:0~10:1)により分離し、精製して、化合物WX025-5を得た。H NMR(400 MHz,CDCl) δ=8.50(s,1H),8.39(d,J=5.27Hz,1H),7.06(d,J=5.40Hz,1H),5.54(br d,J=6.02Hz,1H),4.56-4.73(m,2H),4.25-4.37(m,1H),3.47(s,3H),1.41(s,9H);LCMS m/z=294.1[M+1]
工程5:化合物WX025-6の合成
20℃で、ローソン試薬(110.32mg,272.74μmol,0.8eq)を、WX025-5(0.1g,340.93μmol,1eq) のトルエン溶液(2mL)に加え、90℃で12時間反応させた。反応液に酢酸エチル(5mL)を添加し、濾過し、濾液を減圧濃縮して粗生成物を得た。粗生成物をカラムクロマトグラフィー(石油エーテル:酢酸エチル=10:1~1:2)により分離し、精製して、化合物WX025-6を得た。LCMS m/z=310.1[M+1]+。
工程6:化合物WX025-7の合成
HCl/酢酸エチル(3mL)を、WX025-6(53mg,171.31μmol,1eq)の酢酸エチル(3mL)に加え、25℃で2時間反応させた。反応を減圧濃縮して化合物WX025-7を得た。LCMS m/z=210.1[M+1]
工程7:化合物WX025の合成
DIPEA(77.82mg,602.10μmol,104.87μL,3eq)、TP(127.72mg,401.40μmol,119.36μL,2eq)を、WX025-7(42mg,200.70μmol,1eq)、BB-8(61.17mg,301.05μmol,1.5eq)のN,N-ジメチルホルムアミド(3mL)に加え、25℃で2時間反応させた。反応液に水(5mL)および酢酸エチル(5mL)を添加し、分液し、水相を酢酸エチル(5mL×2)で抽出し、有機相を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、減圧濃縮して粗生成物を得た。粗生成物を分取HPLC(カラム:Phenomenex Luna C18 150mm*30mm*5μm;移動相:[水(0.05%HCl)-ACN]; アセトニトリル%:20%-50%,12min)により分離して、化合物WX025を得た。H NMR(400 MHz,DMSO-d) δ=8.83(d,J=8.16Hz,2H),8.64-8.65(m,1H),8.67(d,J=7.72Hz,1H),8.54(d,J=5.28Hz,1H),7.26-7.42(m,6H),5.49(s,2H),5.04(dt,J=11.24,6.84Hz,1H),4.44-4.64(m,2H),3.83(s,3H);LCMS m/z=395.2[M+1]
実施例26:WX026
Figure 0007299350000117
合成経路:
Figure 0007299350000118
工程1:化合物WX026-2の合成
WX026-1(1g,4.63mmol,1eq)およびフェノール(871.27mg,9.26mmol,814.27μL,2eq)のN,N-ジメチルホルムアミド溶液(10mL)に、炭酸カリウム(1.28g,9.26mmol,2eq)、臭化第一銅(66.40mg,462.89μmol,14.10μL,0.1eq)、アセチルアセトン(23.17mg,231.45μmol,23.77μL,0.05eq)を加え、90℃でさらに10時間撹拌した。反応液に水(100mL)を添加し、酢酸エチル(30mL×3)で抽出し、有機相を合わせ、有機相を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、減圧濃縮して化合物WX026-2を得た。LCMS m/z=230.2[M+1]
工程2:化合物WX026-3の合成
WX026-2(0.45g,1.96mmol,1eq)のテトラヒドロフラン(5mL)に、LiOH・HO(164.76mg,3.93mmol,2eq)の水溶液(1mL)を加え、18℃で1時間撹拌した。反応液に酢酸エチル(20mL)を加え、2N塩酸でpH=2に調整し、有機相を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、減圧濃縮して化合物WX026-3を得た。LCMS m/z=216.1[M+1]
工程3:化合物WX026の合成
18℃で、BB-4(0.3g,679.40μmol,1eq)のN,N-ジメチルホルムアミド(2mL)に、WX026-3(153.52mg,713.37μmol,1.05eq)、DIPEA(263.42mg,2.04mmol,355.01μL,3eq)、TP(648.52mg,1.02mmol,606.09μL,50%純度,1.5eq)を加え、1時間撹拌した。反応液をHPLC(カラム:Phenomenex Luna C18 150mm*30mm*5μm; 移動相:[水(0.05%HCl)-ACN];アセトニトリル%:20%-50%,12min)により分離し、精製して、化合物WX026を得た。H NMR(400 MHz,DMSO-d) δ=8.84(s,1H),8.60(d,J=7.89Hz,1H),8.36(dd,J=1.32,4.82Hz,1H),7.70(dd,J=1.53,8.11Hz,1H),7.25-7.46(m,5H),5.49(s,2H),4.85(td,J=7.67,11.40Hz,1H),4.63-4.75(m,1H),4.51(dd,J=7.45,9.65Hz,1H),4.03(br s,3H);LCMS m/z=407.1[M+1]
実施例27:WX027
Figure 0007299350000119
合成経路:
Figure 0007299350000120
工程1:化合物WX027の合成
25℃で、丸底フラスコに、N,N-ジメチルアセトアミド(5mL)を加えた後、BB-4(20mg,45.29μmol,1eq)、TP(43.23mg,67.94μmol,40.41μL,50%純度,1.5eq)、BB-16(15.85mg,67.94μmol,1.5eq)およびDIPEA(17.56mg,135.88μmol,23.67μL,3eq)をゆっくりと加え、窒素ガス保護下、反応液を25℃でさらに2時間撹拌した。反応液を水(100mL)にゆっくりと注ぎ、酢酸エチル(100mL×2)で抽出し、有機相を合わせ、水(100mL)、飽和食塩水(100mL)で順次に洗浄し、有機相を減圧濃縮して粗生成物を得た。粗生成物を分取HPLC(カラム:Xtimate C18 100*30mm*3μm; 移動相:[水(0.225%FA)-ACN]; アセトニトリル%:42%-72%,8min)により分離し、化合物WX027を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ=8.78(br d,J=7.0Hz,1H),8.47-8.25(m,1H),8.08(s,1H),7.60-7.50(m,1H),7.35(t,J=7.9Hz,1H),7.32-7.26(m,2H),6.96(t,J=7.4Hz,1H),6.91(d,J=8.0Hz,1H),5.38(s,2H),5.20(td,J=6.7, 11.4Hz,1H),4.77(dd,J=6.3, 9.5Hz,1H),4.38-4.23(m,1H),3.92(s,3H),3.84(s,3H);LCMS m/z =425.1[M+1]
実施例28:WX028
Figure 0007299350000121
合成経路:
Figure 0007299350000122
工程1:化合物WX028-2の合成
丸底フラスコに、MeCN(80mL)を加えた後、WX028-1(4g,17.63mmol,1eq)をゆっくりと加えて溶解させ、2-(2-ブロモエトキシ)テトラヒドロピラン(4.42g,21.16mmol,3.21mL,1.2eq)およびDIPEA(2.51g,19.40mmol,3.38mL,1.1eq)を加え、90℃に昇温し、さらに3時間撹拌した。反応液に水(100mL)を添加し、酢酸エチル(100mL×2)で抽出し、有機相を合わせ、飽和食塩水(30mL×2)で洗浄し、有機相を減圧濃縮して粗生成物を得た。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(石油エーテル:酢酸エチル=100:1~1:1)により精製して、化合物WX028-2を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ= 4.55(br s,1H),4.34(t,J=5.3Hz,2H),4.12-4.06(m,1H),3.79(td,J=5.4,10.8Hz,1H),3.64-3.53(m,1H),3.50-3.41(m,1H),1.76-1.58(m,2H),1.57-1.43(m,4H)。
工程2:化合物WX028-3の合成
丸底フラスコに、THF(50mL)を加えた後、WX028-2(4.99g,14.06mmol,1eq)をゆっくりと加え、-78℃に冷却し、n-ブチルリチウム(2.5M,6.75mL,1.2eq)を加え、1時間撹拌し、ベンズアルデヒド(2.98g,28.11mmol,2.84mL,2eq)をゆっくりと加え、-78℃で0.5時間撹拌し、-50℃に昇温して、さらに0.5時間撹拌した。反応終了後、反応液を飽和塩化アンモニウム(200mL)と酢酸エチル(200mL)との混合溶液に注ぎ、分液し、水相を酢酸エチル(200mL)で抽出し、有機相を合わせ、飽和食塩水(50mL×2)で洗浄し、有機相を減圧濃縮し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(石油エーテル:酢酸エチル=100:1~1:1)により精製して、化合物WX028-3を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ= 7.45-7.29(m,5H),6.09(d,J=5.8Hz,1H),4.51(br s,1H),4.34(ddq,J=3.5,5.5,7.2Hz,1H),4.26-4.15(m,1H),4.07-3.97(m,1H),3.78-3.56(m,2H),3.47(dt,J=5.9,10.7Hz,1H),1.85-1.64(m,2H),1.52(br d,J=6.3Hz,4H) 。
工程3:化合物WX028-4の合成
丸底フラスコに、トルエン(50mL)を加えた後、WX028-3(4.7g,12.30mmol,1eq)およびTsOH・HO(3.04g,15.98mmol,1.3eq)をゆっくりと加え、110℃でさらに5時間撹拌し、反応液に水(50mL)を添加し、酢酸エチル(50mL×2)で抽出し、有機相を合わせ、飽和食塩水(20mL×2)で洗浄し、有機相を減圧濃縮して、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(石油エーテル:酢酸エチル=100:1~1:1)により精製して、化合物WX028-4を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ= 7.45-7.34(m,5H),5.87(s,1H),4.33-4.27(m,2H),4.19-4.06(m,2H)。
工程4:化合物WX028-5の合成
オートクレーブにEtOH(20mL)を加えた後、WX028-4(500mg,1.78mmol,1eq)、Pd(dppf)Cl(261.21mg,356.99μmol,0.2eq)およびTEA(1.81g,17.85mmol,2.48mL,10eq)をゆっくりと加え、アルゴンガスで3回置換し、CO(1MPa)保護下、100℃でさらに24時間撹拌した。反応液に水(50mL)を添加し、酢酸エチル(50mL×2)で抽出し、有機相を合わせ、飽和食塩水(10mL×2)で洗浄し、有機相を減圧濃縮して粗生成物を得た。粗生成物を分取HPLC(カラム:Xtimate C18 100*30mm*3μm;移動相:[水(0.225%FA)-ACN]; アセトニトリル%:42%-72%,8min)により分離して、化合物WX028-5を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ=7.47-7.31(m,5H),6.02-5.93(m,1H),4.54-4.38(m,4H),4.34-4.25(m,1H),4.19-4.10(m,1H),1.42(t,J=7.1Hz,3H)。
