JP7157192B2 - 水処理方法 - Google Patents

Description

本発明は、水処理方法に関し、より詳しくは、シアン化物イオン及びシアノ錯体を含有する被処理水を処理する水処理方法に関する。

シアン化物イオン等のシアン成分を含有する廃水から、シアン成分を除去するための処理方法として、廃水中のシアン成分を酸化分解するアルカリ塩素法が広く適用されている。アルカリ塩素法では、一般的に次亜塩素酸ナトリウムをシアン含有廃水にアルカリ性下で添加することで、廃水中のシアン化物イオンや、易分解性のシアノ錯体（亜鉛及び銅等のシアノ錯体）を酸化分解することができる。

一方、アルカリ塩素法では、例えば鉄シアノ錯体等のような難分解性のシアノ錯体を分解することは難しいことから、廃水中のシアン成分と金属塩を反応させて難溶性塩を生成させ、それを沈殿法で分離除去する方法（難溶性塩沈殿法）も提案されている。また、特許文献１では、錯シアン含有廃水に、該廃水をｐＨ６～９の条件下で特定の第一銅化合物および過酸化水素を共存させ、廃水中に生成した水不溶性塩を除去することで、廃水中の錯シアンを処理する錯シアン含有廃水の処理方法が提案されている。

特開２０１７－８０６９９号公報

特許文献１に開示された方法では、シアノ錯体を含有する廃水への銅（Ｉ）化合物の添加等により、水に対する不溶性又は難溶性（以下まとめて「難溶性」と記載する。）の塩を生成させ、その難溶性塩を廃水から除去することで、シアノ錯体が除去処理された処理水を得ることができる。この方法のように、廃水中に難溶性塩を生成させるために銅（Ｉ）化合物を添加することを含む水処理方法においては、廃水の特性に応じて、銅（Ｉ）化合物の添加量を制御することは難しく、銅（Ｉ）化合物の添加を定量注入で行わざるを得ないと考えられていた。

シアノ錯体を含有する廃水に銅（Ｉ）化合物を定量で添加するに当たり、より確実に難溶性塩を生成させるためには、銅（Ｉ）化合物の添加量が過剰となりやすい。そのため、難溶性塩を生成させた後、固液分離処理により難溶性塩を除去処理して得られる処理水中に銅が溶解した状態で残留する傾向にあることがわかった。このように処理水中に銅が残留していると、水質汚濁防止法の排水基準において銅含有量の許容限度が３ｍｇ／Ｌと規制されていることから、さらに次段階の処理として、処理水中の銅を除去するための処理（例えば、銅を水酸化物にして沈殿除去する処理等）が必要となる。そうすると、残留銅を処理するための工程や設備の分、処理コストや設備費が高くなり、また、設備を設置する敷地面積も拡大することになる。したがって、残留する銅を処理するための工程や設備を省略することが可能な程度に処理水中の銅の残留量を抑制することが可能となれば、より有用な水処理方法となり得る。

そこで、本発明は、シアン化物イオン及びシアノ錯体を含有する被処理水について、銅（Ｉ）化合物を用いて処理する場合に、得られる処理水中の銅の残留量を抑制することが可能な水処理方法を提供しようとするものである。

すなわち、本発明は、シアン化物イオン及びシアノ錯体を含有する被処理水を処理する水処理方法であって、前記被処理水中の全シアン濃度（ｍｇ－ＣＮ／Ｌ）及びシアン化物イオン濃度（ｍｇ－ＣＮ／Ｌ）を測定する工程（Ａ）と、前記被処理水に、前記被処理水中のＨ_２Ｏ_２としての添加濃度（ｍｇ－Ｈ_２Ｏ_２／Ｌ）が前記被処理水中の前記シアン化物イオン濃度（ｍｇ－ＣＮ／Ｌ）の測定値に対して１．０～４．０倍となる量の過酸化水素を添加し、反応させる工程（Ｂ）と、前記工程（Ｂ）で得られた反応液に、前記被処理水中のＣｕとしての添加濃度（ｍｇ－Ｃｕ／Ｌ）が前記被処理水中の前記全シアン濃度の測定値から前記シアン化物イオン濃度の測定値を減じて求められるシアノ錯体濃度値（ｍｇ－ＣＮ／Ｌ）に対して１．０～４．０倍となる量の銅（Ｉ）化合物を添加し、反応させる工程（Ｃ）と、前記工程（Ｃ）で得られた反応液を固液分離処理し、前記工程（Ｃ）で生成した難溶化物を分離除去する工程（Ｄ）と、を含む水処理方法を提供する。

