JP7252425B2 - 高ビッカース硬度を有するクロムベースのコーティングを含む物体、製造方法、およびそのための水性電気めっき浴 - Google Patents
高ビッカース硬度を有するクロムベースのコーティングを含む物体、製造方法、およびそのための水性電気めっき浴 Download PDFInfo
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- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 title claims description 166
- 239000011651 chromium Substances 0.000 title claims description 166
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 134
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 title claims description 108
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 87
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims description 56
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 11
- -1 chromium cations Chemical class 0.000 claims description 74
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 54
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 49
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 42
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 32
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 27
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 24
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 14
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 10
- 229910003470 tongbaite Inorganic materials 0.000 claims description 10
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 8
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 5
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical group COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 claims description 4
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 claims description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 2
- 230000035939 shock Effects 0.000 claims description 2
- UFGZSIPAQKLCGR-UHFFFAOYSA-N chromium carbide Chemical compound [Cr]#C[Cr]C#[Cr] UFGZSIPAQKLCGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 25
- GVEHJMMRQRRJPM-UHFFFAOYSA-N chromium(2+);methanidylidynechromium Chemical compound [Cr+2].[Cr]#[C-].[Cr]#[C-] GVEHJMMRQRRJPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M potassium bromide Chemical compound [K+].[Br-] IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 4
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M sodium bromide Chemical compound [Na+].[Br-] JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 235000002639 sodium chloride Nutrition 0.000 description 4
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- JOPOVCBBYLSVDA-UHFFFAOYSA-N chromium(6+) Chemical compound [Cr+6] JOPOVCBBYLSVDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- SWLVFNYSXGMGBS-UHFFFAOYSA-N ammonium bromide Chemical compound [NH4+].[Br-] SWLVFNYSXGMGBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 2
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 description 2
- 229940006460 bromide ion Drugs 0.000 description 2
- 150000001844 chromium Chemical class 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010431 corundum Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKBPZYKAUNRMKP-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2,4-dichlorophenyl)pentyl]1,2,4-triazole Chemical compound C=1C=C(Cl)C=C(Cl)C=1C(CCC)CN1C=NC=N1 WKBPZYKAUNRMKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- USFZMSVCRYTOJT-UHFFFAOYSA-N Ammonium acetate Chemical compound N.CC(O)=O USFZMSVCRYTOJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005695 Ammonium acetate Substances 0.000 description 1
