JP7181496B2 - ペリクル、ペリクル付フォトマスク、露光方法、半導体の製造方法及び液晶ディスプレイの製造方法 - Google Patents
ペリクル、ペリクル付フォトマスク、露光方法、半導体の製造方法及び液晶ディスプレイの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7181496B2 JP7181496B2 JP2017134609A JP2017134609A JP7181496B2 JP 7181496 B2 JP7181496 B2 JP 7181496B2 JP 2017134609 A JP2017134609 A JP 2017134609A JP 2017134609 A JP2017134609 A JP 2017134609A JP 7181496 B2 JP7181496 B2 JP 7181496B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pellicle
- adhesive
- alkyl ester
- acid alkyl
- acrylic acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
- G03F1/64—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof characterised by the frames, e.g. structure or material, including bonding means therefor
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J133/00—Adhesives based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Adhesives based on derivatives of such polymers
- C09J133/04—Homopolymers or copolymers of esters
- C09J133/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
- C09J133/062—Copolymers with monomers not covered by C09J133/06
- C09J133/064—Copolymers with monomers not covered by C09J133/06 containing anhydride, COOH or COOM groups, with M being metal or onium-cation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J133/00—Adhesives based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Adhesives based on derivatives of such polymers
- C09J133/04—Homopolymers or copolymers of esters
- C09J133/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
- C09J133/08—Homopolymers or copolymers of acrylic acid esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/10—Esters
- C08F220/12—Esters of monohydric alcohols or phenols
- C08F220/14—Methyl esters, e.g. methyl (meth)acrylate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/10—Esters
- C08F220/12—Esters of monohydric alcohols or phenols
- C08F220/16—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms
- C08F220/18—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms with acrylic or methacrylic acids
- C08F220/1808—C8-(meth)acrylate, e.g. isooctyl (meth)acrylate or 2-ethylhexyl (meth)acrylate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J11/00—Features of adhesives not provided for in group C09J9/00, e.g. additives
- C09J11/02—Non-macromolecular additives
- C09J11/06—Non-macromolecular additives organic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J133/00—Adhesives based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Adhesives based on derivatives of such polymers
- C09J133/04—Homopolymers or copolymers of esters
- C09J133/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
- C09J133/062—Copolymers with monomers not covered by C09J133/06
- C09J133/066—Copolymers with monomers not covered by C09J133/06 containing -OH groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J133/00—Adhesives based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Adhesives based on derivatives of such polymers
- C09J133/04—Homopolymers or copolymers of esters
