JP7238089B2 - 半導体装置 - Google Patents
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- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
- G02F1/1362—Active matrix addressed cells
- G02F1/1368—Active matrix addressed cells in which the switching element is a three-electrode device
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- G09G3/035—Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes specially adapted for displays having non-planar surfaces, e.g. curved displays for flexible display surfaces
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- G09G3/34—Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes for presentation of an assembly of a number of characters, e.g. a page, by composing the assembly by combination of individual elements arranged in a matrix no fixed position being assigned to or needed to be assigned to the individual characters or partial characters by control of light from an independent source
- G09G3/36—Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes for presentation of an assembly of a number of characters, e.g. a page, by composing the assembly by combination of individual elements arranged in a matrix no fixed position being assigned to or needed to be assigned to the individual characters or partial characters by control of light from an independent source using liquid crystals
- G09G3/3611—Control of matrices with row and column drivers
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- G09G5/00—Control arrangements or circuits for visual indicators common to cathode-ray tube indicators and other visual indicators
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- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
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- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/128—Active-matrix OLED [AMOLED] displays comprising two independent displays, e.g. for emitting information from two major sides of the display
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- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/50—OLEDs integrated with light modulating elements, e.g. with electrochromic elements, photochromic elements or liquid crystal elements
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- H10K77/00—Constructional details of devices covered by this subclass and not covered by groups H10K10/80, H10K30/80, H10K50/80 or H10K59/80
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- H10K77/111—Flexible substrates
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- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
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- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
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- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
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- G02F1/133512—Light shielding layers, e.g. black matrix
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- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
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- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
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- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/13356—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors characterised by the placement of the optical elements
- G02F1/133565—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors characterised by the placement of the optical elements inside the LC elements, i.e. between the cell substrates
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- G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
- G02F1/1362—Active matrix addressed cells
- G02F1/136227—Through-hole connection of the pixel electrode to the active element through an insulation layer
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- G—PHYSICS