工程5:化合物WX028-6の合成
丸底フラスコに、THF(4mL)およびHO(1mL)を加えた後、WX028-5(260mg,951.38μmol,1eq)およびLiOH・HO(119.77mg,2.85mmol,3eq)をゆっくりと加え、25℃でさらに1時間撹拌した。反応液を減圧濃縮して、THFを濃縮乾固し、1MのHCl水溶液を滴下してpH3に調整し、濾過して生成物WX028-6を得た。H NMR(400MHz,DMSO-d) δ= 7.40(s,5H),6.00(s,1H),4.50-4.40(m,1H),4.40-4.29(m,2H),4.26-4.11(m,1H)。
工程6:化合物WX028-7の合成
丸底フラスコに、N,N-ジメチルホルムアミド(1mL)を加えた後、WX028-6(30mg,122.33μmol,1eq)、BB-4(54.02mg,122.33μmol,1eq)、TP(116.77mg,183.50μmol,109.13μL,50%純度,1.5eq)およびDIPEA(47.43mg,366.99μmol,63.92μL,3eq)をゆっくりと加え、25℃でさらに2時間撹拌した。反応液を分取HPLC(カラム:Xtimate C18 100*30mm*3μm;移動相:[水(0.225%FA)-ACN];アセトニトリル%:35%-65%,8min)により分離して、化合物WX028のラセミ体を得た。さらに、SFCキラル分離(カラム:DAICEL CHIRALCEL OD(250mm*30mm,10μm);移動相:[Neu-ETOH];エタノール%:45%-45%,min)によって、活性異性体WX028を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ= 8.65(br d,J=7.1Hz,1H),8.37(br d,J=3.3Hz,1H),7.56(br d,J=7.8Hz,1H),7.48-7.36(m,5H),7.32-7.27(m,1H),5.99(s,1H),5.33-5.16(m,1H),4.74(dd,J=6.4,9.5Hz,1H),4.40(br d,J=4.3Hz,2H),4.36-4.24(m,2H),4.19-4.07(m,1H),3.92(s,3H);LCMS m/z=437.1[M+1]
実施例29:WX029
Figure 0007299350000123
合成経路:
Figure 0007299350000124
工程1:化合物WX029-2の合成
25℃で、丸底フラスコにMeCN(20mL)を加えた後、WX029-1(2.02g,15.89mmol,1eq)、KCO3(4.39g,31.79mmol,2eq)および3-フルオロベンジルクロリド(2.76g,19.07mmol,2.28mL,1.2eq)をゆっくりと加え、窒素ガス保護下、反応液を60℃でさらに12時間撹拌した。反応液を水(100mL)にゆっくりと注ぎ、酢酸エチル(100mL×2)で抽出し、有機相を合わせ、水(100mL)、飽和食塩水(100mL)で順次に洗浄し、有機相を減圧濃縮し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(石油エーテル:酢酸エチル=100:20~100:75)により精製して、化合物WX029-2を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ=8.14(s,1H),7.36(dt,J=5.9,8.0Hz,1H),7.11-7.03(m,2H),6.99(br d,J=9.0Hz,1H),5.42(s,2H),4.14-3.89(m,3H)。
工程2:化合物WX029-3の合成
25℃で丸底フラスコにTHF(14mL)およびHO(2mL)を加えた後、WX029-2およびLiOH・HO(642.21mg,15.31mmol,3eq)をゆっくりと加え、窒素ガス保護下、25℃で反応液をさらに1時間撹拌した。反応液を希塩酸(1M)でpH6~7に調整し、濾過し、析出物を乾燥させ、化合物WX029-3を得た。
工程3:化合物WX029の合成
25℃で丸底フラスコにN,N-ジメチルアセトアミド(5mL)を加えた後、WX029-3(15.03mg,67.94umol,1.5eq)、TP(43.23mg,67.94μmol,40.41μL,50%純度,1.5eq)、BB-4(15.03mg,67.94μmol,1.5eq)およびDIPEA(17.56mg,135.87μmol,23.67μL,3eq)をゆっくりと加え、窒素ガス保護下でさらに2時間撹拌した。反応液を水(100mL)にゆっくりと注ぎ、酢酸エチル(100mL×2)で抽出し、有機相を合わせ、水(100mL)、飽和食塩水(100mL)で順次に洗浄し、有機相を減圧濃縮し、得られた粗生成物を分取HPLC(カラム:Xtimate C18 100*30mm*3μm;移動相:[水(0.225%FA)-ACN]; アセトニトリル%:35%-65%, 8min)により精製して、生成物WX029を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ=8.83(br d,J=7.0Hz,1H),8.37(d,J=3.8Hz,1H),8.10(s,1H),7.57(d,J=8.0Hz,1H),7.40-7.27(m,2H),7.15-6.87(m,3H),5.40(s,2H),5.29-5.07(m,1H),4.79(dd,J=6.3, 9.3Hz,1H),4.32(t,J=10.3Hz,1H),3.93(s,3H);19F NMR(376MHz,CDCl) δ=-111.33(s,1F);LCMS m/z =413.0[M+1]
実施例30:WX030
Figure 0007299350000125
合成経路:
Figure 0007299350000126
工程1:化合物WX030-2の合成
25℃で丸底フラスコにMeCN(20mL)を加えた後、WX030-1(2.04g,16.05mmol,1eq)、KCO3(4.44g,32.10mmol,2eq)および4-メトキシベンジルクロリド(3.02g,19.26mmol,2.62mL,1.2eq)をゆっくりと加え、窒素ガス保護下、60℃で反応液をさらに12時間撹拌した。反応液を水(100mL)にゆっくりと注ぎ、酢酸エチル(100mL×2)で抽出し、有機相を合わせ、水(100mL)、飽和食塩水(100mL)で順次に洗浄し、有機相を減圧濃縮し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(石油エーテル:酢酸エチル=100:20~100:75)により精製して、化合物WX030-2を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ=8.05(s,1H),7.27(d,J=8.8Hz,2H),6.98-6.87(m,2H),5.43-5.26(m,2H),4.03-3.97(m,3H),3.82(s,3H)。
工程2:化合物WX030-3の合成
25℃で丸底フラスコにTHF(14mL)およびHO(2mL)を加えた後、WX030-2(1.5g,6.07mmol,1eq)およびLiOH・HO(763.68mg,18.20mmol,3eq)をゆっくりと加え、窒素ガス保護下、25℃下で反応液をさらに1時間撹拌し、反応液を希塩酸(1M)でpH6~7に調整し、濾過し、析出物を乾燥させ、化合物WX030-3を得た。
工程3:化合物WX030の合成
25℃で丸底フラスコにN,N-ジメチルアセトアミド(5mL)を加えた後、WX030-3(15.84mg,67.94μmol,1.5eq)、TP(43.23mg,67.94μmol,40.41μL,50%純度,1.5eq)、BB-4(15.84mg,67.94μmol,1.5eq)およびDIPEA(17.56mg,135.87μmol,23.67μL,3eq)をゆっくりと加え、窒素ガス保護下、25℃で反応液をさらに2時間撹拌した。反応液を水(100mL)にゆっくりと注ぎ、酢酸エチル(100mL×2)で抽出し、有機相を合わせ、水(100mL)、飽和食塩水(100mL)で順次に洗浄し、有機相を減圧濃縮し、得られた粗生成物を分取HPLC(カラム:Xtimate C18 100*30mm*3μm; 移動相:[水(0.225% FA)- ACN] ; アセトニトリル%:35%-65%, 8min)により分離して生成物WX030を得た。 H NMR(400MHz,CDCl) δ=8.80(br s,1H),8.37(br s,1H),7.98(br s,1H),7.56(brs,1H),7.38-7.28(m,1H),7.26(br s,2H),6.91(br s,2H),5.41-5.10(m,3H),4.78(br s,1H),4.31(br s,1H),3.98-3.73(m,6H);LCMS m/z =425.1[M+1]
実施例31:WX031
Figure 0007299350000127
合成経路:
Figure 0007299350000128
工程1:化合物WX031-2の合成
丸底フラスコにMeCN(20mL)を加えた後、WX031-1(1.5g,11.80mmol,1eq)、KCO(2.45g,17.70mmol,1.5eq)および4-フルオロベンジルクロリド(1.88g,12.98mmol,1.55mL,1.1eq)を加え、50℃でさらに12時間撹拌した。反応を水(50mL)に注ぎ、酢酸エチル(50mL×2)で抽出し、有機相を合わせ、飽和食塩水(10mL×2)で洗浄し、有機相を減圧濃縮し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(石油エーテル:酢酸エチル=100:1~1:100)により精製して、化合物WX031-2を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ= 8.09(s,1H),7.30(dd,J=5.3,8.3Hz,2H),7.08(t,J=8.5Hz,2H),5.39(s,2H),4.00(s,3H)。
工程2:化合物WX031-3の合成
丸底フラスコにTHF(8mL)およびHO(2mL)を加えた後、WX031-2(1.06g,4.52mmol,1eq)およびLiOH・HO(569.16mg,13.56mmol,3eq)を加え、25℃でさらに2時間撹拌した。反応液を減圧濃縮して、THFを除去し、pHを3未満に調整するように反応液に1Mの希塩酸溶液を滴下し、濾過して化合物WX031-3を得た。 H NMR(400MHz,DMSO-d) δ= 8.79(s,1H),7.39(dd,J=5.5,8.8Hz,2H),7.25-7.17(m,2H),5.47(s,2H)。
工程3:化合物WX031の合成
丸底フラスコにN,N-ジメチルホルムアミド(1mL)を加えた後、WX031-3(18.03mg,81.53μmol,1.2eq)、BB-4(30mg,67.94μmol,1eq)、DIPEA(26.34mg,203.82μmol,35.50μL,3eq)およびTP(64.85mg,101.91μmol,60.61μL,50% purity, 1.5eq)をゆっくりと加え、25℃でさらに2時間撹拌した。反応液をそのままHPLC(カラム:Xtimate C18 100*30mm*3μm;移動相:[水(0.225%FA)-ACN];アセトニトリル%:40%-70%,8min)により分離して、化合物WX031を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ= 8.81(br d,J=7.3Hz,1H),8.37(dd,J=1.4,4.6Hz,1H),8.06(s,1H),7.56(dd,J=1.4,7.9Hz,1H),7.33-7.27(m,3H),7.07(t,J=8.5Hz,2H),5.37(s,2H),5.20(td,J=6.7,11.2Hz,1H),4.78(dd,J=6.4,9.4Hz,1H),4.32(dd,J=9.7,10.9Hz,1H),3.93(s,3H);LCMS m/z=413.1[M+1]
