JP7165738B2 - 真空溶接炉制御システム及びその制御方法 - Google Patents
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Description
Claims (19)
- 制御モジュールと搬送機構(2)とを含み、
真空溶接炉は、溶接室(18)を含み、溶接室(18)の下部に溶接台(20)が設置され、炉蓋(4)が溶接台(20)の上部を蓋合わせるように設置され、溶接室(18)と炉蓋(4)との間には溶接チャンバが形成され、制御モジュールの出力端は、搬送機構(2)に連結され、
さらに、負圧吸引モジュール(9)と、シールドガス導入管と、加熱モジュールと、冷却モジュールとを含む真空溶接炉制御システムおいて、
制御モジュールの出力端は、負圧吸引モジュール(9)、加熱モジュール及び冷却モジュールにそれぞれ連結され、溶接台(20)の供給端に近接する側は、加熱領域であり、溶接台(20)の排出端に近接する側は、冷却領域であり、負圧吸引モジュール(9)は、加熱領域の冷却領域に近接する一端の上側に設置され、炉蓋(4)に昇降可能に設置され、負圧吸引モジュール(9)の底部と加熱領域とが囲み密閉した負圧チャンバを形成し、加熱モジュールは、加熱領域の内部に設置され、冷却モジュールは、冷却領域の内部に設置され、
シールドガス導入管は、溶接室(18)又は炉蓋(4)に設置され、溶接室(18)の内部と連通し、制御モジュールの出力端はシールドガス導入管のスイッチに連結され、
前記搬送機構(2)は、搬送バー(24)と、溶接室(18)の下側に設置された昇降機構、並進機構及び開閉機構とを含み、制御モジュールの出力端は、それぞれ昇降機構、並進機構及び開閉機構に連結され、搬送バー(24)は、対称に2本設置され、且つその中央部が溶接室(18)内に設置され、開閉機構は、同時に2本の搬送バー(24)に連結し、その2本の搬送バーを開閉させるように駆動し、並進機構は、開閉機構に連結され、排出端に近接する又は離間する方向に沿ってその開閉機構を移動させるように駆動し、昇降機構は、並進機構に連結され、その並進機構を昇降させるように駆動し、各搬送バー(24)のいずれにも複数の支持部が設けられ、溶接台(20)の両端に複数の退避口が設けられ、退避口が支持部と1対1対応する、
ことを特徴とする真空溶接炉制御システム。 - 前記溶接室(18)の両端は、いずれもエンドカバー(26)によって封止され、各エンドカバー(26)の両側のいずれにも搬送口(2601)が対称に設置され、搬送バー(24)は、搬送口(2601)を通過し開閉機構に連結され、エンドカバー(26)の底部と溶接台(20)とが間隔をおいて設置される、
ことを特徴とする請求項1に記載の真空溶接炉制御システム。 - 前記溶接室(18)の下側に搬送バー(24)と1対1対応する搬送取付アーム(45)が設けられ、搬送取付アーム(45)の両端は、対応側の搬送バー(24)の両端に連結され、開閉機構は、2つの搬送取付アーム(45)に連結される、
ことを特徴とする請求項1に記載の真空溶接炉制御システム。 - 前記開閉機構は、水平に設置された開閉案内板(43)と開閉動力モジュールとを含み、開閉案内板(43)は、2本の搬送バー(24)の間に設置され、開閉案内板(43)の両側のいずれにも排出端に近接する方向に沿って徐々に内側への傾斜状の開閉案内部が設けられ、各搬送バー(24)の下側のいずれにも開閉案内部に貼り合わせられる開閉案内輪(44)が取り付けられ、2本の搬送バー(24)の間に引張状態の開閉バネが設けられ、開閉動力モジュールは、開閉案内板(43)に連結され、制御モジュールの出力端は、開閉動力モジュールに連結され、開閉動力モジュールは、排出端に近接する又は離間する方向に沿って開閉案内板(43)を移動させるように駆動する、
ことを特徴とする請求項1に記載の真空溶接炉制御システム。 - 前記昇降機構は、昇降案内ブロック(48)と搬送昇降シリンダ(46)とを含み、昇降案内ブロック(48)の上側に排出端に近接する方向に沿って徐々に下への傾斜状の昇降案内部が設置され、並進機構の下側に昇降案内部に貼り合わせられる昇降案内輪が取り付けられ、搬送昇降シリンダ(46)のピストンロッドは、昇降案内ブロック(48)に連結され、制御モジュールの出力端は、搬送昇降シリンダ(46)に連結され、搬送昇降シリンダ(46)は、排出端に近接する又は離間する方向に沿って昇降案内ブロック(48)を移動させるように駆動する、
ことを特徴とする請求項1に記載の真空溶接炉制御システム。 - 各エンドカバー(26)の両側にバッフル板取付溝(2602)が対称に設置され、バッフル板取付溝(2602)の位置する平面は、搬送バー(24)の中心線に垂直であり、バッフル板取付溝(2602)内にバッフル板(27)が摺動するように取り付けられ、バッフル板(27)は、搬送バー(24)に摺動且つ密封するように連結され、バッフル板(27)は、対応側のエンドカバー(26)に連係され溶接室(18)の端部を密封する、
ことを特徴とする請求項2に記載の真空溶接炉制御システム。 - 前記溶接室(18)の下側に搬送バー(24)と1対1対応する搬送取付アーム(45)が設けられ、搬送取付アーム(45)の両端は、対応側の搬送バー(24)の両端に連結され、開閉機構は、2つの搬送取付アーム(45)に連結される、
ことを特徴とする請求項2に記載の真空溶接炉制御システム。 - 前記加熱領域は、複数の加熱板(30)を含み、前記冷却領域は、複数の冷却板(28)を含む、