- 229910021556 Chromium(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N Nickel(2+) Chemical compound [Ni+2] VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001096 P alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 101710156645 Peptide deformylase 2 Proteins 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 235000019257 ammonium acetate Nutrition 0.000 description 1
- 229940043376 ammonium acetate Drugs 0.000 description 1
- VZTDIZULWFCMLS-UHFFFAOYSA-N ammonium formate Chemical compound [NH4+].[O-]C=O VZTDIZULWFCMLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N ammonium sulfate Chemical compound N.N.OS(O)(=O)=O BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052921 ammonium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011130 ammonium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 150000003842 bromide salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- OIDPCXKPHYRNKH-UHFFFAOYSA-J chrome alum Chemical compound [K]OS(=O)(=O)O[Cr]1OS(=O)(=O)O1 OIDPCXKPHYRNKH-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- QSWDMMVNRMROPK-UHFFFAOYSA-K chromium(3+) trichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cr+3] QSWDMMVNRMROPK-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- WYYQVWLEPYFFLP-UHFFFAOYSA-K chromium(3+);triacetate Chemical compound [Cr+3].CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O WYYQVWLEPYFFLP-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000011636 chromium(III) chloride Substances 0.000 description 1
- 235000007831 chromium(III) chloride Nutrition 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000000536 complexating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229910001453 nickel ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000009304 pastoral farming Methods 0.000 description 1
- OFNHPGDEEMZPFG-UHFFFAOYSA-N phosphanylidynenickel Chemical compound [P].[Ni] OFNHPGDEEMZPFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 1
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N tellanylidenegermanium Chemical compound [Te]=[Ge] JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004832 voltammetry Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/04—Electroplating: Baths therefor from solutions of chromium
- C25D3/06—Electroplating: Baths therefor from solutions of chromium from solutions of trivalent chromium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/04—Electroplating: Baths therefor from solutions of chromium
- C25D3/10—Electroplating: Baths therefor from solutions of chromium characterised by the organic bath constituents used
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/12—Electroplating: Baths therefor from solutions of nickel or cobalt
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/20—Electroplating: Baths therefor from solutions of iron
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/10—Electroplating with more than one layer of the same or of different metals
- C25D5/12—Electroplating with more than one layer of the same or of different metals at least one layer being of nickel or chromium
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/10—Electroplating with more than one layer of the same or of different metals
- C25D5/12—Electroplating with more than one layer of the same or of different metals at least one layer being of nickel or chromium
- C25D5/14—Electroplating with more than one layer of the same or of different metals at least one layer being of nickel or chromium two or more layers being of nickel or chromium, e.g. duplex or triplex layers
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/60—Electroplating characterised by the structure or texture of the layers
