JPS6310235B2 - - Google Patents
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/20—Recycling
Description
本発明は非晶質(アモルフアス)合金の製造方
法に関するものである。 近年、非晶質合金はその構造と物理的性質(特
に熱的、電気的及び磁気的性質)、更には力学的
性質の点で注目されはじめている。即ち、非晶質
合金の一般的な特徴として下記のものが考えられ
る。 (1) 機械的強度が実用金属材料に比べて高く、実
用金属材料とウイスカーとの中間であること。 (2) 剛性率が結晶金属に比べて20〜40%低いこ
と。 (3) 殆んど加工硬化がないこと。 (4) 電気抵抗が一般に高いこと。 (5) Cr等の添加によつて耐食性が著しく向上す
ること。 (6) 高透磁性を有するものの製造が可能であるこ
と。 従来此種の非晶質合金の製造方法としては、ス
パツタリングによる方法、容融物の急冷法(例え
ばガン法、ピストンアンビル法、圧延法、遠心
法)等が知られているが、後者の急冷法の方が一
般的に行なわれている。この方法によれば、Fe
系金属と、非晶質元素(例えばP、C、B、Si)
の2種以上とを一旦溶解せしめ、これを冷却して
から粉砕し、再び溶解せしめ、これを吹き付ける
等して急冷することにより非晶質化するようにし
ている。この結果、非晶質合金被膜を形成するこ
とは出来るが、Feの融点が高く、共晶温度を下
げて製造を容易にするために非晶質元素を少なく
とも2種類含有させることが必要となる。従つて
例えばFe−Pの2元素からなる合金を製造する
ことは不可能であり、然も急冷法によるプロセス
は非常に面倒なものである。また合金被膜の膜厚
をコントロールしたり或いは合金被膜の形状のパ
ターンを様々なものとするのは困難である。 本出願人は、このような欠陥を是正すべく、優
れた非晶質合金及びその製造方法を特願昭51−
58305号として既に提案した。即ち、この先願発
明は、FeとPとを主成分とし、Feが60〜88at%
であり、Pが12〜30at%であることを特徴とする
非晶質合金に係るものである。このように構成す
ることによつて、前述した非晶質合金の諸特性を
得ることができる。この非晶質合金を製造する方
法として、2価のFeイオンと、次亜リン酸及
び/又は次亜リン酸塩とを主成分とする酸性メツ
キ浴を用いて電気メツキを行ない、これによつて
FeとPとを主成分とする非晶質合金メツキ層を
形成するようにしている。この方法によつて、1
種の非晶質元素を用いて非晶質合金を極めて簡単
に製造することができ、然も非晶質元素の量を少
なくすることができ、また合金の膜厚及び形状の
コントロールも非常に簡単となる。 本発明者は鋭意検討の結果、上記先願発明に係
るFe−P系非晶質合金は軟磁性ではあるが、磁
歪定数λsが30×10-6と大きいために、磁歪定数が
内部又は外部応力と結合して磁気異方性を生じて
しまう。この結果、透磁率μ及び抗磁力Hcが劣
化するので、磁歪定数をできるだけ小さくしなけ
ればならない。しかしながらこのFe−P系では
磁歪定数を十分に小さくはできない。 本発明は、上記先願発明の特長を生かしつつ約
1/6〜3モル/の2価のCoイオンと約0.03〜0.3
モル/の次亜リン酸及び/又は次亜リン酸塩と
を主成分とすると共にPHが1.2〜2.2であり浴温が
30〜60℃である酸性メツキ浴に5〜20A/dm2の
密度の電流を通ずることによつて電気メツキを行
い、これによつてCoとPとを主成分とする非晶
質合金を析出させるようにしたことを特徴とする
非晶質合金の製造方法に係るものである。この方
法によつて、磁歪定数が小さくかつ磁気特性に優
れたCo−P系非晶質合金を簡単かつ低コストに
して精度良く作成することができる。 本発明によつて製造したCo−P系非晶質合金
はまた、垂直磁化記録用ヘツド、薄膜ヘツド等に
幅広く応用可能であり、或いは従来から使用され
ているオーデイオ又はビデオ用等のヘツドにも勿
論応用できる。このCo−P系非晶質合金は、上
記先願発明と同様に電気メツキで作成できるか
ら、膜厚のコントロールを自由自在にでき、しか
も合金被膜の形状もフオトレジスト等のマスク材
によつて種々なものにすることができる。 第1図には、後述するメツキ条件を満足した状
態でメツキを行なつた場合のメツキ浴中のPの濃
度とメツキ被膜中のPの濃度との関係が示されて
いる。但、メツキ浴のCo2+は0.5モル/、Fe2+
は0.025モル/、PHは2.0、メツキ温度は40℃、
電気密度は10A/dm2である。これによれば、析
出物(即ち合金)中のPの濃度が8at%未満とな
れば、非晶質とならず、結晶質となることが分
る。なおこの場合、メツキ浴のP濃度の変化に対
して、メツキ層中のFeの割合Fe/Fe+Co×100は変 化しないことも分る。また第2図には、後述する
スルフアミン酸浴を用いて後述するメツキ条件
(例えばメツキ浴のCo2+は0.5モル/、メツキ浴
温度は40℃、電流密度は10A/dm2)を満足した
状態で、メツキ浴のPHを変化させた場合にメツキ
