JPH02190493A - 合金電着方法 - Google Patents
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- JPH02190493A JPH02190493A JP667589A JP667589A JPH02190493A JP H02190493 A JPH02190493 A JP H02190493A JP 667589 A JP667589 A JP 667589A JP 667589 A JP667589 A JP 667589A JP H02190493 A JPH02190493 A JP H02190493A
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- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 21
- 239000000956 alloy Substances 0.000 title claims abstract description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 10
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 claims abstract description 33
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 claims abstract description 9
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 8
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract description 7
- 239000000872 buffer Substances 0.000 claims abstract description 3
- FBAFATDZDUQKNH-UHFFFAOYSA-M iron chloride Chemical compound [Cl-].[Fe] FBAFATDZDUQKNH-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 3
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims abstract 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical group [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 claims description 5
- QSWDMMVNRMROPK-UHFFFAOYSA-K chromium(3+) trichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cr+3] QSWDMMVNRMROPK-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 4
- 229910021555 Chromium Chloride Inorganic materials 0.000 claims description 3
- GVPFVAHMJGGAJG-UHFFFAOYSA-L cobalt dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Co+2] GVPFVAHMJGGAJG-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 abstract description 21
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 abstract description 21
- 229910000599 Cr alloy Inorganic materials 0.000 abstract description 10
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract description 4
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract description 4
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 abstract description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 abstract description 3
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 2
- 230000008595 infiltration Effects 0.000 abstract 1
- 238000001764 infiltration Methods 0.000 abstract 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 8
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000788 chromium alloy Substances 0.000 description 6
- 235000002639 sodium chloride Nutrition 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N Glycine Chemical compound NCC(O)=O DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 3