- C25D5/615—Microstructure of the layers, e.g. mixed structure
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
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Description
- 水性電気めっき浴からの少なくとも1回の電気めっきサイクルに基材を供することによって基材上にクロム含有層を堆積させ、
電気めっきサイクルが、50~300A/dm2の電流密度および1.5~10μm/分の堆積速度で実施され、水性電気めっき浴が、
- 0.12~0.3mol/lの量の三価クロムカチオン、
- 0.18~6.16mmol/lの量の鉄カチオンおよび/またはニッケルカチオン、ならびに
- 1.22~7.4mol/lの量のカルボン酸イオン
を含み、
カルボン酸イオンに対する三価クロムカチオンのモル比が、0.015~0.099であり、水性三価クロム浴のpHが2~6であり、
堆積したクロム含有層を熱処理に供することなく、900~2000HVのビッカース微小硬度値を有する硬化クロムベースのコーティングを製造することを含み得る。
- 0.12~0.3mol/lの量の三価クロムカチオン、
- 0.18~6.16mmol/lの量の鉄カチオンおよび/またはニッケルカチオン、ならびに
- 1.22~7.4mol/lの量のカルボン酸イオン
を含み得、
カルボン酸イオンに対する三価クロムカチオンのモル比が、0.015~0.099であり、水性三価クロム浴のpHが2~6である。
- 0.12~0.3mol/lの量の三価クロムカチオン、
- 0.18~6.16mmol/lの量の鉄カチオンおよび/またはニッケルカチオン、ならびに
- 1.2~7.4mol/lの量のカルボン酸イオン
を含み得、
カルボン酸イオンに対する三価クロムカチオンのモル比が、0.015~0.099であり、水性三価クロム浴のpHが2~6であり、水性電気めっき浴の導電率が、160~400mS/cmである。
- 水性電気めっき浴からの少なくとも1回の電気めっきサイクルに基材を供することによって基材上にクロム含有層を堆積させ、少なくとも1回の電気めっきサイクルの各々が、50~300A/dm2の電流密度および1.5~10μm/分の堆積速度で実施され、水性電気めっき浴が、
- 0.12~0.3mol/lの量の三価クロムカチオン、
- 0.18~6.16mmol/lの量の鉄カチオンおよび/またはニッケルカチオン、ならびに
- 1.22~7.4mol/lの量のカルボン酸イオン
を含み、
カルボン酸イオンに対する三価クロムカチオンのモル比が、0.015~0.099であり、水性三価クロム浴のpHが2~6であり、
堆積したクロム含有層を熱処理に供することなく、900~2000HVのビッカース微小硬度値を有する硬化クロムベースのコーティングを製造することを含み得る。
- 0.12~0.3mol/lの量の三価クロムカチオン、
- 0.18~6.16mmol/lの量の鉄カチオンおよび/またはニッケルカチオン、ならびに
- 1.22~7.4mol/lの量のカルボン酸イオン
を含み得、
カルボン酸イオンに対する三価クロムカチオンのモル比が、0.015~0.099であり、水性三価クロム浴のpHが2~6である。
- 0.12~0.3mol/lの量の三価クロムカチオン、
- 0.18~6.16mmol/lの量の鉄カチオンおよび/またはニッケルカチオン、ならびに
- 1.2~7.4mol/lの量のカルボン酸イオン
を含み得、
カルボン酸イオンに対する三価クロムカチオンのモル比が、0.015~0.099であり、水性三価クロム浴のpHが2~6であり、水性電気めっき浴の導電率が、160~400mS/cmである。
- 0.12~0.3mol/lの量の三価クロムカチオン、
- 0.18~6.16mmol/lの量の鉄カチオンおよび/またはニッケルカチオン、
- 1.22~7.4mol/lの量のカルボン酸イオン
を含み得る。
この実施例では、基材上にクロムベースのコーティングを各々含む異なる物体を作製した。
この実施例では、電気めっきの間の電流密度の効果を試験した。水性電気めっき浴は、上記実施例1の浴3と同様の浴であった。結果を以下の表に示す。
Claims (16)
- 基材上にクロムベースのコーティングを含む物体であって、前記クロムが、三価クロムカチオンを含む水性電気めっき浴から電気めっきされ、前記クロムベースのコーティングが、87~98重量%のクロム、0.3~5重量%の炭素、ならびに0.1~11重量%のニッケルおよび/または鉄を含み、前記クロムベースのコーティングが、1000~2000HVのビッカース微小硬度値を有し、前記クロムベースのコーティングが、炭化クロムを含有しない、物体。
- クロムベースのコーティングが、ASTM G195-18に従って測定して、1.5mg/1000RPM未満、または1.3mg/1000RPM未満、または1.2mg/1000RPM未満、または1.1mg/1000RPM未満のテーバー指数を有する、請求項1に記載の物体。
- 前記クロムの結晶サイズが、7~40nm、または9~20nm、または11~16nmである、請求項1または2に記載の物体。
- 前記クロムベースのコーティングが、1000~1900HV、または1100~1800HV、または1200~1700HV、または1300~1600HV、または1400~1500HVのビッカース微小硬度値を有する、請求項1~3のいずれか一項に記載の物体。
- 前記物体が、ガスタービン、ショックアブソーバ、油圧シリンダー、連結ピン、継手ピン、ブッシュリング、丸棒、バルブ、ボールバルブ、またはエンジンバルブである、請求項1~4のいずれか一項に記載の物体。
- 基材上にクロムベースのコーティングを含む物体を製造するための方法であって、前記方法が、
- 水性電気めっき浴からの少なくとも1回の電気めっきサイクルに基材を供することによって前記基材上にクロム含有層を堆積させ、
前記少なくとも1回の電気めっきサイクルの各々が、50~300A/dm2の電流密度および1.5~10μm/分の堆積速度で実施され、前記水性電気めっき浴が、
- 0.12~0.3mol/lの量の三価クロムカチオン、
- 0.18~6.16mmol/lの量の鉄カチオンおよび/またはニッケルカチオン、ならびに
- 1.22~7.4mol/lの量のカルボン酸イオン
を含み、
前記カルボン酸イオンに対する三価クロムカチオンのモル比が、0.015~0.099であり、水性三価クロム浴のpHが2~6であり、
堆積したクロム含有層を熱処理に供することなく、900~2000HVのビッカース微小硬度値を有する硬化クロムベースのコーティングを製造することを含む、方法。 - 前記水性電気めっき浴の温度が、前記電気めっきサイクルの間、25~70℃、または40~50℃に維持される、請求項6に記載の方法。
- 前記少なくとも1回の電気めっきサイクルの各々が、1分~4時間、または10~60分、または20~40分、または約30分間継続される、請求項6または7に記載の方法。
- 前記電気めっきサイクルが、80~250A/dm2、または110~200A/dm2、または120~180A/dm2、または130~170A/dm2、または140~150A/dm2の電流密度で実施される、請求項6~8のいずれか一項に記載の方法。
- 水性電気めっき浴であって、
水性三価クロム浴が、
- 0.12~0.3mol/lの量の三価クロムカチオン、
- 0.18~6.16mmol/lの量の鉄カチオンおよび/またはニッケルカチオン、ならびに
- 1.2~7.4mol/lの量のカルボン酸イオン
を含み、
前記カルボン酸イオンに対する三価クロムカチオンのモル比が、0.015~0.099であり、前記水性三価クロム浴のpHが2~6であり、前記水性電気めっき浴の導電率が、160~400mS/cmである、水性電気めっき浴。 - 前記カルボン酸イオンに対する三価クロムカチオンのモル比が、0.015~0.09、0.03~0.08、または0.065~0.075である、請求項10に記載の水性電気めっき浴。