- C09J133/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
- C09J133/10—Homopolymers or copolymers of methacrylic acid esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J133/00—Adhesives based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Adhesives based on derivatives of such polymers
- C09J133/04—Homopolymers or copolymers of esters
- C09J133/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
- C09J133/10—Homopolymers or copolymers of methacrylic acid esters
- C09J133/12—Homopolymers or copolymers of methyl methacrylate
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J2203/00—Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils
- C09J2203/318—Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils for the production of liquid crystal displays
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J2301/00—Additional features of adhesives in the form of films or foils
- C09J2301/30—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the chemical, physicochemical or physical properties of the adhesive or the carrier
- C09J2301/312—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the chemical, physicochemical or physical properties of the adhesive or the carrier parameters being the characterizing feature
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J2433/00—Presence of (meth)acrylic polymer
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
Description
このため、これらの作業は通常クリーンルームで行われているが、それでもフォトマスクを常に清浄に保つことが難しい。そこで、フォトマスク表面にゴミ除けとしてペリクルを貼付けした後に露光を行っている。この場合、異物はフォトマスクの表面には直接付着せず、ペリクル上に付着するため、リソグラフィー時に焦点をフォトマスクのパターン上に合わせておけば、ペリクル上の異物は転写に無関係となる。
本発明は上記問題点を解決するためになされたものである。即ち、表面改質剤等の化合物の添加等をすることなく、ペリクル剥離後の残渣が少ない粘着剤、ペリクル、及び低残渣のペリクル用粘着剤の選択方法を提供することを目的とするものである。
本発明の一つの態様では、剥離強度と引張強度の比が、0.10以上で0.33以下であるペリクル用粘着剤を提供できる。
本発明の別の態様では、ペリクルフレームと、前記ペリクルフレームの上端面に張設されたペリクル膜と、前記ペリクルフレームの下端面に付着された前記ペリクル用粘着剤とを少なくとも備えるペリクルを提供できる。
本発明の他の態様では、粘着剤の引張強度と剥離強度を測定して、剥離強度と引張強度の比が0.10以上で0.33以下である粘着剤をペリクル用粘着剤として選択する工程を少なくとも含むペリクル用粘着剤の選択方法を提供できる。
ペリクルフレームは、ペリクルを貼付けるフォトマスクの形状に対応し、一般的には四角形枠状(長方形枠状又は正方形枠状)である。
ペリクルフレームの材質に特に制限はなく、公知のものを使用することができる。例えば、アルミニウム、アルミニウム合金、鉄、鉄系合金、セラミックス、セラミックス金属複合材料、炭素鋼、工具鋼、ステンレス鋼、炭素繊維複合材料等が挙げられる。なかでも、強度、剛性、軽量、加工性、コスト等の点からアルミニウム及びアルミニウム合金をはじめとした金属製のものが好ましい。
ペリクルフレームの表面は、黒色系の色調となっていることが好ましい。このようにすれば、ペリクルフレームでの露光光の反射を抑えられ、かつ、異物検査においても異物の検出がし易く有利なペリクルを得ることができる。このようなペリクルフレームは、例えば、アルミニウム合金製のペリクルフレームに黒色アルマイト処理を施すことによって得られる。
気圧調整孔には、除塵用フィルターを取り付けることが好ましい。このようにすることで、気圧調整孔からペリクルとフォトマスクとの閉空間内に外から異物が侵入するのを防ぐことができる。
このようなペリクル用粘着剤のなかでも、本発明のペリクル用粘着剤は、剥離強度と引張強度の比(剥離強度/引張強度)が0.10以上で0.33以下である。粘着剤の剥離強度と引張強度の比が0.33以下であれば、フォトマスクからペリクルを剥がす際の残渣を少なくすることができる。また、この値は、定量的に評価することが可能であるため、従来のように、新規粘着剤を選定する際に、残渣評価として、マスク貼付後数か月保管し剥離して残渣を観察する必要がなく、短期間で低残渣性の粘着剤を選定することができる。
剥離強度は、ペリクルを、6インチのCr処理をした石英基板に、ペリクルフレームの下端面の周方向全周に亘って、ペリクルフレーム幅と同じ幅で厚さ0.3mmに設けた粘着剤を介して圧力4.8gf/mm2、30秒で貼付け、1日間室温(23±3℃)で放置し、石英基板に粘着剤をなじませた後、ロードセル付き剥離装置によりペリクルの1つの長辺を把持して速度0.1mm/sで、ペリクルをCr処理をした石英基板から完全に剥離し、最高荷重を剥離面積で除して剥離強度を算出できる。
