JPH0230790A - 合金電着方法 - Google Patents
合金電着方法Info
- Publication number
- JPH0230790A JPH0230790A JP17787988A JP17787988A JPH0230790A JP H0230790 A JPH0230790 A JP H0230790A JP 17787988 A JP17787988 A JP 17787988A JP 17787988 A JP17787988 A JP 17787988A JP H0230790 A JPH0230790 A JP H0230790A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- alloy
- electrolysis
- chloride
- ultrasonic vibration
- chlorides
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 19
- 239000000956 alloy Substances 0.000 title claims abstract description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 8
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 claims abstract description 30
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 claims abstract description 10
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 8
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract description 8
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 claims abstract description 6
- 239000000872 buffer Substances 0.000 claims abstract description 5
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims abstract 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical group [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 229910021555 Chromium Chloride Inorganic materials 0.000 claims description 4
- QSWDMMVNRMROPK-UHFFFAOYSA-K chromium(3+) trichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cr+3] QSWDMMVNRMROPK-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 4
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 claims description 3
- GVPFVAHMJGGAJG-UHFFFAOYSA-L cobalt dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Co+2] GVPFVAHMJGGAJG-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- FBAFATDZDUQKNH-UHFFFAOYSA-M iron chloride Chemical compound [Cl-].[Fe] FBAFATDZDUQKNH-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N phosphinic acid Chemical class O[PH2]=O ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 abstract description 19
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 abstract description 19
- 229910001096 P alloy Inorganic materials 0.000 abstract description 8
- 229910000808 amorphous metal alloy Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract description 4
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 abstract description 4
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 abstract description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract description 2