実施例32:WX032
Figure 0007299350000129
合成経路:
Figure 0007299350000130
工程1:化合物WX032-2の合成
MeCN(20mL)に、WX032-1(1.5g,11.80mmol,1eq)、3-クロロメチルベンゾニトリル(1.97g,12.98mmol,1.72mL,1.1eq)およびKCO(2.45g,17.70mmol,1.5eq)を加え、反応液を50℃でさらに12時間撹拌した。反応液に水(50mL)を添加し、酢酸エチル(50mL×2)で抽出し、有機相を合わせ、飽和食塩水(20mL×2)で洗浄し、有機相を減圧濃縮し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(石油エーテル:酢酸エチル=100:1~1:100)により精製して、化合物WX032-2を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ= 8.21(s,1H),7.67(t,J=4.3Hz,1H),7.58(s,1H),7.52(d,J=4.8Hz,2H),5.47(s,2H),4.01(s,3H)。
工程2:化合物WX032-3の合成
丸底フラスコにTHF(8mL)およびHO(2mL)を加えた後、WX032-2(1.4g,5.78mmol,1eq)およびLiOH・HO(727.53mg,17.34mmol,3eq)を加えた。反応液を25℃でさらに2時間撹拌した。反応液を減圧濃縮して、THFを除去し、pHを3未満に調整するように反応液に1Mの希塩酸溶液を滴下し、濾過して目的化合物WX032-3を得た。H NMR(400MHz,DMSO-d) δ= 8.83-8.80(m,1H),7.86-7.80(m,2H),7.68-7.57(m,2H),5.59-5.52(m,2H)。
工程3:化合物WX032の合成
丸底フラスコにN,N-ジメチルホルムアミド(1mL)を加えた後、WX032-3(15.50mg,67.94μmol,1eq)、BB-4(30mg,67.94μmol,1eq)、DIPEA(26.34mg,203.82μmol,35.50μL,3eq)およびTP(64.85mg,101.91μmol,60.61μL,50%純度,1.5eq)をゆっくりと加え、25℃でさらに2時間攪拌し、反応液をそのままHPLC(カラム:Xtimate C18 100*30mm*3μm;移動相:[水(0.225%FA)-ACN];アセトニトリル%:35%-65%,8min)により分離して、化合物WX032を得た。 H NMR(400MHz,CDCl) δ= 8.85(br d,J=7.3Hz,1H),8.37(d,J=3.3Hz,1H),8.17(s,1H),7.65(br d,J=2.8Hz,1H),7.60-7.55(m,2H),7.53-7.47(m,2H),7.29(dd,J=4.6,7.9Hz,1H),5.45(s,2H),5.26-5.15(m,1H),4.79(dd,J=6.3, 9.5Hz,1H),4.38-4.28(m,1H),3.93(s,3H);LCMS m/z=420.1[M+1]
実施例33:WX033
Figure 0007299350000131
合成経路:
Figure 0007299350000132
工程1:化合物WX033-2の合成
丸底フラスコにMeCN(20mL)を加えた後、WX033-1(1.5g,11.80mmol,1eq)、3-メチルベンジルクロリド(1.83g,12.98mmol,1.72mL,1.1eq)およびKCO(2.45g,17.70mmol,1.5eq)を加え、50℃でさらに12時間撹拌し、反応液に水(50mL)を添加し、酢酸エチル(50mL×2)で抽出し、有機相を合わせ、飽和食塩水(20mL×2)で洗浄し、有機相を減圧濃縮し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(石油エーテル:酢酸エチル=100:1~1:100)により精製して、化合物WX033-2を得た。 H NMR(400MHz,CDCl) δ= 8.08(s,1H),7.33-7.27(m,1H),7.18(d,J=7.6Hz,1H),7.10(br d,J=1.8Hz,2H),5.38(s,2H),4.05-3.97(m,3H),2.38-2.31(m,3H)。
工程2:化合物WX033-3の合成
丸底フラスコにTHF(8mL)およびHO(2mL)を加えた後、WX033-2(1.6g,6.92mmol,1eq)およびLiOH・HO(870.95mg,20.76mmol,3eq)を加え、25℃でさらに2時間撹拌し、反応液を減圧濃縮して、THFを除去し、pHを3未満に調整するように反応液に1Mの希塩酸溶液を滴下し、濾過して化合物WX033-3を得た。H NMR(400MHz,DMSO-d) δ= 13.28(br s,1H),8.79(s,1H),7.30-7.23(m,1H),7.17-7.07(m,3H),5.43(s,2H),2.29(s,3H)。
工程3:化合物WX033の合成
丸底フラスコにN,N-ジメチルホルムアミド(1mL)を加えた後、WX033-3(17.71mg,81.53μmol,1.2eq)、BB-4(30mg,67.94μmol,1eq)、DIPEA(26.34mg,203.82μmol,35.50μL,3eq)およびTP(64.85mg,101.91μmol,60.61μL,50%純度,1.5eq)をゆっくりと加え、25℃でさらに2時間撹拌した。反応液をそのままHPLC(カラム:Xtimate C18 100*30mm*3μm;移動相:[水(0.225%FA)-ACN];アセトニトリル%:37%-67%,8min)により分離して、化合物WX033を得た。 H NMR(400MHz,CDCl) δ=8.81(br d,J=7.0Hz,1H),8.37(d,J=3.3Hz,1H),8.03(s,1H),7.57(d,J=6.8Hz,1H),7.31-7.27(m,2H),7.20-7.15(m,1H),7.11-7.07(m,2H),5.36(s,2H),5.22(td,J=6.8,11.5Hz,1H),4.79(dd,J=6.4,9.4Hz,1H),4.36-4.27(m,1H),3.93(s,3H),2.34(s,3H);LCMS m/z=409.1[M+1]
実施例34:WX034
Figure 0007299350000133
合成経路:
Figure 0007299350000134
工程1:化合物WX034-2の合成。
1つ口フラスコにMeCN(20mL)を加えた後、1-クロロメチル-3,5-ジフルオロベンゼン(2.11g,12.98mmol,573.45μL,1.1eq)、WX034-1(1.5g,11.80mmol,1eq)およびKCO(2.45g,17.70mmol,1.5eq)を加え、50℃でさらに12時間撹拌した。TLC(石油エーテル:酢酸エチル=1:2)によってモニタリングし、新しいスポットが現れた。反応液に水(50mL)を添加し、酢酸エチル(50mL×2)で抽出し、有機相を合わせ、飽和食塩水(20mL×2)で洗浄し、有機相を減圧濃縮し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(石油エーテル:酢酸エチル=100:1~1:100)により精製して、化合物WX034-2を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ= 8.22(s,1H),6.92-6.77(m,3H),5.50-5.38(m,2H),4.11-3.99(m,3H)。
工程2:化合物WX034-3の合成
丸底フラスコにTHF(8mL)およびHO(2mL)を加えた後、WX034-2(1g,3.95mmol,1eq)およびLiOH・HO(497.15mg,11.85mmol,3eq)を加え、25℃でさらに2時間撹拌した。反応液を減圧濃縮して、THFを除去し、pHを3未満に調整するように残留液に1Mの希塩酸溶液を滴下し、濾過して化合物物WX034-3を得た。 H NMR(400MHz,DMSO-d) δ= 8.80(s,1H),7.24(br t,J=9.4Hz,1H),7.07(br d,J=6.3Hz,2H),5.52(s,2H)。
工程3:化合物WX034の合成。
丸底フラスコにN,N-ジメチルホルムアミド(1mL)を加えた後、WX034-3(19.50mg,81.53μmol,1.2eq)、BB-4(30mg,67.94μmol,1eq)、DIPEA(26.34mg,203.82μmol,35.50μL,3eq)およびTP(64.85mg,101.91μmol,60.61μL,50%純度, 1.5eq)をゆっくりと加え、25℃でさらに2時間撹拌した。反応液をそのままHPLC(カラム:Xtimate C18 100*30mm*3μm;移動相:[水(0.225%FA)-ACN];アセトニトリル%:37%-67%,8min)により分離して、化合物WX034を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ=8.85(br d,J=7.0Hz,1H),8.37(dd,J=1.5,4.6Hz,1H),8.16(s,1H),7.57(dd,J=1.5,8.0Hz,1H),7.29(dd,J=4.7,7.9Hz,1H),6.85-6.73(m,3H),5.38(s,2H),5.21(td,J=6.6,11.2Hz,1H),4.79(dd,J=6.4,9.5Hz,1H),4.33(dd,J=9.6,11.0Hz,1H),3.93(s,3H);LCMS m/z=431.1[M+1]
実施例35:WX035
Figure 0007299350000135
合成経路:
Figure 0007299350000136
工程1:化合物WX035-2の合成
MeCN(20mL)に、WX035-1(1.5g,11.80mmol,1eq)、1-クロロメチル-2-トルエン(1.83g,12.98mmol,1.72mL,1.1eq)およびKCO(2.45g,17.70mmol,1.5eq)を加えた後、50℃でさらに12時間撹拌した。反応液に水(50mL)を添加し、酢酸エチル(50mL×2)で抽出し、有機相を合わせ、飽和食塩水(20mL×2)で洗浄し、有機相を減圧濃縮し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(石油エーテル:酢酸エチル=100:1~1:100)により精製して、化合物WX035-2を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ= 7.89(s,1H),7.36-7.29(m,1H),7.26-7.16(m,3H),5.42(s,2H),4.00(s,3H),2.27(s,3H)。
工程2:化合物WX035-3の合成
丸底フラスコにTHF(8mL)およびHO(2mL)を加えた後、WX035-2(1.6g,6.92mmol,1eq)およびLiOH・HO(870.95mg,20.76mmol,3eq)を加え、25℃でさらに2時間撹拌した。反応液を減圧濃縮して、THFを除去し、pHを3未満に調整するように残留液に1Mの希塩酸溶液を滴下し、濾過してWX035-3を得た。H NMR(400MHz,DMSO-d) δ= 13.28(br s,1H),8.79(s,1H),7.30-7.23(m,1H),7.17-7.07(m,3H),5.43(s,2H),2.29(s,3H)。
工程3:化合物WX035の合成