(メタ)アクリル酸アルキルエステル共重合体は、全てのモノマー単位(繰り返し単位)に対して、好ましくは、(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマー単位成分を90~99質量%と、エポキシ基又はイソシアネート基と反応性のあるモノマー単位成分を1~10質量%と、を含むものを用いることができる。
(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマー単位成分としては、好ましくは、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸ヘキシル、(メタ)アクリル酸オクチル、(メタ)アクリル酸デシル、(メタ)アクリル酸ドデシル、(メタ)アクリル酸ラウリル、(メタ)アクリル酸イソプロピル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸イソアミル、(メタ)アクリル酸2-エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸イソオクチル、及び(メタ)アクリル酸イソノニル等のモノマー単位から選択することができる。
エポキシ基又はイソシアネート基と反応性のあるモノマー単位成分としては、好ましくは、(メタ)アクリル酸等のカルボキシル基含有モノマーや、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシエチル等のヒドロキシアルキル基含有(メタ)アクリレート等のモノマー単位から選択することができる。
(メタ)アクリル酸アルキルエステル共重合体としては、例えば、綜研化学株式会社から市販されているアクリル粘着剤(SKダインシリーズのSK-1425、SK-1495など)を使用することができる。また、粘着力や作業性から、SK-1495やSK-1473Hが好ましい。
イソシアネート化合物としては、好ましくはトリレンジイソシアネート等が挙げられる。また、エポキシ基を2個以上含むポリエポキシ化合物等も用いることができる。
硬化物は、好ましくは80~200℃に加熱することにより得られる。
実施例1
はじめに、アルミ合金製のペリクルフレーム(外形サイズ149mm×115mm×3.15mm、フレーム幅2mm)をクリーンルームに搬入し、中性洗剤と純水により、十分に洗浄・乾燥させた。粘着剤は、アクリル粘着剤(綜研化学社製SKダイン1495)100質量部に、イソシアネート系硬化剤(綜研化学社製L-45)を0.09質量部添加し、混合して調製した。そして調製した粘着剤を自動ディスペンサ(岩下エンジニアリング社製)によって、ペリクルフレームの下端面全面に厚さ0.3mmで塗布した。その後、粘着剤が流動しなくなるまで風乾させた後、更に高周波誘導加熱装置によりペリクルフレームを150℃まで加熱し、粘着剤を硬化させた。
また、前記ペリクルフレーム上端面には、接着剤としてサイトップCTX-A(旭硝子株式会社製)を介して、ペリクル膜を貼付け、カッターにて外側の不要膜を切除しペリクルを完成させた。
完成したペリクル及び粘着剤について、以下の評価を行った。その結果を表1に示す。
調製した粘着剤を13mm×20mmの型に、厚み1mmになるよう流し込み、風乾させた後、150℃まで加熱してサンプルを作製した。長さ20mmになるようオートグラフAG-IS(島津製作所社製商品名)の測定器に設置し、300mm/minの速度で引っ張り、破断した際の引張強度を測定した。また、その際にストローク(%)も測定した。引張強度として、3個のサンプルを測定してそれらの平均値を用いた。
引張強度は引張荷重を断面積で除した値であるが、このときの断面積は、測定前のサンプルの断面積の値(本実施例では0.13cm2)を用いた。
実施例および比較例で作製したペリクルを6インチのCr処理をした石英基板に粘着剤を介して荷重5kgf(圧力4.8gf/mm2)、30秒で貼付け、1日間室温(23±3℃)で放置し、基板に粘着剤をなじませた。その後ロードセル付き剥離装置によりペリクルの1つの長辺を把持して速度0.1mm/sで、ペリクルをCr処理をした石英基板から完全に剥離し、最高荷重を剥離面積で除して剥離強度を算出した。
本実施例においては、粘着剤をペリクルフレームの下端面全面に塗布してあることから、剥離面積は10.4cm2とした。
実施例および比較例で作製したペリクルを6インチのCr処理をした石英基板に粘着剤を介して荷重5kgf(圧力4.8gf/mm2)、30秒で貼付け、1日間室温(23±3℃)で放置し、基板に粘着剤をなじませた。その後ペリクルをロードセル付き剥離装置によりペリクルの長辺を把持して速度0.1mm/sで、ペリクルをCr処理をした石英基板から完全に剥離し、剥離後の石英基板上の残渣の状態を顕微鏡で確認した。各粘着剤の残渣量を「残渣面積」/「貼付面積」の百分率で評価した。
×:残渣量10%以上
○:残渣量5%以上10%未満
◎:残渣量0%以上5%未満
実施例および比較例で作製したペリクルを6インチのCr処理をした石英基板に粘着剤を介して荷重5kgf(圧力4.8gf/mm2)、30秒で貼付け、1日間室温(23±3℃)で放置し、基板に粘着剤をなじませた。その後目視および顕微鏡で接着面を確認した。
○:異常なし
×:接着面にエアーの混入あり
実施例および比較例で作製したペリクルを6インチのCr処理をした石英基板に粘着剤を介して荷重5kgf(圧力4.8gf/mm2)、30秒で貼付け、1日室温(23±3℃)で放置し、基板に粘着剤をなじませた。その後1か月50度加温後、接着面を目視および顕微鏡で確認した。
○:異常なし
×:接着面に粘着剤浮き上がりあり
表1に示すように、粘着剤(SKダイン1495、SKダイン1473H、SKダイン1425)と硬化剤(L-45、Y-75)の種類と添加量を変化させて、粘着剤を混合、調製して、実施例1と同様にペリクルを作製した。
作製したペリクル及び粘着剤について、実施例1と同様の評価を行い、その結果を表1に示す。
また、粘着剤の残渣性を引張強度、剥離強度、ストロークという定量可能なパラメータで評価することができるため、容易にペリクル用粘着剤として好適な低残渣性粘着剤を見出すことが可能となる。
11 ペリクル膜
12 ペリクルフレーム
13 粘着剤
14 離型層(セパレータ)
Claims (7)
- 長方形枠状のペリクルフレームと、前記ペリクルフレームの上端面に配置されたペリクル膜と、前記ペリクルフレームの下端面に設けられた粘着剤とを少なくとも備え、
