JP2018532879A - クロムベースのコーティング、クロムベースのコーティングを生成する方法およびコーティングされた物体 - Google Patents
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Abstract
Description
a)物体上に三価Cr槽からCrの層を堆積させる工程であって、その槽は、三価Crについての少なくとも1つの供給源、少なくとも20mg l−1のNiカチオン、Cについての少なくとも1つの供給源およびFeについての少なくとも1つの供給源を含み、それによりNi、CおよびFeがCr層に組み込まれる、工程と、
b)コーティングされた物体を、400〜1,200℃の温度、または400〜650℃の温度、または650〜820℃の温度、または820〜1,200℃の温度にて少なくとも1回の加熱処理に供して、コーティングの機械的および物理的特性を改変する工程と
を含むことを特徴とする。加熱処理の温度は例えば650〜1,200℃であってもよい。あるいは、加熱処理の温度は700〜800℃であってもよい。加熱処理の温度は650〜800℃であってもよい。830〜900℃の温度で加熱処理を実施することも可能である。このように400〜1,200℃の温度範囲内で様々な代替が存在する。400〜650℃の温度がいくつかの状況において使用されてもよい。あるいは650〜800℃の温度が使用されてもよい。800〜1,200℃の温度も使用されてもよい。
− 本開示によるコーティングの利点は、多くの異なる種類の基材上にコーティングされ得ることである。コーティングは基材上に直接電気めっきされてもよい。
− 本開示によるコーティングの利点は、高い硬度および十分な耐摩耗性を有することである。コーティングの耐食性は従来技術の解決策よりも改良され得る。硫酸に対するコーティングの耐性は従来技術の解決策よりも改良され得る。
− 本開示によるコーティングのさらなる利点は、Ni含有Crベースのコーティングが、基材を硬化するのに十分に高い温度にて硬化され得ることである。
図1は、本発明の実施形態のフローチャート図である。方法の工程a)において、Crベースの層が基材上に堆積される。Crは、少なくとも20mg l−1のNiカチオンを含有する三価Crの槽から堆積される。槽におけるNiおよびFeの存在により、Crベース層へのそれらの共堆積がもたらされる。Cもまた、コーティングに含まれる。方法の工程b)において、コーティング物体は400〜1,200℃の温度にて少なくとも1回の加熱処理に供される。加熱処理の結果として、コーティングの機械的および物理的特性が改変され、標準的なSFS−EN ISO 4516に従って測定して、少なくとも1,500HVのビッカース微小硬度値を有する硬質コーティングの形成がもたらされる。加熱処理の仕様に応じて、基材の機械的および物理的特性が所定の深さまで影響を受けることも起こり得る。基材が鋼である場合、基材は典型的に硬化する。
図2は、本開示によるコーティングの構造の概略図である。コーティング層Cは薄灰色で示される。その図におけるコーティング層Cの表面は図2の上部にある。基材Sは図の底部において黒色で示される。コーティング層Cと基材との間に、混合層Mが見える。コーティング層Cは本開示によるコーティングを意味する。混合層Mはコーティング層Cとほぼ等しい厚さであるように示される。しかしながら、ほとんどの用途において、混合層Mはコーティング層Cより薄い。例えば、コーティング層Cは7μm厚であってもよく、混合層Mは1μm厚であってもよい。
三価クロム含有槽を当該分野において知られているように調製した。例えば、20〜23g l−1の三価クロムイオンおよび60〜65g l−1のホウ酸を含む電解質溶液(商標名Trichrome Plus(登録商標)としてAtotech Deutschland GmbHにより販売されている)を使用することができる。NiCl2を電解質溶液に加えて、50mg l−1(約0.85mM)のNi2+濃度を達成した。槽を通常の開始めっきに供し、その後、使用できる状態になった。
鋼物体を、本開示によるコーティングを電気めっきする前に浸炭した。物体の硬化が方法の工程b)において実施されるため、物体を同じ深さまで浸炭した。炭素含有量は物体の浸炭部分において少なくとも約0.5%(w/w)である。
50mg l−1(約0.85mM)のNi2+濃度を達成するように、三価クロム含有槽を実施例1のように調製し、槽を通常の開始めっきに供した。
Claims (24)
- クロム(Cr)、炭素(C)および鉄(Fe)を含むクロムベースのコーティングであって、Crは三価Cr槽から電気めっきされ、前記コーティングは、少なくとも20mg l−1のNiカチオンを含有するCr槽から電気めっきされるニッケル(Ni)をさらに含むこと、Cは、少なくとも部分的に、少なくとも1つの炭化クロム化合物の形態であること、前記コーティングは400〜1,200℃の温度、または400〜650℃の温度、または650〜820℃の温度、または820〜1,200℃の温度にて加熱処理されること、および前記コーティングの硬度は、標準的なSFS−EN ISO 4516に従って測定して、ビッカース微小硬度スケールで少なくとも1,500HVであることを特徴とする、クロムベースのコーティング。
