JP7264189B2 - 撮像素子及び撮像装置 - Google Patents

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Description

本発明は、撮像素子及び撮像装置に関する。
裏面照射型撮像チップと信号処理チップとが積層された撮像素子(以下、積層型撮像素子という)を備えた電子機器が提案されている(特許文献1参照)。積層型撮像素子は、裏面照射型撮像チップと信号処理チップとが、所定の領域ごとにマイクロバンプを介して接続されるように積層されている。
日本国特開2006-49361号公報
しかしながら、従来の積層型撮像素子を備えた電子機器において、1または2以上の上記領域を有するブロックに画像を分けて、該ブロックごとに撮像画像を取得する提案は多くなく、積層型撮像素子を備えた電子機器の使い勝手が十分とはいえなかった。
発明の第1の態様による撮像素子は、複数の画素が行方向と列方向とに並んで配置される画素領域を有する第1半導体基板と、前記画素領域のうち第1単位領域に配置される複数の第1画素に電流を供給するための第1電流源と、前記画素領域のうち、前記第1単位領域から前記列方向側の第2単位領域に配置される複数の第2画素に電流を供給するための第2電流源と、前記第1画素から読み出された第1信号をデジタル信号に変換するための第1変換部と、前記第2画素から読み出された第2信号をデジタル信号に変換するための第2変換部とを有する第2半導体基板とを備え、前記第1画素は、前記第1単位領域において前記行方向と前記列方向とに並んで配置され、前記第2画素は、前記第2単位領域において前記行方向と前記列方向とに並んで配置され、前記第1画素から前記第1信号を読み出すためのフレームレートは、前記第2画素から前記第2信号を読み出すためのフレームレートとは異なる
発明の2の態様による撮像素子は、複数の画素が行方向と列方向とに並んで配置される画素領域を有する第1半導体基板と、前記画素領域のうち第1単位領域に配置される複数の第1画素に電流を供給するための第1電流源と、前記画素領域のうち、前記第1単位領域から前記行方向側の第2単位領域に配置される複数の第2画素に電流を供給するための第2電流源と、前記複数の第1画素から読み出された第1信号をデジタル信号に変換するための第1変換部と、前記複数の第2画素から読み出された第2信号をデジタル信号に変換するための第2変換部とを有する第2半導体基板とを備え、前記第1画素は、前記第1単位領域において前記行方向と前記列方向とに並んで配置され、前記第2画素は、前記第2単位領域において前記行方向と前記列方向とに並んで配置され、前記第1画素から前記第1信号を読み出すためのフレームレートは、前記第2画素から前記第2信号を読み出すためのフレームレートとは異なる
発明の3の態様による撮像装置は、上述の撮像素子を備える。
本発明によれば、複数の本撮像前処理を精度よく行なえ、使い勝手のよい撮像装置及び撮像装置を実現できる。
積層型撮像素子の断面図である。 撮像チップの画素配列と単位領域を説明する図である。 撮像チップの単位領域に対応する回路図である。 撮像素子の機能的構成を示すブロック図である。 撮像装置の構成を例示するブロック図である。 撮像素子におけるAF領域およびAE領域の配置を例示する図である。 撮像素子におけるAF領域およびAE領域の配置を例示する図である。 撮像素子におけるAF領域およびAE領域の配置を例示する図である。 第一の実施形態の制御部が実行する撮影動作の流れを説明するフローチャートである。 第二の実施形態におけるAF領域およびAE領域と、ライブビュー画像との関係を説明する図である。 撮像素子に対する3つの設定を説明する図である。 第二の実施形態の制御部が実行する撮影動作の流れを説明するフローチャートである。
以下、図面を参照して本発明を実施するための形態について説明する。
(第一の実施形態)
<積層型撮像素子の説明>
始めに、本発明の第一の実施形態による電子機器(例えば撮像装置1)に搭載する積層型撮像素子100について説明する。なお、この積層型撮像素子100は、本願出願人が
先に出願した特願2012-139026号に記載されているものである。図1は、積層型撮像素子100の断面図である。撮像素子100は、入射光に対応した画素信号を出力する裏面照射型撮像チップ113と、画素信号を処理する信号処理チップ111と、画素信号を記憶するメモリチップ112とを備える。これら撮像チップ113、信号処理チップ111およびメモリチップ112は積層されており、Cu等の導電性を有するバンプ109により互いに電気的に接続される。
なお、図示するように、入射光は主に白抜き矢印で示すZ軸プラス方向へ向かって入射する。本実施形態においては、撮像チップ113において、入射光が入射する側の面を裏面と称する。また、座標軸に示すように、Z軸に直交する紙面左方向をX軸プラス方向、Z軸およびX軸に直交する紙面手前方向をY軸プラス方向とする。以降のいくつかの図においては、図1の座標軸を基準として、それぞれの図の向きがわかるように座標軸を表示する。
撮像チップ113の一例は、裏面照射型のMOSイメージセンサである。PD層106は、配線層108の裏面側に配されている。PD層106は、二次元的に配され、入射光に応じた電荷を蓄積する複数のPD(フォトダイオード)104、および、PD104に対応して設けられたトランジスタ105を有する。
PD層106における入射光の入射側にはパッシベーション膜103を介してカラーフィルタ102が設けられる。カラーフィルタ102は、互いに異なる波長領域を透過する複数の種類を有しており、PD104のそれぞれに対応して特定の配列を有している。カラーフィルタ102の配列については後述する。カラーフィルタ102、PD104およびトランジスタ105の組が、一つの画素を形成する。
カラーフィルタ102における入射光の入射側には、それぞれの画素に対応して、マイクロレンズ101が設けられる。マイクロレンズ101は、対応するPD104へ向けて入射光を集光する。
配線層108は、PD層106からの画素信号を信号処理チップ111に伝送する配線107を有する。配線107は多層であってもよく、また、受動素子および能動素子が設けられてもよい。
配線層108の表面には複数のバンプ109が配される。当該複数のバンプ109が信号処理チップ111の対向する面に設けられた複数のバンプ109と位置合わせされて、撮像チップ113と信号処理チップ111とが加圧等されることにより、位置合わせされたバンプ109同士が接合されて、電気的に接続される。
同様に、信号処理チップ111およびメモリチップ112の互いに対向する面には、複数のバンプ109が配される。これらのバンプ109が互いに位置合わせされて、信号処理チップ111とメモリチップ112とが加圧等されることにより、位置合わせされたバンプ109同士が接合されて、電気的に接続される。