本発明によれば、シアン化物イオン及びシアノ錯体を含有する被処理水について、銅（Ｉ）化合物を用いて処理する場合に、得られる処理水中の銅の残留量を抑制することが可能な水処理方法を提供することができる。

本発明の一実施形態の水処理方法を実行し得る水処理装置及び処理フローの概略構成の一例を表す説明図である。 本発明の一実施形態の水処理方法を実行し得る水処理装置及び処理フローの概略構成の別の一例を表す説明図である。 本発明の一実施形態の水処理方法を実行し得る水処理装置及び処理フローの概略構成のまた別の一例を表す説明図である。 本発明の一実施形態の水処理方法を適用することを想定した場合の排出ガスの処理設備及び処理フローの一例の概略構成を表す説明図である。

以下、本発明の実施の形態について説明するが、本発明は以下の実施の形態に限定されるものではない。

本発明の一実施形態の水処理方法（以下、「本方法」と記載することがある。）は、シアン化物イオン及びシアノ錯体を含有する被処理水を処理する方法である。本方法は、被処理水中の全シアン濃度（ｍｇ－ＣＮ／Ｌ）及びシアン化物イオン濃度（ｍｇ－ＣＮ／Ｌ）を測定する工程（Ａ）を含む。また、本方法は、被処理水に、被処理水中のＨ_２Ｏ_２としての添加濃度（ｍｇ－Ｈ_２Ｏ_２／Ｌ）が被処理水中のシアン化物イオン濃度の測定値（ｍｇ－ＣＮ／Ｌ）に対して１．０～４．０倍となる量の過酸化水素を添加し、反応させる工程（Ｂ）を含む。さらに、本方法は、工程（Ｂ）で得られた反応液に、被処理水中のＣｕとしての添加濃度（ｍｇ－Ｃｕ／Ｌ）が被処理水中の全シアン濃度の測定値からシアン化物イオン濃度の測定値を減じて求められるシアノ錯体濃度値（ｍｇ－ＣＮ／Ｌ）に対して１．０～４．０倍となる量の銅（Ｉ）化合物を添加し、反応させる工程（Ｃ）を含む。そして、本方法は、工程（Ｃ）で得られた反応液を固液分離処理し、工程（Ｃ）で生成した難溶化物を分離除去する工程（Ｄ）を含む。

なお、本方法では、工程（Ａ）乃至（Ｄ）がそれぞれ別個に行われてもよいが、連続して行われることが好ましい。また、工程（Ａ）乃至（Ｄ）には便宜上「工程」という文言が使用されているが、それらにおける一の工程が完了する前に、他の工程が始まっていてもよい。

例えば、工程（Ａ）では、被処理水中の全シアン濃度及びシアン化物イオン濃度の両方が測定されるが、シアン化物イオン濃度の測定後、全シアン濃度の測定前に、工程（Ｂ）が開始されていてもよい。また、例えば、工程（Ｂ）では、被処理水に過酸化水素を添加して反応させるが、この過酸化水素の反応が完了する前に、工程（Ｃ）が開始されていてもよい。したがって、工程（Ｃ）において銅（Ｉ）化合物を添加する対象となる「工程（Ｂ）で得られた反応液」は、過酸化水素が添加された被処理水を意味し、過酸化水素による反応が完了している状態のほか、当該反応が進行中の状態及び当該反応が開始する前の状態等も含み得る。さらに、例えば、工程（Ｃ）では、工程（Ｂ）で得られた反応液に、銅（Ｉ）化合物を添加して反応させるが、この銅（Ｉ）化合物の反応が完了する前に、工程（Ｄ）が開始されていてもよい。したがって、工程（Ｄ）において固液分離処理の対象となる「工程（Ｃ）で得られた反応液」は、さらに銅（Ｉ）化合物が添加された被処理水を意味し、銅（Ｉ）化合物による反応が完了している状態のほか、当該反応が進行中の状態及び当該反応が開始する前の状態等も含み得る。