丸底フラスコにN,N-ジメチルホルムアミド(1mL)を加えた後、WX035-3(17.71mg,81.53μmol,1.2eq)、BB-4(30mg,67.94μmol,1eq)、DIPEA(26.34mg,203.82μmol,35.50μL,3eq)およびTP(64.85mg,101.91μmol,60.61μL,50% purity,1.5eq)をゆっくりと加え、25℃でさらに2時間撹拌した。反応液をそのままHPLC(カラム:Xtimate C18 100*30mm*3μm;移動相:[水(0.225%FA)-ACN];アセトニトリル%:37%-67%,8min)により分離して、化合物WX035を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ=8.81(br d,J=7.0Hz,1H),8.37(d,J=4.5Hz,1H),7.86(s,1H),7.57(d,J=7.8Hz,1H),7.34-7.27(m,2H),7.26-7.15(m,3H),5.40(s,2H),5.22(td,J=6.7,11.2Hz,1H),4.79(dd,J=6.4,9.4Hz,1H),4.38-4.26(m,1H),3.93(s,3H),2.29(s,3H);LCMS m/z=409.1[M+1]
実施例36:WX036
Figure 0007299350000137
合成経路:
Figure 0007299350000138
工程1:化合物WX036-2の合成
25℃で、丸底フラスコにMeCN(20mL)を加えた後、WX036-1(2.02g,15.89mmol,1eq)、KCO(4.39g,31.79mmol,2eq)および1-クロロ-3-クロロメチルベンゼン(3.07g,19.07mmol,2.42mL,1.2eq)をゆっくりと加え、窒素ガス保護下、反応液を60℃でさらに12時間撹拌した。反応液を水(100mL)にゆっくりと注ぎ、酢酸エチル(100mL×2)で抽出し、有機相を合わせ、水(100mL)、飽和食塩水(100mL)で順次に洗浄し、有機相を減圧濃縮し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(石油エーテル:酢酸エチル=100:20~100:75)により精製して、化合物WX036-2を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ=8.15(s,1H),7.35-7.26(m,3H),7.17(d,J=6.8Hz,1H),5.40(s,2H),4.04-3.93(m,3H)。
工程2:化合物WX036-3の合成
25℃で、丸底フラスコにTHF(14mL)およびHO(2mL)を加えた後、WX036-2(1.80g,7.15mmol,1eq)およびLiOH・HO(900.33mg,21.46mmol,3eq)をゆっくりと加え、窒素ガス保護下、反応液を25℃でさらに1時間撹拌した。反応液を希塩酸(1M)でpH6~7に調整し、析出物を濾過して化合物WX036-3を得た。
工程3:化合物WX036の合成。
25℃で、丸底フラスコにN,N-ジメチルアセトアミド(5mL)を加えた後、BB-4(20mg,45.29μmol,1eq)、TP(43.23mg,67.94μmol,40.41μL,50%純度,1.5eq)、WX036-3(16.14mg,67.94μmol,1.5eq)およびDIPEA(17.56mg,135.87μmol,23.67μL,3eq)をゆっくりと加え、窒素ガス保護下、反応液を25℃でさらに2時間撹拌した。反応液を水(100mL)にゆっくりと注ぎ、酢酸エチル(100mL×2)で抽出し、有機相を合わせ、水(100mL)、飽和食塩水(100mL)で順次に洗浄し、有機相を減圧濃縮し、得られた粗生成物を分取HPLC(カラム:Xtimate C18 100*30mm*3μm;移動相:[水(0.225%FA)-ACN];アセトニトリル%:35%-65%,8min)により分離して、化合物WX036を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ=8.95-8.69(m,1H),8.37(br d,J=3.1Hz,1H),8.10(s,1H),7.68-7.47(m,1H),7.38-7.27(m,3H),7.26-7.20(m,1H),7.16(br d,J=7.0Hz,1H),5.38(s,2H),5.26-5.10(m,1H),4.79(dd,J=6.5, 9.4Hz,1H),4.41-4.20(m,1H),3.93(s,3H);LCMS m/z =429.0[M+1]
実施例37:WX037
Figure 0007299350000139
合成経路:
Figure 0007299350000140
工程1:化合物WX037-2の合成
25℃で、丸底フラスコにMeCN(20mL)を加えた後、WX037-1(2.03g,15.97mmol,1eq)、KCO3(4.41g,31.94mmol,2eq)および1-ブロモ-3-クロロメチルベンゼン(3.94g,19.17mmol,241.82μL,1.2eq)をゆっくりと加え、窒素ガス保護下、反応液を60℃でさらに12時間撹拌した。反応液を水(100mL)にゆっくりと注ぎ、酢酸エチル(100mL×2)で抽出し、有機相を合わせ、水(100mL)および飽和食塩水(100mL)で順次に洗浄し、有機相を減圧濃縮し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(石油エーテル:酢酸エチル=100:20~100:75)により精製して、化合物WX037-2を得た。 H NMR(400MHz,CDCl) δ=8.14(s,1H),7.59-7.38(m,2H),7.30-7.26(m,1H),7.25-7.20(m,1H),5.39(s,2H),4.01(s,3H)。
工程2:化合物WX037-3の合成
25℃で、丸底フラスコにTHF(14mL)およびHO(2mL)を加えた後、WX037-2(2.0g,6.75mmol,1eq)およびLiOH・HO(850.20mg,20.26mmol,3eq)をゆっくりと加え、窒素ガス保護下、反応液を25℃でさらに1時間撹拌した。反応液を希塩酸(1M)でpH6~7に調整し、析出物を濾過して化合物WX037-3を得た。
工程3:化合物WX037の合成
25℃で、丸底フラスコにN,N-ジメチルアセトアミド(5mL)を加えた後、BB-4(20mg,45.29μmol,1eq)、TP(43.23mg,67.94μmol,40.41μL,50%純度,1.5eq)、WX037-3(19.16mg,67.94μmol,1.5eq)およびDIPEA(17.56mg,135.87μmol,23.67μL,3eq)をゆっくりと加え、窒素ガス保護下、反応液を25℃でさらに2時間撹拌した。反応液を水(100mL)にゆっくりと注ぎ、酢酸エチル(100mL×2)で抽出し、有機相を合わせ、水(100mL)、飽和食塩水(100mL)で順次に洗浄し、有機相を減圧濃縮し、得られた粗生成物を分取HPLC(カラム:Xtimate C18 100*30mm*3μm;移動相:[水(0.225%FA)-ACN];アセトニトリル%:35%-65%,8min)により分離して、化合物WX037を得た。 H NMR(400MHz,CDCl) δ=8.83(br d,J=6.4Hz,1H),8.37(br d,J=4.5Hz,1H),8.10(s,1H),7.66-7.27(m,4H),7.25-7.15(m,2H),5.37(s,2H),5.26-5.06(m,1H),4.79(br dd,J=6.5,9.1Hz,1H),4.33(br t,J=10.3Hz,1H),3.93(s,3H);LCMS m/z =474.8[M+1]
実施例38:WX038
Figure 0007299350000141
合成経路:
Figure 0007299350000142
工程1:化合物WX038-2の合成
丸底フラスコにMeCN(20mL)を加えた後、1-クロロメチル-4-トリフルオロメトキシベンゼン(2.73g,12.98mmol,517.03μL,1.1eq)、WX038-1(1.5g,11.80mmol,1eq)およびKCO(2.45g,17.70mmol,1.5eq)を加え、50℃でさらに12時間撹拌し、反応液に水(50mL)を添加し、酢酸エチル(50mL×2)で抽出し、有機相を合わせ、飽和食塩水(20mL×2)で洗浄し、有機相を減圧濃縮し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(石油エーテル:酢酸エチル=100:1~1:100)により精製して、化合物WX038-2を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ= 8.17(s,1H),7.36(d,J=8.5Hz,2H),7.27-7.23(m,2H),5.50-5.40(m,2H),4.08-3.96(m,3H)。
工程2:化合物WX038-3の合成
丸底フラスコにTHF(16mL)およびHO(4mL)を加えた後、WX038-2(1.9g,6.31mmol,1eq)およびLiOH・HO(794.01mg,18.92mmol,3eq)を加え、25℃でさらに2時間撹拌した。反応液を減圧濃縮して、THFを除去し、pHを3未満に調整するように残留液に1Mの希塩酸溶液を滴下し、析出物を濾過して化合物WX038-3を得た。H NMR(400MHz,DMSO-d) δ= 8.81(s,1H),7.51-7.33(m,4H),5.53(s,2H)。
工程3:化合物WX038の合成
丸底フラスコにN,N-ジメチルホルムアミド(1mL)を加えた後、WX038-3(23.41mg,81.53μmol,1.2eq)、BB-4(30mg,67.94μmol,1eq)、DIPEA(26.34mg,203.82μmol,35.50μL,3eq)およびTP(64.85mg,101.91μmol,60.61μL,50%純度,1.5eq)をゆっくりと加え、25℃でさらに2時間撹拌した。反応液をそのままHPLC(カラム:Xtimate C18 100*30mm*3μm;移動相:[水(0.225%FA)-ACN];アセトニトリル%:40%-70%,8min)により分離して、化合物WX038を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ= 8.84(br d,J=7.3Hz,1H),8.38(dd,J=1.5, 4.5Hz,1H),8.11(s,1H),7.58(dd,J=1.5, 8.0Hz,1H),7.34(d,J=8.8Hz,2H),7.32-7.29(m,1H),7.27(s,5H),7.26-7.22(m,2H),5.42(s,2H),5.28-5.15(m,1H),4.80(dd,J=6.5,9.5Hz,1H),4.37-4.29(m,1H),3.94(s,3H);LCMS m/z=479.1[M+1]
実施例39:WX039
Figure 0007299350000143
合成経路:
Figure 0007299350000144
工程1:化合物WX039-2の合成
25℃で、丸底フラスコにMeCN(20mL)を加えた後、WX039-1(2.0g,15.74mmol,1eq)、KCO3(4.35g,31.48mmol,2eq)および1-クロロメチル-4-メチルベンゼン(2.66g,18.89mmol,2.48mL,1.2eq)をゆっくりと加え、窒素ガス保護下、反応液を60℃でさらに12時間撹拌した。反応液を水(100mL)にゆっくりと注ぎ、酢酸エチル(100mL×2)で抽出し、有機相を合わせ、水(100mL)、飽和食塩水(100mL)で順次に洗浄し、有機相を減圧濃縮し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(石油エーテル:酢酸エチル=100:20~100:75)により精製して、化合物WX039-2を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ=8.04(s,1H),7.23-7.17(m,4H),5.37(s,2H),4.00(s,3H),2.47-2.25(m,3H)。
工程2:化合物WX039-3の合成
25℃で、丸底フラスコにTHF(14mL)およびHO(2mL)を加えた後、WX039-2(1.5g,6.49mmol,1eq)およびLiOH・HO(816.52mg,19.46mmol,3eq)をゆっくりと加え、窒素ガス保護下、反応液を25℃でさらに1時間撹拌した。反応液を希塩酸(1M)でpH6~7に調整し、濾過し、析出物を回収して化合物WX039-3を得た。
工程3:化合物WX039の合成