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- G02F1/1368—Active matrix addressed cells in which the switching element is a three-electrode device
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- G02F2201/44—Arrangements combining different electro-active layers, e.g. electrochromic, liquid crystal or electroluminescent layers
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- G—PHYSICS
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- G09G2320/04—Maintaining the quality of display appearance
- G09G2320/043—Preventing or counteracting the effects of ageing
- G09G2320/045—Compensation of drifts in the characteristics of light emitting or modulating elements
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- G—PHYSICS
- G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
- G09G—ARRANGEMENTS OR CIRCUITS FOR CONTROL OF INDICATING DEVICES USING STATIC MEANS TO PRESENT VARIABLE INFORMATION
- G09G2330/00—Aspects of power supply; Aspects of display protection and defect management
- G09G2330/12—Test circuits or failure detection circuits included in a display system, as permanent part thereof
-
- G—PHYSICS
- G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
- G09G—ARRANGEMENTS OR CIRCUITS FOR CONTROL OF INDICATING DEVICES USING STATIC MEANS TO PRESENT VARIABLE INFORMATION
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- G09G2380/02—Flexible displays
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- G—PHYSICS
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- G09G3/36—Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes for presentation of an assembly of a number of characters, e.g. a page, by composing the assembly by combination of individual elements arranged in a matrix no fixed position being assigned to or needed to be assigned to the individual characters or partial characters by control of light from an independent source using liquid crystals
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- G09G3/3648—Control of matrices with row and column drivers using an active matrix
- G09G3/3666—Control of matrices with row and column drivers using an active matrix with the matrix divided into sections
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- G—PHYSICS
- G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
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- G09G3/20—Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes for presentation of an assembly of a number of characters, e.g. a page, by composing the assembly by combination of individual elements arranged in a matrix no fixed position being assigned to or needed to be assigned to the individual characters or partial characters
- G09G3/34—Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes for presentation of an assembly of a number of characters, e.g. a page, by composing the assembly by combination of individual elements arranged in a matrix no fixed position being assigned to or needed to be assigned to the individual characters or partial characters by control of light from an independent source
- G09G3/36—Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes for presentation of an assembly of a number of characters, e.g. a page, by composing the assembly by combination of individual elements arranged in a matrix no fixed position being assigned to or needed to be assigned to the individual characters or partial characters by control of light from an independent source using liquid crystals
- G09G3/3611—Control of matrices with row and column drivers
- G09G3/3696—Generation of voltages supplied to electrode drivers
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier
- H01L27/12—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body
- H01L27/1214—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs
- H01L27/1222—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs with a particular composition, shape or crystalline structure of the active layer
- H01L27/1225—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs with a particular composition, shape or crystalline structure of the active layer with semiconductor materials not belonging to the group IV of the periodic table, e.g. InGaZnO
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching, or capacitors or resistors with at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
- H01L29/772—Field effect transistors
- H01L29/78—Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate
- H01L29/786—Thin film transistors, i.e. transistors with a channel being at least partly a thin film
- H01L29/7869—Thin film transistors, i.e. transistors with a channel being at least partly a thin film having a semiconductor body comprising an oxide semiconductor material, e.g. zinc oxide, copper aluminium oxide, cadmium stannate
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K2102/00—Constructional details relating to the organic devices covered by this subclass
- H10K2102/301—Details of OLEDs
- H10K2102/311—Flexible OLED
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/121—Active-matrix OLED [AMOLED] displays characterised by the geometry or disposition of pixel elements
- H10K59/1213—Active-matrix OLED [AMOLED] displays characterised by the geometry or disposition of pixel elements the pixel elements being TFTs
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/124—Insulating layers formed between TFT elements and OLED elements
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/30—Devices specially adapted for multicolour light emission
- H10K59/38—Devices specially adapted for multicolour light emission comprising colour filters or colour changing media [CCM]
-
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Description
特性を利用することで機能しうる装置全般を指す。表示装置、発光装置、記憶装置、電気
光学装置、半導体回路及び電子機器は、半導体装置を有する場合がある。
の技術分野は、物、方法、または、製造方法に関するものである。または、本発明の一態
様は、プロセス、マシン、マニュファクチャ、または、組成物(コンポジション・オブ・
マター)に関するものである。
明るい環境では反射型素子、暗い環境では発光型素子を用いることで、外光環境に依存し
ない良好な表示品質と、消費電力が少ない表示装置、を提供することができる。
以下、OSトランジスタと呼称する)を、液晶ディスプレイや有機EL(エレクトロルミ
ネッセンス)ディスプレイなどの表示装置に用いる技術が注目されている。
る際のリフレッシュ頻度を少なくし、液晶ディスプレイや有機ELディスプレイの消費電
力を低減する技術が開示されている(特許文献2、特許文献3)。なお、本明細書におい
て、上述の表示装置の消費電力を減らす技術を、アイドリングストップと呼称する。
可能な情報端末を提供することを課題の一とする。また、本発明の一態様は、消費電力の
小さい情報端末を提供することを課題の一とする。本発明の一態様は、新規な情報端末を
提供することを課題の一とする。また、本発明の一態様は、新規な半導体装置を提供する
ことを課題の一とする。
一態様は、これらの課題の全て解決する必要はない。また、列記した以外の課題が、明細
書、図面、請求項などの記載から、自ずと明らかとなるものであり、これらの課題も、本
発明の一態様の課題となり得る。
示部に有する。第1の画素は、液晶素子を有する。第2の画素は、発光素子を有する。セ
ンサ素子は、表示部の凸方向の曲げに応じて抵抗値が変化する第1の曲げセンサと、表示
部の凹方向の曲げに応じて抵抗値が変化する第2の曲げセンサと、を有する。センサ素子
の出力に応じて、発光素子の輝度を制御する。
示部に有する。第1の画素は、液晶素子を有する。第2の画素は、発光素子と、発光素子
に電流を供給するトランジスタと、容量素子と、を有する。センサ素子は、表示部の凸方
向の曲げに応じて抵抗値が変化する第1の曲げセンサと、表示部の凹方向の曲げに応じて
抵抗値が変化する第2の曲げセンサと、を有する。センサ素子は、容量素子を介してトラ
ンジスタのゲートと電気的に接続されている。
示部に有する。第1の画素は、液晶素子を有する。第2の画素は、発光素子と、発光素子
に電流を供給するトランジスタと、を有する。センサ素子は、表示部の凸方向の曲げに応
じて抵抗値が変化する第1の曲げセンサと、表示部の凹方向の曲げに応じて抵抗値が変化
する第2の曲げセンサと、を有する。センサ素子は、トランジスタのバックゲートと電気
的に接続されている。
の抵抗素子と、を有していてもよい。第1の抵抗素子の第1の端子は、第1の曲げセンサ
の第1の端子と電気的に接続される。第2の抵抗素子の第1の端子は、第2の曲げセンサ
の第1の端子と電気的に接続される。第1の抵抗素子の第2の端子は、第2の曲げセンサ
の第2の端子と電気的に接続される。第2の抵抗素子の第2の端子は、第1の曲げセンサ
の第2の端子と電気的に接続される。表示部が凸方向に曲がっている場合、センサ素子は
第1の曲げセンサの第1の端子の電位を出力する。表示部が凹方向に曲がっている場合、
センサ素子は第2の曲げセンサの第1の端子の電位を出力する。
よい。
供することができる。消費電力の小さい情報端末を提供することができる。新規な情報端
末を提供することができる。新規な半導体装置を提供することができる。
一態様は、これらの効果の全てを有する必要はない。なお、これら以外の効果は、明細書
、図面、請求項などの記載から、自ずと明らかとなるものであり、明細書、図面、請求項
などの記載から、これら以外の効果を抽出することが可能である。
なる形態で実施することが可能であり、趣旨及びその範囲から逸脱することなくその形態
及び詳細を様々に変更し得ることは当業者であれば容易に理解される。従って、本発明は
、以下の実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。
がある。よって、必ずしもそのスケールに限定されない。なお図面は、理想的な例を模式
的に示したものであり、図面に示す形状または値などに限定されない。
に、複数の構成例が示される場合は、互いの構成例を適宜組み合わせることが可能である
。
本実施の形態は、本発明の一態様である情報端末について説明する。
16を凸方向に曲げることが可能である。図1(C)に示すように表示領域16を凹方向
に曲げることが可能である。