- 前記水性電気めっき浴が、0.15~0.3mol/l、0.21~0.25mol/lの量の臭化物イオンを含む、請求項10または11に記載の水性電気めっき浴。
- 前記水性電気めっき浴が、0.18~1.5mol/l、または0.45~1.12mol/lの量のアンモニウムイオンを含む、請求項10~12のいずれか一項に記載の水性電気めっき浴。
- カルボン酸イオン源がギ酸である、請求項10~13のいずれか一項に記載の水性電気めっき浴。
- 前記水性三価クロム浴のpHが、3~5.5、または4.5~5、または4.1~5である、請求項10~14のいずれか一項に記載の水性電気めっき浴。
- 前記水性電気めっき浴の導電率が、200~350mS/cm、または250~300mS/cmである、請求項10~15のいずれか一項に記載の水性電気めっき浴。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FI20205408A FI129420B (en) | 2020-04-23 | 2020-04-23 | AQUATIC ELECTRIC COATING BATH |
FI20205408 | 2020-04-23 | ||
PCT/FI2021/050297 WO2021214389A1 (en) | 2020-04-23 | 2021-04-21 | Object comprising a chromium-based coating with a high vickers hardness, production method, and aqueous electroplating bath therefor. |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2023512346A JP2023512346A (ja) | 2023-03-24 |
JP7252425B2 true JP7252425B2 (ja) | 2023-04-04 |
Family
ID=75787125
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022564089A Active JP7252425B2 (ja) | 2020-04-23 | 2021-04-21 | 高ビッカース硬度を有するクロムベースのコーティングを含む物体、製造方法、およびそのための水性電気めっき浴 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (5) | US12006586B2 (ja) |
EP (4) | EP4139504A4 (ja) |
JP (1) | JP7252425B2 (ja) |
KR (1) | KR102612526B1 (ja) |
CN (4) | CN115461497A (ja) |
AU (1) | AU2021260899B2 (ja) |
CA (1) | CA3176336A1 (ja) |
FI (1) | FI129420B (ja) |
WO (4) | WO2021214391A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FI129420B (en) | 2020-04-23 | 2022-02-15 | Savroc Ltd | AQUATIC ELECTRIC COATING BATH |
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FI129420B (en) | 2020-04-23 | 2022-02-15 | Savroc Ltd | AQUATIC ELECTRIC COATING BATH |
-
2020
- 2020-04-23 FI FI20205408A patent/FI129420B/en active IP Right Grant
-
2021
- 2021-04-21 CN CN202180030405.8A patent/CN115461497A/zh active Pending
- 2021-04-21 US US17/996,632 patent/US12006586B2/en active Active
- 2021-04-21 WO PCT/FI2021/050299 patent/WO2021214391A1/en active Search and Examination
- 2021-04-21 US US17/919,688 patent/US11795559B2/en active Active
- 2021-04-21 US US17/996,521 patent/US20230193495A1/en not_active Abandoned
- 2021-04-21 CA CA3176336A patent/CA3176336A1/en active Pending
- 2021-04-21 CN CN202180030423.6A patent/CN115427612B/zh active Active
- 2021-04-21 EP EP21792565.0A patent/EP4139504A4/en active Pending
- 2021-04-21 WO PCT/FI2021/050297 patent/WO2021214389A1/en unknown
- 2021-04-21 AU AU2021260899A patent/AU2021260899B2/en active Active
- 2021-04-21 JP JP2022564089A patent/JP7252425B2/ja active Active
- 2021-04-21 KR KR1020227040911A patent/KR102612526B1/ko active IP Right Grant
- 2021-04-21 WO PCT/FI2021/050298 patent/WO2021214390A1/en unknown
- 2021-04-21 US US17/996,642 patent/US11781232B2/en active Active
- 2021-04-21 EP EP21792683.1A patent/EP4139503A4/en active Pending
- 2021-04-21 EP EP21723311.3A patent/EP4146847A1/en active Pending
- 2021-04-21 CN CN202180030123.8A patent/CN115443351B/zh active Active
- 2021-04-21 EP EP21791910.9A patent/EP4146846A4/en active Pending
- 2021-04-21 WO PCT/FI2021/050300 patent/WO2021214392A1/en active Search and Examination
- 2021-04-21 CN CN202180030113.4A patent/CN115485420A/zh active Pending
-
2024
- 2024-01-16 US US18/414,020 patent/US20240150919A1/en active Pending
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20221213 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20221213 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230307 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230323 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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