但し、ペリクル枠と、前記ペリクル枠の一端面に張設されたペリクル膜と、前記ペリクル枠の他端面に付着した粘着剤層と、を備え 前記粘着剤層に含まれる粘着剤は、炭素数4~14のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステルと、硬化剤との反応性を有する官能基を有するモノマーとの共重合体である(メタ)アクリル酸アルキルエステル共重合体と、硬化剤との反応生成物を含み、前記粘着剤は、(メタ)アクリル酸アルキルエステル共重合体を含み、前記(メタ)アクリル酸アルキルエステル共重合体の分子量分布(Mw/Mn)が1.0以上6.0以下である、ペリクル;及びペリクル枠と、前記ペリクル枠の一端面に張設されたペリクル膜と、前記ペリクル枠の他端面に付着した粘着剤層と、を備え、前記粘着剤層に含まれる粘着剤は、炭素数4~14のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステルと、硬化剤との反応性を有する官能基を有するモノマーとの共重合体である(メタ)アクリル酸アルキルエステル共重合体と、硬化剤との反応生成物を含み、前記粘着剤におけるカルボン酸含有モノマーユニットの含有量が、前記(メタ)アクリル酸アルキルエステル共重合体100質量%に対して0.9質量%以下である、ペリクルを除くペリクルであって、
前記粘着剤は前記ペリクルフレームの下端面の周方向全周に亘って形成されており、前記粘着剤の剥離強度が、ペリクルの一つの長辺を把持して剥離することにより測定される値から得られ、1.20~3.27N/cm2であり、前記粘着剤の剥離強度と引張強度の比が、0.10以上で0.33以下であり、
前記粘着剤はアクリル酸アルキルエステル共重合体又はメタクリル酸アルキルエステル共重合体と、エポキシ化合物又はイソシアネート化合物との硬化物を含み、
前記アクリル酸アルキルエステル共重合体又はメタクリル酸アルキルエステル共重合体が、アクリル酸アルキルエステルモノマー単位又はメタクリル酸アルキルエステルモノマー単位と、エポキシ基又はイソシアネート基と反応性のあるモノマー単位とを含む、ペリクル。 - 前記粘着剤が前記引張強度の測定において破断したときの伸び率であるストロークが、660%以下である請求項1に記載のペリクル。
- 前記アクリル酸アルキルエステル共重合体又はメタクリル酸アルキルエステル共重合体が、前記アクリル酸アルキルエステルモノマー単位又はメタクリル酸アルキルエステルモノマー単位を90~99質量%と、エポキシ基又はイソシアネート基と反応性のある前記モノマー単位を1~10質量%とを含み、前記粘着剤が、シラン化合物、又はビニル系モノマーの単独重合体もしくは共重合体からなる相溶性セグメントと、含フッ素系化合物もしくは含シリコーン系化合物からなる非相溶性セグメントのブロック共重合体である表面改質剤を含まない請求項1又は請求項2に記載のペリクル。
- 請求項1~3のいずれか1項に記載のペリクルをフォトマスクに貼付けたペリクル付フォトマスク。
- 請求項4に記載のペリクル付フォトマスクを用いて露光することを特徴とする露光方法。
- 請求項4に記載のペリクル付フォトマスクを用いて露光する工程を有する半導体の製造方法。
- 請求項4に記載のペリクル付フォトマスクを用いて露光する工程を有する液晶ディスプレイの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021195225A JP2022043086A (ja) | 2016-07-11 | 2021-12-01 | ペリクル用粘着剤、ペリクル、ペリクル用粘着剤の選択方法 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016137076 | 2016-07-11 | ||
JP2016137076 | 2016-07-11 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021195225A Division JP2022043086A (ja) | 2016-07-11 | 2021-12-01 | ペリクル用粘着剤、ペリクル、ペリクル用粘着剤の選択方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018021182A JP2018021182A (ja) | 2018-02-08 |
JP7181496B2 true JP7181496B2 (ja) | 2022-12-01 |
Family
ID=59313094
Family Applications (4)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017134609A Active JP7181496B2 (ja) | 2016-07-11 | 2017-07-10 | ペリクル、ペリクル付フォトマスク、露光方法、半導体の製造方法及び液晶ディスプレイの製造方法 |
JP2021195225A Withdrawn JP2022043086A (ja) | 2016-07-11 | 2021-12-01 | ペリクル用粘着剤、ペリクル、ペリクル用粘着剤の選択方法 |
JP2022094391A Active JP7352689B2 (ja) | 2016-07-11 | 2022-06-10 | 粘着剤付ペリクルフレーム、ペリクル、ペリクル付フォトマスク、露光方法、半導体の製造方法及び液晶ディスプレイの製造方法 |
JP2023148921A Pending JP2024001028A (ja) | 2016-07-11 | 2023-09-14 | 粘着剤付ペリクルフレーム、ペリクル、ペリクル付フォトマスク、露光方法、半導体の製造方法及び液晶ディスプレイの製造方法 |
Family Applications After (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021195225A Withdrawn JP2022043086A (ja) | 2016-07-11 | 2021-12-01 | ペリクル用粘着剤、ペリクル、ペリクル用粘着剤の選択方法 |
JP2022094391A Active JP7352689B2 (ja) | 2016-07-11 | 2022-06-10 | 粘着剤付ペリクルフレーム、ペリクル、ペリクル付フォトマスク、露光方法、半導体の製造方法及び液晶ディスプレイの製造方法 |
JP2023148921A Pending JP2024001028A (ja) | 2016-07-11 | 2023-09-14 | 粘着剤付ペリクルフレーム、ペリクル、ペリクル付フォトマスク、露光方法、半導体の製造方法及び液晶ディスプレイの製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10353283B2 (ja) |
EP (1) | EP3270224A1 (ja) |
JP (4) | JP7181496B2 (ja) |
KR (2) | KR102541100B1 (ja) |
CN (2) | CN116179122A (ja) |