本方法では、被処理水に特定量の過酸化水素を添加する工程（Ｂ）によって、工程（Ｂ）で得られる反応液中に過酸化水素の残留を抑制しつつ、被処理水中のシアン化物イオンを過酸化水素により、十分に分解処理することが可能となる。また、本方法では、被処理水（工程（Ｂ）で得られた反応液）に特定量の銅（Ｉ）化合物を添加する工程（Ｃ）によって、工程（Ｃ）で得られる反応液や処理水中に、銅（Ｉ）化合物の残留を抑制しつつ、被処理水中のシアノ錯体を難溶化し、その難溶化物を生成することができる。そして、この難溶化物を工程（Ｄ）によって分離除去することができる。

したがって、本方法によれば、シアン化物イオン及びシアノ錯体が除去された処理水を得ることが可能であり、しかも、銅の残留量が抑制された処理水を得ることが可能である。そのため、処理水に銅が残留していた場合に必要となる、銅を処理するための工程や設備を省略可能となることが期待でき、それにより、設備費及び処理コストを抑えること、及び敷地面積を抑えることが期待できる。

本方法では、シアン化物イオン（遊離シアンとも称される。）及びシアノ錯体を含有する被処理水を処理対象とする。「被処理水」とは、処理対象の水、すなわち、処理を被る水を意味する文言である。この被処理水は、シアン化物イオン及びシアノ錯体を含有する水であれば、特に制限されない。被処理水は、シアン化物イオン及びシアノ錯体を含有することから、シアン含有水と称してもよい。

被処理水中のシアノ錯体としては、例えば、鉄シアノ錯体、亜鉛シアノ錯体、ニッケルシアノ錯体、及び銅シアノ錯体（例えば［Ｃｕ（ＣＮ）_３］^３－等）等を挙げることができる。これらのうちの１種又は２種以上が被処理水に含有されていてもよい。好適な被処理水としては、シアノ錯体として、鉄シアノ錯体を含有する廃水を挙げることができる。鉄シアノ錯体としては、フェロシアン化物イオン（［Ｆｅ（ＣＮ）_６］^４－；ヘキサシアノ鉄（II）酸イオン）、フェリシアン化物イオン（［Ｆｅ（ＣＮ）_６］^３－；ヘキサシアノ鉄（III）酸イオン）、並びに鉄カルボニルシアノ錯体（［Ｆｅ（ＣＮ）_５（ＣＯ）］^３－及び［Ｆｅ（ＣＮ）_４（ＣＯ）_２］^２－）等を挙げることができる。これらのうちの１種又は２種以上の鉄シアノ錯体が被処理水に含有されていてもよい。これらの鉄シアノ錯体を含有する廃水は、例えば、特開２０１８－３９００４号公報や特開２０１８－６９２２７号公報に開示されている。

一般に、実際の廃水処理設備に処理対象として流入してくる、シアン化物イオン及び鉄シアノ錯体等のシアン成分を含有する廃水（シアン含有廃水）においては、その廃水中のシアン成分の濃度は日々変動する。本発明者らの検討により、実際の廃水処理設備において、仮に、シアン含有廃水に過酸化水素及び銅（Ｉ）化合物を共存させて処理を行うと、日々変化するシアン含有廃水によっては、一時的に、シアン成分の除去性能が低下する問題が生じることがわかった。具体的には、廃水中のシアン化物イオンの濃度及び鉄シアノ錯体の濃度がいずれも低い場合には、上述の問題が生じ難い一方、廃水中のシアン化物イオン濃度に比べて鉄シアノ錯体濃度が高い場合には、上述の問題が生じ易い傾向にあることがわかった。そのため、本方法における好適な処理対象としては、シアン化物イオン濃度に比べて鉄シアノ錯体濃度が高い被処理水を挙げることができる。