25℃で、N,N-ジメチルアセトアミド(5mL)に、BB-4(20mg,45.29μmol,1eq)、TP(43.23mg,67.94μmol,40.41μL,50%純度,1.5eq)、WX039-3(14.76mg,67.94μmol,1.5eq)およびDIPEA(17.56mg,135.87μmol,23.67μL,3eq)を加え、窒素ガス保護下、反応液を25℃でさらに2時間撹拌した。反応液を水(100mL)にゆっくりと注ぎ、酢酸エチル(100mL×2)で抽出し、有機相を合わせ、水(100mL)、飽和食塩水(100mL)で順次に洗浄し、有機相を減圧濃縮し、得られた粗生成物を分取HPLC(カラム:Xtimate C18 100*30mm*3μm;移動相:[水(0.225%FA)-ACN];アセトニトリル%:40%-70%,8min)により分離して、生成物WX039を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ=8.80(br d,J=7.3Hz,1H),8.37(dd,J=1.5,4.5Hz,1H),8.00(s,1H),7.56(dd,J=1.5,7.8Hz,1H),7.28(dd,J=4.8,8.0Hz,1H),7.19(s,4H),5.35(s,2H),5.21(td,J=6.8,11.0Hz,1H),4.78(dd,J=6.4,9.4Hz,1H),4.32(dd,J=9.7,11.2Hz,1H),3.93(s,3H),2.63-2.13(m,3H);LCMS m/z =409.1[M+1]
実施例40:WX040
Figure 0007299350000145
合成経路:
Figure 0007299350000146
工程1:化合物WX040-2の合成
丸底フラスコにTHF(100mL)を加えた後、WX040-1(10g,50.22mmol,1eq)、BB-3-2(11.34g,55.24mmol,1.1eq)および炭酸セシウム29.45g,90.39mmol,1.8eq)をゆっくりと加え、65℃でさらに16時間撹拌した。TLC(石油エーテル:酢酸エチル:醋酸=1:1:0.1)によって、原料が完全に消費されたことをモニタリングした。反応液を水(300mL)に注いだ後、pHが約3に調整するように2MのHClを滴下し、酢酸エチル(500mL×2)で抽出し、有機相を合わせ、飽和食塩水(50mL×2)で洗浄し、有機相を減圧濃縮してWX040-2を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ= 8.46(d,J=1.8Hz,1H),8.20(dd,J=2.0, 8.8Hz,1H),7.12(d,J=8.8Hz,1H),5.62(br d,J=8.0Hz,1H),4.83-4.61(m,2H),4.45(dd,J=3.0,9.3Hz,1H),3.93(s,3H),1.45(s,10H)。
工程2:化合物WX040-3の合成
水素化用フラスコにMeOH(300mL)を加えた後、WX040-2(25.8g,67.13mmol,1eq)およびPd/C(2.6g,26.02mmol,10%純度)をゆっくりと加え、アルゴンガスで3回置換した後、H(40Psi)保護下、30℃でさらに24時間撹拌した。TLC(石油エーテル:酢酸エチル:醋酸=1:1:0.1)によってモニタリングし、新しいスポットが現れた。反応液をセライトで濾過し、濾液を減圧濃縮して化合物WX040-3を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ=7.50-7.44(m,1H),7.39(br s,1H),6.70(d,J=8.5Hz,1H),6.53(br s,2H),6.00(br d,J=7.5Hz,1H),4.73(br d,J=7.0Hz,1H),4.43(br d,J=8.5Hz,1H),4.31-4.24(m,1H),3.85(s,3H),1.41(s,9H)。
工程3:化合物WX040-4の合成
丸底フラスコに酢酸エチル(200mL)を加えた後、WX040-3(12.5g,35.28mmol,1eq)、TP(33.67g,52.91mmol,31.47mL,50% purity,1.5eq)およびDIPEA(13.68g,105.83mmol,18.43mL,3eq)をゆっくりと加え、25℃でさらに2時間撹拌した。反応液に水(200mL)を添加し、分液させ、水相を酢酸エチル(200mL×2)で抽出し、有機相を合わせ、飽和食塩水(100mL×2)で洗浄し、有機相を減圧濃縮し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(石油エーテル:酢酸エチル从100:1~1:1)により精製して、化合物WX040-4を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ= 8.15(br s,1H),7.80(dd,J=2.0,8.5Hz,1H),7.73(d,J=2.0Hz,1H),7.13(d,J=8.3Hz,1H),5.62(br d,J=5.3Hz,1H),4.71-4.59(m,2H),4.33-4.23(m,1H),3.95-3.89(m,3H),1.43(s,9H)。
工程4:化合物WX040-5の合成
丸底フラスコにN,N-ジメチルホルムアミド(200mL)を加えた後、WX040-4(17g,50.54mmol,1eq)、炭酸セシウム(49.40g,151.63mmol,3eq)およびヨードメタン(21.52g,151.63mmol,9.44mL,3eq)をゆっくりと加え、25℃でさらに2時間撹拌した。反応液に水(300mL)を添加し、酢酸エチル(300mL×2)で抽出し、有機相を合わせ、飽和食塩水(100mL×2)で洗浄し、有機相を減圧濃縮し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(石油エーテル:酢酸エチル=100:1~1:1)により精製して、化合物WX040-5を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ= 7.92-7.83(m,2H),7.18(d,J=8.4Hz,1H),5.50(br d,J=6.1Hz,1H),4.72-4.52(m,2H),4.28-4.17(m,1H),3.92(s,3H),3.42(s,3H),1.38(s,9H)。
工程5:化合物WX040-6の合成
トルエン(40mL)に、WX040-5(4.01g,11.45mmol,1eq)、ローソン試薬(5.09g,12.59mmol,1.1eq)およびBocO(10.60g,48.55mmol,11.15mL,4.24eq)をゆっくりと加え、110℃に昇温してさらに12時間撹拌した。反応液を飽和食塩水(30mL)にゆっくりと注ぎ、酢酸エチル(100mL×2)で抽出し、有機相を合わせ、有機相を飽和食塩水(30mL×2)で洗浄し、有機相を減圧濃縮し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(石油エーテル:酢酸エチル=100:1~1:1)により精製して、化合物WX040-6を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ= 7.99-7.92(m,2H),7.21(d,J=8.3Hz,1H),6.02(br d,J=7.8Hz,1H),4.80-4.69(m,1H),4.53(dd,J=6.3,9.5Hz,1H),4.22(dd,J=9.5,11.3Hz,1H),3.94(s,3H),3.86(s,3H),1.46-1.33(m,9H)。
工程6:化合物WX040-7の合成
丸底フラスコにTHF(8mL)およびHO(2mL)を加えた後、WX040-6(800mg,2.18mmol,1eq)およびLiOH・HO(183.23mg,4.37mmol,2eq)をゆっくりと加え、25℃でさらに2時間撹拌した。pH<3になるように反応液に希塩酸を滴下し、濾過し、析出物を回収して化合物WX040-7を得た。 H NMR(400MHz,CDCl) δ=7.89-7.79(m,1H),7.25-7.20(m,1H),7.02-6.95(m,1H),6.17-6.02(m,1H),4.88-4.74(m,1H),4.56(dd,J=6.4,9.7Hz,1H),4.31-4.17(m,1H),3.85(s,3H),1.41(s,9H)。
工程7:化合物WX040-8の合成
丸底フラスコにN,N-ジメチルホルムアミド(5mL)を加えた後、WX040-7(200mg,567.53μmol,1eq)、NHCl(91.07mg,1.70mmol,3eq)、HATU(647.37mg,1.70mmol,253.15μL,3.00eq)およびDIPEA(366.75mg,2.84mmol,494.27μL,5eq)をゆっくりと加え、25℃でさらに2時間撹拌した。反応液をそのままHPLC(カラム:Xtimate C18 100*30mm*3μm;移動相:[水(0.225%FA)-ACN];アセトニトリル%:30%-60%,8min)により分離して、化合物WX040-8を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ= 7.82(s,1H),7.64(br d,J=8.3Hz,1H),7.22(d,J=8.3Hz,1H),6.98(s,2H),5.01(br s,1H),4.86-4.66(m,1H),4.52(dd,J=6.3,9.5Hz,1H),4.30-4.11(m,1H),3.86(s,3H),1.40(s,9H)。
工程8:化合物WX040-9の合成
丸底フラスコに酢酸エチル(10mL)を加えた後、WX040-8(40mg,113.82μmol,1eq)およびHCl/酢酸エチル(4M,10.00mL,351.42eq)をゆっくりと加え、25℃でさらに2時間撹拌した。反応液を減圧濃縮して化合物WX040-9を得た。H NMR(400MHz,DMSO-d) δ= 8.16-8.04(m,2H),7.91(d,J=8.5Hz,1H),7.57(s,1H),7.37(d,J=8.3Hz,1H),4.62-4.41(m,3H),3.82(s,3H)。
工程9:化合物WX040の合成
DMSO(1mL)にWX040-9(30mg,119.38μmol,1eq, HCl)、BB-8(24.26mg,119.38μmol,1eq)、HATU(68.09mg,179.07μmol,1.5eq)およびDIEA(46.28mg,358.13μmol,62.38μL,3eq)をゆっくりと加え、25℃でさらに2時間攪拌し、反応液をそのままHPLC(カラム:Phenomenex Gemini-NX 80*30mm*3μm;移動相:[水(10mM NHHCO)-ACN];アセトニトリル%:28%-58%,9min)により分離して、化合物WX040を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ=8.70(br d,J=7.3Hz,1H),8.04(s,1H),7.69(s,1H),7.39-7.36(m,1H),7.31-7.28(m,7H),5.39(s,2H),5.20(td,J=6.8,11.0Hz,1H),4.72(dd,J=6.5,9.4Hz,1H),4.31(t,J=10.3Hz,1H),3.89(s,3H);LCMS m/z=437.1[M+1]
実施例41:WX041
Figure 0007299350000147
合成経路:
Figure 0007299350000148
工程1:化合物WX041-2の合成
25℃で、丸底フラスコにMeCN(20mL)を加えた後、WX041-1(2.68g,21.09mmol,1eq)、KCO(5.83g,42.17mmol,2eq)および4-クロロメチルトリフルオロトルエン(4.92g,25.30mmol,3.73mL,1.2eq)をゆっくりと加え、窒素ガス保護下、反応液を60℃でさらに12時間撹拌した。反応液を水(100mL)にゆっくりと注ぎ、酢酸エチル(100mL×2)で抽出し、有機相を合わせ、水(100mL)、飽和食塩水(100mL)で順次に洗浄し、有機相を減圧濃縮し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(石油エーテル:酢酸エチル=100:20-100:75)により精製して、化合物WX041-2を得た。 H NMR(400MHz,CDCl) δ=8.17(s,1H),7.65(d,J=8.0Hz,2H),7.40(d,J=8.0Hz,2H),5.49(s,2H),4.08-3.91(m,3H)。