なお、バンプ109間の接合には、固相拡散によるCuバンプ接合に限らず、はんだ溶融によるマイクロバンプ結合を採用してもよい。また、バンプ109は、例えば後述する一つの単位領域に対して一つ程度設ければよい。したがって、バンプ109の大きさは、PD104のピッチよりも大きくてもよい。また、画素が配列された画素領域以外の周辺領域において、画素領域に対応するバンプ109よりも大きなバンプを併せて設けてもよい。
信号処理チップ111は、表裏面にそれぞれ設けられた回路を互いに接続するTSV(シリコン貫通電極)110を有する。TSV110は、周辺領域に設けられることが好ましい。また、TSV110は、撮像チップ113の周辺領域、メモリチップ112にも設けられてよい。
図2は、撮像チップ113の画素配列と単位領域131を説明する図である。特に、撮像チップ113を裏面側から観察した様子を示す。画素領域には例えば2000万個以上もの画素がマトリックス状に配列されている。本実施形態においては、例えば隣接する4画素×4画素の16画素が一つの単位領域131を形成する。図の格子線は、隣接する画素がグループ化されて単位領域131を形成する概念を示す。単位領域131を形成する画素の数は、これに限られず1000個程度、例えば32画素×64画素でもよいし、それ以上でもそれ以下(例えば1画素)でもよい。
画素領域の部分拡大図に示すように、単位領域131は、緑色画素Gb、Gr、青色画素Bおよび赤色画素Rの4画素から成るいわゆるベイヤー配列を、上下左右に4つ内包する。緑色画素は、カラーフィルタ102として緑色フィルタを有する画素であり、入射光のうち緑色波長帯の光を受光する。同様に、青色画素は、カラーフィルタ102として青色フィルタを有する画素であって青色波長帯の光を受光し、赤色画素は、カラーフィルタ102として赤色フィルタを有する画素であって赤色波長帯の光を受光する。
本実施形態において、1ブロックにつき単位領域131を少なくとも1つ含むように複数のブロックが定義され、各ブロックはそれぞれ異なる制御パラメータで各ブロックに含まれる画素を制御できる。つまり、あるブロックに含まれる画素群と、別のブロックに含まれる画素群とで、撮像条件が異なる撮像信号を取得できる。制御パラメータの例は、フレームレート、ゲイン、間引き率、画素信号を加算する加算行数または加算列数、電荷の蓄積時間または蓄積回数、デジタル化のビット数等である。さらに、制御パラメータは、画素からの画像信号取得後の画像処理におけるパラメータであってもよい。
図3は、撮像チップ113の単位領域131に対応する回路図である。図3において、代表的に点線で囲む矩形が、1画素に対応する回路を表す。なお、以下に説明する各トランジスタの少なくとも一部は、図1のトランジスタ105に対応する。
上述のように、単位領域131は、16画素から形成される。それぞれの画素に対応する16個のPD104は、それぞれ転送トランジスタ302に接続され、各転送トランジスタ302の各ゲートには、転送パルスが供給されるTX配線307に接続される。本実施形態において、TX配線307は、16個の転送トランジスタ302に対して共通接続される。
各転送トランジスタ302のドレインは、対応する各リセットトランジスタ303のソースに接続されると共に、転送トランジスタ302のドレインとリセットトランジスタ303のソース間のいわゆるフローティングディフュージョンFDが増幅トランジスタ304のゲートに接続される。リセットトランジスタ303のドレインは電源電圧が供給されるVdd配線310に接続され、そのゲートはリセットパルスが供給されるリセット配線306に接続される。本実施形態において、リセット配線306は、16個のリセットトランジスタ303に対して共通接続される。
各々の増幅トランジスタ304のドレインは、電源電圧が供給されるVdd配線310に接続される。また、各々の増幅トランジスタ304のソースは、対応する各々のトランジスタ305のドレインに接続される。選択トランジスタの各ゲートには、選択パルスが供給されるデコーダ配線308に接続される。本実施形態において、デコーダ配線308は、16個の選択トランジスタ305に対してそれぞれ独立に設けられる。そして、各々の選択トランジスタ305のソースは、共通の出力配線309に接続される。負荷電流源311は、出力配線309に電流を供給する。すなわち、選択トランジスタ305に対する出力配線309は、ソースフォロアにより形成される。なお、負荷電流源311は、撮像チップ113側に設けてもよいし、信号処理チップ111側に設けてもよい。
ここで、電荷の蓄積開始から蓄積終了後の画素出力までの流れを説明する。リセット配線306を通じてリセットパルスがリセットトランジスタ303に印加され、同時にTX配線307を通じて転送パルスが転送トランジスタ302に印加されると、PD104およびフローティングディフュージョンFDの電位がリセットされる。
PD104は、転送パルスの印加が解除されると、受光する入射光を電荷に変換して蓄積する。その後、リセットパルスが印加されていない状態で再び転送パルスが印加されると、蓄積された電荷はフローティングディフュージョンFDへ転送され、フローティングディフュージョンFDの電位は、リセット電位から電荷蓄積後の信号電位になる。そして、デコーダ配線308を通じて選択パルスが選択トランジスタ305に印加されると、フローティングディフュージョンFDの信号電位の変動が、増幅トランジスタ304および選択トランジスタ305を介して出力配線309に伝わる。これにより、リセット電位と信号電位とに対応する画素信号は、単位画素から出力配線309に出力される。
図3に示すように、本実施形態においては、単位領域131を形成する16画素に対して、リセット配線306とTX配線307が共通である。すなわち、リセットパルスと転送パルスはそれぞれ、16画素全てに対して同時に印加される。したがって、単位領域131を形成する全ての画素は、同一のタイミングで電荷蓄積を開始し、同一のタイミングで電荷蓄積を終了する。ただし、蓄積された電荷に対応する画素信号は、それぞれの選択トランジスタ305に選択パルスが順次印加されることにより、選択的に出力配線309から出力される。また、リセット配線306、TX配線307、出力配線309は、単位領域131毎に別個に設けられる。
このように単位領域131を基準として回路を構成することにより、単位領域131ごとに電荷蓄積時間を制御することができる。換言すると、単位領域131間で、異なったフレームレートによる画素信号をそれぞれ出力させることができる。更に言えば、一方の単位領域131に1回の電荷蓄積を行わせている間に、他方の単位領域131に何回もの電荷蓄積を繰り返させてその都度画素信号を出力させることにより、これらの単位領域131間で異なるフレームレートで動画用の各フレームを出力することもできる。
図4は、撮像素子100の機能的構成を示すブロック図である。アナログのマルチプレクサ411は、単位領域131を形成する16個のPD104を順番に選択して、それぞれの画素信号を当該単位領域131に対応して設けられた出力配線309へ出力させる。マルチプレクサ411は、PD104と共に、撮像チップ113に形成される。