- 239000006172 buffering agent Substances 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 3
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910017060 Fe Cr Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910002544 Fe-Cr Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004471 Glycine Substances 0.000 description 2
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UPHIPHFJVNKLMR-UHFFFAOYSA-N chromium iron Chemical compound [Cr].[Fe] UPHIPHFJVNKLMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000604 Ferrochrome Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018487 Ni—Cr Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical class 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L iron dichloride Chemical class Cl[Fe]Cl NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 210000003205 muscle Anatomy 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 1
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、鉄族元素−クロム合金皮膜の合金電着方法に
関するものである。
関するものである。
（発明の概要〕
本発明は鉄族元素−クロム合金の塩化浴に、パルス電解
を使用することにより膜に欠陥がなく耐食性がよい、鉄
族元素−クロム合金皮膜を得るための合金電着方法を提
供するものである。
を使用することにより膜に欠陥がなく耐食性がよい、鉄
族元素−クロム合金皮膜を得るための合金電着方法を提
供するものである。
従来、鉄族元素の塩化物（鉄の塩化物、コバルトの塩化
物、ニッケルの塩化物の一種もしくは一種以上の塩化物
）、クロムの塩化物、錯化剤、伝導塩、および必要に応
して緩衝剤で構成される浴を用い直流電解を行い合金皮
膜を作製した例はあったが、パルス電解を使用すること
は行われなかった。
物、ニッケルの塩化物の一種もしくは一種以上の塩化物
）、クロムの塩化物、錯化剤、伝導塩、および必要に応
して緩衝剤で構成される浴を用い直流電解を行い合金皮
膜を作製した例はあったが、パルス電解を使用すること
は行われなかった。
従来の直流電解を用い作製した鉄族元素−クロムの合金
皮膜中には錯化剤および緩衝剤等に用いた有機物が混入
することおよび、酸化物や塩化物が生成することによる
耐食性の低下という問題点があった。
皮膜中には錯化剤および緩衝剤等に用いた有機物が混入
することおよび、酸化物や塩化物が生成することによる
耐食性の低下という問題点があった。
本発明は上記のような問題点を改善するため行った種々
の実験と研究のもとに、膜の欠陥が少なく耐食性がよい
鉄族元素−クロム合金皮膜の電着を可能にする合金電着
方法を提供するものである。
の実験と研究のもとに、膜の欠陥が少なく耐食性がよい
鉄族元素−クロム合金皮膜の電着を可能にする合金電着
方法を提供するものである。
本発明は鉄族元素の塩化物（鉄の塩化物、コバルトの塩
化物、ニッケルの塩化物の一種もしくは一種以上の塩化
物）、クロムの塩化物、錯化剤、伝導塩、および必要に
応じて緩衝剤で構成される浴にパルス電解を使用するこ
とにより耐食性のよい鉄族元素−クロム合金皮膜を得る
ことができる。
化物、ニッケルの塩化物の一種もしくは一種以上の塩化
物）、クロムの塩化物、錯化剤、伝導塩、および必要に
応じて緩衝剤で構成される浴にパルス電解を使用するこ
とにより耐食性のよい鉄族元素−クロム合金皮膜を得る
ことができる。
ここでの浴は２価の鉄族元素、３価のクロムの塩化物、
錯化剤としてグリシン等、伝導塩として塩化アンモニウ
ム、塩化ナトリウム、塩化カリウム、さらに必要に応じ
て緩衝剤とてしてホウ酸、ギ酸とその塩、酢酸とその塩
等を含むものである。パルス電解はデユーティ−サイク
ル０．０５以下である。
錯化剤としてグリシン等、伝導塩として塩化アンモニウ
ム、塩化ナトリウム、塩化カリウム、さらに必要に応じ
て緩衝剤とてしてホウ酸、ギ酸とその塩、酢酸とその塩
等を含むものである。パルス電解はデユーティ−サイク
ル０．０５以下である。
パルス電解では電橋表面に拡散層が薄く保たれ、表面の
凹凸に添って成長するため、膜の平滑性は改善され、欠
陥も少なくなる。拡散層が薄く保たれるのはパルスオン
タイム時に欠乏した金属イオンがパルスオフタイム時に
回復するためである。
凹凸に添って成長するため、膜の平滑性は改善され、欠
陥も少なくなる。拡散層が薄く保たれるのはパルスオン
タイム時に欠乏した金属イオンがパルスオフタイム時に
回復するためである。
さらにパルスオフタイム時には金属イオンを失った錯化
剤のイオンの逸散が起こり合金皮膜への取り込みが直流
電解に比べ著しく少なくなる。さらに、パルス電解を用
いることによりクロムの還元が容易になり膜中にクロム
が金属状態で存在する確率が大きくなり、クロムが酸化
物や水酸物で析出しにくくなるため、耐食性が格段に良
くなる。
剤のイオンの逸散が起こり合金皮膜への取り込みが直流
電解に比べ著しく少なくなる。さらに、パルス電解を用
いることによりクロムの還元が容易になり膜中にクロム
が金属状態で存在する確率が大きくなり、クロムが酸化
物や水酸物で析出しにくくなるため、耐食性が格段に良
くなる。
以下実施例により本発明をさらに詳細に説明する。
実施例１
第１表の実施例１の欄にあるような、条件でＦｅＣｒの
合金皮膜を作製した。陽極には白金板を用い、陰極の素
地鋼は機械的研磨後、化学研磨を施して用いた。パルス
電解はデユーティ−サイクル０．０１ （オンタイム０
．１ｍｓ、オフタイム９．９ｍ５） 、直流電解は電流
密度１００ｍＡ／−を用いた。合金皮膜組成はプラズマ
発光分析装置、不純物はオージェ分析装置および光電子
分光装置により測定し、皮膜構造はＸ線回折により測定
した。また、耐食性についてはポテンショスタット（ス
キャンレイト５０ｎ＋Ｖ／５ｅｃ）を用い５％硫酸溶液
中でアノード分極曲線を測定することで評価した。
合金皮膜を作製した。陽極には白金板を用い、陰極の素
地鋼は機械的研磨後、化学研磨を施して用いた。パルス
電解はデユーティ−サイクル０．０１ （オンタイム０
．１ｍｓ、オフタイム９．９ｍ５） 、直流電解は電流
密度１００ｍＡ／−を用いた。合金皮膜組成はプラズマ
発光分析装置、不純物はオージェ分析装置および光電子
分光装置により測定し、皮膜構造はＸ線回折により測定
した。また、耐食性についてはポテンショスタット（ス
キャンレイト５０ｎ＋Ｖ／５ｅｃ）を用い５％硫酸溶液
中でアノード分極曲線を測定することで評価した。
（測定結果）
作製した合金皮膜の組成をプラズマ発光分析装置により
測定した結果、パルス電解により作製した合金皮膜Ｆｅ
： Ｃｒ−８２： １８．直流電解のものは、Ｆｅ
： Ｃｒ＝８３ ： １７であった。合金皮膜組成には
大きな違いはなかった。パルス電解により作製した合金
皮膜の構造をＸ線回折により測定した結果を第１図に示
した。この図では４５度前後にブロードなピークが多少
見られ全体的に回折強度は低くアモルファス構造を示し
ていることがわかる。直流電解で作製したものも同様に
アモルファス構造を示した。第２図にパルス電解により
、第３図に直流電解により作製したＦｅ −Ｃｒ合金皮
膜のオージェ測定装置による測定結果を示した。縦軸は
、信号強度を示し各組成の濃度に対応する値で、横軸は
スパッタ時間を示すもので表面からの深さに対応する値
である。二つの図を比べると直／ｉｔ電解で作製した合
金皮膜の炭素、酸素および窒素（図中のＣ○、Ｎ）の量
が多い。信号強度を相対感度係数により半定量した結果
からパルス電解により作製した合金皮膜中の炭素と窒素
の量は直流電解のものと比べると約２分の１程度に減少
している。この炭素、酸素と窒素は錯化剤として用いた
グリシンのもので、パルス電解により皮膜中への混入が
著しく減少したことがわかる。第４図に光電子分光装置
により測定したクロムのスペクトルを示した。
測定した結果、パルス電解により作製した合金皮膜Ｆｅ
： Ｃｒ−８２： １８．直流電解のものは、Ｆｅ
： Ｃｒ＝８３ ： １７であった。合金皮膜組成には
大きな違いはなかった。パルス電解により作製した合金
皮膜の構造をＸ線回折により測定した結果を第１図に示
した。この図では４５度前後にブロードなピークが多少
見られ全体的に回折強度は低くアモルファス構造を示し
ていることがわかる。直流電解で作製したものも同様に
アモルファス構造を示した。第２図にパルス電解により
、第３図に直流電解により作製したＦｅ −Ｃｒ合金皮
膜のオージェ測定装置による測定結果を示した。縦軸は
、信号強度を示し各組成の濃度に対応する値で、横軸は
スパッタ時間を示すもので表面からの深さに対応する値
である。二つの図を比べると直／ｉｔ電解で作製した合
金皮膜の炭素、酸素および窒素（図中のＣ○、Ｎ）の量
が多い。信号強度を相対感度係数により半定量した結果
からパルス電解により作製した合金皮膜中の炭素と窒素
の量は直流電解のものと比べると約２分の１程度に減少
している。この炭素、酸素と窒素は錯化剤として用いた
グリシンのもので、パルス電解により皮膜中への混入が
著しく減少したことがわかる。第４図に光電子分光装置
により測定したクロムのスペクトルを示した。
図よりパルス電解で作製した方が直流電解で作製したも
のよりクロムのシグナルが強（金属状態で存在するクロ
ムの量が多いことがわかる。第５図にアノード分極曲線
を示した。横軸は硫酸溶液の酸化力に対応し、縦軸は各
酸化力における金属の溶解速度に対応する。電流密度の
ゼロの位置は自然に浸漬したときの電位（腐食電位）で
、この値が大きいほど自然腐食力は遅い、また、電位を
上げるとき電流密度が小さいほど耐食性がよい。第５図
から直流電解で作製したもの以外は腐食電位が高く著し
い耐食性を示すことがわかる。さらにデユーティ−サイ
クルの耐食性に対する影響を調べるために０．Ｏｌから
０．１０までの各デユーティ−サイクルにおける腐食電
位を測定した。結果を第６図に示す、 ０．０５を境に
腐食電位は下がっており、高耐食性を求めるのであれば
デユーティ−サイクルは０６０５以下にすることが望ま
しい。
のよりクロムのシグナルが強（金属状態で存在するクロ
ムの量が多いことがわかる。第５図にアノード分極曲線
を示した。横軸は硫酸溶液の酸化力に対応し、縦軸は各
酸化力における金属の溶解速度に対応する。電流密度の
ゼロの位置は自然に浸漬したときの電位（腐食電位）で
、この値が大きいほど自然腐食力は遅い、また、電位を
上げるとき電流密度が小さいほど耐食性がよい。第５図
から直流電解で作製したもの以外は腐食電位が高く著し
い耐食性を示すことがわかる。さらにデユーティ−サイ
クルの耐食性に対する影響を調べるために０．Ｏｌから
０．１０までの各デユーティ−サイクルにおける腐食電
位を測定した。結果を第６図に示す、 ０．０５を境に
腐食電位は下がっており、高耐食性を求めるのであれば
デユーティ−サイクルは０６０５以下にすることが望ま
しい。
第１表
第１表の実施例２、実施例３に示すようにＣ。
Ｃｒ、 Ｎｉ−Ｃｒについても実験を行ったところ、パ
ルス電解を用い作製した皮膜は同様に高耐食性を示すこ
とがわかった。
ルス電解を用い作製した皮膜は同様に高耐食性を示すこ
とがわかった。
以上の実施例でも明らかなように本発明の合金電着方法
は、耐食性がよい鉄族元素−クロム合金皮膜が得ること
ができる工業的にも優秀な電着方法である。
は、耐食性がよい鉄族元素−クロム合金皮膜が得ること
ができる工業的にも優秀な電着方法である。
第１図は本発明の実施例であるパルス電解を用いて作製
したＲｅ −Ｃｒ合金皮膜のＸ線回折図、第２図はパル
ス電解を用いて作製したＦｅ −Ｃｒ合金皮膜、第３図
は直流電解を用いて作製したＦｅ −Ｃｒ合金皮膜のオ
ージェ分析装置による測定結果を示す図、第４図はＦｅ
−Ｃｒ合金皮膜の光電子分光装置による測定結果を示
す図、第５図は本発明の方法により作製したＦｅ−Ｃｒ
合金皮膜の耐食性を説明するためのアノード分極曲線を
示す図、第６図はデユーティ−サイクルに対する腐食電
位を示す図である。 以上 出願人 セイコー電子工業株式会社 代理人 弁理士 林 敬 之 助 スバ・ソ９行間／公 躬 図 Ｉ晶イ）・１ネルｔ−／ｅＶ 第 図 スパッタ吋間／今 躬 図 筋 図
したＲｅ −Ｃｒ合金皮膜のＸ線回折図、第２図はパル
ス電解を用いて作製したＦｅ −Ｃｒ合金皮膜、第３図
は直流電解を用いて作製したＦｅ −Ｃｒ合金皮膜のオ
ージェ分析装置による測定結果を示す図、第４図はＦｅ
−Ｃｒ合金皮膜の光電子分光装置による測定結果を示
す図、第５図は本発明の方法により作製したＦｅ−Ｃｒ
合金皮膜の耐食性を説明するためのアノード分極曲線を
示す図、第６図はデユーティ−サイクルに対する腐食電
位を示す図である。 以上 出願人 セイコー電子工業株式会社 代理人 弁理士 林 敬 之 助 スバ・ソ９行間／公 躬 図 Ｉ晶イ）・１ネルｔ−／ｅＶ 第 図 スパッタ吋間／今 躬 図 筋 図
Claims (2)
- （１）鉄族元素の塩化物（鉄の塩化物、コバルトの塩化
物、ニッケルの塩化物の一種もしくは二種以上の塩化物
）、クロムの塩化部物、錯化剤、伝導塩、および必要に
応じて緩衝剤で構成されるめっき浴において、パルス電
解を使用することを特徴とする合金電着方法。 - （２）パルス電解はデューティーサイクルが０．０５以
下である特許請求の範囲第１項記載の合金電着方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP667589A JPH02190493A (ja) | 1989-01-13 | 1989-01-13 | 合金電着方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP667589A JPH02190493A (ja) | 1989-01-13 | 1989-01-13 | 合金電着方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02190493A true JPH02190493A (ja) | 1990-07-26 |
Family
ID=11644945
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP667589A Pending JPH02190493A (ja) | 1989-01-13 | 1989-01-13 | 合金電着方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02190493A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002206189A (ja) * | 2000-12-28 | 2002-07-26 | Nippon Platec Co Ltd | 鉄系下地金属へのクロムメッキ方法 |
| JP2010196100A (ja) * | 2009-02-24 | 2010-09-09 | Sato Kogyosho:Kk | 黒色めっき皮膜及びその皮膜形成方法 |
| JP2023512346A (ja) * | 2020-04-23 | 2023-03-24 | サヴロック リミテッド | 高ビッカース硬度を有するクロムベースのコーティングを含む物体、製造方法、およびそのための水性電気めっき浴 |
-
1989
- 1989-01-13 JP JP667589A patent/JPH02190493A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002206189A (ja) * | 2000-12-28 | 2002-07-26 | Nippon Platec Co Ltd | 鉄系下地金属へのクロムメッキ方法 |
| JP2010196100A (ja) * | 2009-02-24 | 2010-09-09 | Sato Kogyosho:Kk | 黒色めっき皮膜及びその皮膜形成方法 |
| JP2023512346A (ja) * | 2020-04-23 | 2023-03-24 | サヴロック リミテッド | 高ビッカース硬度を有するクロムベースのコーティングを含む物体、製造方法、およびそのための水性電気めっき浴 |
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