工程2:化合物WX041-3の合成
25℃で、丸底フラスコにTHF(20mL)およびHO(4mL)を加えた後、WX041-2(2.40g,8.41mmol,1eq)およびLiOH・HO(1.06g,25.24mmol,3eq)をゆっくりと加え、窒素ガス保護下、反応液を25℃でさらに1時間撹拌し、反応液を希塩酸(1M)でpH6-7に調整し、濾過し、析出物を回収して化合物WX041-3を得た。
工程3:化合物WX041の合成
25℃で、丸底フラスコにN,N-ジメチルアセトアミド(5mL)を加えた後、BB-4(20mg,45.29μmol,1eq)、TP(43.23mg,67.94μmol,40.41μL,50%純度,1.5eq)、WX041-3(18.42mg,67.94μmol,1.5eq)およびDIPEA(17.56mg,135.87μmol,23.67μL,3eq)をゆっくりと加え、窒素ガス保護下、反応液を25℃でさらに2時間撹拌した。反応液を水(100mL)にゆっくりと注ぎ、酢酸エチル(100mL×2)で抽出し、有機相を合わせ、水(100mL)、飽和食塩水(100mL)で順次に洗浄し、有機相を減圧濃縮し、得られた粗生成物を分取HPLC(カラム:Phenomenex Gemini-NX 80*30mm*3μm;移動相:[水(10mM NHHCO)-ACN])により分離して、化合物WX041を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ=8.77(br d,J=7.5Hz,1H),8.31(br d,J=3.6Hz,1H),8.07(s,1H),7.65-7.45(m,3H),7.33(br d,J=8.0Hz,2H),7.22(dd,J=4.8,7.9Hz,1H),5.40(s,2H),5.23-4.97(m,1H),4.72(dd,J=6.5,9.4Hz,1H),4.25(t,J=10.3Hz,1H),3.87(s,3H);19F NMR(377MHz,CDCl) δ=-43.60(s,1F);LCMS m/z =463.1[M+1]
実施例42:WX042
Figure 0007299350000149
合成経路:
Figure 0007299350000150
工程1:化合物WX042-2の合成
MeCN(20mL)に、WX042-1(2g,15.74mmol,1eq)、3-クロロメチルアニソール(2.46g,15.74mmol,2.14mL,1eq)、KCO(2.61g,18.88mmol,1.2eq)を加え、50℃で12時間反応させた。反応液を濾過してKCOを除去し、酢酸エチル(15mL×3)でフィルターケーキを洗浄し、飽和食塩水(50mL)で濾液を洗浄し、有機相を減圧濃縮し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(石油エーテル:酢酸エチル=100:1-100:100)により精製して、化合物WX042-2を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ= 8.10-8.01(m,1H),7.30-7.21(m,1H),6.91-6.80(m,2H),6.77(s,1H),5.34(s,2H),3.96(s,3H),3.75(s,3H)。
工程2:化合物WX042-3の合成
THF(30mL)にWX042-2(2.5g,10.11mmol,1eq)を加えた後、LiOH・HO(509.17mg,12.13mmol,1.2eq)のHO(3mL)溶液を加え、25℃で撹拌しながら3時間反応させた。TLC(石油エーテル:酢酸エチル=1:1)によって、原料が完全に消費されたことをモニタリングした。反応液を1Mの希塩酸でpH6に調整し、減圧濃縮して溶媒を除去し、残留液にトルエン(10mL)を添加してさらに減圧濃縮し、トルエンを除去して化合物WX042-3を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ= 7.19(s,4H),7.21-7.17(m,1H),4.65(s,2H),3.79(s,3H);LCMS m/z=233.9[M+1]
工程3:化合物WX042の合成
N,N-ジメチルホルムアミド(5mL)に、BB-4(94.67mg,214.39μmol,1eq)、WX042-3(50mg,214.39μmol,1eq)、TP(163.71mg,257.26μmol,153.00μL,50%純度,1.2eq)、DIPEA(41.56mg,321.58μmol,56.01μL,1.5eq)を加え、25℃で2時間反応させ、LCMSによって、原料が完全に消費されたことをモニタリングした。反応液を5mL程度まで減圧濃縮し、HPLC(ギ酸系)により分離し、精製して、化合物WX042を得た。H NMR(400MHz,CDCl) δ= 8.81(br d,J=7.0Hz,1H),8.37(dd,J=1.6,4.6Hz,1H),8.04(s,1H),7.57(dd,J=1.6,7.9Hz,1H),7.33-7.27(m,2H),7.00-6.69(m,3H),5.36(s,2H),5.22(td,J=6.7,11.1Hz,1H),4.79(dd,J=6.3,9.5Hz,1H),4.32(dd,J=9.5,11.0Hz,1H),3.93(s,3H),3.79(s,3H)。
実験例1:インビトロアッセイ部分
実験工程:
1.1 試薬
Figure 0007299350000151

1.2 装置および材料
CULTURPLATE-384 +LID /50W 商標PerkinElmer cat#6007680
Envision plate reader(Perkin Elmer,Cat#2104-0010)
1.3 試薬の調製
1×DPSB:10×DPBS 100mLに脱イオン水900mLを加えた。
1640完全培地:RPMI-1640培地89mLに10mLのFBS、1mLのペニシリン/ストレプトマイシンを添加した。
2 アッセイの手順
1. U937細胞を遠心分離した後、培地を廃棄した。細胞を1640完全培地に再懸濁させ、カウントした。細胞濃度を5×10細胞/mLに調整し、試験する化合物に従って細胞を配置した。
2. 調製したU937細胞の再懸濁液に、最終濃度25μMのQVD-OPhおよび最終濃度100ng/mLのTNF-αを添加した後、混合物を穏やかに混合した。
3. 384ウェルプレートに、25μMのQVD-OPhおよび最終濃度100ng/mLのTNF-αを含むU937細胞液を、30μL/ウェルで添加し、同時に、QVD-OPhおよびTNF-αを含まないブランクコントロールウェルを設置した。
4. 投与群に10μLの試験化合物を設定濃度の4倍で加え、ブランクコントロールウェルに対応する濃度のDMSOを添加した。
5. 384ウェルプレートを、37℃、5%CO細胞培養インキュベーターに置いて24時間インキュベートした。
6. 24時間後、384ウェルプレートを取り出し、室温で20分間平衡化した。
7. 40μLのCTGを各ウェルに加え、プレートをシェーカーで暗所、2分間振とうした。
8.プレートを暗所、室温で10分間インキュベートした後、Envision plate readerを使用して読み取った。
実験の結果:
本発明化合物の実験結果を表1に示す。
表1. 本発明化合物のU937細胞活性のアッセイ結果
Figure 0007299350000152

実験の結論:
上記の表から、本発明化合物は、TNFα/QVD-OPhによって誘導されるプログラム細胞壊死(ネクロトーシス)を阻害する細胞活性アッセイにおいて良好な阻害活性を示すことが分かる。
実験例2:マウスRIP1のインビトロ活性アッセイ
細胞系
L929(ATCCから購入、商品番号:CCL-1)
試薬
Figure 0007299350000153

装置
マイクロプレートリーダー(Perkin Elmer、Envision)
試薬の調製
L929細胞完全培地:EMEM+10%ウマ血清(体積比)+1%ダブル抗生物質(体積比)
実験の手順
1. 培養したL929細胞をトリプシンで消化し、遠心分離し、完全培地に再懸濁してカウントした。次に、細胞濃度を完全培地で1×10/mLに希釈した。
2. 細胞懸濁液をウェルあたり100μLで96ウェルプレートに添加し、37℃、5%COの条件下で24時間インキュベートした。
3. 異なる濃度の試験化合物を各ウェルに加え、ジメチルスルホキシドを対照群に添加した。37℃、5%COの条件下でプレートを1時間インキュベートした。
4. 各ウェルに、最終濃度50ng/mLのTNF-αおよび最終濃度50μMのQ-VDを添加し、プレートを37℃、5%COの条件下で24時間インキュベートした。
5. 各ウェルに50μLのCellTiter Glo蛍光細胞を添加し、暗所でプレートを10分間振とうした。
6. プレートをマイクロプレートリーダーで読み取った。
実験の結果:
本発明化合物の実験結果を表2に示す。
表2. 本発明化合物のL929細胞活性のアッセイ結果
Figure 0007299350000154

実験の結論:
上記の表から、本発明化合物は、TNFα/QVD-OPhによって誘導されるプログラム細胞壊死(ネクロトーシス)を阻害するマウスL929細胞活性アッセイにおいて良好な阻害活性を示すことが分かる。
実験例3:化合物の薬物動態学的評価
実験手順
8匹の健康な成体C57BL/6マウス(6~9週齢、Shanghai Lingchang Biotechnology社から購入)を選択し、各群に4匹のマウス(n=2、交差採血(cross blood sampling))がいるように、ランダムに2つの群に分けた。一方の群では静脈内注射により0.5mg/kgの試験化合物を投与し、もう一方の群では強制経口投与により1mg/kgの試験化合物を投与した。投与された後、0.083、0.25、0.5、1.0、2.0、4.0、6.0、8.0、24時間で、静脈内投与群および強制経口投与群の動物からそれぞれ血漿サンプルを採取した。LC-MS/MS法で薬の血中濃度を測定した。WinNonlin(商標) Version 6.3(Pharsight、Mountain View、CA)の薬物動態ソフトウェアによって、ノンコンパートメントモデルおよび線形対数台形法を使用して、関連する薬物動態パラメータを算出した。AUC0-lastは、ゼロ時点から最後の検出可能な濃度の時点までの血中濃度-時間曲線下面積を表す。Cmaxは、最高血中濃度を表す。Tmaxは、最高血中濃度到達時間を表す。T1/2は半減期を表す。CLはクリアランスを表す。Tlastは、最後の定量化可能な時点を表す。p.o.は経口投与を表す。i.v.は静脈内注射を表す。F%は経口投与バイオアベイラビリティを表す。
実験の結果:
本発明化合物の実験結果を表3に示す。
表3. 化合物の薬物動態学的評価
Figure 0007299350000155

実験の結論:
本発明化合物は、良好な薬物動態特性、インビボ曝露(in vivo exposure)、およびバイオアベイラビリティを有する。
実験例4:腫瘍壊死因子(TNF-α)に誘導された全身性炎症反応症候群(SIRS)のマウスモデルにおけるインビボ有効性研究
試薬
Figure 0007299350000156

装置および材料
1)電子天秤:商標 Changzhou Tianzhiping Instrument Equipment Co., Ltd., モデル JY20002
2)肛門体温計:商標 PHYSITEMP、モデルBAT-12
試薬の調製
1)TNF-α:蓋を開ける前に、TNF-αをすばやく遠心分離した(10000rmp、30秒)。1本のTNF-α(1mg)を1mLの滅菌水に溶解し、1mg/mLの濃度の母液を調製した。母液は4℃で保存され、1週間保存することができる。1000μLの母液を秤量して5667μLの滅菌水に加え、さらに333mgのトレハロースを加えて溶解させ、作業溶液を調製した。