マルチプレクサ411を介して出力された画素信号は、信号処理チップ111に形成された、相関二重サンプリング(CDS)・アナログ/デジタル(A/D)変換を行う信号処理回路412により、CDSおよびA/D変換が行われる。A/D変換された画素信号は、デマルチプレクサ413に引き渡され、それぞれの画素に対応する画素メモリ414に格納される。デマルチプレクサ413および画素メモリ414は、メモリチップ112に形成される。
演算回路415は、画素メモリ414に格納された画素信号を処理して後段の画像処理部に引き渡す。演算回路415は、信号処理チップ111に設けられてもよいし、メモリチップ112に設けられてもよい。なお、図4では1つの単位領域131の分の接続を示すが、実際にはこれらが単位領域131ごとに存在して、並列で動作する。ただし、演算回路415は単位領域131ごとに存在しなくても良く、例えば、一つの演算回路415がそれぞれの単位領域131に対応する画素メモリ414の値を順に参照しながらシーケンシャルに処理してもよい。
上記の通り、単位領域131のそれぞれに対応して出力配線309が設けられている。撮像素子100は撮像チップ113、信号処理チップ111およびメモリチップ112を積層しているので、これら出力配線309にバンプ109を用いたチップ間の電気的接続を用いることにより、各チップを面方向に大きくすることなく配線を引き回すことができる。
<撮像装置の説明>
図5は、上述した撮像素子100を有する撮像装置1の構成を例示するブロック図である。図5において、撮像装置1は、撮像光学系10、撮像部20、画像処理部30、ワークメモリ40、表示部50、記録部60、および制御部70を有する。
撮像光学系10は、複数のレンズから構成され、被写界からの光束を撮像部20へ導く。撮像光学系10は、撮像装置1と一体に構成されていても、撮像装置1に対して交換可能に構成されていてもよい。また、撮像光学系10には、フォーカスレンズを内蔵していても、ズームレンズを内蔵していてもよい。
撮像部20は、上述した撮像素子100と、撮像素子100を駆動する駆動部21とを有する。撮像素子100は、駆動部21から出力される制御信号によって駆動制御されることにより、上述したブロック単位で独立した蓄積制御が可能である。駆動部21に対する上記ブロックの位置や形状、その範囲などの指示は、制御部70が行う。
画像処理部30は、ワークメモリ40と協働して、撮像部20で撮像された画像データに対する画像処理を行う。本実施形態において、画像処理部30は、通常の画像処理(色信号処理、ガンマ補正など)に加えて、画像に含まれる主要被写体の検出処理も行う。画像処理部30による主要被写体の検出は、公知の顔検出機能を用いて行うことができる。また、顔検出に加えて、例えば日本国特開2010-16621号公報(US2010/0002940号)に記載されているように、画像に含まれる人体を主要被写体として検出するようにしてもよい。
ワークメモリ40は、JPEG圧縮前後やMPEG圧縮前後の画像データなどを一時的に記憶する。表示部50は、例えば液晶表示パネル51によって構成され、撮像部20で撮像された画像(静止画や動画)や各種情報を表示したり、操作入力用画面を表示したりする。表示部50は、液晶表示パネル51の表示面にタッチパネル52が積層された構成を有する。タッチパネル52は、液晶表示パネル51にユーザが触れた位置を示す信号を出力する。
記録部60は、メモリカードなどの記憶媒体に画像データなどの各種データを記憶させる。制御部70はCPUを有し、撮像装置1による全体の動作を制御する。本実施形態において制御部70は、撮像素子100(撮像チップ113)の撮像面を複数のブロックに分け、ブロック間において異なるフレームレート、ゲインで画像を取得させる。このために制御部70は、ブロックの位置、形状、範囲、および各ブロック用の制御パラメータを駆動部21へ指示する。
また、制御部70は、撮像光学系10による焦点調節状態をAF演算部71により算出する。制御部70はさらに、適正露出が得られるようにAE、AWB演算部72で露出演算を行う。
<AF領域とAE領域>
第一の実施形態では、画面内にAF領域とAE領域という概念を導入し、上記複数のブロックに対応させる。図6は、撮像素子100(撮像チップ113)におけるAF領域およびAE領域の配置を例示する図である。図6において、斜線を付した部分がAE領域を表し、白い部分がAF領域を表す。第一の実施形態では、AF領域およびAE領域を市松模様状に配置するようにあらかじめ定めておく。制御部70は、例えばライブビュー画像取得時において、撮像素子100のAF領域から出力される信号を用いて、AF演算部71で焦点検出処理を行う。
ここで、ライブビュー画像は、本撮像が行われる前のプレビュー画像とも呼ばれ、撮像素子100によって所定のフレームレート(例えば30fps)で取得されるモニタ用の画像をいう。焦点検出処理は、例えばコントラスト検出方式により行う。具体的には、撮像光学系10のフォーカスレンズの位置を移動させながら、AF領域から出力される信号で構成される画像のコントラストを高めるように撮像光学系10のフォーカスレンズの位置を調節する。
なお、焦点検出処理を、位相差検出方式によって行う構成にしてもよい。この場合には、撮像素子100(撮像チップ113)におけるAF領域内において、焦点検出用の画素を設けておく。そして、焦点検出用の画素からの出力信号を用いて位相差検出演算を行うことにより、撮像光学系10による焦点調節状態(具体的にはデフォーカス量)を検出する。焦点検出用の画素および位相差検出演算は、例えば日本国特開2009-94881号公報に記載されるように公知であるため、詳細な説明を省略する。
また、制御部70は、上記ライブビュー画像取得時においてAE領域から出力される信号を用いて、AE、AWB演算部72で露出演算処理を行う。AE、AWB演算部72は、例えばAE領域から出力される信号の平均的なレベルを所定のレベルへ近づけるように、露出(フレームレート、ゲイン等)を決定する。制御部70はさらに、AE領域から出力される信号に基づいてホワイトバランス調整値も決定する。さらにまた、制御部70は、AE領域から出力される信号に基づいてモニタ用の画像を生成し、上記ライブビュー画像として表示部50に表示させる。
制御部70は、ライブビュー画像を取得する際、撮像素子100(撮像チップ113)をAF領域とAE領域とに分けて蓄積制御するように、駆動部21へ指示を送る。なお、第一の実施形態においてAF領域およびAE領域に分けて蓄積制御するのは、不図示のレリーズスイッチによる本撮像(静止画記録や動画記録)指示が行われる前とする。
すなわち、本撮像指示が行われるまでは、AF領域とAE領域とで異なる制御パラメータを適用することによって異なる画像を得る。そして、AF領域から取得された画像に基づいて焦点検出処理を行い、AE領域から取得された画像に基づいて露出演算、ホワイトバランス演算、およびライブビュー画像の表示を行う。