上述のシアン含有廃水としては、例えば、石炭工場、メッキを行う工場、コークス工場、及びコークスを大量に使用する工場等から排出される廃水を挙げることができる。シアン含有廃水としては、シアン化物イオン、並びに鉄シアノ錯体（フェロシアン化物イオン、フェリシアン化物イオン、［Ｆｅ（ＣＮ）_５（ＣＯ）］^３－、及び［Ｆｅ（ＣＮ）_４（ＣＯ）_２］^２－のうちの少なくとも１種）を含有する可能性が高いと考えられることから、排出ガスの洗浄排水がより好適である。排出ガスの洗浄排水には、排ガス処理装置から生じる排水も含まれる。さらに好適な被処理水としては、コークスを燃料とする炉から発生する、懸濁物質を含む排出ガスを湿式集塵処理して得られた集塵水から、懸濁物質を除去するための固液分離処理がなされた、排出ガスの洗浄廃水を挙げることができる。

工程（Ａ）では、被処理水中の全シアン（以下、「Ｔ－ＣＮ」と記載することがある。）濃度（ｍｇ－ＣＮ／Ｌ）及びシアン化物イオン（以下、「Ｆ－ＣＮ」と記載することがある。）濃度（ｍｇ－ＣＮ／Ｌ）を測定する。

工程（Ａ）で被処理水中のＦ－ＣＮ濃度を測定するのは、後述する工程（Ｂ）において被処理水に添加する過酸化水素の量をＦ－ＣＮ濃度の測定値に基づき制御するためである。また、Ｆ－ＣＮ濃度の測定に加えて、工程（Ａ）で被処理水中のＴ－ＣＮ濃度を測定するのは、後述する工程（Ｃ）において被処理水に添加する銅（Ｉ）化合物の量を、Ｔ－ＣＮ濃度の測定値からＦ－ＣＮ濃度の測定値を減じて求められるシアノ錯体濃度値に基づき制御するためである。

従来のアルカリ塩素法で用いられる次亜塩素酸ナトリウムの添加量は、被処理水の酸化－還元電位（ＯＲＰ）により制御されることがある。しかし、被処理水として好適な上述のシアン含有廃水の場合、シアン成分以外にも、例えばアンモニウム性窒素（ＮＨ_４ ^＋－Ｎ）及び還元性硫黄化合物等の様々な成分が含有されていることから、ＯＲＰによる制御は難しい。また、次亜塩素酸ナトリウムはアンモニアと反応しやすく、その反応に消費されてしまう。そのため、本方法では、過酸化水素を用いることとし、かつ、その添加量の制御に、被処理水中のＦ－ＣＮ濃度の測定値を用いることとしている。

一般に、シアン化物イオン濃度の測定方法には、イオン電極法があり、全シアン濃度の測定方法には、加熱蒸留－比色法、加熱蒸留－イオン電極法、及び紫外線（ＵＶ）錯体分解－イオン電極法等がある。工程（Ａ）では、Ｔ－ＣＮ濃度及びＦ－ＣＮ濃度はいずれも、加熱蒸留－イオン電極法により、測定することが好ましい。

具体的には、工程（Ａ）は、被処理水の一定量を試料としてその試料を前処理後、ｐＨ２以下に調整して加熱通気蒸留を行い、シアン化物イオン電極を用いて、被処理水中のＴ－ＣＮ濃度（ｍｇ－ＣＮ／Ｌ）を測定することを含むことが好ましい。また、工程（Ａ）は、被処理水の一定量を試料としてその試料を前処理後、ｐＨ５～６に調整して加熱通気蒸留を行い、シアン化物イオン電極を用いて、被処理水中のＦ－ＣＮ濃度（ｍｇ－ＣＮ／Ｌ）を測定することを含むことが好ましい。これらの加熱蒸留－イオン電極法を用いた測定により、様々な成分が含有されている上述のシアン含有廃水や、そのシアン含有廃水のようにＦ－ＣＮ濃度及びシアノ錯体濃度が日々変動する被処理水に対しても、Ｔ－ＣＮ濃度及びＦ－ＣＮ濃度を正確に測定することが可能となる。