該液晶素子は、光を反射する機能を有する電極を有することが好ましい。情報端末10は
、液晶素子と発光素子とを独立して制御することにより、表示領域16に画像や文字など
の情報を表示する。
曲がり具合(ディスプレイのひずみ)を検出する。
ける。表示領域16が凸方向に曲がると、外光を受光できる点(角度)が増えることによ
って表示領域16の外光の受光量が増加する。この受光量の増加によって液晶素子の反射
光量が増加する。表示領域16が凹方向に曲がると、外光の一部が遮られることによって
表示領域16の外光の受光量が減少する。この受光量の減少によって液晶素子の反射光量
が減少する。
じて、発光素子の輝度を補正する。表示領域16が凸方向に曲がることによって液晶素子
の反射光量が増加する場合には、情報端末10は発光素子の輝度を低くする。発光素子の
輝度を低くした分だけ、消費電力を削減することができる。表示領域16が凹方向に曲が
ることによって液晶素子の反射光量が減少する場合には、情報端末10は発光素子の輝度
を高くする。発光素子の輝度を高くして液晶素子の反射光量の減少分を補うことで、表示
品位を確保することができる。
とノードFD2との間に容量素子C3を設けている点を特徴の一とする。以下に、表示画
素11の詳細を説明する。
ジスタM1のオン又はオフは、ゲート線GL_Lに与えられる電位によって制御される。
トランジスタM1がオンになると、画素120用のビデオデータがソース線SLからノー
ドFD1に書き込まれる。容量素子C1は、ノードFD1の電位即ち画素120用のビデ
オデータに応じた電荷を保持する。液晶素子180は、ノードFD1の電位に応じて透過
率を制御する。
2、容量素子C3及び発光素子170を有する。トランジスタM4のオン又はオフは、信
号線RESに与えられる電位によって制御される。トランジスタM4がオンになると、ノ
ードFD2の電位が電源線VRESの電位にリセットされる。トランジスタM2のオン又
はオフは、ゲート線GL_Eに与えられる電位によって制御される。トランジスタM2が
オンになると、画素110用のビデオデータがソース線SLからノードFD2に書き込ま
れる。容量素子C2は、ノードFD2の電位即ち画素110用のビデオデータに応じた電
荷を保持する。トランジスタM3は、ノードFD2の電位に応じて発光素子170に供給
する電流を制御する。発光素子170は、トランジスタM3から供給される電流に応じて
発光する。すなわち、発光素子170の輝度又は発光強度は、ノードFD2の電位に依存
する。
接続される。ノードSINの電位が表示領域16の曲げ具合に応じて変化すると、容量素
子C3の容量結合によってノードFD2の電位が変化する。そして、トランジスタM3の
ドレイン電流が変化し、発光素子170の輝度が変化する。
ンとの間を流れる電流(オフ電流)が小さいトランジスタを用いることが好適である。こ
こでは、オフ電流が小さいとは、ソースとドレインとの間の電圧を1.8Vとし、チャネ
ル幅1μmあたりの規格化されたオフ電流が、室温において1×10-20A以下、85
℃において1×10-18A以下、又は125℃において1×10-16A以下、である
ことをいう。このようにオフ電流が低いトランジスタとしては、OSトランジスタが挙げ
られる。
120および画素110は、アイドリングストップを行うことができる。その結果、消費
電力の小さい情報端末10を提供できる。
-Zn酸化物、In-M-Zn酸化物(Mは、Ti、Ga、Y、Zr、La、Ce、Nd
、SnまたはHf)などが挙げられる。また、上記酸化物半導体は、Inを含む酸化物に
限定されない。例えば、Zn酸化物、Zn-Sn酸化物、Ga-Sn酸化物であっても構
わない。
d Composite)-OSを有することが好ましい。CAC-OSを有するOSト
ランジスタは、オン電流が大きく、信頼性が高い。なお、CAC-OSの詳細は後述する
。
表示領域16が凸方向に曲がっている場合にはノードSINの電位を上昇させ、表示領域
16が凹方向に曲がっている場合にはノードSINの電位を下降させる。以下に、センサ
素子130の詳細を説明する。
、抵抗素子DR、トランジスタMC1、トランジスタMD1、トランジスタMC2、トラ
ンジスタMD2、トランジスタMC3、トランジスタMD3を有する。トランジスタMC
1のオン又はオフは、信号線CSENの電位に従って制御される。トランジスタMC1が
オンになると、ノードCNDとノードSINが導通状態になる。トランジスタMD1のオ
ン又はオフは、信号線DSENの電位に従って制御される。トランジスタMD1がオンに
なると、ノードDNDとノードSINが導通状態になる。トランジスタMC3のオン又は
オフは、信号線CSELの電位に従って制御される。トランジスタMC3がオンになる場
合、ノードCNDの電位に応じた出力がCOUTより出力される。トランジスタMD3の
オン又はオフは、信号線DSELの電位に従って制御される。トランジスタMD3がオン
になる場合、ノードDNDの電位に応じた出力がDOUTより出力される。出力COUT
及びDOUTからは、当該センサ素子で感知した信号がアナログデータとして出力される
。
サDRgは表示領域16の凹方向のひずみを検出する。曲げセンサは、一方向に曲げると
抵抗値が大きくなるセンサである。反対方向に曲げセンサを曲げても曲げセンサの抵抗値
は変化しない。センサ素子130において、曲げセンサCRgは、表示領域16が凸方向
に曲がった時に抵抗値が変化する向きに配置し、曲げセンサDRgは、表示領域16が凹
方向に曲がった時に抵抗値が変化する向きに配置するのが好ましい。そうすることで、表
示領域16が凸方向に曲がった場合、曲げセンサCRgの抵抗値が大きくなり、曲げセン
サDRgの抵抗値は変化しない。表示領域16が凹方向に曲がった場合には、曲げセンサ
CRgの抵抗値は変化せず、曲げセンサDRgの抵抗値が大きくなる。
NDの電位に影響を与える。配線SANOの電位が配線SCATHの電位よりも高く、表
示領域16が凸方向に曲がることで曲げセンサCRgの抵抗値が大きくなった場合、ノー
ドCNDの電位が下降する。表示領域16が凹方向に曲がることで曲げセンサDRgの抵
抗値が大きくなった場合、ノードDNDの電位が上昇する。
1)、式(2)で表せる。ただし、R1Cは曲げセンサCRgの抵抗値であり、R1Dは
曲げセンサDRgの抵抗値であり、R2Cは抵抗素子CRの抵抗値であり、R2Dは抵抗
素子DRの抵抗値であり、Vaは配線SANOの電圧であり、Vc(Va>Vc)は配線
SCATHの電圧である。式(1)より、ノードCNDの電位(Vcnd)は、曲げセン
サCRgの抵抗値が正の方向に変化した場合に下降し、曲げセンサCRgの抵抗値が負の
方向に変化した場合に上昇することが分かる。式(2)より、ノードDNDの電位(Vd
nd)は、曲げセンサDRgの抵抗値が正の方向に変化した場合に上昇し、曲げセンサD
Rgの抵抗値が負の方向に変化した場合に下降することが分かる。
INの電位を制御する。表示領域16が凸方向に曲がっている場合、センサ素子130は
、トランジスタMC1をオンにすることによってノードCNDの電位をノードSINに出
力する。表示領域16が凸方向に曲がっており、かつ、トランジスタMC1がオンの場合
、ノードCNDの電位は比較的低い値であるため、ノードSINの電位は下降する。表示
領域16が凹方向に曲がっている場合、センサ素子130は、トランジスタMD1をオン
にすることによってノードDNDの電位をノードSINに出力する。表示領域16が凹方
向に曲がっており、かつ、トランジスタMD1がオンの場合、ノードDNDの電位は高い
値であるため、ノードSINの電位は上昇する。
有することにより、表示領域16の曲がり具合に応じて表示領域16の明るさを補正する
ことができる。表示領域16が凸方向に曲がった場合、画素120では液晶素子180の
反射光量が増加する。これに対し、画素110では、センサ素子130がノードSINの
電位を低下させることで、容量素子C3の容量結合によってノードFD2の電位が低下す
る。そして、発光素子170に供給される電流が小さくなり、発光素子170の輝度が低
くなる。一方で、表示領域16が凹方向に曲がった場合、画素120では液晶素子180
の反射光量が減少する。これに対し、画素110では、センサ素子130がノードSIN
の電位を上昇させることで、容量素子C3の容量結合によってノードFD2の電位が上昇
する。そして、発光素子170に供給される電流が大きくなり、発光素子170の輝度が
高くなる。
報端末10は、表示領域16の明るさを補正するために、ビデオデータの再書き込み、特
殊な外部回路やドライバの動作を必要としない。そのため、消費電力を削減することがで
きる。以上のような補正を行うことにより、情報端末10は、表示領域を曲げた際に、画
素110における発光素子170の輝度を最適な状態に設定することができ、表示品質を