AF領域に対する本撮像前処理である制御パラメータは、例えばフレームレートを120fpsとし、ゲインをAE領域のゲインを高くする。AE領域に対する本撮像前処理である制御パラメータは、例えばフレームレートをAF領域より低速の30fpsとし、ゲインをAF領域のゲインより低くする。このように、AF領域においてAE領域に比べて高いフレームレートを適用して焦点検出処理に用いる画像を取得することで、焦点検出処理の応答性をよくすることができる。また、AE領域のゲインをAF領域のゲインより低くして露出演算処理、ホワイトバランス調整値の決定に用いる画像を取得することで、ノイズの影響を避けて精度のよい演算を行える。
なお、撮像素子100(撮像チップ113)におけるAF領域およびAE領域の配置は、図6に例示した配置に限らず、AF領域およびAE領域の個々の大きさを適宜変更してもよい。図7に例示するように、図6の場合に比べて小さく変更してもよいし、図6の場合に比べて大きく変更してもよい。
また、AF領域およびAE領域の大きさを変更するだけでなく、図8に例示するように、AF領域とAE領域との面積比率を適宜変更してもよい。図8は、AF領域の面積に比べてAE領域の面積を広くとり、両者の面積比率を変更した場合を例示する図である。前述したライブビュー画像は、撮像素子100の画素の一部を間引いて生成されるため、例えば、間引かれた画素分に対応してAF領域を設定し、ライブビュー画像の画素分に対応してAE領域を設定すればライブビュー画像の画質が劣化することがない。なお、AF領域を画面の中央部など所定位置のみに配置したい場合には、AF領域を所定の大きさで、画面の所定位置のみに配置させても構わない。
<フローチャートの説明>
図9は、第一の実施形態において、撮像装置1の制御部70が実行する撮影動作の流れを説明するフローチャートである。制御部70は、不図示のON-OFFスイッチがオン操作され、撮像装置1の各部に対して通電が行われている場合に、図9による処理を繰り返し起動させる。図9のステップS101において、制御部70は、AF領域およびAE領域用のフレームレート、ゲインなどの制御パラメータをそれぞれ決定してステップS102へ進む。例えば、後述するステップS102、S104、S105において適用する値を、プログラムデータから読み出して用意しておく。
ステップS102において、制御部70は駆動部21へ指示を送り、撮像部20による撮像を開始させる。ステップS102で開始する画像の取得は、例えば撮像素子100の撮像面の略全域をAE領域として、AE領域用の制御パラメータを設定して行う。制御部70は、撮像部20から出力される信号に基づくライブビュー画像データを画像処理部30により画像処理させた後、表示部50に表示させる。
ステップS103において、制御部70は、レリーズ半押し操作されたか否かを判定する。レリーズ半押し操作は、撮像装置1に対して本撮像前処理(撮影準備)を開始させる指示として用いられる。制御部70は、不図示のレリーズボタンが半押し操作された場合に、ステップS103を肯定判定してステップS104へ進み、半押し操作が行われない場合には、ステップS103を否定判定して当該判定処理を繰り返す。判定処理を繰り返す場合は、レリーズ半押し操作が行われるのを待つ。
なお、撮像装置1にレリーズボタンを設けずに、液晶表示パネル51に表示させたレリーズアイコンに対するタップ操作を検出して本撮像指示を判断する場合には、ステップS103の処理を省略してもよい。この場合の制御部70は、電源オンして図9による処理を起動後、ステップS102の撮像開始時から後述するステップS104およびS105の処理を行い、図6に例示したように、あらかじめ定めておいたAF領域とAE領域とで異なる制御パラメータ(フレームレート、ゲイン)を適用する。また、動画撮像の開始と終了とを指示する動画スイッチを電子機器1に設けた場合にも、制御部70は、レリーズアイコンに対するタップ操作と同じような処理をしてもよく、また、動画スイッチがオンされた後の数秒の間に本撮像前処理(撮影準備)を行うようにしてもよい。
ステップS104において、制御部70は駆動部21へ指示を送り、撮像素子100のAF領域にAF領域用のフレームレート、ゲインなどの制御パラメータを適用させる。ステップS105において、制御部70は駆動部21へ指示を送り、撮像素子100のAE領域にAE領域用のフレームレート、ゲインなどの制御パラメータを適用させる。これにより、制御部70は、AE領域から上記フレームレートで出力される信号に基づいて、制御パラメータの微調整と、ホワイトバランス調整値の決定と、ライブビュー画像の表示とを行う。
ステップS106において、制御部70はAF処理を開始させる。具体的には、AF演算部71により、AF領域から出力される信号に基づいて焦点検出処理を開始させてステップS107へ進む。これにより、AF領域から上記フレームレートで出力される信号に基づいて撮像光学系10の焦点調節を行える。
ステップS107において、制御部70はAF処理が終了か否かを判定する。制御部70は、例えばAF領域から得られる画像のコントラストが所定値以上の場合にステップS107を肯定判定し、AF領域から得られる画像のコントラストが所定値に満たない場合にはステップS107を否定判定する。否定判定する場合は、焦点検出処理を継続しながら当該判定処理を繰り返す。
ステップS108において、制御部70は、焦点調節後にAE領域から出力される信号に基づいて、撮影時に適用する露出条件、ホワイトバランス調整値をAE、AWB演算部72で算出させてステップS109へ進む。
ステップS109において、制御部70は、レリーズ全押し操作されたか否かを判定する。レリーズ全押し操作は、撮像装置1に対する本撮像指示として用いられる。制御部70は、不図示のレリーズボタンが全押し操作された場合に、ステップS109を肯定判定してステップS110へ進み、全押し操作が行われない場合には、ステップS109を否定判定してステップS108へ戻る。ステップS108へ戻る場合は、上述した処理を繰り返す。なお、制御部70は、不図示のレリーズボタンが全押し操作された場合にAF領域の制御パラメータおよびAE領域の制御パラメータによる撮像部20の撮像を解除する。
なお、上述したように、液晶表示パネル51に表示させたレリーズアイコンに対するタップ操作を検出して本撮像指示を判断する場合には、表示中のレリーズアイコンがタップ操作された場合にステップS109を肯定判定すればよい。
ステップS110において、制御部70は駆動部21へ指示を送り、ステップS108において算出した撮影用(本撮像)の露出条件に必要な制御パラメータ(露光時間、ゲインなど)を設定してステップS111へ進む。
ステップS111において、制御部70は撮影処理を実行し、取得された画像のデータを記録部60によってメモリカードなどに記憶させて図9による処理を終了させる。撮影処理では、撮像素子100の全領域で共通(同じ)に設定した撮影用の制御パラメータを適用して、1コマの静止画像を取得(本撮像)、記録するとともに、静止画像を取得した後も複数フレームの画像を取得する。なお、制御部70は、被写界の一部に高輝度被写体がある場合に、高輝度被写体に対応した画素の撮像条件を変えるようにしても構わない。そして、レリーズ全押し操作の前後所定時間の間に取得した複数フレームの画像に基づいて、スロー再生動画データを生成、記録する。スロー再生動画データは、撮像素子100で取得した際のフレームレート(例えば30fps)より遅いフレームレート(例えば15fps)で再生する動画像のデータをいう。