被膜中のPの濃度が変化する状態が示されてい
る。X線回析の結果から、析出物(即ち合金)中
のPの濃度が8at%以上でないと非晶質とはなら
ないことが分つた。 なお本発明によつて製造する非晶質合金は上述
のCo及びP以外に、例えばFe、Ni等を少量含有
するCo−Fe−P系、Co−Ni系、Co−Fe−Ni−
P系等の非晶質合金であつてもよい。Co−Fe−
P系の場合には、原子数の比で表わしてCo:Fe
=98:2〜90:10であるのが望ましい。Feの割
合がこの範囲より少ないと磁歪定数が負に大とな
り、また多いと磁歪定数が正に大となるためであ
る。Co:Fe=94:6のときに磁歪定数がほぼゼ
ロとなるので、この組成比が最も望ましい。また
更にCr等を1〜2at%含有せしめて合金の耐食性
を向上させることもできるが、この場合、Crが
Cr3+としてメツキ浴中に存在していないとCo2+
をCo3+に酸化させしまうので望ましくない。 また本発明による非晶質合金層の製造方法にお
いて、メツキ浴の主成分である2価のCoイオン
は、硫酸コバルト(CoSO4)、スルフアミン酸コ
バルト(Co(NH2SO3)2)等、或いはこれらの混
合物のようにCo2+を供給するものから得られる。
またメツキ浴の他方の主成分はPの供給源であつ
て、次亜リン酸(H3PO2)、次亜リン酸塩、或い
はこれらの混合物を用いるが、この次亜リン酸塩
としては次亜リン酸ナトリウム(NaH2PO2)、
次亜リン酸カリウム(KH2PO2)等が挙げられ
る。 次にメツキの原理を概略的に述べると、例えば
CoSO4はCo2+とSO4 2-に解離してCo2+が陰極側に
移動し、ここで還元されてCoとして電着される。
また次亜リン酸塩、例えばNaH2PO2は一旦Na+
と(H2PO2)-に解離し、これらはH2Oによつて
NaOHとH3PO2となるが、このうちNaOHはメ
ツキ浴のPHが低いためにNa2SO4に変化してしま
う。従つて次亜リン酸塩は。最終的にはH3PO2
となり、これからPが供給されるものと考えられ
る。なおNaH2PO2のNaはこの試薬を安定化させ
る作用をする。 本発明によるメツキ浴は次の基本組成からなつ
ていることが必須不可欠である。 Co2+ 約1/6〜3モル/ 次亜リン酸及び/又は次亜リン酸塩 約0.03〜
0.3モル/ 即ち、Co2+が約1/6モル/未満ではメツキの
付き(メツキ速度)が悪くなりかつまたメツキ被
膜のTcが低くなり、またCo2+が約3モル/を
越えるとメツキ浴に溶解しなくなる上に非晶質合
金を作成できないからである。また次亜リン酸又
は次亜リン酸塩、或いはこれらの混合物が約0.03
モル/未満であると非晶質合金が得られず、約
0.3モル/を越えるとメツキの付きの悪化及び
Tcの低下を招いてしまう。Co−P系の非晶質合
金を得る上でメツキ浴中のP濃度はFe−P系非
晶質合金をメツキする場合に比べて少な目にしな
ければならない。第2図に示したように、
NaH2PO2が約0.03モル/未満の場合には、非
晶質化されない領域が大きくなるので、メツキ浴
の次亜リン酸及び/又は次亜リン酸塩の濃度の下
限は約0.03モル/にしなければならない。 メツキ条件としては、 PH 1.2〜2.2 電流密度 5〜20A/dm2 浴 温 30〜60℃ が望ましい。PHが上記の範囲から外れ、1.2未満
になるとPの濃度が増えてメツキの付きが悪くな
り、2.2を越えるとメツキは付くが非晶質のメツ
キにするのが困難となる。また電流密度が上記の
範囲から外れ、5A/dm2未満になるとメツキが
困難となり、20A/dm2を越えると電極に焼けが
生じるので好ましくない。また浴温もあまり高す
ぎるとメツキ浴の成分が沈澱してしまう。 第3図には、メツキ浴のPHとCo系の酸化還元
電位Ehとの関係が示されているが、これによれ
ばCoとCo2+との間の標準酸化還元電位は−0.28V
であつてPH=0〜6ではほぼ一定である。第4図
には、メツキ浴のPHとP系の酸化還元電位Ehと
の関係が示されているが、CoとPとを共析させ
るためには、Coに関する上記酸化還元電位(−
0.28V)とPに関する酸化還元電位とが接近して
いなければならない。ところが第4図によれば、
PHが2以上になれば、PとH3PO2又はH2PO- 2と
の間の酸化還元電位が非常に低下する傾向があ
り、従つてCoの上記酸化還元電位ではPがメツ
キされにくく、非晶質のものが得難いことが分
る。このため第4図において、Pの酸化還元電位
をCoの上記酸化還元電位に近づけた状態で非晶
質合金を得るにはPHをなるべく小さくすること、
特に2.2以下にすることが必要である。 また本発明によるメツキ浴には、安定化剤とし
てスルフアミン酸アンモニウム、L−アスコルビ
ン酸、グリシン、尿素を、光沢剤としてハイドロ
キノン、ホウ酸等を夫々少量添加してもよい。ま
た適量のスルフアミン酸ニツケルやスルフアミン
酸鉄を添加することにより、Co−Ni又はCo−Fe
系非晶質合金とすることもできる。第5図には、
Co−Fe−P系のメツキ浴を使用した場合、メツ
キ浴中のFe2+濃度により析出物中のFe濃度が変