- 239000002659 electrodeposit Substances 0.000 abstract description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract 2
- ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-M phosphinate Chemical compound [O-][PH2]=O ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 abstract 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 5
- DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N Glycine Chemical compound NCC(O)=O DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004471 Glycine Substances 0.000 description 2
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- ZTPQLYJGPLYBPS-UHFFFAOYSA-N phosphanylidynechromium Chemical compound [Cr]#P ZTPQLYJGPLYBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017060 Fe Cr Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002544 Fe-Cr Inorganic materials 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 238000005280 amorphization Methods 0.000 description 1
- -1 and if necessary Chemical compound 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 239000006172 buffering agent Substances 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical class 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- UPHIPHFJVNKLMR-UHFFFAOYSA-N chromium iron Chemical compound [Cr].[Fe] UPHIPHFJVNKLMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N hydridophosphorus(.) (triplet) Chemical compound [PH] BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 1
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はアモルファス構造を有する鉄族元素クロム−リ
ン合金皮膜の合金電着方法に関するものである。
ン合金皮膜の合金電着方法に関するものである。
鉄族元素とクロムの合金番こ寥金属を混入させることに
より、アモルファス化を容易にしたり、クロムの不動態
皮膜の生成を促進させるということが言われている。（
増本健、深道和明：アモルファス合金、アグネ、１９８
］）本発明は鉄族元素クロム−リン合金の塩化浴に、パ
ルス電解または超音波振動の一つもしくは両方を使用す
ることにより膜に欠陥がなく耐食性がよい、鉄族元素ク
ロム−リンのアモルファス合金皮膜を得るための合金ｉ
着方法を提供するものである。
より、アモルファス化を容易にしたり、クロムの不動態
皮膜の生成を促進させるということが言われている。（
増本健、深道和明：アモルファス合金、アグネ、１９８
］）本発明は鉄族元素クロム−リン合金の塩化浴に、パ
ルス電解または超音波振動の一つもしくは両方を使用す
ることにより膜に欠陥がなく耐食性がよい、鉄族元素ク
ロム−リンのアモルファス合金皮膜を得るための合金ｉ
着方法を提供するものである。
従来、鉄族元素の塩化物（鉄の塩化物、コバルトの塩化
物、ニッケルの塩化物の一種もしくは二種以上の塩化物
）、クロムの塩化物、錯化剤、伝導塩、次亜リン酸塩、
および必要に応じて緩衝剤で構成される浴を用い直′／
！、電解を行い合金皮膜を作製した例はあったが、パル
ス電解または超音波振動の一つもしくは両方を使用する
ことは行われなかった。
物、ニッケルの塩化物の一種もしくは二種以上の塩化物
）、クロムの塩化物、錯化剤、伝導塩、次亜リン酸塩、
および必要に応じて緩衝剤で構成される浴を用い直′／
！、電解を行い合金皮膜を作製した例はあったが、パル
ス電解または超音波振動の一つもしくは両方を使用する
ことは行われなかった。
従来の直流電解を用い作製した鉄族元素−クロム−リン
のアモルファス合金皮膜中には錯イヒ剤および緩衝剤等
に用いた有機物が混入し耐食性を下げるという問題点が
あった。