損なう事無く、消費電力を削減することができる。
0は、表示画素11(1、1)乃至表示画素11(m、n)というm(mは自然数)×n
(nは自然数)の表示画素11と、センサ素子130と、を有する。
画素ブロック50で、一斉に補正を行うことができる。ただし、信号線CSEN及び信号
線DSENを画素ブロック50毎に制御し、画素ブロックごとに補正を行ってもよい。そ
うすることで、表示領域16を複雑に折り曲げた場合でも、領域ごとに最適な補正を行う
ことができる。
0の輝度を変更する場合のタイミングチャートを示す。なお、液晶素子180による表示
を行う場合の前提として、パネルに照射される外光が一定以上明るく、液晶素子180に
よる表示を認識することができるという条件において、情報端末10を用いることができ
る。
L[2]、ゲート線GL_E[2]乃至ゲート線GL_L[n]、ゲート線GL_E[n
]という順で、ゲート線が順次選択され、表示画素11のそれぞれに画素120用のビデ
オデータ及び画素110用のビデオデータが書き込まれる。
Rgの抵抗値が増加するため、ノードDNDの電位が増加しVhとなる。時刻T2にて、
信号線DSENの電位が、ローレベルからハイレベルへと変化し、トランジスタMD1を
介してノードSINに伝わるため、ノードSINの電位がVhとなる。この時、ノードF
D2の電位が、容量素子C3を介した容量結合により増加する。従って、発光素子170
の輝度は増加する。時刻T3にて、信号線DSENの電位がローレベルとなり、トランジ
スタMD1がオフとなる。ここで、ノードSIN及びノードFD2の電位は確定され、当
該ノードFD2の電位に応じて、発光素子170は発光する。
サCRgの抵抗値が増加するため、ノードCNDの電位が低下しVlとなる。時刻T4に
て、信号線CSENの電位が、ローレベルからハイレベルへと変化し、トランジスタMC
1を介してノードSINに伝わるため、ノードSINの電位がVlとなる。この時、ノー
ドFD2の電位が、容量素子C3を介した容量結合により低下する。従って、発光素子1
70の輝度は低下する。時刻T5にて、信号線CSENの電位がローレベルとなり、トラ
ンジスタMC1がオフとなる。ここで、ノードSIN、ノードFD2の電位は確定され、
当該ノードFD2の電位に応じて、発光素子170は発光する。
を説明する。
EN、信号線CSEL、信号線DSEL、出力COUT、出力DOUTをピックアップし
、センサ素子130の周辺回路と組み合わせた全体構成を示す。先に説明したように、ト
ランジスタMC1が導通する場合、ノードSINの電位は、式(1)で表される。また、
トランジスタMD1が導通する場合、ノードSINの電位は式(2)で表される。
は、マルチプレクサ60Cにて所望の列の出力が選択される。また、信号線DSELによ
り選択された行の画素ブロックの出力DOUTは、マルチプレクサ60Dにて所望の列の
出力が選択される。具体的には、信号線SECにより選択されたトランジスタが導通し、
対応する列のCOUTがマルチプレクサ60Cより出力される。尚、マルチプレクサ60
Dの回路構成は、マルチプレクサ60Cと同様とする。
してデジタル値に変換され、判定回路80へ出力される。判定回路80は、凹方向へのひ
ずみと凸方向へのひずみを判定する機能を有する。具体的には、COUT及びDOUTよ
り出力された出力値を解析し、ディスプレイがどの方向にひずんでいるのか判定する。ま
た、判定回路80は、ディスプレイのひずみの判定結果に基づき、信号線CSEN、DS
ENに供給する電位を生成する機能を有する。具体的には、凹方向へのひずみを検出した
場合は、信号線DSENに“H”レベルの電位が供給され、凸方向へのひずみを検出した
場合は、信号線CSENに“H”レベルの電位が供給される。
、上部カバー31と下部カバー36との間に、タッチパネル32、FPC350に接続さ
れた表示パネル30、フレーム33、プリント基板34およびバッテリー35を有する。
上部カバー31及び下部カバー36は、表示パネル30のサイズに合わせて、形状や寸法
を適宜変更することができる。また、上部カバー31、下部カバー36、表示パネル30
およびフレーム33は可撓性を有することが好ましい。これらモジュールが可撓性を有す
ることで、情報端末10も可撓性を有する。
びソースドライバ15を有する。表示領域16は、複数の画素ブロック50を有する。
aは、容量素子C3を有していない点、トランジスタM3の代わりにトランジスタM3a
を有している点で、表示画素11と相違する。トランジスタM3aは、ダブルゲート構造
である。トランジスタM3aは、第1のゲートがノードFD2と接続され、第2のゲート
(バックゲート)がノードSINと接続される。
170の輝度を補正する。表示領域16が凸方向に曲がることによってノードSINの電
位が低下した場合、トランジスタM3aの第2のゲートの電位が低下することによってト
ランジスタM3aの閾値電圧が大きくなる。すると、トランジスタM3aのドレイン電流
が小さくなるため、発光素子170の輝度が小さくなる。表示領域16が凹方向に曲がる
ことによってノードSINの電位が上昇した場合、トランジスタM3aの第2のゲートの
電位が上昇することによってトランジスタM3aの閾値電圧が小さくなる。すると、トラ
ンジスタM3aのドレイン電流が大きくなるため、発光素子170の輝度が大きくなる。
み合わせて実施することができる。
本実施の形態では、表示パネル30の構成例について、図10を用いて説明を行う。
0を有する。またフィルム200と絶縁層220の間に、曲げセンサ素子190、発光素
子170、トランジスタ271、トランジスタ272、トランジスタ273、着色層24
1等を有する。また絶縁層220とフィルム300の間に、液晶素子180、着色層31
1等を有する。またフィルム300と絶縁層220は接着層302を介して接着され、フ
ィルム200と絶縁層220は接着層201を介して接着されている。
。例えば、トランジスタ273は、トランジスタM1に相当する。例えば、トランジスタ
272は、トランジスタM3に相当する。
ルム200およびフィルム300として、金属、合金、樹脂もしくはガラス、またはそれ
らの繊維などを用いることができる。樹脂としては、例えば、ポリエステル、ポリオレフ
ィン、ポリアミド(ナイロン、アラミドなど)、ポリイミド、ポリカーボネート、アクリ
ル、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)などがある。
光素子170と電気的に接続する。トランジスタ272とトランジスタ273は、いずれ
も絶縁層220のフィルム200側の面上に形成されているため、これらを同一の工程を
用いて作製することができる。
は、導電層191、導電層192a、導電層192b、複数のクラック194を含む導電
層193を有する。導電層191は導電層193よりも高抵抗であり、導電層191を高
抵抗層と呼び、導電層193を低抵抗層と呼ぶ。曲げセンサ素子190では、複数のクラ
ック194が開くことにより、導電層192aと導電層192bとの間の抵抗値が大きく
なる。
図10では、表示領域が凹方向に曲がる場合に、複数のクラック194が開いて曲げセン
サ素子190の抵抗値が大きくなる。つまり、図10に示す曲げセンサ素子190は曲げ
センサDRgに相当する。一方で、曲げセンサ素子190を図10と反対向きに配置した
場合、表示領域が凸方向に曲がるときに、複数のクラック194が開いて曲げセンサ素子
190の抵抗値が大きくなる。つまり、この場合の曲げセンサ素子190は曲げセンサC
Rgに相当する。このように、曲げセンサCRgと曲げセンサDRgとは反対向きに配置
されている(図11(A)及び図11(B)参照)。
0の共通電極として機能する導電層321、配向膜182、絶縁層314等が設けられて
いる。絶縁層314は、液晶素子180のセルギャップを保持するためのスペーサとして
機能する。
絶縁層214、絶縁層215等の絶縁層が設けられている。絶縁層211は、その一部が
各トランジスタのゲート絶縁層として機能する。絶縁層212、絶縁層213、及び絶縁
層214は、各トランジスタを覆って設けられている。また絶縁層214を覆って絶縁層
215が設けられている。絶縁層214及び絶縁層215は、平坦化層としての機能を有
する。なお、ここではトランジスタ等を覆う絶縁層として、絶縁層212、絶縁層213
、絶縁層214の3層を有する場合について示しているが、これに限られず4層以上であ
ってもよいし、単層、または2層であってもよい。また平坦化層として機能する絶縁層2
14は、必ずしも設けなくてもよい。
ゲートとして機能する導電層221、一部がソースまたはドレインとして機能する導電層
222、半導体層231を有する。ここでは、同一の導電膜を加工して得られる複数の層
に、同じハッチングパターンを付している。