化する関係が示されている。即ち、メツキ浴の
Fe2+濃度に比例してメツキ層のFe濃度が直線的
に変化するので、メツキ浴組成を決めさえすれ
ば、それに対応した組成のメツキ層を常に確実に
得ることができる。その上、第1図で示したよう
に、メツキ層のCoとFeとの割合はメツキ浴のP
濃度とは無関係であり、メツキ浴のCoとFeとの
割合のみによつて決まるので、メツキ操作が非常
に簡単となる。なお第5図の結果は、P供給源と
してNaH2PO2・H2Oを10.6g/使用し、PH=
2.0、電流密度10A/dm2、浴温40℃のときに得
られたものである。 本発明による上述のメツキ浴を用いて非晶質合
金を製造する際には、メツキの前処理として、例
えばCu試験片からなる被メツキ物をまずトリク
レン蒸気に脱脂洗浄し、次いで例えば30g/の
メタレツクスWスペシヤル(マクダーミド社製の
商品名)にて陰極洗浄してから後水洗し、本メツ
キに入つた。また他の前処理として、Al試験片
をトリクレン蒸気で洗浄し、次いでZn又はSn置
換法によりシアン化銅からCuストライク(即ち
薄いCu膜を付けること)を行ない、更にピロリ
ン酸銅からCuメツキした後に本メツキに入つた。 本メツキは、以下に述べる本発明の各実施例に
よるメツキ浴で行なつた。 実施例 1 下記の組成の酸性メツキ浴を調製した。 CoSO4・7H2O 100〜500g/(Coは約1/3〜
2モル/) NaH2PO2・H2O 4〜30g/(約0.04〜0.3モ
ル/) ハイドロキノン(光沢剤) 0.2g/ そしてこのメツキ浴を用い、下記の条件でメツ
キを行なつた。 PH 1.2〜2.2 電流密度 5〜20A/dm2 浴 温 30〜60℃ この結果、第6図に示す如く、厚さ0.2mm程度
のAl試験片1上の厚さ1μ程度のCu膜2には、Co
−P系の非晶質合金メツキ被膜3が厚さ30〜
100μ(例えば50μ程度)に析出した。このメツキ
被膜3のみを取出すには、Al試験片1をまず
NaOH又はKOHでエツチング除去し、更にCu膜
2をNH4OH+NH4Clで電解エツチングして除去
すればよい。 本実施例によれば、メツキ被膜3の膜厚はメツ
キ浴の成分の濃度、PH、電流密度等のコントロー
ルによつて自由に変えることができる。またCu
膜2の表面に所定パターンのフオトレジスト層
(図示せず)を被着しておけば、このフオトレジ
スト層が存在しない部分にメツキ被膜3を付けら
れるから、フオトレジスト層の形状によつて様々
なパターンのメツキ被膜を容易に形成することが
できる。なお本例において、硫酸コバルトの代り
に硫酸コバルトアンチモン(NH4)2Co(SO4)2・
6H2Oや塩化コバルトCoCl2・6H2O等を使用して
も同様のCo−P系メツキ被膜が得られた。 実施例 2 本実施例では下記の組成の酸性メツキ浴を調製
した。 スルフアミン酸コバルト(Coとして) 59g/
(Coは約1モル/) スルフアミン酸アンモニウム(PH調整用バツフア
剤) 60g/ 尿素(安定化剤) 40g/ NaH2PO2・H2O 4〜20g/(約0.04〜0.2モ
ル/) そしてこのメツキ浴を用い、下記の条件でメツ
キを行なつた。 PH 1.2〜2.2 電流密度 5〜20A/dm2 浴 温 40℃ 上記メツキ浴では、前記実施例1で述べたと同
様のCo−P系非晶質合金を製造することが出来
た。 実施例 3 本実施例では下記の組成の酸性メツキ浴を用
い、前記実施例2と同一条件(但、PHは1.4〜
2.2)でメツキを行なつた。 スルフアミン酸コバルト(Coとして) 30g/
(Coは約0.5モル/) スルフアミン酸アンモニウム(PH調整用バツフア
剤) 40g/ 尿素(安定化剤) 40g/ スルフアミン酸鉄(Feとして) 0.6〜4.5g/
(Feは約0.01〜0.075モル/) L−アスコルビン酸(Fe2+の安定化剤) 3
g/ KH2PO2・H2O 4〜30g/(約0.033〜0.246
モル/) このメツキ浴から製造された非晶質合金はCo
−Fe−P系からなつていた。 実施例 4 本実施例では下記の組成の酸性メツキ浴を用
い、前記実施例3と同一条件でメツキを行なつ
た。 スルフアミン酸コバルト(Coとして) 30g/
(Coは約0.5モル/) スルフアミン酸アンモニウム(PH調整用バツフア
剤) 40g/ 尿素(安定化剤) 40g/ スルフアミン酸ニツケル(Niとして) 1〜20
g/ NaH2PO2・H2O 4〜30g/(約0.04〜0.3モ
ル/) このメツキ浴から製造された非晶質合金はCo
−Ni−P系であつた。 実施例 5 本実施例では下記の組成の酸性メツキ浴を調製
し、前記実施例3と同一条件でメツキを行つた。 スルフアミン酸コバルト(Coとして) 30g/
(Coは約0.5モル/) L−アスコルビン酸(Fe2+の安定化剤) 5
g/ ホウ酸(安定化剤) 40g/ 尿素(安定化剤) 40g/ スルフアミン酸アンモニウム(PH調整用バツフア
剤) 40g/ スルフアミン酸鉄 2.3g/ NaH2PO2・H2O 5〜25g/(約0.05〜0.25