- 前記Cr槽が20〜150mg l−1のNiカチオンを含有するか、または前記Cr槽が20〜80mg l−1のNiカチオンを含有する、請求項1に記載のクロムベースのコーティング。
- 前記少なくとも1つの炭化クロム化合物が、Cr3C2、Cr7C3もしくはCr23C6、またはそれらの組み合わせを含む、請求項1または2に記載のクロムベースのコーティング。
- 前記NiおよびCrの少なくとも一部が互いに溶解する、請求項1〜3のいずれか一項に記載のクロムベースのコーティング。
- ISO 9352に従ってテーバー摩耗試験によって測定した前記コーティングのテーバー摩耗指数が、2未満、または1未満である、請求項1〜4のいずれか一項に記載のクロムベースのコーティング。
- 前記コーティングが、異なる元素組成を有する少なくとも2つの層を形成する、請求項1〜5のいずれか一項に記載のクロムベースのコーティング。
- 前記コーティングが基材上に直接コーティングされる、請求項1〜6のいずれか一項に記載のクロムベースのコーティング。
- 前記クロムベースのコーティングがNi−Pの層上にコーティングされる、請求項1〜6のいずれか一項に記載のクロムベースのコーティング。
- 前記コーティングが最上層をさらに含む、請求項1〜8のいずれか一項に記載のクロムベースのコーティング。
- 基材と前記クロムベースのコーティングとの間に混合層が存在し、前記混合層は、基材材料およびコーティング成分の両方を含み、コーティングされた基材の加熱処理によって生成される、請求項1〜9のいずれか一項に記載のクロムベースのコーティング。
- 三価Cr槽から電気めっきすることによって物体上に請求項1〜10のいずれか一項に記載のクロムベースのコーティングを生成する方法であって、
a)物体上に三価Cr槽からCrの層を堆積させる工程であって、前記槽は、三価Crについての少なくとも1つの供給源、少なくとも20mg l−1のNiカチオン、Cについての少なくとも1つの供給源およびFeについての少なくとも1つの供給源を含み、それによりNi、CおよびFeがCr層に組み込まれる、工程と、
b)コーティングされた物体を、400〜1,200℃の温度、または400〜650℃の温度、または650〜820℃の温度、または820〜1,200℃の温度にて少なくとも1回の加熱処理に供して、前記コーティングの機械的および物理的特性を改変する工程と
を含むことを特徴とする、方法。 - Niについての少なくとも1つの供給源が、NiCl2または金属Niである、請求項11に記載の方法。
- 工程b)が周囲雰囲気下で実施される、請求項11または12に記載の方法。
- 前記コーティングの間の電流密度が、10〜50A dm−2、または15A dm−2である、請求項11〜13のいずれか一項に記載の方法。
- 工程b)における前記少なくとも1回の加熱処理が、誘導加熱または炉加熱である、請求項11〜14のいずれか一項に記載の方法。
- 工程b)における少なくとも1回の加熱処理が誘導加熱であり、前記物体が、前記加熱の終了後、0.1〜60秒間、または0.5〜10秒間、または0.8〜1.5秒間、冷却液によって冷却される、請求項11〜15のいずれか一項に記載の方法。
- 前記方法が、物理的気相成長法(PVD)、化学蒸着(CVD)、原子層堆積(ALD)または電気めっきもしくは化学めっきなどの薄膜堆積によって、工程b)の後、最上層を堆積させるさらなる工程c)を含む、請求項11〜16のいずれか一項に記載の方法。
- 前記方法が、物理的気相成長法(PVD)、化学蒸着(CVD)、原子層堆積(ALD)または電気めっきもしくは化学めっきなどの薄膜堆積によって、工程b)の前に最上層を堆積させるさらなる工程c)を含む、請求項11〜17のいずれか一項に記載の方法。
- 工程a)およびb)が、工程c)の前に少なくとも1回反復される、請求項11〜18のいずれか一項に記載の方法。
- 工程a)、b)およびc)が、少なくとも1回反復される、請求項11〜19のいずれか一項に記載の方法。
- コーティングされる前記物体が金属であり、前記方法が、工程a)の前に前記物体を浸炭するさらなる工程i)を含む、請求項11〜20のいずれか一項に記載の方法。
- Ni−Pの層が、工程a)の前に前記物体にコーティングされる、請求項11〜21のいずれか一項に記載の方法。
- コーティングされる前記物体が金属であり、前記物体の金属の硬化が、コーティングされる前記物体が加熱処理されるのと同時に実施される、請求項11〜22のいずれか一項に記載の方法。
- 請求項1〜10のいずれか一項に記載のコーティングまたは請求項11〜23のいずれか一項に記載の方法によって生成されたコーティングを含むことを特徴とする、コーティングされた物体。
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