のアモルファス合金皮膜中には錯イヒ剤および緩衝剤等
に用いた有機物が混入し耐食性を下げるという問題点が
あった。
本発明は上記のような問題点を改善するため行った種々
の実験と研究をもとに、膜の欠陥が少なく耐食性がよい
鉄族元素−クロム−リンのアモルファス合金皮膜の電着
を可能にする合金電着方法を捉供するものである。
の実験と研究をもとに、膜の欠陥が少なく耐食性がよい
鉄族元素−クロム−リンのアモルファス合金皮膜の電着
を可能にする合金電着方法を捉供するものである。
本発明は鉄族元素の塩化物（鉄の塩化物、コバルトの塩
化物、ニッケルの塩化物の一種もしくは種以上の塩化物
）、クロムの塩化物、錯化剤、伝導塩、次亜リン酸塩、
および必要に応して緩衝剤で構成される浴にパルス電解
または超音波振動の一つもしくは両方を使用することに
より耐食性のよい鉄族元素−クロム−リンのアモルファ
ス合金皮膜を得ることができる。ここでの浴は２価の鉄
族元素、３価のクロムの塩化物、錯化剤としてグリシン
等、伝導塩として塩化アンモニウム、塩化ナトリウム、
塩化カリウム、さらに必要に応じｌｆｉ ｌｆｉ剤とし
てホウ酸、ギ酸とその塩、酢酸とその塩等を含むもので
ある。パルス電解はデユーティ−サイクル０．０５以下
で、超音波振動は２００００〜５００００ Ｈｚが望ま
れる。
化物、ニッケルの塩化物の一種もしくは種以上の塩化物
）、クロムの塩化物、錯化剤、伝導塩、次亜リン酸塩、
および必要に応して緩衝剤で構成される浴にパルス電解
または超音波振動の一つもしくは両方を使用することに
より耐食性のよい鉄族元素−クロム−リンのアモルファ
ス合金皮膜を得ることができる。ここでの浴は２価の鉄
族元素、３価のクロムの塩化物、錯化剤としてグリシン
等、伝導塩として塩化アンモニウム、塩化ナトリウム、
塩化カリウム、さらに必要に応じｌｆｉ ｌｆｉ剤とし
てホウ酸、ギ酸とその塩、酢酸とその塩等を含むもので
ある。パルス電解はデユーティ−サイクル０．０５以下
で、超音波振動は２００００〜５００００ Ｈｚが望ま
れる。
パルス電解では電極表面の拡散層が薄く保たれ、表面の
凹凸に添って成長するため、膜の平滑性は改善され、欠
陥も少なくなる。拡散層が薄く保たれるのはパルスオン
タイム時に欠乏した金属イオンがパルスオフタイム時に
回復するためである。
凹凸に添って成長するため、膜の平滑性は改善され、欠
陥も少なくなる。拡散層が薄く保たれるのはパルスオン
タイム時に欠乏した金属イオンがパルスオフタイム時に
回復するためである。
さらにパルスオフタイム時には金属イオンを失った錯化
剤のイオンの逸散が起こり合金皮膜への取り込みが直流
電解に比べ著しく少なくなる。
剤のイオンの逸散が起こり合金皮膜への取り込みが直流
電解に比べ著しく少なくなる。
一方、超音波振動を用いると電極表面で起こるキャビテ
ーションが拡散層を緩和し、薄く保つためパルス電解同
様の効果が得られる。
ーションが拡散層を緩和し、薄く保つためパルス電解同
様の効果が得られる。
以下実施例により本発明をさらに詳細に説明する。
実施例１
第１表の実施例１の欄にあるような、条件でＦｅ−Ｃｒ
−Ｐ合金皮膜を作製した。陽極には白金板を用い、陰極
の素地銅は機械的研磨後、化学研磨を施して用いた。パ
ルス電解はデユーティ−サイクル０．０１ （オンタイ
ム０．１ ｍｓ、オフタイム９．９聞）、超音波振動は
４００００ Ｈｚ、直流電解は電流密度１００１１１Ａ
／Ｃｌ１１を用いた。合金皮膜組成はプラズマ発光分析
装置、不純物は二次イオン質量分析装置により測定し、
皮膜構造はＸ線回折により測定した。
−Ｐ合金皮膜を作製した。陽極には白金板を用い、陰極
の素地銅は機械的研磨後、化学研磨を施して用いた。パ
ルス電解はデユーティ−サイクル０．０１ （オンタイ
ム０．１ ｍｓ、オフタイム９．９聞）、超音波振動は
４００００ Ｈｚ、直流電解は電流密度１００１１１Ａ
／Ｃｌ１１を用いた。合金皮膜組成はプラズマ発光分析
装置、不純物は二次イオン質量分析装置により測定し、
皮膜構造はＸ線回折により測定した。
また、耐食性についてはポテンショスタット（スキャン
レイト５０ｍＶ ／ ５ｅｃ）を用い５％硫ｆｌＪ、溶
液中でアノード分極曲線を測定することで評価した。
レイト５０ｍＶ ／ ５ｅｃ）を用い５％硫ｆｌＪ、溶
液中でアノード分極曲線を測定することで評価した。
（測定結果）
作製した合金皮膜の組成をプラズマ発光分析装置により
測定した結果を第２表に示した。どの作製条件でも合金
皮膜組成には大きな違いがないことがわかる。パルス電
解により作製した合金皮膜の構造をＸ線回折により測定
した結果を第１図に示した。この図では４５度前後にブ
ロードなピークが多少具られ全体的に回折強度は低くア
モルファス構造を示していることがわかる。他の条件（
超音波振動、パルス電解＋超音波振動、直流電解）で作
製したものも同様にアモルファス構造を示した。第２図
にパルス電解により、第３図に直流電解により作製した
Ｆｅ−Ｃｒ−Ｐ合金皮膜の測定結果を示した。縦軸は、
信号強度を示し各組成の濃度に対応する値で、横軸はス
パッタ時間を示すもので表面からの深さに対応する値で
ある。二つの図を比べると直流電解で作製した合金皮膜
中の炭素および窒素（図中のＣ，ＣＮ）の黴が多い。
測定した結果を第２表に示した。どの作製条件でも合金
皮膜組成には大きな違いがないことがわかる。パルス電
解により作製した合金皮膜の構造をＸ線回折により測定
した結果を第１図に示した。この図では４５度前後にブ
ロードなピークが多少具られ全体的に回折強度は低くア
モルファス構造を示していることがわかる。他の条件（