モル/) 2−ブチン−1.4−ジオール(光沢剤) 0.2〜0.5
g/ グリシン(Fe2+の安定化剤) 20g/ そしてこのメツキ浴からはCo−Fe−P系の非
晶質合金メツキ層が得られた。 上記の各実施例から得られたメツキ層の化学分
析によるその組成、及び磁気測定によるその特性
を下記表にまとめた。
法に関するものである。 近年、非晶質合金はその構造と物理的性質(特
に熱的、電気的及び磁気的性質)、更には力学的
性質の点で注目されはじめている。即ち、非晶質
合金の一般的な特徴として下記のものが考えられ
る。 (1) 機械的強度が実用金属材料に比べて高く、実
用金属材料とウイスカーとの中間であること。 (2) 剛性率が結晶金属に比べて20〜40%低いこ
と。 (3) 殆んど加工硬化がないこと。 (4) 電気抵抗が一般に高いこと。 (5) Cr等の添加によつて耐食性が著しく向上す
ること。 (6) 高透磁性を有するものの製造が可能であるこ
と。 従来此種の非晶質合金の製造方法としては、ス
パツタリングによる方法、容融物の急冷法(例え
ばガン法、ピストンアンビル法、圧延法、遠心
法)等が知られているが、後者の急冷法の方が一
般的に行なわれている。この方法によれば、Fe
系金属と、非晶質元素(例えばP、C、B、Si)
の2種以上とを一旦溶解せしめ、これを冷却して
から粉砕し、再び溶解せしめ、これを吹き付ける
等して急冷することにより非晶質化するようにし
ている。この結果、非晶質合金被膜を形成するこ
とは出来るが、Feの融点が高く、共晶温度を下
げて製造を容易にするために非晶質元素を少なく
とも2種類含有させることが必要となる。従つて
例えばFe−Pの2元素からなる合金を製造する
ことは不可能であり、然も急冷法によるプロセス
は非常に面倒なものである。また合金被膜の膜厚
をコントロールしたり或いは合金被膜の形状のパ
ターンを様々なものとするのは困難である。 本出願人は、このような欠陥を是正すべく、優
れた非晶質合金及びその製造方法を特願昭51−
58305号として既に提案した。即ち、この先願発
明は、FeとPとを主成分とし、Feが60〜88at%
であり、Pが12〜30at%であることを特徴とする
非晶質合金に係るものである。このように構成す
ることによつて、前述した非晶質合金の諸特性を
得ることができる。この非晶質合金を製造する方
法として、2価のFeイオンと、次亜リン酸及
び/又は次亜リン酸塩とを主成分とする酸性メツ
キ浴を用いて電気メツキを行ない、これによつて
FeとPとを主成分とする非晶質合金メツキ層を
形成するようにしている。この方法によつて、1
種の非晶質元素を用いて非晶質合金を極めて簡単
に製造することができ、然も非晶質元素の量を少
なくすることができ、また合金の膜厚及び形状の
コントロールも非常に簡単となる。 本発明者は鋭意検討の結果、上記先願発明に係
るFe−P系非晶質合金は軟磁性ではあるが、磁
歪定数λsが30×10-6と大きいために、磁歪定数が
内部又は外部応力と結合して磁気異方性を生じて
しまう。この結果、透磁率μ及び抗磁力Hcが劣
化するので、磁歪定数をできるだけ小さくしなけ
ればならない。しかしながらこのFe−P系では
磁歪定数を十分に小さくはできない。 本発明は、上記先願発明の特長を生かしつつ約
1/6〜3モル/の2価のCoイオンと約0.03〜0.3
モル/の次亜リン酸及び/又は次亜リン酸塩と
を主成分とすると共にPHが1.2〜2.2であり浴温が
30〜60℃である酸性メツキ浴に5〜20A/dm2の
密度の電流を通ずることによつて電気メツキを行
い、これによつてCoとPとを主成分とする非晶
質合金を析出させるようにしたことを特徴とする
非晶質合金の製造方法に係るものである。この方
法によつて、磁歪定数が小さくかつ磁気特性に優
れたCo−P系非晶質合金を簡単かつ低コストに
して精度良く作成することができる。 本発明によつて製造したCo−P系非晶質合金
はまた、垂直磁化記録用ヘツド、薄膜ヘツド等に
幅広く応用可能であり、或いは従来から使用され
ているオーデイオ又はビデオ用等のヘツドにも勿
論応用できる。このCo−P系非晶質合金は、上
記先願発明と同様に電気メツキで作成できるか
ら、膜厚のコントロールを自由自在にでき、しか
も合金被膜の形状もフオトレジスト等のマスク材
によつて種々なものにすることができる。 第1図には、後述するメツキ条件を満足した状
態でメツキを行なつた場合のメツキ浴中のPの濃
度とメツキ被膜中のPの濃度との関係が示されて
いる。但、メツキ浴のCo2+は0.5モル/、Fe2+
は0.025モル/、PHは2.0、メツキ温度は40℃、
電気密度は10A/dm2である。これによれば、析
出物(即ち合金)中のPの濃度が8at%未満とな
れば、非晶質とならず、結晶質となることが分
る。なおこの場合、メツキ浴のP濃度の変化に対
して、メツキ層中のFeの割合Fe/Fe+Co×100は変 化しないことも分る。また第2図には、後述する
スルフアミン酸浴を用いて後述するメツキ条件
(例えばメツキ浴のCo2+は0.5モル/、メツキ浴
温度は40℃、電流密度は10A/dm2)を満足した