3、導電層321が積層された積層構造を有する。また導電層322のフィルム200側
に接して、可視光を反射する導電層323が設けられている。導電層323は開口330
を有する。また導電層322及び導電層321は可視光を透過する。また液晶183と導
電層322の間に配向膜181が設けられ、液晶183と導電層321の間に配向膜18
2が設けられている。また、フィルム300の外側の面には、偏光板301を有する。
は可視光を透過する機能を有する。フィルム300側から入射した光は、偏光板301に
より偏光され、導電層321、液晶183を透過し、導電層323で反射する。そして液
晶183及び導電層321を再度透過して、偏光板301に達する。このとき、導電層3
23と導電層321の間に与える電圧によって液晶の配向を制御し、光の光学変調を制御
することができる。すなわち、偏光板301を介して射出される光の強度を制御すること
ができる。また光は着色層311によって特定の波長領域以外の光が吸収されることによ
り、取り出される光は、例えば赤色を呈する光となる。
層220側から導電層225、EL層173、及び導電層172の順に積層された積層構
造を有する。絶縁層216が導電層225の端部を覆っている。また導電層172を覆っ
て導電層171が設けられている。導電層171は可視光を反射する材料を含み、導電層
225及び導電層172は可視光を透過する材料を含む。発光素子170が発する光は、
着色層241、絶縁層220、開口330、導電層321等を介して、フィルム300側
に射出される。
れていることが好ましい。これにより、開口330と重なる領域においてもそれ以外の領
域と同様に液晶183が配向するため、これらの領域の境界部で液晶の配向不良が生じ、
意図しない光が漏れてしまうことを抑制できる。
もよいが、円偏光板を用いることもできる。円偏光板としては、例えば直線偏光板と1/
4波長位相差板を積層したものを用いることができる。これにより、外光反射を抑制する
ことができる。また、偏光板の種類に応じて、液晶素子180に用いる液晶素子のセルギ
ャップ、配向、駆動電圧等を調整することで、所望のコントラストが実現されるようにす
ればよい。
170の導電層225と電気的に接続されている。
23と電気的に接続されている。導電層323と導電層322は接して設けられ、これら
は電気的に接続されている。ここで、接続部252は、絶縁層220に設けられた開口を
介して、絶縁層220の両面に設けられる導電層同士を接続する部分である。
る。接続部251は、接続層260を介してFPC350と電気的に接続されている。接
続部251の上面は、導電層322と同一の導電膜を加工して得られた導電層が露出して
いる。これにより、接続部251とFPC350とを接続層260を介して電気的に接続
することができる。
03を介して、導電層322と同一の導電膜を加工して得られた導電層と、導電層321
の一部とが、電気的に接続されている。したがって、フィルム200側に接続されたFP
C350から入力される信号または電位は、接続体303を介して、フィルム300側に
形成された導電層321に供給することができる。
ては、有機樹脂またはシリカなどの粒子の表面を金属材料で被覆したものを用いることが
できる。金属材料としてニッケルや金を用いると接触抵抗を低減できるため好ましい。ま
たニッケルをさらに金で被覆するなど、2種類以上の金属材料を層状に被覆させた粒子を
用いることが好ましい。また接続体303として、弾性変形、または塑性変形する材料を
用いることが好ましい。このとき導電性の粒子である接続体303は、図10に示すよう
に上下方向に潰れた形状となる場合がある。こうすることで、接続体303と、これと電
気的に接続する導電層との接触面積が増大し、接触抵抗を低減できるほか、接続不良など
の不具合の発生を抑制することができる。
化前の接着層302に接続体303を分散させておけばよい。
を介して、導電層225と同一の導電膜を加工して得られた導電層と、導電層192bの
一部とが、電気的に接続されている。
ている。
される半導体層231を2つのゲートで挟持する構成が適用されている。一方のゲートは
導電層221により、他方のゲートは絶縁層212を介して半導体層231と重なる導電
層223により構成されている。このような構成とすることで、トランジスタの閾値電圧
を制御することができる。このとき、2つのゲートを接続し、これらに同一の信号を供給
することによりトランジスタを駆動してもよい。このようなトランジスタは他のトランジ
スタと比較して電界効果移動度を高めることが可能であり、オン電流を増大させることが
できる。その結果、高速駆動が可能な回路を作製することができる。さらには、回路部の
占有面積を縮小することが可能となる。オン電流の大きなトランジスタを適用することで
、表示パネルを大型化、または高精細化したときに配線数が増大したとしても、各配線に
おける信号遅延を低減することが可能であり、表示ムラを抑制することができる。
タであることが好ましい。そのため、半導体層231は酸化物半導体を用いることが好ま
しい。半導体層231に用いることが可能な酸化物半導体は、In-Ga酸化物、In-
Zn酸化物、In-M-Zn酸化物(Mは、Al、Ga、Y、Cu、V、Be、B、Si
、Ti、Fe、Ni、Ge、Zr、Mo、La、Ce、Nd、Hf、Ta、W、Mg、ま
たはSn)などが挙げられる。また、上記酸化物半導体は、Inを含む酸化物に限定され
ない。例えば、Zn酸化物、Zn-Sn酸化物、Ga-Sn酸化物であっても構わない。
タは、同じ構造であってもよい。またゲートドライバ14が有する複数のトランジスタは
、全て同じ構造であってもよいし、異なる構造のトランジスタを組み合わせて用いてもよ
い。また、表示画素11が有する複数のトランジスタは、全て同じ構造であってもよいし
、異なる構造のトランジスタを組み合わせて用いてもよい。
などの不純物が拡散しにくい材料を用いることが好ましい。すなわち、絶縁層212また
は絶縁層213はバリア膜として機能させることができる。このような構成とすることで
、トランジスタに対して外部から不純物が拡散することを効果的に抑制することが可能と
なり、信頼性の高い表示パネルを実現できる。
られている。絶縁層313は、平坦化層としての機能を有していてもよい。絶縁層313
により、導電層321の表面を概略平坦にできるため、液晶183の配向状態を均一にで
きる。
板上に、導電層322、導電層323、絶縁層220を順に形成し、その後、トランジス
タ272、トランジスタ273、発光素子170、等を形成した後、接着層201を用い
てフィルム200と支持基板を貼り合せる。その後、剥離層と絶縁層220、及び剥離層
と導電層322のそれぞれの界面で剥離することにより、支持基板及び剥離層を除去する
。またこれとは別に、着色層311、遮光層312、導電層321等をあらかじめ形成し
たフィルム300を準備する。そしてフィルム200またはフィルム300に液晶183
を滴下し、接着層302によりフィルム200とフィルム300を貼り合せることで、表
示パネル30を作製することができる。
択することができる。特に、剥離層としてタングステンなどの高融点金属材料を含む層と
当該金属材料の酸化物を含む層を積層して用い、剥離層上の絶縁層220として、窒化シ
リコンや酸化窒化シリコン、窒化酸化シリコン等を複数積層した層を用いることが好まし
い。剥離層に高融点金属材料を用いると、これよりも後に形成する層の形成温度を高める
ことが可能で、不純物の濃度が低減され、信頼性の高い表示装置を実現できる。
等の酸化物または窒化物を用いることが好ましい。酸化物半導体を用いる場合には、水素
、ボロン、リン、窒素、及びその他の不純物の濃度、並びに酸素欠損量の少なくとも一が
、トランジスタに用いる半導体層に比べて高められた材料を、導電層322に用いればよ
い。
を提供することができる。また、視認性の優れた情報端末を提供することができる。また
、新規な情報端末を提供することができる。
<CAC-OSの構成>
以下では、本発明の一態様で開示されるトランジスタに用いることができるCAC(C
loud-Aligned Composite)-OSの構成について説明する。
以下、好ましくは、1nm以上2nm以下、またはその近傍のサイズで偏在した材料の一
構成である。なお、以下では、酸化物半導体において、一つあるいはそれ以上の金属元素
が偏在し、該金属元素を有する領域が、0.5nm以上10nm以下、好ましくは、1n
m以上2nm以下、またはその近傍のサイズで混合した状態をモザイク状、またはパッチ
状ともいう。
および亜鉛を含むことが好ましい。また、それらに加えて、アルミニウム、ガリウム、イ
ットリウム、銅、バナジウム、ベリリウム、ホウ素、シリコン、チタン、鉄、ニッケル、