2)zVAD:20mgのzVADを秤量し、480μLのDMSOに加え、混合物をボルテックスし、超音波処理し、37℃で加熱した後、さらに15.52mLの生理食塩水を添加した。1.25mg/mLの濃度の作業溶液を調製した。
実験の手順
1)マウスを3日間適応的に飼育した後、ケージにランダムで群分けし、各ケージに5匹のマウスを入れた。耳札をカットした。
2)まず、マウスに体重に応じて強制経口投与することにより、対応する化合物を投与した。次に、マウスあたり250μgの用量でzVADを腹腔内注射した。zVADの腹腔内注射後、肛門温度を直ちに測定(0時間)し、時間を記録した。マウスにzVADを投与した時間は、0時間目(0h)と定義された。
3)15分後、マウス1匹あたり200μLの用量でTNF-αを尾静脈から注射し、15分後(0.5時間)に肛門温度を測定した。
4)1時間後、マウス1匹あたり125μgの用量でzVADを腹腔内注射した後、直ちに肛門温度を測定(1時間)した。肛門温度は、2時間、3時間および4時間で再度測定された。
実験の結果:
本発明化合物の実験結果を表4に示す。
表4. マウスの体温および生存率
Figure 0007299350000157

実験の結論:
本発明化合物は、TNF-α/zVADによって誘導される全身性炎症反応症候群(SIRS)を阻害するマウスモデルにおいて非常に良好な保護効果を示し、マウスの体温の低下幅が大幅に低下し、動物の生存率は0%から100%に増加した。
実験例5:インビトロCaco-2細胞透過性アッセイ
細胞の培養
細胞の培養には、2mMのL-グルタミン、10%のウシ胎児血清(FBS)、100U/mLのペニシリン-G、および100μg/mLのストレプトマイシンを添加したMEM(最小必須培地)を使用した。細胞培養の条件は、37±1℃、5%CO、飽和湿度であった。細胞が80~90%のコンフルエントまで増殖したら、トリプシン(0.05%、w/v)/EDTA(0.02%、w/v)消化液を添加して、細胞を消化した後、播種した。BD FalconのTranswell-96ウェルプレートに、1×10細胞/cmの播種密度で細胞を播種した。細胞を二酸化炭素インキュベーターで22日間培養した後、輸送アッセイに使用した。
輸送アッセイ
このアッセイでは、10mMのHEPESを含むHank’s平衡塩緩衝液(pH 7.40±0.05)を輸送緩衝液として使用した。試験化合物と陽性薬物であるジゴキシンの2μM濃度での双方向輸送を、それぞれ2つの並列サンプルで試験した。頂端から基底端(A-B)へのフェノテロールおよびプロプラノロールの輸送を試験した。インキュベーションシステム中のDMSOの濃度を1%未満に制御し、サンプルを加えた後、細胞プレートを、37±1℃、5%CO、飽和湿度の条件下で120分間インキュベートした。すべてのサンプルをボルテックスした後、3220rpm、20℃で20分間遠心分離した。コントロールおよび試験用のサンプルを超純水で1:1(v:v)に希釈した後、4℃で保存した。液体クロマトグラフィータンデム質量分析(LC/MS/MS)を使用して分析を行った。
サンプルの分析
このアッセイでは、液体クロマトグラフィータンデム質量分析(LC/MS/MS)を使用して、開始溶液、受容液および投与ウェルの上清における試験化合物、対照物質であるフェノテロール、プロプラノロールおよびジゴキシンの内部標準に対するピーク面積比を半定量的に分析した。
データ計算
以下の式を使用して、見かけの透過係数(Papp、cm/s)、流出速度(efflux rate)および回収率を算出した。
以下の式を使用して、見かけの透過係数(Papp、cm/s)を算出した。
app=(dC/d)×V/(A×C
ここで、dC/dは、単位時間あたりの受ける側での化合物の累積濃度(μM/s)であり;Vは、受ける側の溶液の体積(頂端と基底端の溶液の体積は、それぞれ0.075mLと0.250mLであった)であり;Aは細胞単層の相対表面積(0.0804cm)であり;Cは、投与側の試験物質の初期濃度(nM)または対照物質のピーク面積比である。
流出速度(efflux rate)は、以下の式を使用して算出された。
流出速度=Papp(BA)/Papp(AB)
回収率は、以下の式を使用して算出された。
%回収率=100×[(V×C)+(V×C)]/(V×C
ここで、Cは、投与側の試験物質の初期濃度(nM)または対照物質のピーク面積比であり;Vは、投与側での体積(頂端は0.075mL、基底端は0.250mLであった)であり;CdとCrは、それぞれ投与側と受ける側での試験物質の最終濃度(nM)または対照物質のピーク面積比である。
実験の結果:
本発明化合物の実験結果を表5に示す。
表5. Caco-2細胞透過性アッセイの結果
Figure 0007299350000158

実験の結論:
本発明化合物は、透過性が高く、流出速度が低い化合物である。
実験例6:血漿タンパク結合率(PPB)の測定
ヒト、SDラットおよびCD-1マウスから採取した796μLのブランク血漿(BioreclamationIVTから購入した血漿)を秤量し、血漿サンプルにおける試験化合物およびワルファリンの最終濃度がともに2μMになるように、試験化合物作業溶液またはワルファリン作業溶液を加えた。サンプルを十分に混合した。有機相中のDMSOの最終濃度は0.5%であった。試験化合物とワルファリンの血漿サンプル50μLをサンプル受容プレートに移し、各サンプルウェルの最終体積が100μLになるように、対応するブランク血漿または緩衝液を対応する容量で直ちに添加した。血漿:透析緩衝液の体積比は1:1であった。次に、これらのサンプルに停止溶液を加えた。これらのサンプルは、Tサンプルとして、回収率および安定性の測定に使用された。試験化合物およびワルファリンの血漿サンプルを各透析ウェルの投与側に添加し、ブランク透析緩衝液を透析ウェルの対応する受ける側に添加した。次に、透析プレートを気体透過膜で密封し、湿った5%COインキュベーターに入れ、37℃、100rpmで4時間振とうしながらインキュベートした。透析が終了した後、50μLの透析した緩衝液サンプルおよび透析した血漿サンプルを、新しいサンプル受容プレートに移した。各サンプルウェルの最終容量が100μLになるように、対応するブランク血漿または緩衝液を、対応する容量でサンプルに加え、血漿:透析緩衝液の体積比が1:1であった。すべてのサンプルに対して、タンパク質沈殿を行い、LC/MS/MSで分析し、次の式により、化合物の遊離率(%Unbound)、結合率(%Bound)および回収率(%Recovery)を算出した。
%Unbound=100*F/T
%Bound=100-%Unbound、
%Recovery=100*(F+T)/T
ここで、Fは、透析プレートの緩衝液側での化合物の濃度である。Tは、透析プレートの血漿側での化合物の濃度である。Tは、ゼロ時点での血漿サンプル中の化合物の濃度である。
実験の結果:
本発明化合物の実験結果を表6に示す。
表6. 血漿タンパク結合率の測定結果
Figure 0007299350000159

実験の結論:
本発明化合物は、ヒト、ラットおよびマウスにおいて合理的な血漿タンパク結合率を有し、ヒト血漿中の非結合状態の薬物は5.7%である。
実験例7:イヌにおける薬物動態パラメータの測定
実験の手順
4匹の健康な成体ビーグル犬を選択し、ランダムに2つの群に分けた。一方の群では静脈内注射により試験化合物を投与し、もう一方の群では強制経口投与により試験化合物を投与した。投与された後0.083、0.25、0.5、1.0、2.0、4.0、6.0、8.0、24時間で、静脈内投与群および強制経口投与群の動物からそれぞれ血漿サンプルを採取した。LC-MS/MS法で薬の血中濃度を測定した。WinNonlin(商標) Version 6.3(Pharsight、Mountain View、CA)の薬物動態ソフトウェアによって、ノンコンパートメントモデルおよび線形対数台形法を使用して、関連する薬物動態パラメータを算出した。AUC0-lastは、ゼロ時点から最後の検出可能な濃度の時点までの血中濃度-時間曲線下面積を表す。Cmaxは、最高血中濃度を表す。Tmaxは、最高血中濃度到達時間を表す。T1/2は半減期を表す。CLはクリアランスを表す。Vdssは、見かけの分布容積を表す。p.o.は経口投与を表す。i.v.は静脈内注射を表す。F%は経口投与バイオアベイラビリティを表す。
実験の結果:
本発明化合物の実験結果を表7に示す。
表7. 本発明化合物の薬物動態学的特性
Figure 0007299350000160

実験の結論:
本発明化合物は、イヌにおいて良好な薬物動態特性を有し、インビボ曝露(in vivo exposure)が高く、特に、その半減期が理想的な時間である5時間程度に達する。
実験例8:本発明化合物のキナーゼ選択性アッセイ
このアッセイの目的は、様々なキナーゼに対するWX009のインビトロ阻害活性を検出することであった。このアッセイで使用されたキナーゼには413種類のキナーゼが含まれ、活性検出法はEurofins Pharma Discovery Service社によって提供された。アッセイにおいて、33P放射性標識キナーゼ活性を検出する方法を利用した。WX009の濃度は1μMであり、ATPの濃度は10μMであった。アッセイの結果を表8に示す。
表8 WX009のキナーゼプロファイルアッセイの結果
Figure 0007299350000161

実験の結論:
本発明化合物は、高度に特異的なキナーゼ選択性を有し、ほとんどRIP1のみに対して高い活性で阻害効果を示すため、他のキナーゼ標的へオフターゲットするリスクが低い。
[書類名]特許請求の範囲
[請求項1]
式(I)で表われる化合物、その異性体またはその薬学的に許容される塩であって、
[化1]
Figure 0007299350000162
ただし、
はNとCR 1t から選択され;
はNとCR 2t から選択され;
はNとCR 3t から選択され;
はNとCR 4t から選択され;
はC(R 1e 、O、C(=O)、SおよびNR 2e から選択され;
環Aは、1,2,4-トリアゾリル、1,2,3-トリアゾリル、イミダゾリル、イソキサゾリル、1,3,4-オキサジアゾリル、
[化2]
Figure 0007299350000163
テトラゾリル、ピリジル、および
[化3]
Figure 0007299350000164
からなる群から選択され、前記1,2,4-トリアゾリル、1,2,3-トリアゾリル、イミダゾリル、イソキサゾリル、1,3,4-オキサジアゾリル、
[化4]
Figure 0007299350000165
テトラゾリル、ピリジル、および
[化5]
Figure 0007299350000166
が、1個、2個または3個のハロゲンまたはC 1-3 アルキルで置換されていてもよく;
環Bは、フェニルおよび
[化6]
Figure 0007299350000167
から選択され;
Lは、単結合、O、C(=O)、S、NHおよびC 1-3 アルキルからなる群から選択され、ここで、前記C 1-3 アルキルが、1個、2個または3個のR で置換されていてもよく;
は、HおよびC 1-3 アルキルから選択され、ここで、前記C 1-3 アルキルが、1個、2個または3個のR で置換されていてもよく;
1t 、R 2t 、R 3t およびR 4t は、それぞれ独立して、H、F、Cl、Br、I、OH、CN、NH 、C 1-3 アルキル、COOHおよび-C(=O)NH からなる群から選択され、ここで、前記C 1-3 アルキルが、1個、2個または3個のR で置換されていてもよく;
1e は、それぞれ独立して、H、F、Cl、Br、I、OH、CN、NH およびC 1-3 アルキルからなる群から選択され、ここで、前記C 1-3 アルキルが、1個、2個または3個のR で置換されていてもよく;
2e は、HおよびC 1-3 アルキルから選択され、ここで、前記C 1-3 アルキルが、1個、2個または3個のR で置換されていてもよく;
は、それぞれ独立して、H、F、Cl、Br、I、OH、NH 、CN、C 1-3 アルキル、およびC 1-3 アルコキシからなる群から選択され、ここで、前記C 1-3 アルキル、およびC 1-3 アルコキシが、1個、2個または3個のR で置換されていてもよく;