状態で、メツキ浴のPHを変化させた場合にメツキ
被膜中のPの濃度が変化する状態が示されてい
る。X線回析の結果から、析出物(即ち合金)中
のPの濃度が8at%以上でないと非晶質とはなら
ないことが分つた。 なお本発明によつて製造する非晶質合金は上述
のCo及びP以外に、例えばFe、Ni等を少量含有
するCo−Fe−P系、Co−Ni系、Co−Fe−Ni−
P系等の非晶質合金であつてもよい。Co−Fe−
P系の場合には、原子数の比で表わしてCo:Fe
=98:2〜90:10であるのが望ましい。Feの割
合がこの範囲より少ないと磁歪定数が負に大とな
り、また多いと磁歪定数が正に大となるためであ
る。Co:Fe=94:6のときに磁歪定数がほぼゼ
ロとなるので、この組成比が最も望ましい。また
更にCr等を1〜2at%含有せしめて合金の耐食性
を向上させることもできるが、この場合、Crが
Cr3+としてメツキ浴中に存在していないとCo2+
をCo3+に酸化させしまうので望ましくない。 また本発明による非晶質合金層の製造方法にお
いて、メツキ浴の主成分である2価のCoイオン
は、硫酸コバルト(CoSO4)、スルフアミン酸コ
バルト(Co(NH2SO3)2)等、或いはこれらの混
合物のようにCo2+を供給するものから得られる。
またメツキ浴の他方の主成分はPの供給源であつ
て、次亜リン酸(H3PO2)、次亜リン酸塩、或い
はこれらの混合物を用いるが、この次亜リン酸塩
としては次亜リン酸ナトリウム(NaH2PO2)、
次亜リン酸カリウム(KH2PO2)等が挙げられ
る。 次にメツキの原理を概略的に述べると、例えば
CoSO4はCo2+とSO4 2-に解離してCo2+が陰極側に
移動し、ここで還元されてCoとして電着される。
また次亜リン酸塩、例えばNaH2PO2は一旦Na+
と(H2PO2)-に解離し、これらはH2Oによつて
NaOHとH3PO2となるが、このうちNaOHはメ
ツキ浴のPHが低いためにNa2SO4に変化してしま
う。従つて次亜リン酸塩は。最終的にはH3PO2
となり、これからPが供給されるものと考えられ
る。なおNaH2PO2のNaはこの試薬を安定化させ
る作用をする。 本発明によるメツキ浴は次の基本組成からなつ
ていることが必須不可欠である。 Co2+ 約1/6〜3モル/ 次亜リン酸及び/又は次亜リン酸塩 約0.03〜
0.3モル/ 即ち、Co2+が約1/6モル/未満ではメツキの
付き(メツキ速度)が悪くなりかつまたメツキ被
膜のTcが低くなり、またCo2+が約3モル/を
越えるとメツキ浴に溶解しなくなる上に非晶質合
金を作成できないからである。また次亜リン酸又
は次亜リン酸塩、或いはこれらの混合物が約0.03
モル/未満であると非晶質合金が得られず、約
0.3モル/を越えるとメツキの付きの悪化及び
Tcの低下を招いてしまう。Co−P系の非晶質合
金を得る上でメツキ浴中のP濃度はFe−P系非
晶質合金をメツキする場合に比べて少な目にしな
ければならない。第2図に示したように、
NaH2PO2が約0.03モル/未満の場合には、非
晶質化されない領域が大きくなるので、メツキ浴
の次亜リン酸及び/又は次亜リン酸塩の濃度の下
限は約0.03モル/にしなければならない。 メツキ条件としては、 PH 1.2〜2.2 電流密度 5〜20A/dm2 浴 温 30〜60℃ が望ましい。PHが上記の範囲から外れ、1.2未満
になるとPの濃度が増えてメツキの付きが悪くな
り、2.2を越えるとメツキは付くが非晶質のメツ
キにするのが困難となる。また電流密度が上記の
範囲から外れ、5A/dm2未満になるとメツキが
困難となり、20A/dm2を越えると電極に焼けが
生じるので好ましくない。また浴温もあまり高す
ぎるとメツキ浴の成分が沈澱してしまう。 第3図には、メツキ浴のPHとCo系の酸化還元
電位Ehとの関係が示されているが、これによれ
ばCoとCo2+との間の標準酸化還元電位は−0.28V
であつてPH=0〜6ではほぼ一定である。第4図
には、メツキ浴のPHとP系の酸化還元電位Ehと
の関係が示されているが、CoとPとを共析させ
るためには、Coに関する上記酸化還元電位(−
0.28V)とPに関する酸化還元電位とが接近して
いなければならない。ところが第4図によれば、
PHが2以上になれば、PとH3PO2又はH2PO- 2と
の間の酸化還元電位が非常に低下する傾向があ
り、従つてCoの上記酸化還元電位ではPがメツ
キされにくく、非晶質のものが得難いことが分
る。このため第4図において、Pの酸化還元電位
をCoの上記酸化還元電位に近づけた状態で非晶
質合金を得るにはPHをなるべく小さくすること、
特に2.2以下にすることが必要である。 また本発明によるメツキ浴には、安定化剤とし
てスルフアミン酸アンモニウム、L−アスコルビ
ン酸、グリシン、尿素を、光沢剤としてハイドロ
キノン、ホウ酸等を夫々少量添加してもよい。ま
た適量のスルフアミン酸ニツケルやスルフアミン
酸鉄を添加することにより、Co−Ni又はCo−Fe
系非晶質合金とすることもできる。第5図には、
Co−Fe−P系のメツキ浴を使用した場合、メツ
キ浴中のFe2+濃度により析出物中のFe濃度が変