超音波振動、パルス電解＋超音波振動、直流電解）で作
製したものも同様にアモルファス構造を示した。第２図
にパルス電解により、第３図に直流電解により作製した
Ｆｅ−Ｃｒ−Ｐ合金皮膜の測定結果を示した。縦軸は、
信号強度を示し各組成の濃度に対応する値で、横軸はス
パッタ時間を示すもので表面からの深さに対応する値で
ある。二つの図を比べると直流電解で作製した合金皮膜
中の炭素および窒素（図中のＣ，ＣＮ）の黴が多い。
信号強度を相対感度係数により半定量した結果からパル
ス電解により作製した合金皮膜中の炭素と窒素の世は直
流電解のものと比べると約５０分の１程度に減少しでい
る。この炭素と窒素は錯化剤として用いたグリシンのも
ので、パルス電解により皮膜中への混入が著しく減少し
たことがわかる。
ス電解により作製した合金皮膜中の炭素と窒素の世は直
流電解のものと比べると約５０分の１程度に減少しでい
る。この炭素と窒素は錯化剤として用いたグリシンのも
ので、パルス電解により皮膜中への混入が著しく減少し
たことがわかる。
第４図にアノード分極曲線を示した。横軸は硫酸溶液の
酸化力に対応し、縦軸は各酸化力における金属の溶解速
度に対応する。電流密度のゼロの位置は自然に浸漬した
ときの電位（腐食電位）で、この値が大きいほど自然腐
食力は遅い、また、電位を上げたとき電流密度が小さい
ほど耐食性がよい。第４図から直流電解で作製したちの
以外は腐食電位が高く著しい耐食性を示すことがわかる
。
酸化力に対応し、縦軸は各酸化力における金属の溶解速
度に対応する。電流密度のゼロの位置は自然に浸漬した
ときの電位（腐食電位）で、この値が大きいほど自然腐
食力は遅い、また、電位を上げたとき電流密度が小さい
ほど耐食性がよい。第４図から直流電解で作製したちの
以外は腐食電位が高く著しい耐食性を示すことがわかる
。
さらにデユーティ−サイクルの耐食性に対する影響を調
べるために０．０１から０．１０までの各デユーティ−
サイクルにおける腐食電位をポテンショスタットで測定
したアノード分極曲線により求めた。
べるために０．０１から０．１０までの各デユーティ−
サイクルにおける腐食電位をポテンショスタットで測定
したアノード分極曲線により求めた。
結果を第５図に示す。０．０５を境に腐食電位は下がっ
ており、高耐食性を求めるのであればデユーティ−サイ
クルは０．０５以下にすることが望ましい。
ており、高耐食性を求めるのであればデユーティ−サイ
クルは０．０５以下にすることが望ましい。
第１表の実施例２、実施例３についても実験を行ったと
ころ、パルス電解または垣音波振動のいづれかまたは両
方を用い作製した皮膜は同様に高耐食性を示すことがわ
かった。
ころ、パルス電解または垣音波振動のいづれかまたは両
方を用い作製した皮膜は同様に高耐食性を示すことがわ
かった。
又、超音波振動の印加は、市販の超音波洗浄器を用いて
おり、その発振周波数２００００〜５００００ Ｈｚの
範囲では、実施例１における４００００１１ｚの超音波
振動と同等の結果が得られている。
おり、その発振周波数２００００〜５００００ Ｈｚの
範囲では、実施例１における４００００１１ｚの超音波
振動と同等の結果が得られている。
〔発明の効果］
以上の実施例でも明らかなように本発明の合金電着方法
は、耐食性がよい鉄族元素−クロム−リンのアモルファ
ス合金皮膜が得ることができる工業的にも優秀な電着方
法である。
は、耐食性がよい鉄族元素−クロム−リンのアモルファ
ス合金皮膜が得ることができる工業的にも優秀な電着方
法である。
第１図は、本発明の実施例であるパルス電解を用いて作
製したＦｅ−Ｃｒ−ｐ合金皮膜のＸ線回折図、第２図は
、パルス電解を用いて作製したＦｅ−Ｃｒ−Ｐ合金皮ｌ
Ｉ戯第３図は直流電解を用いて作製したＦｅ−Ｃｒ−Ｐ
合金皮膜の二次イオン質量分析装置による測定結果を示
すグラフ、第４図は、種々の方法で作製したＦｅ−Ｃｒ
−Ｐ合金皮膜のアノード分極曲線を示すグラフ、第５図
は、デユーティ−サイクルに対するＦｅ−Ｃｒ−Ｐ合金
皮膜の腐食電位を示すグラフである。 以上 ＰＦ間／ ＳｅＣ 第２図 強７し／ １±°真耐、学イａ 時間／ ｓｅｃ 第３図 電イｆｘ ／ Ｖ ｖｓ Ａｇ／ＡｇＣＬ０．０＋ Ｑ、０２０．０Ｂ ０．０４ ０．０５０．０６０．０７００ｉ３０．０（１０、ＩＱ テ１−ティーリイフル
製したＦｅ−Ｃｒ−ｐ合金皮膜のＸ線回折図、第２図は
、パルス電解を用いて作製したＦｅ−Ｃｒ−Ｐ合金皮ｌ
Ｉ戯第３図は直流電解を用いて作製したＦｅ−Ｃｒ−Ｐ
合金皮膜の二次イオン質量分析装置による測定結果を示
すグラフ、第４図は、種々の方法で作製したＦｅ−Ｃｒ
−Ｐ合金皮膜のアノード分極曲線を示すグラフ、第５図
は、デユーティ−サイクルに対するＦｅ−Ｃｒ−Ｐ合金
皮膜の腐食電位を示すグラフである。 以上 ＰＦ間／ ＳｅＣ 第２図 強７し／ １±°真耐、学イａ 時間／ ｓｅｃ 第３図 電イｆｘ ／ Ｖ ｖｓ Ａｇ／ＡｇＣＬ０．０＋ Ｑ、０２０．０Ｂ ０．０４ ０．０５０．０６０．０７００ｉ３０．０（１０、ＩＱ テ１−ティーリイフル
Claims (2)
- （１）鉄族元素の塩化物（鉄の塩化物、コバルトの塩化
物、ニッケルの塩化物の一種もしくは二種以上の塩化物
）、クロムの塩化物、錯化剤、伝導塩、次亜リン酸塩、
および必要に応じて緩衝剤で構成されるめっき浴におい
て、パルス電解または超音波振動の一つもしくは両方を
使用することを特徴とする合金電着方法。 - （２）パルス電解はデューティーサイクルが０．０５以