制御部70は、以下のようにスロー再生動画データを生成する。すなわち、レリーズ全押し操作時刻(t1とする)より第1所定時間前(例えば0.6秒前)から時刻t1までに、上述したライブビュー画像の表示のためにワークメモリ40に一時的に記憶されたAE領域に基づく複数のフレーム画像(フレームレートはAE領域に設定されていたフレームレートとする。例えば30fpsで取得された場合の0.6秒分は18フレームである)、および時刻t1から時刻t1より第2所定時間後(例えば0.4秒後)までにワークメモリ40に記憶された複数のフレーム画像(フレームレートは本撮像指示前にAE領域に設定されていたフレームレートと同じとする。例えば30fpsで取得された場合の0.4秒分は12フレームである)に基づいて、スロー再生動画データを生成する。これにより、時刻t1を挟む1秒間(時刻t1の0.6秒前から時刻t1の0.4秒後)にワークメモリ40に記憶された複数のフレーム画像(計30枚)に基づいて、再生時間が約2秒間のスロー再生動画データを生成する。このように、レリーズ全押し操作前後に取得したフレーム画像に基づくスロー再生動画データが得られる。なお、スロー再生動画データは、画像処理部30によりMPEGデータまたはJPEGデータとして生成される。
以上説明した第一の実施形態によれば、次の作用効果が得られる。
(1)撮像装置1は、露出演算処理に用いる信号と焦点調節状態の検出に用いる信号とをそれぞれ適切なレベルで得られるから、露出演算や焦点調節をすみやかに精度よく行ない得る。この結果、使い勝手のよい電子機器を実現できる。
(2)制御部70は、不図示のレリーズスイッチの全押しに応じて、AF領域の制御パラメータおよびAE領域の制御パラメータによる撮像部20の撮像を解除し、本撮像に適した撮像条件で撮像部20を駆動するので、より良い静止画・動画を得ることができる。
(3)制御部70は、第2領域において第1領域に比べて高いフレームレートを適用して焦点検出処理に用いる信号を取得することで、焦点検出処理の応答性をよくすることができる。
(4)制御部70は、第1領域のゲイン設定を第2領域に比べて低いゲイン設定にして露出演算処理を行うので、ノイズの影響を抑えた精度よい演算を行うことができる。
(5)制御部70が、第1領域および第2領域をあらかじめ決めた場合には、画面内の決まった位置を基準に露出を決めたり、画面内の決まった位置を基準に焦点調節を行ったりすることができる。
(第二の実施形態)
上述した第一の実施形態では、撮像素子100(撮像チップ113)におけるAF領域とAE領域の配置をあらかじめ定めておく例を説明したが、第二の実施形態では、撮像素子100(撮像チップ113)におけるAF領域とAE領域の配置を、ライブビュー画像に基づくシーン認識を経て決定する。なお、撮像装置1の構成は第一の実施形態において説明した図5の構成と同様であるので、構成についての説明は省略する。
図10は、第二の実施形態におけるAF領域およびAE領域と、ライブビュー画像との関係を説明する図である。図10において、ライブビュー画像の画面中央手前に人物が含まれ、ライブビュー画像の画面左上部に樹木が含まれ、ライブビュー画像の画面右上部に太陽が含まれている。制御部70は画像処理部30へ指示を送り、ライブビュー画像データに対して公知のシーン認識処理を行わせる。画像処理部30は、シーン認識処理を行うことにより、ライブビュー画像から高輝度領域A、主要被写体領域B、および背景領域Cを抽出する。
画像処理部30は、例えば、ライブビュー画像データの信号レベルがあらかじめ定めた高輝度閾値を超えている範囲を高輝度領域Aとする。また、画像処理部30は、上述したように検出した人体を含む範囲を主要被写体領域Bとする。なお、人物に限らずペットなどの動物を検出し、この動物を含む範囲を主要被写体領域Bとしてもよい。画像処理部30はさらに、高輝度領域Aおよび主要被写体領域Bを除外した位置においてエッジ検出を行い、検出されたエッジの密度が所定値を超える範囲を背景領域Cとする。なお、ライブビュー画像のデータに高輝度閾値を超えるデータが存在しない場合は、高輝度領域Aはないものとする。
制御部70は、上記主要被写体領域Bにおいて、例えばAF領域およびAE領域を市松模様状に配置する。図10において、主要被写体領域B内で斜線を付した部分がAE領域を表し、白い部分がAF領域を表す。ここで、主要被写体領域B内におけるAF領域およびAE領域の配置は、図10に例示した配置に限らず、AF領域およびAE領域の個々の大きさを適宜変更してもよい。また、AF領域およびAE領域の大きさを変更するだけでなく、AE領域の面積がAF領域の面積よりも大きくなるように面積比率を適宜変更してもよい。さらにまた、AF領域を主要被写体領域B内の中央部など所定位置のみに配置したい場合には、AF領域を所定の大きさで、所定位置のみに配置させても構わない。また、制御部70は、AF領域およびAE領域の一部が主要被写体領域Bからはみ出るようにAF領域およびAE領域を配置しても構わない。
また、制御部70は、上記背景領域C内をAE領域とする。図10において、背景領域C内で斜線を付した部分はAE領域を表す。さらにまた、制御部70は、高輝度閾値を超えている部分(図10の例では高輝度領域A)についてはAF領域およびAE領域を定めない。図10において、高輝度領域A内で縦線を付した部分はAF領域でもAE領域でもないことを表す。
第二の実施形態における制御部70は、ライブビュー画像の画面において高輝度領域Aと、主要被写体領域Bと、背景領域Cのいずれにも属さない部分(図10において白地部分)とを、それぞれAE領域とする。
第二の実施形態では、ライブビュー画像を取得する際に、撮像素子100(撮像チップ113)に対して3つの設定を行う。図11は、3つの設定を説明する図である。設定1は、高輝度領域A(すなわちAF領域でもAE領域でもない)に対し、例えばフレームレートを高めてゲインを下げるなどして、出力信号が飽和しないように高輝度に適した制御パラメータ(フレームレート、ゲインなど)を設定することを示す。
設定2は、主要被写体領域BにおけるAF領域に対し、第一の実施形態と同様に、焦点検出処理に適した制御パラメータ(フレームレート、ゲインなど)を設定すること、および主要被写体領域BにおけるAE領域に対し、第一の実施形態と同様に、露出演算処理に適した制御パラメータ(フレームレート、ゲインなど)を設定することを示す。
設定3は、背景領域Cと、高輝度領域Aにも主要被写体領域Bにも属さない部分(図10において白地部分)とに対して、上記主要被写体領域BにおけるAE領域と同じく、露出演算処理に適した制御パラメータ(フレームレート、ゲインなど)を設定することを示す。