化する関係が示されている。即ち、メツキ浴の
Fe2+濃度に比例してメツキ層のFe濃度が直線的
に変化するので、メツキ浴組成を決めさえすれ
ば、それに対応した組成のメツキ層を常に確実に
得ることができる。その上、第1図で示したよう
に、メツキ層のCoとFeとの割合はメツキ浴のP
濃度とは無関係であり、メツキ浴のCoとFeとの
割合のみによつて決まるので、メツキ操作が非常
に簡単となる。なお第5図の結果は、P供給源と
してNaH2PO2・H2Oを10.6g/使用し、PH=
2.0、電流密度10A/dm2、浴温40℃のときに得
られたものである。 本発明による上述のメツキ浴を用いて非晶質合
金を製造する際には、メツキの前処理として、例
えばCu試験片からなる被メツキ物をまずトリク
レン蒸気に脱脂洗浄し、次いで例えば30g/の
メタレツクスWスペシヤル(マクダーミド社製の
商品名)にて陰極洗浄してから後水洗し、本メツ
キに入つた。また他の前処理として、Al試験片
をトリクレン蒸気で洗浄し、次いでZn又はSn置
換法によりシアン化銅からCuストライク(即ち
薄いCu膜を付けること)を行ない、更にピロリ
ン酸銅からCuメツキした後に本メツキに入つた。 本メツキは、以下に述べる本発明の各実施例に
よるメツキ浴で行なつた。 実施例 1 下記の組成の酸性メツキ浴を調製した。 CoSO4・7H2O 100〜500g/(Coは約1/3〜
2モル/) NaH2PO2・H2O 4〜30g/(約0.04〜0.3モ
ル/) ハイドロキノン(光沢剤) 0.2g/ そしてこのメツキ浴を用い、下記の条件でメツ
キを行なつた。 PH 1.2〜2.2 電流密度 5〜20A/dm2 浴 温 30〜60℃ この結果、第6図に示す如く、厚さ0.2mm程度
のAl試験片1上の厚さ1μ程度のCu膜2には、Co
−P系の非晶質合金メツキ被膜3が厚さ30〜
100μ(例えば50μ程度)に析出した。このメツキ
被膜3のみを取出すには、Al試験片1をまず
NaOH又はKOHでエツチング除去し、更にCu膜
2をNH4OH+NH4Clで電解エツチングして除去
すればよい。 本実施例によれば、メツキ被膜3の膜厚はメツ
キ浴の成分の濃度、PH、電流密度等のコントロー
ルによつて自由に変えることができる。またCu
膜2の表面に所定パターンのフオトレジスト層
(図示せず)を被着しておけば、このフオトレジ
スト層が存在しない部分にメツキ被膜3を付けら
れるから、フオトレジスト層の形状によつて様々
なパターンのメツキ被膜を容易に形成することが
できる。なお本例において、硫酸コバルトの代り
に硫酸コバルトアンチモン(NH4)2Co(SO4)2・
6H2Oや塩化コバルトCoCl2・6H2O等を使用して
も同様のCo−P系メツキ被膜が得られた。 実施例 2 本実施例では下記の組成の酸性メツキ浴を調製
した。 スルフアミン酸コバルト(Coとして) 59g/
(Coは約1モル/) スルフアミン酸アンモニウム(PH調整用バツフア
剤) 60g/ 尿素(安定化剤) 40g/ NaH2PO2・H2O 4〜20g/(約0.04〜0.2モ
ル/) そしてこのメツキ浴を用い、下記の条件でメツ
キを行なつた。 PH 1.2〜2.2 電流密度 5〜20A/dm2 浴 温 40℃ 上記メツキ浴では、前記実施例1で述べたと同
様のCo−P系非晶質合金を製造することが出来
た。 実施例 3 本実施例では下記の組成の酸性メツキ浴を用
い、前記実施例2と同一条件(但、PHは1.4〜
2.2)でメツキを行なつた。 スルフアミン酸コバルト(Coとして) 30g/
(Coは約0.5モル/) スルフアミン酸アンモニウム(PH調整用バツフア
剤) 40g/ 尿素(安定化剤) 40g/ スルフアミン酸鉄(Feとして) 0.6〜4.5g/
(Feは約0.01〜0.075モル/) L−アスコルビン酸(Fe2+の安定化剤) 3
g/ KH2PO2・H2O 4〜30g/(約0.033〜0.246
モル/) このメツキ浴から製造された非晶質合金はCo
−Fe−P系からなつていた。 実施例 4 本実施例では下記の組成の酸性メツキ浴を用
い、前記実施例3と同一条件でメツキを行なつ
た。 スルフアミン酸コバルト(Coとして) 30g/
(Coは約0.5モル/) スルフアミン酸アンモニウム(PH調整用バツフア
剤) 40g/ 尿素(安定化剤) 40g/ スルフアミン酸ニツケル(Niとして) 1〜20
g/ NaH2PO2・H2O 4〜30g/(約0.04〜0.3モ
ル/) このメツキ浴から製造された非晶質合金はCo
−Ni−P系であつた。 実施例 5 本実施例では下記の組成の酸性メツキ浴を調製
し、前記実施例3と同一条件でメツキを行つた。 スルフアミン酸コバルト(Coとして) 30g/
(Coは約0.5モル/) L−アスコルビン酸(Fe2+の安定化剤) 5
g/ ホウ酸(安定化剤) 40g/ 尿素(安定化剤) 40g/ スルフアミン酸アンモニウム(PH調整用バツフア
剤) 40g/ スルフアミン酸鉄 2.3g/ NaH2PO2・H2O 5〜25g/(約0.05〜0.25