下である特許請求の範囲第１項記載の合金電着方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17787988A JPH0230790A (ja) | 1988-07-15 | 1988-07-15 | 合金電着方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17787988A JPH0230790A (ja) | 1988-07-15 | 1988-07-15 | 合金電着方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0230790A true JPH0230790A (ja) | 1990-02-01 |
Family
ID=16038654
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17787988A Pending JPH0230790A (ja) | 1988-07-15 | 1988-07-15 | 合金電着方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0230790A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6035923A (en) * | 1995-08-30 | 2000-03-14 | Mazda Motor Corporation | Method of and apparatus for producing light alloy composite member |
| US6103397A (en) * | 1997-03-11 | 2000-08-15 | Mazda Motor Corporation | Metallic porous product and composite product thereof and method of producing the same |
| SG94828A1 (en) * | 2000-05-25 | 2003-03-18 | Japan Techno Co Ltd | Electroplating method using combination of vibrational flow in plating bath and plating current of pulse |
| GB2386907A (en) * | 2002-03-27 | 2003-10-01 | Isle Coat Ltd | Forming ceramic coatings on metals and alloys |
| WO2004055245A3 (de) * | 2002-12-18 | 2004-09-02 | Siemens Ag | Verfahren zum abscheiden einer legierung auf ein substrat |
| CN109331820A (zh) * | 2018-10-29 | 2019-02-15 | 大连理工大学 | 一种超声条件下脉冲电沉积制备Pt基催化剂的方法 |
-
1988
- 1988-07-15 JP JP17787988A patent/JPH0230790A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6035923A (en) * | 1995-08-30 | 2000-03-14 | Mazda Motor Corporation | Method of and apparatus for producing light alloy composite member |
| US6103397A (en) * | 1997-03-11 | 2000-08-15 | Mazda Motor Corporation | Metallic porous product and composite product thereof and method of producing the same |
| SG94828A1 (en) * | 2000-05-25 | 2003-03-18 | Japan Techno Co Ltd | Electroplating method using combination of vibrational flow in plating bath and plating current of pulse |
| GB2386907A (en) * | 2002-03-27 | 2003-10-01 | Isle Coat Ltd | Forming ceramic coatings on metals and alloys |
| US6896785B2 (en) | 2002-03-27 | 2005-05-24 | Isle Coat Limited | Process and device for forming ceramic coatings on metals and alloys, and coatings produced by this process |
| GB2386907B (en) * | 2002-03-27 | 2005-10-26 | Isle Coat Ltd | Process and device for forming ceramic coatings on metals and alloys, and coatings produced by this process |