ことを特徴とする請求項1に記載の真空溶接炉制御システム。 - 各前記加熱板(30)の両側のいずれにも電気加熱管(31)を備える加熱モジュールが対称に設置され、加熱板(30)の中央部にセンサ取付孔(3003)が設置され、センサ取付孔(3003)は、2つの電気加熱管(31)の間に設置された止まり穴であり、センサ取付孔(3003)内に温度センサ(32)が取り付けられ、温度センサ(32)は、制御モジュールの入力端に連結され、制御モジュールの出力端は、電気加熱管(31)に連結される、
ことを特徴とする請求項8に記載の真空溶接炉制御システム。 - 前記冷却板(28)の両側に給水通路(2802)を備える冷却モジュールが対称に設置され、冷却板(28)の少なくとも一端に2つの給水通路(2802)と連通する排水通路(2803)が設置され、制御モジュールの出力端は、給水通路(2802)のスイッチに連結される、
ことを特徴とする請求項8に記載の真空溶接炉制御システム。 - 前記シールドガス導入管は、主窒素ガス導入管(5)と、副窒素ガス導入管(16)とを含み、炉蓋(4)の両端のいずれにも主窒素ガス導入管(5)が設置され、炉蓋(4)の中央部の両側に副窒素ガス導入管(16)が対称に設置され、主窒素ガス導入管(5)及び副窒素ガス導入管(16)の排気端は、それぞれ溶接室(18)と連通し、制御モジュールの出力端は、主窒素ガス導入管(5)及び副窒素ガス導入管(16)のスイッチにそれぞれ連結される、
ことを特徴とする請求項1に記載の真空溶接炉制御システム。 - 前記炉蓋(4)の下部の両側に吸気板(17)が対称に設置され、吸気板(17)の上部に設けられる上側へ開口する吸気口(1701)が炉蓋(4)と囲み吸気チャンバを形成し、吸気板(17)に吸気口(1701)と溶接室(18)とを連通させる複数の噴気孔(1702)が間隔をおいて設置され、副窒素ガス導入管(16)は、吸気口(1701)と連通する、
ことを特徴とする請求項11に記載の真空溶接炉制御システム。 - 前記負圧吸引モジュール(9)は、密封板(36)と負圧吸引昇降シリンダ(35)とを含み、密封板(36)は、加熱領域の上側に設置され、加熱領域と平行に設置され、密封板(36)の底部と加熱領域とが密閉した負圧チャンバを形成し、負圧チャンバに負圧吸引管が連結され、制御モジュールの出力端は、負圧吸引管のスイッチ及び負圧吸引昇降シリンダ(35)にそれぞれ連結される、
ことを特徴とする請求項1に記載の真空溶接炉制御システム。 - 前記密封板(36)は、炉蓋(4)の下側に設置され、負圧吸引昇降シリンダ(35)は、炉蓋(4)の上側に設置され、負圧吸引昇降シリンダ(35)のピストンロッドは、連結管(37)を介して密封板(36)に連結され、連結管(37)は、負圧チャンバと負圧吸引管とを連通し、制御モジュールの出力端は、ピストンロッドに連結される、
ことを特徴とする請求項13に記載の真空溶接炉制御システム。 - 浄化モジュール(59)をさらに含み、浄化モジュール(59)の吸気端と排気端とのいずれも溶接室(18)と連通する、
ことを特徴とする請求項1に記載の真空溶接炉制御システム。 - 前記浄化モジュール(59)は、浄化箱(61)と、浄化箱(61)内に設置されたコイル(67)及びストレーナ(64)とを含み、吸気端と排気端とがそれぞれ浄化箱(61)の両側に設置され、ストレーナ(64)は、排気端に近接するように設置され、排気端を封止させ、コイル(67)は、循環ポンプに連結され、循環ポンプを介してコイル(67)内に循環するクーラントが充填され、浄化箱(61)の排気端と溶接室(18)との間にファン(65)が設置され、制御モジュールの出力端は、ファン(65)のモータ入力端及び循環ポンプのスイッチに連結される、
ことを特徴とする請求項15に記載の真空溶接炉制御システム。 - 前記浄化モジュール(59)は、浄化箱(61)内に設置されたフィン(68)をさらに含む、
ことを特徴とする請求項16に記載の真空溶接炉制御システム。 - 前記溶接室(18)の下側に貯液カバー(33)が設置され、貯液カバー(33)の底部の両側は、側部から中央部に徐々に下への傾斜状であり、貯液カバー(33)の底部に貯液カバー排出管(3301)が設けられる、
ことを特徴とする請求項1に記載の真空溶接炉制御システム。 - 請求項1に記載の真空溶接炉制御システムの制御方法であって、
制御モジュールにより、炉蓋(4)が溶接室(18)の上部を蓋合わせ、それを封止するように制御し、シールドガス導入管のスイッチをオンにさせ、溶接室(18)内にシールドガスが充填されるように制御し、加熱領域がその上のシートを加熱するように制御し、冷却領域がその上のシートを冷却するように制御するステップ1001と、
制御モジュールにより、搬送機構(2)が複数のシートを供給端から排出端の方向へ搬送し、毎回所定の距離を搬送するように制御するステップ1002と、
搬送機構(2)が搬送操作を完了するたびに、負圧吸引モジュール(9)が降下し、加熱領域と囲み密閉した負圧チャンバを形成し、負圧チャンバに対し所定時間の負圧吸引又は真空吸引操作を行うように制御するステップ1003と、
負圧吸引又は真空吸引操作を遂行した後、制御モジュールにより、搬送機構(2)が排出端へシートを搬送し続けるように制御するステップ1004と、
を含む、
ことを特徴とする真空溶接炉制御システムの制御方法。
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