ゲルマニウム、ジルコニウム、モリブデン、ランタン、セリウム、ネオジム、ハフニウム
、タンタル、タングステン、マグネシウム、またはスズなどから選ばれた一種、または複
数種が含まれていてもよい。
Ga-Zn酸化物を、特にCAC-IGZOと呼称してもよい)とは、インジウム酸化物
(以下、InOX1(X1は0よりも大きい実数)とする)、またはインジウム亜鉛酸化
物(以下、InX2ZnY2OZ2(X2、Y2、およびZ2は0よりも大きい実数)と
する)と、ガリウム酸化物(以下、GaOX3(X3は0よりも大きい実数)とする)、
またはガリウム亜鉛酸化物(以下、GaX4ZnY4OZ4(X4、Y4、およびZ4は
0よりも大きい実数)とする)などと、に材料が分離することでモザイク状となり、モザ
イク状のInOX1、またはInX2ZnY2OZ2が、膜中に均一に分布した構成(以
下、クラウド状ともいう)である。
、またはInOX1が主成分である領域とが、混合している構成を有する複合酸化物半導
体である。なお、本明細書において、例えば、第1の領域の元素Mに対するInの原子数
比が、第2の領域の元素Mに対するInの原子数比よりも大きいことを、第1の領域は、
第2の領域と比較して、Inの濃度が高いとする。
場合がある。代表例として、InGaO3(ZnO)m1(m1は自然数)、またはIn
(1+x0)Ga(1-x0)O3(ZnO)m0(-1≦x0≦1、m0は任意数)で
表される結晶性の化合物が挙げられる。
ligned crystalline)構造を有する。なお、CAAC構造とは、複数
のIGZOのナノ結晶がc軸配向を有し、かつa-b面においては配向せずに連結した結
晶構造である。
Ga、Zn、およびOを含む材料構成において、一部にGaを主成分とするナノ粒子状に
観察される領域と、一部にInを主成分とするナノ粒子状に観察される領域とが、それぞ
れモザイク状にランダムに分散している構成をいう。従って、CAC-OSにおいて、結
晶構造は副次的な要素である。
。例えば、Inを主成分とする膜と、Gaを主成分とする膜との2層からなる構造は、含
まない。
が主成分である領域とは、明確な境界が観察できない場合がある。
ム、ホウ素、シリコン、チタン、鉄、ニッケル、ゲルマニウム、ジルコニウム、モリブデ
ン、ランタン、セリウム、ネオジム、ハフニウム、タンタル、タングステン、またはマグ
ネシウムなどから選ばれた一種、または複数種の金属元素が含まれている場合、CAC-
OSは、一部に該金属元素を主成分とするナノ粒子状に観察される領域と、一部にInを
主成分とするナノ粒子状に観察される領域とが、それぞれモザイク状にランダムに分散し
ている構成をいう。
とができる。また、CAC-OSをスパッタリング法で形成する場合、成膜ガスとして、
不活性ガス(代表的にはアルゴン)、酸素ガス、及び窒素ガスの中から選ばれたいずれか
一つまたは複数を用いればよい。また、成膜時の成膜ガスの総流量に対する酸素ガスの流
量比は低いほど好ましく、例えば酸素ガスの流量比を0%以上30%未満、好ましくは0
%以上10%以下とすることが好ましい。
ひとつであるOut-of-plane法によるθ/2θスキャンを用いて測定したとき
に、明確なピークが観察されないという特徴を有する。すなわち、X線回折から、測定領
域のa-b面方向、およびc軸方向の配向は見られないことが分かる。
射することで得られる電子線回折パターンにおいて、リング状に輝度の高い領域と、該リ
ング領域に複数の輝点が観測される。従って、電子線回折パターンから、CAC-OSの
結晶構造が、平面方向、および断面方向において、配向性を有さないnc(nano-c
rystal)構造を有することがわかる。
線分光法(EDX:Energy Dispersive X-ray spectro
scopy)を用いて取得したEDXマッピングにより、GaOX3が主成分である領域
と、InX2ZnY2OZ2、またはInOX1が主成分である領域とが、偏在し、混合
している構造を有することが確認できる。
GZO化合物と異なる性質を有する。つまり、CAC-OSは、GaOX3などが主成分
である領域と、InX2ZnY2OZ2、またはInOX1が主成分である領域と、に互
いに相分離し、各元素を主成分とする領域がモザイク状である構造を有する。
3などが主成分である領域と比較して、導電性が高い領域である。つまり、InX2Zn
Y2OZ2、またはInOX1が主成分である領域を、キャリアが流れることにより、酸
化物半導体としての導電性が発現する。従って、InX2ZnY2OZ2、またはInO
X1が主成分である領域が、酸化物半導体中にクラウド状に分布することで、高い電界効
果移動度(μ)が実現できる。
X1が主成分である領域と比較して、絶縁性が高い領域である。つまり、GaOX3など
が主成分である領域が、酸化物半導体中に分布することで、リーク電流を抑制し、良好な
スイッチング動作を実現できる。
、InX2ZnY2OZ2、またはInOX1に起因する導電性とが、相補的に作用する
ことにより、高いオン電流(Ion)、および高い電界効果移動度(μ)を実現すること
ができる。
ディスプレイをはじめとするさまざまな半導体装置に最適である。
るときのドレイン電流をいう。オン状態(オンと略す場合もある)とは、特に断りがない
場合、nチャネル型トランジスタでは、ゲートとソースの間の電圧(VG)がしきい値電
圧(Vth)以上の状態、pチャネル型トランジスタでは、VGがVth以下の状態をい
う。例えば、nチャネル型のトランジスタのオン電流とは、VGがVth以上のときのド
レイン電流を言う。また、トランジスタのオン電流は、ドレインとソースの間の電圧(V
D)に依存する場合がある。
るときのドレイン電流をいう。オフ状態(オフと略す場合もある)とは、特に断りがない
場合、nチャネル型トランジスタでは、VGがVthよりも低い状態、pチャネル型トラ
ンジスタでは、VGがVthよりも高い状態をいう。例えば、nチャネル型のトランジス
タのオフ電流とは、VGがVthよりも低いときのドレイン電流を言う。トランジスタの
オフ電流は、VGに依存する場合がある。従って、トランジスタのオフ電流が10-21
A未満である、とは、トランジスタのオフ電流が10-21A未満となるVGの値が存在
することを言う場合がある。
フ電流は、特に記載がない場合、VDの絶対値が0.1V、0.8V、1V、1.2V、
1.8V、2.5V、3V、3.3V、10V、12V、16V、または20Vにおける
オフ電流を表す場合がある。または、当該トランジスタが含まれる半導体装置等において
使用されるVDにおけるオフ電流を表す場合がある。
方を、「ソースまたはドレインの一方」(又は第1電極、又は第1端子)と表記し、ソー
スとドレインとの他方を「ソースまたはドレインの他方」(又は第2電極、又は第2端子
)と表記している。これは、トランジスタのソースとドレインは、トランジスタの構造又
は動作条件等によって変わるためである。なおトランジスタのソースとドレインの呼称に
ついては、ソース(ドレイン)端子や、ソース(ドレイン)電極等、状況に応じて適切に
言い換えることができる。
場合は、XとYとが電気的に接続されている場合と、XとYとが機能的に接続されている
場合と、XとYとが直接接続されている場合とが、本明細書等に開示されているものとす
る。したがって、所定の接続関係、例えば、図または文章に示された接続関係に限定され
ず、図または文章に示された接続関係以外のものも、図または文章に記載されているもの
とする。
層、など)であるとする。
能とする素子(例えば、スイッチ、トランジスタ、容量素子、インダクタ、抵抗素子、ダ
イオード、表示素子、発光素子、負荷など)が、XとYとの間に接続されていない場合で
あり、XとYとの電気的な接続を可能とする素子(例えば、スイッチ、トランジスタ、容
量素子、インダクタ、抵抗素子、ダイオード、表示素子、発光素子、負荷など)を介さず
に、XとYとが、接続されている場合である。
能とする素子(例えば、スイッチ、トランジスタ、容量素子、インダクタ、抵抗素子、ダ
イオード、表示素子、発光素子、負荷など)が、XとYとの間に1個以上接続されること
が可能である。なお、スイッチは、オン・オフが制御される機能を有している。つまり、
スイッチは、導通状態(オン状態)、または、非導通状態(オフ状態)になり、電流を流
すか流さないかを制御する機能を有している。または、スイッチは、電流を流す経路を選
択して切り替える機能を有している。なお、XとYとが電気的に接続されている場合は、
XとYとが直接的に接続されている場合を含むものとする。
能とする回路(例えば、論理回路(インバータ、NAND回路、NOR回路など)、信号
変換回路(DA変換回路、AD変換回路、ガンマ補正回路など)、電位レベル変換回路(
電源回路(昇圧回路、降圧回路など)、信号の電位レベルを変えるレベルシフタ回路など
)、電圧源、電流源、切り替え回路、増幅回路(信号振幅または電流量などを大きく出来
る回路、オペアンプ、差動増幅回路、ソースフォロワ回路、バッファ回路など)、信号生
成回路、記憶回路、制御回路など)が、XとYとの間に1個以上接続されることが可能で
ある。なお、一例として、XとYとの間に別の回路を挟んでいても、Xから出力された信
号がYへ伝達される場合は、XとYとは機能的に接続されているものとする。なお、Xと
Yとが機能的に接続されている場合は、XとYとが直接的に接続されている場合と、Xと
Yとが電気的に接続されている場合とを含むものとする。
とが電気的に接続されている場合(つまり、XとYとの間に別の素子又は別の回路を挟ん
で接続されている場合)と、XとYとが機能的に接続されている場合(つまり、XとYと
の間に別の回路を挟んで機能的に接続されている場合)と、XとYとが直接接続されてい
る場合(つまり、XとYとの間に別の素子又は別の回路を挟まずに接続されている場合)
とが、本明細書等に開示されているものとする。つまり、電気的に接続されている、と明
示的に記載されている場合は、単に、接続されている、とのみ明示的に記載されている場
合と同様な内容が、本明細書等に開示されているものとする。
介さず)、Xと電気的に接続され、トランジスタのドレイン(又は第2の端子など)が、
Z2を介して(又は介さず)、Yと電気的に接続されている場合や、トランジスタのソー
ス(又は第1の端子など)が、Z1の一部と直接的に接続され、Z1の別の一部がXと直
接的に接続され、トランジスタのドレイン(又は第2の端子など)が、Z2の一部と直接
的に接続され、Z2の別の一部がYと直接的に接続されている場合では、以下のように表
現することが出来る。
2の端子など)とは、互いに電気的に接続されており、X、トランジスタのソース(又は
第1の端子など)、トランジスタのドレイン(又は第2の端子など)、Yの順序で電気的
に接続されている。」と表現することができる。または、「トランジスタのソース(又は
第1の端子など)は、Xと電気的に接続され、トランジスタのドレイン(又は第2の端子
など)はYと電気的に接続され、X、トランジスタのソース(又は第1の端子など)、ト
ランジスタのドレイン(又は第2の端子など)、Yは、この順序で電気的に接続されてい
る」と表現することができる。または、「Xは、トランジスタのソース(又は第1の端子
など)とドレイン(又は第2の端子など)とを介して、Yと電気的に接続され、X、トラ
ンジスタのソース(又は第1の端子など)、トランジスタのドレイン(又は第2の端子な
ど)、Yは、この接続順序で設けられている」と表現することができる。これらの例と同
様な表現方法を用いて、回路構成における接続の順序について規定することにより、トラ
ンジスタのソース(又は第1の端子など)と、ドレイン(又は第2の端子など)とを、区
別して、技術的範囲を決定することができる。
)は、少なくとも第1の接続経路を介して、Xと電気的に接続され、前記第1の接続経路
は、第2の接続経路を有しておらず、前記第2の接続経路は、トランジスタを介した、ト
ランジスタのソース(又は第1の端子など)とトランジスタのドレイン(又は第2の端子
など)との間の経路であり、前記第1の接続経路は、Z1を介した経路であり、トランジ
スタのドレイン(又は第2の端子など)は、少なくとも第3の接続経路を介して、Yと電
気的に接続され、前記第3の接続経路は、前記第2の接続経路を有しておらず、前記第3
の接続経路は、Z2を介した経路である。」と表現することができる。または、「トラン
ジスタのソース(又は第1の端子など)は、少なくとも第1の接続経路によって、Z1を
介して、Xと電気的に接続され、前記第1の接続経路は、第2の接続経路を有しておらず
、前記第2の接続経路は、トランジスタを介した接続経路を有し、トランジスタのドレイ
ン(又は第2の端子など)は、少なくとも第3の接続経路によって、Z2を介して、Yと
電気的に接続され、前記第3の接続経路は、前記第2の接続経路を有していない。」と表
現することができる。または、「トランジスタのソース(又は第1の端子など)は、少な
くとも第1の電気的パスによって、Z1を介して、Xと電気的に接続され、前記第1の電
気的パスは、第2の電気的パスを有しておらず、前記第2の電気的パスは、トランジスタ
のソース(又は第1の端子など)からトランジスタのドレイン(又は第2の端子など)へ
の電気的パスであり、トランジスタのドレイン(又は第2の端子など)は、少なくとも第
3の電気的パスによって、Z2を介して、Yと電気的に接続され、前記第3の電気的パス
は、第4の電気的パスを有しておらず、前記第4の電気的パスは、トランジスタのドレイ
ン(又は第2の端子など)からトランジスタのソース(又は第1の端子など)への電気的
パスである。」と表現することができる。これらの例と同様な表現方法を用いて、回路構
成における接続経路について規定することにより、トランジスタのソース(又は第1の端
子など)と、ドレイン(又は第2の端子など)とを、区別して、技術的範囲を決定するこ
とができる。
X、Y、Z1、Z2は、対象物(例えば、装置、素子、回路、配線、電極、端子、導電膜
、層、など)であるとする。
いる場合であっても、1つの構成要素が、複数の構成要素の機能を併せ持っている場合も
ある。例えば配線の一部が電極としても機能する場合は、一の導電膜が、配線の機能、及
び電極の機能の両方の構成要素の機能を併せ持っている。したがって、本明細書における
電気的に接続とは、このような、一の導電膜が、複数の構成要素の機能を併せ持っている
場合も、その範疇に含める。
C2 容量素子
C3 容量素子
CND ノード
DND ノード
FD1 ノード
FD2 ノード
M1 トランジスタ
M2 トランジスタ
M3 トランジスタ
M3a トランジスタ
M4 トランジスタ
MC1 トランジスタ
MC2 トランジスタ
MC3 トランジスタ
MD1 トランジスタ
MD2 トランジスタ
MD3 トランジスタ
SIN ノード
T1 時刻
T2 時刻
T3 時刻
T4 時刻
T5 時刻
10 情報端末
11 表示画素
11a 表示画素
14 ゲートドライバ
15 ソースドライバ
16 表示領域
30 表示パネル
31 上部カバー
32 タッチパネル
33 フレーム
34 プリント基板
35 バッテリー
36 下部カバー
50 画素ブロック
60C マルチプレクサ
60D マルチプレクサ
70 ADコンバータ
80 判定回路
110 画素
120 画素
130 センサ素子
170 発光素子
171 導電層
172 導電層
173 EL層
180 液晶素子
181 配向膜
182 配向膜
183 液晶
190 曲げセンサ素子
191 導電層
192a 導電層
192b 導電層
193 導電層
194 クラック
200 フィルム
201 接着層
202 電極
211 絶縁層
212 絶縁層
213 絶縁層
214 絶縁層
215 絶縁層
216 絶縁層
220 絶縁層
221 導電層
222 導電層
223 導電層
224 導電層
225 導電層
231 半導体層
241 着色層
251 接続部
252 接続部
260 接続層
271 トランジスタ
272 トランジスタ
273 トランジスタ
300 フィルム
301 偏光板
302 接着層
303 接続体
311 着色層
312 遮光層
313 絶縁層
314 絶縁層
321 導電層
322 導電層
323 導電層
330 開口
350 FPC
Claims (1)
- 第1の画素と、第2の画素と、前記第1の画素及び前記第2の画素の各々と電気的に接続されたソース線と、センサ素子と、を表示部に有し、
前記第1の画素は、第1のトランジスタと、液晶素子と、を有し、
前記第2の画素は、第2のトランジスタと、第3のトランジスタと、発光素子と、を有し、
前記第1のトランジスタは、ソース及びドレインの一方が前記ソース線と電気的に接続され、且つ、ソース及びドレインの他方が前記液晶素子と電気的に接続され、
前記第2のトランジスタは、前記ソース及びドレインの一方が前記ソース線と電気的に接続され、ソース及びドレインの他方が前記第3のトランジスタと電気的に接続され、
前記センサ素子は、前記第2のトランジスタのソース及びドレインの他方と、前記第3のトランジスタのゲートと、に電気的に接続され、
断面視において、前記液晶素子は前記発光素子の上方に設けられ、
前記センサ素子は、前記表示部の凸方向の曲げに応じて抵抗値が変化する第1の曲げセンサと、前記表示部の凹方向の曲げに応じて抵抗値が変化する第2の曲げセンサと、を有し、
前記表示部が曲がることによって前記液晶素子の反射光量が変化するとき、前記センサ素子の出力に応じて、前記発光素子の輝度を制御する、半導体装置。
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