TW (1) | TWI752977B (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10353283B2 (en) * | 2016-07-11 | 2019-07-16 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Adhesive for pellicle, pellicle, and method of selecting adhesive for pellicle |
CN111919170B (zh) * | 2018-03-30 | 2023-12-26 | 三井化学株式会社 | 掩模粘接剂及具备其的防护膜组件 |
JP7038640B2 (ja) * | 2018-10-26 | 2022-03-18 | 信越化学工業株式会社 | ペリクルの剥離方法及びペリクルの剥離装置 |
EP3958060A4 (en) * | 2019-04-16 | 2023-07-12 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | FILM, ORIGINAL EXPOSURE PLATE WITH FILM, METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD FOR PRODUCING LIQUID CRYSTAL DISPLAY PANEL, METHOD FOR RECYCLING ORIGINAL EXPOSURE PLATES, AND METHOD FOR RELEASE RESIDUE REDUCTION |
WO2021193681A1 (ja) * | 2020-03-27 | 2021-09-30 | 三井化学株式会社 | ペリクル、およびその製造方法 |
CN112707016B (zh) * | 2021-01-04 | 2023-02-17 | 长鑫存储技术有限公司 | 光罩保护装置及光罩保护系统 |
JPWO2023038139A1 (ja) * | 2021-09-13 | 2023-03-16 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004534904A (ja) | 2001-07-16 | 2004-11-18 | 電気化学工業株式会社 | 表面保護フィルム |
JP2011107468A (ja) | 2009-11-18 | 2011-06-02 | Asahi Kasei E-Materials Corp | ペリクル |
Family Cites Families (30)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS53147827A (en) | 1976-06-14 | 1978-12-22 | Kaji Tetsukoushiyo Kk | Double twisting direct twisting frame |
JPS5722870Y2 (ja) | 1979-09-03 | 1982-05-18 | ||
JPS58219023A (ja) | 1982-06-15 | 1983-12-20 | Daicel Chem Ind Ltd | 樹脂薄膜の製造方法 |
JPS6075835A (ja) * | 1983-10-03 | 1985-04-30 | Hitachi Ltd | ペリクル |
JPS6083032A (ja) | 1983-10-13 | 1985-05-11 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 光透過性に優れたフオトマスク用防塵カバ− |
JP2000319614A (ja) * | 1999-05-12 | 2000-11-21 | Okamoto Ind Inc | 両面粘着テープ |
JP2004177927A (ja) * | 2002-09-30 | 2004-06-24 | Dainippon Ink & Chem Inc | 剥がし検知表示機能付き粘着シート |
JP4807965B2 (ja) * | 2004-05-12 | 2011-11-02 | 日東電工株式会社 | 再剥離用水分散型アクリル系粘着シートおよびそれに用いる粘着剤組成物 |
US20070264457A1 (en) * | 2004-08-26 | 2007-11-15 | Kimoto Co., Ltd. | Material for Decoration |
JP2006146085A (ja) | 2004-11-24 | 2006-06-08 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 大型ペリクル |
KR20060116152A (ko) * | 2005-05-09 | 2006-11-14 | 미쓰이 가가쿠 가부시키가이샤 | 오염이 적은 펠리클 |
JP5484785B2 (ja) * | 2008-05-19 | 2014-05-07 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | ペリクル用粘着材組成物 |
JP5602397B2 (ja) * | 2009-08-18 | 2014-10-08 | 日東電工株式会社 | ハニカムコア切削加工時固定用粘着テープ |
JP5607337B2 (ja) * | 2009-10-27 | 2014-10-15 | リンテック株式会社 | 水分散型アクリル系粘着剤組成物、粘着シート及びその製造方法 |
JP2011095586A (ja) * | 2009-10-30 | 2011-05-12 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | ペリクルおよびその製造方法 |
TWI579354B (zh) * | 2009-11-18 | 2017-04-21 | Asahi Kasei E-Materials Corp | Mask mask |
JP2011253176A (ja) * | 2010-05-07 | 2011-12-15 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクル用粘着剤 |
KR101536393B1 (ko) * | 2010-07-09 | 2015-07-13 | 미쓰이 가가쿠 가부시키가이샤 | 펠리클 및 그것에 이용하는 마스크 접착제 |
JP5411200B2 (ja) * | 2011-04-26 | 2014-02-12 | 信越化学工業株式会社 | リソグラフィ用ペリクル |