nは1、2、3、4または5であり;
、R 、R 、R 、R およびR は、それぞれ独立して、F、Cl、Br、I、OH、CN、NH およびDからなる群から選択される、
式(I)で表われる化合物、その異性体またはその薬学的に許容される塩。
[請求項2]
がHおよびCH から選択され、ここで、前記CH が、1個、2個または3個のR で置換されていてもよい、
請求項1に記載の化合物、その異性体またはその薬学的に許容される塩。
[請求項3]
がH、CH およびCD から選択される、
請求項2に記載の化合物、その異性体またはその薬学的に許容される塩。
[請求項4]
1t 、R 2t 、R 3t およびR 4t が、それぞれ独立して、H、F、Cl、Br、I、OH、CN、NH 、CH 、COOHおよび-C(=O)NH からなる群から選択され、ここで、前記CH が、1個、2個または3個のR で置換されていてもよい、
請求項1に記載の化合物、その異性体またはその薬学的に許容される塩。
[請求項5]
1t 、R 2t 、R 3t およびR 4t が、それぞれ独立して、H、F、Cl、Br、I、OH、CN、NH およびCH からなる群から選択される、
請求項4に記載の化合物、その異性体またはその薬学的に許容される塩。
[請求項6]
1e が、それぞれ独立して、H、F、Cl、Br、I、OH、CN、NH およびCH からなる群から選択される、
請求項1に記載の化合物、その異性体またはその薬学的に許容される塩。
[請求項7]
2e がHおよびCH から選択される、
請求項1に記載の化合物、その異性体またはその薬学的に許容される塩。
[請求項8]
がCH 、O、C(=O)、SまたはNHからなる群から選択される、
請求項1、6または7のいずれか1項に記載の化合物、その異性体またはその薬学的に許容される塩。
[請求項9]
が、それぞれ独立して、H、F、Cl、Br、I、OH、NH 、CN、CH およびOCH からなる群から選択され、ここで、前記CH およびOCH が、1個、2個または3個のR で置換されていてもよい、
請求項1に記載の化合物、その異性体またはその薬学的に許容される塩。
[請求項10]
が、それぞれ独立して、H、F、Cl、Br、I、OH、NH 、CN、CH 、OCH 、CF およびOCF からなる群から選択される、
請求項9に記載の化合物、その異性体またはその薬学的に許容される塩。
[請求項11]
環Aが、
[化7]
Figure 0007299350000168
からなる群から選択され、前記の
[化8]
Figure 0007299350000169
が、1個、2個または3個のハロゲンまたはC 1-3 アルキルで置換されていてもよい、
請求項1に記載の化合物、その異性体またはその薬学的に許容される塩。
[請求項12]
Lが単結合、-CH -および-O-から選択される、
請求項1に記載の化合物、その異性体またはその薬学的に許容される塩。
[請求項13]
前記の化合物が、
[化9]
Figure 0007299350000170
からなる群から選択され、
ここで、
n、T 、T およびT が請求項1で定義した通りであり;
が請求項1、2または3で定義した通りであり;
が請求項1、9または10で定義した通りであり;
RがHおよびハロゲンから選択され;
「*」が付いた炭素原子がキラル炭素原子であり、単一の(R)または(S)エナンチオマーまたは1つのエナンチオマーが豊富な混合物の形で存在する、
請求項1~3、9または10のいずれか1項に記載の化合物、その異性体またはその薬学的に許容される塩。
[請求項14]
前記の化合物が、
[化10]
Figure 0007299350000171
からなる群から選択され、
ここで、
n、T 、T およびT が請求項1で定義した通りであり;
が請求項1、2または3で定義した通りであり;
が請求項1、9または10で定義した通りであり;
RがHおよびハロゲンから選択される、
請求項13に記載の化合物、その異性体またはその薬学的に許容される塩。
[請求項15]
[化11]
Figure 0007299350000172
[化12]
Figure 0007299350000173
[化13]
Figure 0007299350000174
からなる群から選択される、
化合物、その異性体またはその薬学的に許容される塩。
[請求項16]
前記の化合物が、
[化14]
Figure 0007299350000175
[化15]
Figure 0007299350000176
[化16]
Figure 0007299350000177
からなる群から選択される、
請求項15に記載の化合物、その異性体またはその薬学的に許容される塩。
[請求項17]
RIP-1キナーゼに関する疾患を治療するための医薬品の調製における、請求項1~16のいずれか1項に記載の化合物、その異性体またはその薬学的に許容される塩の使用。

Claims (17)

  1. 式(I)で表れる化合物、その立体異性体またはその薬学的に許容される塩であって、
    Figure 0007299350000178
    ただし、
    はNとCR1tから選択され;
    はNとCR2tから選択され;
    はNとCR3tから選択され;
    はNとCR4tから選択され;
    はC(R1e、O、C(=O)、SおよびNR2eから選択され;
    環Aは、1,2,4-トリアゾリル、1,2,3-トリアゾリル、イミダゾリル、イソキサゾリル、1,3,4-オキサジアゾリル、
    Figure 0007299350000179
    テトラゾリル、ピリジル、および
    Figure 0007299350000180
    からなる群から選択され、前記1,2,4-トリアゾリル、1,2,3-トリアゾリル、イミダゾリル、イソキサゾリル、1,3,4-オキサジアゾリル、
    Figure 0007299350000181
    テトラゾリル、ピリジル、および
    Figure 0007299350000182
    が、1個、2個または3個のハロゲンまたはC1-3アルキルで置換されていてもよく;
    環Bは、フェニルおよび
    Figure 0007299350000183
    から選択され;
    Lは、単結合、O、C(=O)、S、NHおよびC1-3 アルキレンからなる群から選択され、ここで、前記C1-3 アルキレンが、1個、2個または3個のRで置換されていてもよく;
    は、HおよびC1-3アルキルから選択され、ここで、前記C1-3アルキルが、1個、2個または3個のRで置換されていてもよく;
    1t、R2t、R3tおよびR4tは、それぞれ独立して、H、F、Cl、Br、I、OH、CN、NH、C1-3アルキル、COOHおよび-C(=O)NHからなる群から選択され、ここで、前記C1-3アルキルが、1個、2個または3個のRで置換されていてもよく;
    1eは、それぞれ独立して、H、F、Cl、Br、I、OH、CN、NHおよびC1-3アルキルからなる群から選択され、ここで、前記C1-3アルキルが、1個、2個または3個のRで置換されていてもよく;
    2eは、HおよびC1-3アルキルから選択され、ここで、前記C1-3アルキルが、1個、2個または3個のRで置換されていてもよく;
    は、それぞれ独立して、H、F、Cl、Br、I、OH、NH、CN、C1-3アルキル、およびC1-3アルコキシからなる群から選択され、ここで、前記C1-3アルキル、およびC1-3アルコキシが、1個、2個または3個のRで置換されていてもよく;
    nは1、2、3、4または5であり;
    、R、R、R、RおよびRは、それぞれ独立して、F、Cl、Br、I、OH、CN、NHおよびDからなる群から選択される、
    式(I)で表れる化合物、その立体異性体またはその薬学的に許容される塩。
  2. がHおよびCHから選択され、ここで、前記CHが、1個、2個または3個のRで置換されていてもよい、
    請求項1に記載の化合物、その立体異性体またはその薬学的に許容される塩。
  3. がH、CHおよびCDから選択される、
    請求項2に記載の化合物、その立体異性体またはその薬学的に許容される塩。
  4. 1t、R2t、R3tおよびR4tが、それぞれ独立して、H、F、Cl、Br、I、OH、CN、NH、CH、COOHおよび-C(=O)NHからなる群から選択され、ここで、前記CHが、1個、2個または3個のRで置換されていてもよい、
    請求項1に記載の化合物、その立体異性体またはその薬学的に許容される塩。
  5. 1t、R2t、R3tおよびR4tが、それぞれ独立して、H、F、Cl、Br、I、OH、CN、NHおよびCHからなる群から選択される、
    請求項4に記載の化合物、その立体異性体またはその薬学的に許容される塩。
  6. 1eが、それぞれ独立して、H、F、Cl、Br、I、OH、CN、NHおよびCHからなる群から選択される、
    請求項1に記載の化合物、その立体異性体またはその薬学的に許容される塩。
  7. 2eがHおよびCHから選択される、
    請求項1に記載の化合物、その立体異性体またはその薬学的に許容される塩。
  8. がCH、O、C(=O)、SおよびNHからなる群から選択される、
    請求項1、6または7のいずれか1項に記載の化合物、その立体異性体またはその薬学的に許容される塩。
  9. が、それぞれ独立して、H、F、Cl、Br、I、OH、NH、CN、CHおよびOCHからなる群から選択され、ここで、前記CHおよびOCHが、1個、2個または3個のRで置換されていてもよい、
    請求項1に記載の化合物、その立体異性体またはその薬学的に許容される塩。
  10. が、それぞれ独立して、H、F、Cl、Br、I、OH、NH、CN、CH、OCH、CFおよびOCFからなる群から選択される、
    請求項9に記載の化合物、その立体異性体またはその薬学的に許容される塩。
  11. 環Aが、
    Figure 0007299350000184
    からなる群から選択され、前記の
    Figure 0007299350000185
    が、1個、2個または3個のハロゲンまたはC1-3アルキルで置換されていてもよい、
    請求項1に記載の化合物、その立体異性体またはその薬学的に許容される塩。
  12. Lが単結合、-CH-および-O-から選択される、
    請求項1に記載の化合物、その立体異性体またはその薬学的に許容される塩。
  13. 前記の化合物が、
    Figure 0007299350000186
    からなる群から選択され、
    ここで
    RがHおよびハロゲンから選択され;
    「*」が付いた炭素原子がキラル炭素原子であり、単一の(R)または(S)エナンチオマーまたは1つのエナンチオマーが豊富な混合物の形で存在する
    請求項1~3、9及び10のいずれか1項に記載の化合物、その立体異性体またはその薬学的に許容される塩。
  14. 前記の化合物が、
    Figure 0007299350000187
    からなる群から選択され、
    ここで
    RがHおよびハロゲンから選択される、
    請求項13に記載の化合物、その立体異性体またはその薬学的に許容される塩。
  15. Figure 0007299350000188
    Figure 0007299350000189
    Figure 0007299350000190
    からなる群から選択される、
    化合物、その立体異性体またはその薬学的に許容される塩。
  16. 前記の化合物が、
    Figure 0007299350000191
    Figure 0007299350000192
    Figure 0007299350000193
    からなる群から選択される、
    請求項15に記載の化合物、その立体異性体またはその薬学的に許容される塩。
  17. RIP-1キナーゼに関する疾患を治療するための、請求項1~16のいずれか1項に記載の化合物、その立体異性体またはその薬学的に許容される塩を含む医薬組成物。
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