モル/) 2−ブチン−1.4−ジオール(光沢剤) 0.2〜0.5
g/ グリシン(Fe2+の安定化剤) 20g/ そしてこのメツキ浴からはCo−Fe−P系の非
晶質合金メツキ層が得られた。 上記の各実施例から得られたメツキ層の化学分
析によるその組成、及び磁気測定によるその特性
を下記表にまとめた。
【表】
次に以上のようにして製造したCo−P系の合
金についてX線回析を行なつたところ、第7図に
示す如く、プロードなスペクトルを示し、結晶質
特有のピークは現われなかつた。また、Co−P
系、Fe−Co−P系について磁気天秤による磁化
量の温度変化を測定したところ、第8図の結果が
得られたが、これによれば、Co−P系について
は、温度上昇に伴なつて磁化量が低下し、300℃
を越えたあたりで結晶質であれば磁化量が更に低
下してゼロ(キユリー点)となるのに、本実施例
による非晶質合金の場合、磁化量がゼロにならず
温度上昇に伴なつて磁化量が上昇することが分
る。この磁化量の上昇は、非晶質が結晶化するこ
とにより生じるものであり、従つて本実施例によ
り製造されたメツキ被膜は非晶質のものであるこ
とが明らかである。また第9図には、Fe−Co−
P系のメツキ被膜(Fe4.6Co80.1P15.3)を示差熱分
析(試料重量24mg、昇温速度10℃/min)した結
果が示されているが、これによれば、磁化量の上
述した上昇(第8図参照)が起こる温度において
非晶質の結晶化によつて示差熱での発熱反応が起
こつていることが明らかである。 本実施例によつて製造した非晶質合金は従来の
非晶質合金の有する諸特性を具備している。即
ち、機械的強度が高く、加工硬化が殆んどなく、
剛性率が比較的低く、電気抵抗が高く、然も高透
磁性を有したものとなり、磁性材料をはじめ、強
度が要求される小物部品や複合材料、板材、線材
等に非常に有用である。
金についてX線回析を行なつたところ、第7図に
示す如く、プロードなスペクトルを示し、結晶質
特有のピークは現われなかつた。また、Co−P
系、Fe−Co−P系について磁気天秤による磁化
量の温度変化を測定したところ、第8図の結果が
得られたが、これによれば、Co−P系について
は、温度上昇に伴なつて磁化量が低下し、300℃
を越えたあたりで結晶質であれば磁化量が更に低
下してゼロ(キユリー点)となるのに、本実施例
による非晶質合金の場合、磁化量がゼロにならず
温度上昇に伴なつて磁化量が上昇することが分
る。この磁化量の上昇は、非晶質が結晶化するこ
とにより生じるものであり、従つて本実施例によ
り製造されたメツキ被膜は非晶質のものであるこ
とが明らかである。また第9図には、Fe−Co−
P系のメツキ被膜(Fe4.6Co80.1P15.3)を示差熱分
析(試料重量24mg、昇温速度10℃/min)した結
果が示されているが、これによれば、磁化量の上
述した上昇(第8図参照)が起こる温度において
非晶質の結晶化によつて示差熱での発熱反応が起
こつていることが明らかである。 本実施例によつて製造した非晶質合金は従来の
非晶質合金の有する諸特性を具備している。即
ち、機械的強度が高く、加工硬化が殆んどなく、
剛性率が比較的低く、電気抵抗が高く、然も高透
磁性を有したものとなり、磁性材料をはじめ、強
度が要求される小物部品や複合材料、板材、線材
等に非常に有用である。
図面は本発明によつて製造した非晶質合金を説
明するためのものであつて、第1図はメツキ浴中
のP濃度とメツキ析出物のP濃度及びFe濃度と
の関係及び非晶質領域を示すグラフ、第2図はメ
ツキ浴のPHとメツキ析出物のP濃度の関係及び非
晶質領域を示すグラフ、第3図はメツキ浴のPHと
Co系の酸化還元電位Ehとの関係を示すダイヤグ
ラム、第4図はメツキ浴のPHとP系の酸化還元電
位Ehとの関係を示すダイヤグラム、第5図はメ
ツキ浴のFe濃度とメツキ析出物のFe濃度との関
係を示すグラフ、第6図はCo−P系非晶質合金
メツキ被膜が析出したAl試験片の断面図、第7
図はCo−P系非晶質合金のX線回析スペクトル
図、第8図はCo−P系及びCo−Fe−P系のメツ
キ被膜の磁化量の温度特性を示すグラフ、第9図
はCo−Fe−P系のメツキ被膜の示差熱分析の結
果を示すグラフである。 なお図面に用いられている符号において、1…
…Al試験片、2……Cu膜、3……Co−P系非晶
質合金メツキ被膜である。
明するためのものであつて、第1図はメツキ浴中
のP濃度とメツキ析出物のP濃度及びFe濃度と
の関係及び非晶質領域を示すグラフ、第2図はメ
ツキ浴のPHとメツキ析出物のP濃度の関係及び非
晶質領域を示すグラフ、第3図はメツキ浴のPHと
Co系の酸化還元電位Ehとの関係を示すダイヤグ
ラム、第4図はメツキ浴のPHとP系の酸化還元電
位Ehとの関係を示すダイヤグラム、第5図はメ
ツキ浴のFe濃度とメツキ析出物のFe濃度との関
係を示すグラフ、第6図はCo−P系非晶質合金
メツキ被膜が析出したAl試験片の断面図、第7
図はCo−P系非晶質合金のX線回析スペクトル
図、第8図はCo−P系及びCo−Fe−P系のメツ
キ被膜の磁化量の温度特性を示すグラフ、第9図
はCo−Fe−P系のメツキ被膜の示差熱分析の結