US9310673B2 (en) | 2011-05-18 | 2016-04-12 | Asahi Kasei E-Materials Corporation | Pellicle, pressure-sensitive adhesive for pellicle, photomask with pellicle, and method for manufacturing semiconductor device |
JP5756744B2 (ja) | 2011-12-27 | 2015-07-29 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | ペリクル用粘着剤組成物 |
JP5785489B2 (ja) * | 2011-12-27 | 2015-09-30 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | ペリクル |
JP5963027B2 (ja) * | 2014-03-13 | 2016-08-03 | Dic株式会社 | 粘着シート |
JP6316686B2 (ja) | 2014-07-04 | 2018-04-25 | 旭化成株式会社 | ペリクル、ペリクル付フォトマスク、及び半導体素子の製造方法 |
JP2016107544A (ja) * | 2014-12-08 | 2016-06-20 | バンドー化学株式会社 | プロテクトフィルム、加飾成形用積層体及び加飾成形品 |
JP6275064B2 (ja) * | 2015-02-10 | 2018-02-07 | 信越化学工業株式会社 | ペリクル用粘着剤 |
JP2017090718A (ja) * | 2015-11-11 | 2017-05-25 | 旭化成株式会社 | ペリクル |
JP2017090719A (ja) * | 2015-11-11 | 2017-05-25 | 旭化成株式会社 | ペリクル |
US10353283B2 (en) * | 2016-07-11 | 2019-07-16 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Adhesive for pellicle, pellicle, and method of selecting adhesive for pellicle |
JP7488122B2 (ja) * | 2020-06-15 | 2024-05-21 | 川崎重工業株式会社 | 搬送システム |
-
2017
- 2017-06-30 US US15/638,956 patent/US10353283B2/en active Active
- 2017-07-07 KR KR1020170086518A patent/KR102541100B1/ko active IP Right Grant
- 2017-07-10 CN CN202310248085.4A patent/CN116179122A/zh active Pending
- 2017-07-10 CN CN201710555994.7A patent/CN107608175B/zh active Active
- 2017-07-10 EP EP17180463.6A patent/EP3270224A1/en active Pending
- 2017-07-10 JP JP2017134609A patent/JP7181496B2/ja active Active
- 2017-07-10 TW TW106123072A patent/TWI752977B/zh active
-
2021
- 2021-12-01 JP JP2021195225A patent/JP2022043086A/ja not_active Withdrawn
-
2022
- 2022-06-10 JP JP2022094391A patent/JP7352689B2/ja active Active
-
2023
- 2023-04-04 KR KR1020230044208A patent/KR20230053559A/ko not_active Application Discontinuation
- 2023-09-14 JP JP2023148921A patent/JP2024001028A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004534904A (ja) | 2001-07-16 | 2004-11-18 | 電気化学工業株式会社 | 表面保護フィルム |
JP2011107468A (ja) | 2009-11-18 | 2011-06-02 | Asahi Kasei E-Materials Corp | ペリクル |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20180011397A1 (en) | 2018-01-11 |
KR20180006859A (ko) | 2018-01-19 |
KR102541100B1 (ko) | 2023-06-07 |
CN107608175B (zh) | 2023-04-07 |
US10353283B2 (en) | 2019-07-16 |
JP7352689B2 (ja) | 2023-09-28 |
TW201816049A (zh) | 2018-05-01 |
TWI752977B (zh) | 2022-01-21 |
EP3270224A1 (en) | 2018-01-17 |
CN116179122A (zh) | 2023-05-30 |
JP2022043086A (ja) | 2022-03-15 |
CN107608175A (zh) | 2018-01-19 |
KR20230053559A (ko) | 2023-04-21 |
TW202212525A (zh) | 2022-04-01 |
JP2018021182A (ja) | 2018-02-08 |
JP2024001028A (ja) | 2024-01-09 |
JP2022126717A (ja) | 2022-08-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7181496B2 (ja) | ペリクル、ペリクル付フォトマスク、露光方法、半導体の製造方法及び液晶ディスプレイの製造方法 | |
TWI740799B (zh) | 附有黏著劑層的防塵薄膜框架、防塵薄膜組件、附有防塵薄膜組件的曝光原版、曝光方法、半導體裝置的製造方法、及液晶顯示板的製造方法 | |
TWI593770B (zh) | 防塵薄膜組件用接著劑以及使用其的防塵薄膜組件 | |
JP2009025559A (ja) | ペリクルフレーム | |
JP2011076042A (ja) | ペリクル | |