| WO2004055245A3 (de) * | 2002-12-18 | 2004-09-02 | Siemens Ag | Verfahren zum abscheiden einer legierung auf ein substrat |
| CN109331820A (zh) * | 2018-10-29 | 2019-02-15 | 大连理工大学 | 一种超声条件下脉冲电沉积制备Pt基催化剂的方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Go´ mez et al. | Electrodeposition of Co–Ni alloys | |
| US4461680A (en) | Process and bath for electroplating nickel-chromium alloys | |
| US4652348A (en) | Method for the production of alloys possessing high elastic modulus and improved magnetic properties by electrodeposition | |
| US4101389A (en) | Method of manufacturing amorphous alloy | |
| US5433797A (en) | Nanocrystalline metals | |
| EP0670916B1 (en) | Nanocrystalline metals | |
| Donten et al. | Pulse electroplating of rich-in-tungsten thin layers of amorphous Co-W alloys | |
| Schmidt et al. | Gold electrocrystallization on carbon and highly oriented pyrolytic graphite from concentrated solutions of LiCl | |
| Bai et al. | Iron–cobalt and iron–cobalt–nickel nanowires deposited by means of cyclic voltammetry and pulse-reverse electroplating | |
| EP0160761B1 (en) | Amorphous transition metal alloy, thin gold coated, electrical contact | |
| EP0293107A2 (en) | An aqueous electrolytic cobalt-iron plating bath and a method of electrodeposition using same | |
| JPH0230790A (ja) | 合金電着方法 | |
| US4159926A (en) | Nickel plating | |
| Swathirajan et al. | Characterization of New Corrosion Resistant Nickel‐Zinc‐Phosphorus Alloys Obtained by Electrodeposition | |
| Kang et al. | Electrodeposition and characterization of amorphous Fe-Cr-PC alloys | |
| Donten et al. | Voltammetric, Optical, and Spectroscopic Examination of Anodically Forced Passivation of Cobalt‐Tungsten Amorphous Alloys | |
| US4615773A (en) | Chromium-iron alloy plating from a solution containing both hexavalent and trivalent chromium | |
| Vértes et al. | A comparative study of Mössbauer spectroscopy and X-ray diffraction for the elucidation of the microstructure of electrodeposited Fe Cr Ni alloys | |
| US20050082171A1 (en) | Preparation of soft magnetic thin film | |
| CA1181715A (en) | Composition and process for high speed bright silver plating | |
| JPH02190493A (ja) | 合金電着方法 | |
| JPS6310235B2 (ja) | ||
| JP3826323B2 (ja) | めっき磁性薄膜の製造方法 | |
| Hryniewicz | On discrepancies between theory and practice of electropolishing | |
| Tereszko et al. | Investigation of the kinetics of Ni-Mo codeposition with a rotating disc cathode |