果を示すグラフである。 なお図面に用いられている符号において、1…
…Al試験片、2……Cu膜、3……Co−P系非晶
質合金メツキ被膜である。
Claims (1)
- 1 約1/6〜3モル/の2価のCoイオンと約
0.03〜0.3モル/の次亜リン酸及び/又は次亜
リン酸塩とを主成分とすると共にPHが1.2〜2.2で
あり浴温が30〜60℃である酸性メツキ浴に5〜
20A/dm2の密度の電流を通ずることによつて電
気メツキを行い、これによつてCoとPとを主成
分とする非晶質合金を析出させるようにしたこと
を特徴とする非晶質合金の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7248079A JPS55164092A (en) | 1979-06-08 | 1979-06-08 | Noncrystalline alloy-plated layer and its manufacture |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7248079A JPS55164092A (en) | 1979-06-08 | 1979-06-08 | Noncrystalline alloy-plated layer and its manufacture |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS55164092A JPS55164092A (en) | 1980-12-20 |
JPS6310235B2 true JPS6310235B2 (ja) | 1988-03-04 |
Family
ID=13490517
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7248079A Granted JPS55164092A (en) | 1979-06-08 | 1979-06-08 | Noncrystalline alloy-plated layer and its manufacture |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS55164092A (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0318156Y2 (ja) * | 1986-03-10 | 1991-04-17 | ||
JPH01247590A (ja) * | 1988-03-30 | 1989-10-03 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 非晶質合金 |
EP0422760A1 (en) * | 1989-10-12 | 1991-04-17 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd | Amorphous alloy and process for preparation thereof |
WO1993023583A1 (en) * | 1992-05-14 | 1993-11-25 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Amorphous alloy and production thereof |
SE9903531D0 (sv) * | 1999-09-30 | 1999-09-30 | Res Inst Acreo Ab | Förfarande för elektroavsättning av metalliska flerskikt |
US6765757B2 (en) | 2001-01-15 | 2004-07-20 | Alps Electric Co., Ltd. | Soft magnetic film having high saturation magnetic flux density, thin-film magnetic head using the same, and manufacturing method of the same |
US7095586B2 (en) | 2002-01-15 | 2006-08-22 | Alps Electric Co., Ltd. | Soft magnetic film having saturation magnetic flux density Bs of at least 2.0 T and magnetic head including the same |
-
1979
- 1979-06-08 JP JP7248079A patent/JPS55164092A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS55164092A (en) | 1980-12-20 |
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