JP6430118B2 (ja) | ペリクル、ペリクル付フォトマスク及び半導体素子の製造方法 | |
JP7341970B2 (ja) | ペリクル用粘着剤、粘着剤層付ペリクルフレーム、ペリクル、ペリクル付露光原版、露光方法、半導体の製造方法及び液晶表示板の製造方法 | |
JP2013228582A (ja) | ペリクル | |
JPWO2006028227A1 (ja) | 接着剤 | |
KR20130005219A (ko) | 펠리클 및 그 제조 방법 | |
TWI835037B (zh) | 表膜用黏著劑、表膜、表膜用黏著劑之選擇方法 | |
JP2009271196A (ja) | 半導体リソグラフィー用ペリクルおよびその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190725 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20200527 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200817 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20201013 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210208 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20210406 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210608 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20210903 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20211201 |
|
C60 | Trial request (containing other claim documents, opposition documents) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C60 Effective date: 20211201 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20211208 |
|
C21 | Notice of transfer of a case for reconsideration by examiners before appeal proceedings |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C21 Effective date: 20211214 |
|
A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20220210 |
|
C211 | Notice of termination of reconsideration by examiners before appeal proceedings |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C211 Effective date: 20220216 |
|
C876 | Explanation why request for accelerated appeal examination is justified |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C876 Effective date: 20220628 |
|
C22 | Notice of designation (change) of administrative judge |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C22 Effective date: 20220712 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20220628 |
|
C22 | Notice of designation (change) of administrative judge |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C22 Effective date: 20220714 |
|
C305 | Report on accelerated appeal examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C305 Effective date: 20220721 |
|
C13 | Notice of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C13 Effective date: 20220802 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220906 |
|
C23 | Notice of termination of proceedings |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C23 Effective date: 20220921 |
|
C302 | Record of communication |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C302 Effective date: 20221005 |
|
C03 | Trial/appeal decision taken |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C03 Effective date: 20221019 |
|
C30A | Notification sent |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C3012 Effective date: 20221019 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20221101 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7181496 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |