JP2006339375A - リフロー半田付け装置及びフラックス回収装置 - Google Patents
リフロー半田付け装置及びフラックス回収装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006339375A JP2006339375A JP2005161694A JP2005161694A JP2006339375A JP 2006339375 A JP2006339375 A JP 2006339375A JP 2005161694 A JP2005161694 A JP 2005161694A JP 2005161694 A JP2005161694 A JP 2005161694A JP 2006339375 A JP2006339375 A JP 2006339375A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- furnace
- flux
- reflow soldering
- cleaning liquid
- cleaning
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
Abstract
【解決手段】 本発明の実施形態に係るリフロー半田付け装置は、リフロー室内の気化したフラックス成分を除去するためのフラックス回収装置70を有する。フラックス回収装置70は、フラックス回収手段としてのラジエータ72及びメッシュフィルター83を備えると共に、フラックス回収手段に付着したフラックス成分を洗い流すために、循環ポンプ77、洗浄液導入管75、フィルター76、ラジエータシャワーパイプ78、フィルターシャワーパイプ84貯蔵タンク79,86等から構成される洗浄システムを備える。
【選択図】 図2
Description
また、本発明に係るリフロー半田付け装置は、加熱ゾーンを含む炉と搬送手段とを有し、電子部品を搭載した基板を前記搬送手段により搬送しながら前記炉内で加熱して半田付けするリフロー半田付け装置において、前記炉内の雰囲気ガスを炉外に取り出すと共に前記炉内へと戻すための循環管路と、前記循環管路内に設置された冷却手段と、前記冷却手段を洗浄液で洗浄する洗浄手段と、を備えることを特徴とする。
3 炉
6 チェーンコンベア
7 ヒータ
8 ファン
9 モータ
20 バッファゾーン
30 予備加熱室
40 本加熱室
50 冷却室
60,65 循環往路
61,66 循環復路
70 フラックス回収装置
72 ラジエータ
75 洗浄液導入管
76 フィルター
77 循環ポンプ
78 ラジエータシャワーパイプ
79,86 貯蔵タンク
80,87 ドレン排出プラグ
83 メッシュフィルター
84 フィルターシャワーパイプ
85 フィルター回転モータ
Claims (9)
- 加熱ゾーンを含む炉と搬送手段とを有し、電子部品を搭載した基板を前記搬送手段により搬送しながら前記炉内で加熱して半田付けするリフロー半田付け装置において、
前記炉内の雰囲気ガスを炉外に取り出すための管路と、
前記管路を介して取り出された雰囲気ガス内に含まれるフラックス成分を除去するフラックス回収手段と、
フラックス成分が付着した前記フラックス回収手段を洗浄液で洗浄する洗浄手段と、を備えることを特徴とするリフロー半田付け装置。 - 前記管路は、前記炉内から前記フラックス回収手段へ雰囲気ガスを取り出すための循環往路と、前記フラックス回収手段から前記炉内へと雰囲気ガスを戻すための循環復路とを備えることを特徴とする請求項1記載のリフロー半田付け装置。
- 前記炉は、前記加熱ゾーンを含む仕切られた複数のゾーンを有し、前記循環復路は、複数のゾーンに接続されていることを特徴とする請求項2記載のリフロー半田付け装置。
- 前記炉は、入口及び出口に炉内と炉外との緩衝地帯として働くバッファゾーンを備えており、前記循環復路は、前記バッファゾーンに接続されていることを特徴とする請求項3記載のリフロー半田付け装置。
- 前記炉は、前記加熱ゾーンに加えて冷却ゾーンを備えており、前記管路及び前記フラックス回収手段を、加熱ゾーン用及び冷却ゾーン用にそれぞれ備えていることを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項に記載のリフロー半田付け装置。
- 前記洗浄手段は、洗浄液を循環させるための動力源と、前記フラックス回収手段に洗浄液を噴射するための噴射部材と、前記フラックス回収手段に噴射されて垂れてくる洗浄液を受け止めるための貯蔵タンクと、前記動力源、噴射部材及び貯蔵タンクを接続する管とを備える循環型の洗浄手段であることを特徴とする請求項1乃至5の何れか1項に記載のリフロー半田付け装置。
- 加熱ゾーンを含む炉と搬送手段とを有し、電子部品を搭載した基板を前記搬送手段により搬送しながら前記炉内で加熱して半田付けするリフロー半田付け装置において、
前記炉内の雰囲気ガスを炉外に取り出すと共に前記炉内へと戻すための循環管路と、
前記循環管路内に設置された冷却手段と、
前記冷却手段を洗浄液で洗浄する洗浄手段と、を備えることを特徴とするリフロー半田付け装置。 - 電子部品を搭載した基板を搬送手段により搬送しながら炉内で加熱して半田付けするリフロー半田付け装置に対して、前記炉内で気化したフラックス成分を除去するためのフラックス回収装置であって、
前記炉内の雰囲気ガスを炉外へ取り出すための管路を介して取り出された雰囲気ガス内に含まれるフラックス成分を除去するフラックス回収手段と、
フラックス成分が付着した前記フラックス回収手段を洗浄液で洗浄する洗浄手段と、を備えることを特徴とするフラックス回収装置。 - 電子部品を搭載した基板を搬送手段により搬送しながら炉内で加熱して半田付けするリフロー半田付け装置において、前記炉内で気化したフラックス成分を、フラックス回収手段を用いて除去するフラックス成分回収方法であって、
前記炉内の雰囲気ガスを炉外へ取り出す工程と、
前記フラックス回収手段を用いて前記室外へ取り出した雰囲気ガスからフラックス成分を除去する工程と、
前記フラックス回収手段に付着したフラックス成分を、洗浄手段を用いて洗浄液で洗浄する工程と、を備えたことを特徴とするフラックス成分回収方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005161694A JP2006339375A (ja) | 2005-06-01 | 2005-06-01 | リフロー半田付け装置及びフラックス回収装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005161694A JP2006339375A (ja) | 2005-06-01 | 2005-06-01 | リフロー半田付け装置及びフラックス回収装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006339375A true JP2006339375A (ja) | 2006-12-14 |
JP2006339375A5 JP2006339375A5 (ja) | 2008-07-10 |
Family
ID=37559673
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005161694A Pending JP2006339375A (ja) | 2005-06-01 | 2005-06-01 | リフロー半田付け装置及びフラックス回収装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2006339375A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009099762A (ja) * | 2007-10-17 | 2009-05-07 | Tamura Seisakusho Co Ltd | リフロー装置、フラックス回収装置およびフラックスの回収方法 |
US8110015B2 (en) | 2007-05-30 | 2012-02-07 | Illinois Tool Works, Inc. | Method and apparatus for removing contaminants from a reflow apparatus |
JP2018020333A (ja) * | 2016-08-01 | 2018-02-08 | 日本電気株式会社 | リフロー炉監視装置およびリフロー炉監視方法およびリフローシステム |
CN108971693A (zh) * | 2018-10-09 | 2018-12-11 | 伟创力电子技术(苏州)有限公司 | 一种环保回流焊炉助焊剂回收装置 |
JP2020142292A (ja) * | 2019-03-08 | 2020-09-10 | 千住金属工業株式会社 | フラックス回収装置、はんだ付け装置及びフラックス除去方法 |
JP2021507814A (ja) * | 2017-12-29 | 2021-02-25 | シャンドン ツァイジュー エレクトロニック テクノロジー カンパニー リミテッド | 真空溶接炉制御システム及びその制御方法 |
CN112756868A (zh) * | 2020-12-24 | 2021-05-07 | 广州云超科技股份有限公司 | 一种带有废料回收的电力器件制造设备 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06154717A (ja) * | 1992-11-27 | 1994-06-03 | Oki Electric Ind Co Ltd | 洗浄装置 |
JPH10308577A (ja) * | 1996-11-27 | 1998-11-17 | Nihon Dennetsu Keiki Co Ltd | 噴霧式フラックス塗布装置におけるフィルタリング装置およびその運転制御方法 |
JP2000288441A (ja) * | 1999-04-09 | 2000-10-17 | Osaka Asahi Kagaku Kk | スプレーフラクサー装置 |
JP2004197975A (ja) * | 2002-12-16 | 2004-07-15 | Tamura Seisakusho Co Ltd | 加熱炉装置 |
-
2005
- 2005-06-01 JP JP2005161694A patent/JP2006339375A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06154717A (ja) * | 1992-11-27 | 1994-06-03 | Oki Electric Ind Co Ltd | 洗浄装置 |
JPH10308577A (ja) * | 1996-11-27 | 1998-11-17 | Nihon Dennetsu Keiki Co Ltd | 噴霧式フラックス塗布装置におけるフィルタリング装置およびその運転制御方法 |
JP2000288441A (ja) * | 1999-04-09 | 2000-10-17 | Osaka Asahi Kagaku Kk | スプレーフラクサー装置 |
JP2004197975A (ja) * | 2002-12-16 | 2004-07-15 | Tamura Seisakusho Co Ltd | 加熱炉装置 |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8110015B2 (en) | 2007-05-30 | 2012-02-07 | Illinois Tool Works, Inc. | Method and apparatus for removing contaminants from a reflow apparatus |
US8128720B2 (en) | 2007-05-30 | 2012-03-06 | Illinois Tool Works Inc. | Method and apparatus for removing contaminants from a reflow apparatus |
JP2009099762A (ja) * | 2007-10-17 | 2009-05-07 | Tamura Seisakusho Co Ltd | リフロー装置、フラックス回収装置およびフラックスの回収方法 |
JP2018020333A (ja) * | 2016-08-01 | 2018-02-08 | 日本電気株式会社 | リフロー炉監視装置およびリフロー炉監視方法およびリフローシステム |
JP2021507814A (ja) * | 2017-12-29 | 2021-02-25 | シャンドン ツァイジュー エレクトロニック テクノロジー カンパニー リミテッド | 真空溶接炉制御システム及びその制御方法 |
JP7165738B2 (ja) | 2017-12-29 | 2022-11-04 | シャンドン ツァイジュー エレクトロニック テクノロジー カンパニー リミテッド | 真空溶接炉制御システム及びその制御方法 |
CN108971693A (zh) * | 2018-10-09 | 2018-12-11 | 伟创力电子技术(苏州)有限公司 | 一种环保回流焊炉助焊剂回收装置 |
JP2020142292A (ja) * | 2019-03-08 | 2020-09-10 | 千住金属工業株式会社 | フラックス回収装置、はんだ付け装置及びフラックス除去方法 |
US10792607B2 (en) | 2019-03-08 | 2020-10-06 | Senju Metal Industry Co., Ltd. | Flux recovery device, soldering device and method for removing flux |
CN112756868A (zh) * | 2020-12-24 | 2021-05-07 | 广州云超科技股份有限公司 | 一种带有废料回收的电力器件制造设备 |
CN112756868B (zh) * | 2020-12-24 | 2022-05-17 | 广州云超科技股份有限公司 | 一种带有废料回收的电力器件制造设备 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2006339375A (ja) | リフロー半田付け装置及びフラックス回収装置 | |
CN101115357A (zh) | 回流焊接装置及焊剂回收装置 | |
AU2008260343B2 (en) | Method and apparatus for removing contaminants from a reflow apparatus | |
TWI630973B (zh) | 波焊機器與從波焊機器內移除蒸發污染物的方法 | |
TWI380752B (en) | Reflow oven | |
US9243845B2 (en) | Reflow furnace | |
JP5051231B2 (ja) | リフロー炉 | |
JP4169700B2 (ja) | フラックス不純物のフィルタリング | |
JP2007053158A (ja) | リフロー半田付け装置及びフラックス除去装置 | |
JP5366395B2 (ja) | フラックス回収装置 | |
JPWO2005065877A1 (ja) | リフロー炉 | |
CN101612506A (zh) | 回流焊炉的氮气过滤回收系统 | |
JP5540680B2 (ja) | リフロー炉 | |
JP2011200929A (ja) | はんだ付け装置及びフューム回収装置 | |
WO2009110549A1 (ja) | 電子部品の洗浄方法および洗浄システム | |
JPH0550218A (ja) | リフロー半田付け装置 | |
JP3083035B2 (ja) | はんだ付け装置 | |
JP2003324272A (ja) | リフロー炉 | |
JP2823996B2 (ja) | 低酸素雰囲気はんだ付け装置におけるヒューム除去方法および装置 | |
CN111408216A (zh) | 焊剂回收装置、焊接装置及焊剂除去方法 | |
JP6824082B2 (ja) | フラックス回収装置 | |
JP2001267729A (ja) | 電子部品の実装方法及び電子部品用実装装置 | |
CN207695303U (zh) | 一种便于分离的废旧电路板基板分离设备 | |
JPH0634444B2 (ja) | プリント基板の洗浄方法およびその装置 | |
JP2008221329A (ja) | 加熱装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20080416 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080523 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080523 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100721 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100728 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20101124 |