制御部70は、駆動部21へ指示を送り、撮像素子100(撮像チップ113)に対して上記3つの設定を行わせる。これにより、撮像素子100(撮像チップ113)は、ライブビュー画像を取得する際、AF領域と、AE領域と、AF領域でもAE領域でもない領域とにおいて、それぞれ異なる制御パラメータ(フレームレート、ゲインなど)で蓄積制御される。このように蓄積制御されるのは、例えば、画像処理部30によるシーン認識後から、本撮像指示が行われるまでとする。
すなわち、本撮像指示が行われる前は、AF領域と、AE領域と、AF領域でもAE領域でもない領域とで異なる制御パラメータを適用することによって異なる画像を得る。そして、AF領域から取得された画像に基づいて焦点検出処理を行い、AE領域から取得された画像に基づいて露出演算、およびホワイトバランス演算を行い、AE領域で取得された画像と、AF領域でもAE領域でもない領域とで取得された画像に基づいてライブビュー画像の表示を行う。
AF領域に対する制御パラメータは、例えばフレームレートを120fpsとし、ゲインをAE領域のゲインを高くする。AE領域に対する制御パラメータは、例えばフレームレートをAF領域より低速の30fpsとし、ゲインをAF領域のゲインより低くする。AF領域においてAE領域に比べて高いフレームレートを適用して焦点検出処理に用いる画像を取得するのは、焦点検出処理の応答性をよくするためである。また、AE領域のゲインをAF領域のゲインより低くして露出演算処理、ホワイトバランス調整値の決定に用いる画像を取得するのは、ノイズの影響を避けて精度のよい演算を行うためである。
AF領域でもAE領域でもない領域に対する制御パラメータは、例えばフレームレートを60fpsとし、ゲインをAE領域より低くする。これにより、いわゆる白飛びが生じるような高輝度な被写体像も、白飛びさせず取得できる。
<フローチャートの説明>
図12は、第二の実施形態において、撮像装置1の制御部70が実行する撮影動作の流れを説明するフローチャートである。図9に例示した第一の実施形態におけるフローチャートと比べて、ステップS104Bおよび105Bの処理が異なるので、これらの相違点を中心に説明する。
図12のステップS102で開始された画像の取得は、図9の場合と同様に、撮像素子100の撮像面の略全域をAE領域として、AE領域用の制御パラメータを設定して行われる。制御部70は、上記設定により撮像部20から出力される信号に基づくライブビュー画像データをシーン認識対象とする。ステップS104Bにおいて、制御部70は画像処理部30に指示を送り、上記ライブビュー画像データに対して公知のシーン認識処理を行わせる。画像処理部30は、シーン認識処理を行うことにより、上述したように高輝度領域A、主要被写体領域B、および背景領域Cに分割する。
ステップS105Bにおいて、制御部70は駆動部21へ指示を送り、分割領域別に上述した3つの設定を行わせる。これにより、AF領域と、AE領域と、AF領域でもAE領域でもない領域とで異なる制御パラメータを適用することによって異なる画像を得る。制御部70は、AE領域から取得された画像に基づいて、制御パラメータの微調整と、ホワイトバランス調整値の決定とを行える。また、AE領域で取得された画像と、AF領域でもAE領域でもない領域とで取得された画像とに基づいてライブビュー画像の表示を行える。
以上説明した第二の実施形態によれば、次の作用効果が得られる。
(1)撮像装置1は、画面の中で露出演算の対象とする位置、および焦点調節の対象とする位置を、シーン解析結果に基づいて可変することができる。
(2)制御部70は、上記画像のうち画像処理部30によって主要被写体を含むと判断された範囲内に第1領域および第2領域をそれぞれ定めるようにしたので、画面内で主要被写体を対象に露出を決め、主要被写体を対象に焦点調節を行い得る。
(3)制御部70は、上記画像のうち画像処理部30によって判断された上記範囲の外に第1領域を定めるようにしたので、主要被写体以外の背景についても露出演算の対象に含め得る。
(4)制御部70は、上記画像のうち、所定輝度を超える領域とは別の領域に範囲に1領域および第2領域を設定したので、例えば撮像部20からの信号が飽和した場合には、これらを露出演算の対象や焦点調節の対象から除くことができる。
(変形例1)
上述した第一の実施形態および第二の実施形態に係る撮像装置1を、高機能携帯電話機、またはタブレット端末によって構成してもよい。この場合、高機能携帯電話機(またはタブレット端末)に搭載されるカメラユニットを、上記積層型撮像素子100を用いて構成する。
(変形例2)
上述した説明では、AE領域から取得された画像に基づいて、制御パラメータの微調整と、ホワイトバランス調整値の決定とを行う例を説明した。この代わりに、AF領域およびAE領域と別にAWB領域を新たに設けてもよい。そして、撮像素子100(撮像チップ113)を、ライブビュー画像を取得する際、AF領域と、AE領域と、AWB領域とにおいてそれぞれ異なる制御パラメータ(フレームレート、ゲインなど)で蓄積制御する。
変形例2において制御部70は、AF領域から取得された画像に基づいて焦点検出処理を行う。制御部70は、ホワイトバランス調整値の決定を、AWB領域から取得された画像に基づいて行う。制御パラメータの微調整については、AE領域から取得された画像に基づいて行う。また、ライブビュー画像の表示については、AE領域で取得された画像と、AF領域でもAE領域でもない領域とで取得された画像とに基づいて行う。
上記では、種々の実施の形態および変形例を説明したが、本発明はこれらの内容に限定されるものではない。各実施形態および各変形例の構成は、適宜組み合わせても構わない。本発明の技術的思想の範囲内で考えられるその他の態様も本発明の範囲内に含まれる。各フローチャートの処理順番を適宜入れ替えることも可能である。
1…撮像装置
10…撮像光学系
20…撮像部
30…画像処理部
40…ワークメモリ
50…表示部
51…液晶表示パネル
52…タッチパネル
60…記録部
70…制御部
71…AF演算部
72…AE、AWB演算部
100…撮像素子
109…バンプ
111…信号処理チップ
112…メモリチップ
113…撮像チップ
131…単位領域
次の優先権基礎出願の開示内容は引用文としてここに組み込まれる。
日本国特許出願2013年第037617号(2013年2月27日出願)

Claims (31)

  1. 複数の画素が行方向と列方向とに並んで配置される画素領域を有する第1半導体基板と、
    前記画素領域のうち第1単位領域に配置される複数の第1画素に電流を供給するための第1電流源と、前記画素領域のうち、前記第1単位領域から前記列方向側の第2単位領域に配置される複数の第2画素に電流を供給するための第2電流源と、前記第1画素から読み出された第1信号をデジタル信号に変換するための第1変換部と、前記第2画素から読み出された第2信号をデジタル信号に変換するための第2変換部とを有する第2半導体基板と
    を備え、
    前記第1画素は、前記第1単位領域において前記行方向と前記列方向とに並んで配置され、
    前記第2画素は、前記第2単位領域において前記行方向と前記列方向とに並んで配置され、
    前記第1画素から前記第1信号を読み出すためのフレームレートは、前記第2画素から前記第2信号を読み出すためのフレームレートとは異なる撮像素子。
  2. 請求項1に記載の撮像素子において、
    前記画素は、光を電荷に変換する光電変換部を有し、
    前記第1画素の前記光電変換部で変換された電荷の蓄積時間は、前記第2画素の前記光電変換部で変換された電荷の蓄積時間とは異なる撮像素子。
  3. 請求項2に記載の撮像素子において、
    前記画素は、前記光電変換部の電荷を転送するための転送部を有し、
    前記第1画素の前記転送部は、前記第1画素の前記光電変換部で変換された電荷の蓄積時間を制御する制御信号が出力される第1転送制御線に接続され、
    前記第2画素の前記転送部は、前記第2画素の前記光電変換部で変換された電荷の蓄積時間を制御する制御信号が出力される第2転送制御線に接続される撮像素子。
  4. 請求項3に記載の撮像素子において、
    前記画素は、前記光電変換部の電位をリセットするためのリセット部を有し、
    前記第1画素の前記リセット部は、前記第1画素の前記光電変換部で変換された電荷の蓄積時間を制御する制御信号が出力される第1リセット制御線に接続され
    前記第2画素の前記リセット部は、前記第2画素の前記光電変換部で変換された電荷の蓄積時間を制御する制御信号が出力される第2リセット制御線に接続される撮像素子。
  5. 請求項2に記載の撮像素子において、
    前記画素は、前記光電変換部の電位をリセットするためのリセット部を有し、
    前記第1画素の前記リセット部は、前記第1画素の前記光電変換部で変換された電荷の蓄積時間を制御する制御信号が出力される第1リセット制御線に接続され
    前記第2画素の前記リセット部は、前記第2画素の前記光電変換部で変換された電荷の蓄積時間を制御する制御信号が出力される第2リセット制御線に接続される撮像素子。
  6. 請求項に記載の撮像素子において、
    前記画素は、光を電荷に変換する光電変換部と、前記光電変換部の電荷を転送するための転送部とを有し、
    前記第1画素の前記転送部は、前記第1画素の前記転送部を制御する制御信号が出力される第1転送制御線に接続され
    前記第2画素の前記転送部は、前記第2画素の前記転送部を制御する制御信号が出力される第2転送制御線に接続される撮像素子。
  7. 請求項に記載の撮像素子において、
    前記画素は、前記光電変換部の電位をリセットするためのリセット部を有し、
    前記第1画素の前記リセット部は、前記第1画素の前記リセット部を制御する制御信号が出力される第1リセット制御線に接続され
    前記第2画素の前記リセット部は、前記第2画素の前記リセット部を制御する制御信号が出力される第2リセット制御線に接続される撮像素子。
  8. 請求項に記載の撮像素子において、
    前記画素は、光を電荷に変換する光電変換部と、前記光電変換部の電位をリセットするためのリセット部を有し、
    前記第1画素の前記リセット部は、前記第1画素の前記リセット部を制御する制御信号が出力される第1リセット制御線に接続され
    前記第2画素の前記リセット部は、前記第2画素の前記リセット部を制御する制御信号が出力される第2リセット制御線に接続される撮像素子。
  9. 請求項1に記載の撮像素子において、
    前記第2半導体基板は、前記画素領域のうち、前記第1単位領域から前記行方向の第3単位領域に配置される複数の第3画素に電流を供給する第3電流源と、前記第3画素から読み出された第3信号をデジタル信号に変換するための第3変換部を有し、
    前記第3画素は、前記第3単位領域において前記行方向と前記列方向とに並んで配置される撮像素子。
  10. 請求項9に記載の撮像素子において、
    前記第1画素から前記第1信号を読み出すためのフレームレートは、前記第3画素から前記第3信号を読み出すためのフレームレートとは異なる撮像素子。
  11. 請求項9または請求項10に記載の撮像素子において、
    前記第2画素から前記第2信号を読み出すためのフレームレートは、前記第3画素から前記第3信号を読み出すためのフレームレートとは異なる撮像素子。
  12. 請求項10または請求項11に記載の撮像素子において、
    前記画素は、光を電荷に変換する光電変換部を有し、
    前記第1画素の前記光電変換部で変換された電荷の蓄積時間は、前記第画素の前記光電変換部で変換された電荷の蓄積時間は異なる撮像素子。
  13. 請求項12に記載の撮像素子において、
    前記第2画素の前記光電変換部で変換された電荷の蓄積時間は、前記第3画素の前記光電変換部で変換された電荷の蓄積時間とは異なる撮像素子。
  14. 請求項10または請求項11に記載の撮像素子において、
    前記画素は、光を電荷に変換する光電変換部を有し、
    前記第2画素の前記光電変換部で変換された電荷の蓄積時間は、前記第3画素の前記光電変換部で変換された電荷の蓄積時間とは異なる撮像素子。
  15. 請求項12から請求項14のいずれか一項に記載の撮像素子において、
    前記画素は、前記光電変換部の電荷を転送するための転送部を有し、
    前記第1画素の前記転送部は、前記第1画素の前記光電変換部で変換された電荷の蓄積時間を制御する制御信号が出力される第1転送制御線に接続され
    前記第2画素の前記転送部は、前記第2画素の前記光電変換部で変換された電荷の蓄積時間を制御する制御信号が出力される第2転送制御線に接続され
    前記第3画素の前記転送部は、前記第3画素の前記光電変換部で変換された電荷の蓄積時間を制御する制御信号が出力される第3転送制御線に接続される撮像素子。
  16. 請求項15に記載の撮像素子において、
    前記画素は、前記光電変換部の電位をリセットするためのリセット部を有し、
    前記第1画素の前記リセット部は、前記第1画素の前記光電変換部で変換された電荷の蓄積時間を制御する制御信号が出力される第1リセット制御線に接続され、
    前記第2画素の前記リセット部は、前記第2画素の前記光電変換部で変換された電荷の蓄積時間を制御する制御信号が出力される第2リセット制御線に接続され、
    前記第3画素の前記リセット部は、前記第3画素の前記光電変換部で変換された電荷の蓄積時間を制御する制御信号が出力される第3リセット制御線に接続される撮像素子。
  17. 請求項12から請求項14のいずれか一項に記載の撮像素子において、
    前記画素は、前記光電変換部の電位をリセットするためのリセット部を有し、
    前記第1画素の前記リセット部は、前記第1画素の前記光電変換部で変換された電荷の蓄積時間を制御する制御信号が出力される第1リセット制御線に接続され、
    前記第2画素の前記リセット部は、前記第2画素の前記光電変換部で変換された電荷の蓄積時間を制御する制御信号が出力される第2リセット制御線に接続され、
    前記第3画素の前記リセット部は、前記第3画素の前記光電変換部で変換された電荷の蓄積時間を制御する制御信号が出力される第3リセット制御線に接続される撮像素子。
  18. 請求項10または請求項11に記載の撮像素子において、
    前記画素は、光を電荷に変換する光電変換部と、前記光電変換部の電荷を転送するための転送部とを有し、
    前記第1画素の前記転送部は、前記第1画素の前記転送部を制御する制御信号が出力される第1転送制御線に接続され、
    前記第2画素の前記転送部は、前記第2画素の前記転送部を制御する制御信号が出力される第2転送制御線に接続され、
    前記第3画素の前記転送部は、前記第3画素の前記転送部を制御する制御信号が出力される第3転送制御線に接続される撮像素子。
  19. 請求項18に記載の撮像素子において、
    前記画素は、前記光電変換部の電位をリセットするためのリセット部を有し、
    前記第1画素の前記リセット部は、前記第1画素の前記リセット部を制御する制御信号が出力される第1リセット制御線に接続され、
    前記第2画素の前記リセット部は、前記第2画素の前記リセット部を制御する制御信号が出力される第2リセット制御線に接続され、
    前記第3画素の前記リセット部は、前記第3画素の前記リセット部を制御する制御信号が出力される第3リセット制御線に接続される撮像素子。
  20. 請求項10または請求項11に記載の撮像素子において、
    前記画素は、光を電荷に変換する光電変換部と、前記光電変換部の電位をリセットするためのリセット部を有し、
    前記第1画素の前記リセット部は、前記第1画素の前記リセット部を制御する制御信号が出力される第1リセット制御線に接続され、
    前記第2画素の前記リセット部は、前記第2画素の前記リセット部を制御する制御信号が出力される第2リセット制御線に接続され、
    前記第3画素の前記リセット部は、前記第3画素の前記リセット部を制御する制御信号が出力される第3リセット制御線に接続される撮像素子。
  21. 複数の画素が行方向と列方向とに並んで配置される画素領域を有する第1半導体基板と、
    前記画素領域のうち第1単位領域に配置される複数の第1画素に電流を供給するための第1電流源と、前記画素領域のうち、前記第1単位領域から前記行方向側の第2単位領域に配置される複数の第2画素に電流を供給するための第2電流源と、前記複数の第1画素から読み出された第1信号をデジタル信号に変換するための第1変換部と、前記複数の第2画素から読み出された第2信号をデジタル信号に変換するための第2変換部とを有する第2半導体基板と
    を備え、
    前記第1画素は、前記第1単位領域において前記行方向と前記列方向とに並んで配置され、
    前記第2画素は、前記第2単位領域において前記行方向と前記列方向とに並んで配置され、
    前記第1画素から前記第1信号を読み出すためのフレームレートは、前記第2画素から前記第2信号を読み出すためのフレームレートとは異なる撮像素子。
  22. 請求項21に記載の撮像素子において、
    前記画素は、光を電荷に変換する光電変換部を有し、
    前記第1画素の前記光電変換部で変換された電荷の蓄積時間は、前記第2画素の前記光電変換部で変換された電荷の蓄積時間とは異なる撮像素子。
  23. 請求項22に記載の撮像素子において、
    前記画素は、前記光電変換部の電荷を転送するための転送部を有し、
    前記第1画素の前記転送部は、前記第1画素の前記光電変換部で変換された電荷の蓄積時間を制御する制御信号が出力される第1転送制御線に接続され
    前記第2画素の前記転送部は、前記第2画素の前記光電変換部で変換された電荷の蓄積時間を制御する制御信号が出力される第2転送制御線に接続される撮像素子。
  24. 請求項23に記載の撮像素子において、
    前記画素は、前記光電変換部の電位をリセットするためのリセット部を有し、
    前記第1画素の前記リセット部は、前記第1画素の前記光電変換部で変換された電荷の蓄積時間を制御する制御信号が出力される第1リセット制御線に接続され
    前記第2画素の前記リセット部は、前記第2画素の前記光電変換部で変換された電荷の蓄積時間を制御する制御信号が出力される第2リセット制御線に接続される撮像素子。
  25. 請求項22に記載の撮像素子において、
    前記画素は、前記光電変換部の電位をリセットするためのリセット部を有し、
    前記第1画素の前記リセット部は、前記第1画素の前記光電変換部で変換された電荷の蓄積時間を制御する制御信号が出力される第1リセット制御線に接続され、
    前記第2画素の前記リセット部は、前記第2画素の前記光電変換部で変換された電荷の蓄積時間を制御する制御信号が出力される第2リセット制御線に接続される撮像素子。
  26. 請求項21に記載の撮像素子において、
    前記画素は、光を電荷に変換する光電変換部と、前記光電変換部の電荷を転送するための転送部とを有し、
    前記第1画素の前記転送部は、前記第1画素の前記転送部を制御する制御信号が出力される第1転送制御線に接続され、
    前記第2画素の前記転送部は、前記第2画素の前記転送部を制御する制御信号が出力される第2転送制御線に接続される撮像素子。
  27. 請求項26に記載の撮像素子において、
    前記画素は、前記光電変換部の電位をリセットするためのリセット部を有し、
    前記第1画素の前記リセット部は、前記第1画素の前記リセット部を制御する制御信号が出力される第1リセット制御線に接続され、
    前記第2画素の前記リセット部は、前記第2画素の前記リセット部を制御する制御信号が出力される第2リセット制御線に接続される撮像素子。
  28. 請求項21に記載の撮像素子において、
    前記画素は、光を電荷に変換する光電変換部と、前記光電変換部の電位をリセットするためのリセット部を有し、
    前記第1画素の前記リセット部は、前記第1画素の前記リセット部を制御する制御信号が出力される第1リセット制御線に接続され、
    前記第2画素の前記リセット部は、前記第2画素の前記リセット部を制御する制御信号が出力される第2リセット制御線に接続される撮像素子。
  29. 請求項1から請求項28のいずれか一項に記載の撮像素子を備える撮像装置。
  30. 請求項29に記載の撮像装置において、
    前記撮像素子に被写体からの光を入射させる光学系の焦点調節を行う制御部を備え、
    前記制御部は、前記撮像素子から出力された前記第1信号を用いて前記焦点調節のための演算を行い、
    前記第1画素から前記第1信号を読み出すためのフレームレートは、前記第2画素から前記第2信号を読み出すためのフレームレートよりも高い撮像装置。
  31. 請求項30に記載の撮像装置において、
    前記制御部は、前記撮像素子から出力された前記第2信号を用いて画像を生成する撮像装置。
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