上述の加熱蒸留－イオン電極法によるＴ－ＣＮ濃度及びＦ－ＣＮ濃度の測定は、より具体的には、次のようにして行うことがより好ましい。Ｔ－ＣＮ濃度の測定については、一定量の試料（被処理水）の前処理として、その試料に塩化第一銅溶液（好適には塩化第一銅の塩酸溶液）及びリン酸水溶液をそれぞれ加えてｐＨを２以下に調整し、加熱時間約１０～３０分（より好ましくは１５～２５分、さらに好ましくは２０分）の条件にて加熱通気蒸留を行う。加熱通気蒸留において、リン酸により試料をｐＨ２以下の酸性条件とすることでシアノ錯体が分解され、塩化第一銅は、シアノ錯体の分解を促進し、また、測定に干渉する物質（例えば硫化物イオン等）のマスキング剤としてもはたらく。そして、その加熱通気蒸留により発生するシアン化水素ガスを水酸化ナトリウム水溶液に吸収させた後、シアン化物イオン電極を用いてＴ－ＣＮ濃度を測定することができる。また、Ｆ－ＣＮ濃度の測定については、一定量の試料（被処理水）の前処理として、その試料に酢酸亜鉛溶液（好適には酢酸亜鉛二水和物の水溶液）及び酢酸水溶液をそれぞれ加えてｐＨ５～６（より好ましくはｐＨ５．３～５．７、さらに好ましくはｐＨ５．５）に調整し、加熱時間約１０～３０分（より好ましくは１５～２５分、さらに好ましくは２０分）の条件にて加熱通気蒸留を行う。加熱通気蒸留において、酢酸と酢酸亜鉛により試料を上記ｐＨに調整することで、ヘキサシアノ鉄（II）酸イオン等のシアノ錯体からのシアン化水素の発生が抑制される。そして、その加熱通気蒸留により発生するシアン化水素ガスを水酸化ナトリウム水溶液に吸収させた後、シアン化物イオン電極を用いてＦ－ＣＮ濃度を測定することができる。

上述のＴ－ＣＮ濃度の測定には、市販の測定装置を用いることもでき、例えば、株式会社アナテック・ヤナコ製の製品名「全シアン自動測定装置 ＴＣＮ－５８０」を用いることができる。この装置は、一定量の試料（被処理水）、塩化第一銅溶液、及びリン酸水溶液を、各計量管を介して加熱槽に導入し、約１０～３０分間負圧通気蒸留し、この際に生じたシアン化水素ガスを、予め測定槽に用意した少容量の水酸化ナトリウム水溶液に吸収、濃縮してシアン化物イオン電極で測定することが可能なものである。また、Ｆ－ＣＮ濃度の測定には、例えば、上記全シアン自動測定装置における塩化第一銅溶液、及びリン酸水溶液を、それぞれ、酢酸亜鉛溶液、及び酢酸水溶液に変えた装置を用いることができる。

工程（Ｂ）では、被処理水に、被処理水中のＨ_２Ｏ_２としての添加濃度（ｍｇ－Ｈ_２Ｏ_２／Ｌ）が上述の工程（Ａ）における被処理水中のシアン化物イオン濃度の測定値（ｍｇ－ＣＮ／Ｌ）に対して１．０～４．０倍となる量の過酸化水素を添加し、反応させる。例えば、工程（Ａ）において、被処理水中のシアン化物イオン（Ｆ－ＣＮ）濃度が２ｍｇ－ＣＮ／Ｌと測定された場合、工程（Ｂ）では、被処理水に過酸化水素を２～８ｍｇ－Ｈ_２Ｏ_２／Ｌ添加することができる。

工程（Ｂ）において、被処理水に過酸化水素を添加して反応させることにより、過酸化水素が被処理水中のシアン化物イオン（ＣＮ^－）と酸化反応し、ＣＮ^－を分解することが可能である。この効果が得られやすい観点から、過酸化水素の添加量は、被処理水中のＨ_２Ｏ_２としての添加濃度が被処理水中のシアン化物イオン濃度の測定値に対して１．２倍以上であることが好ましく、１．５倍以上であることがより好ましい。シアン化物イオンは、炭素（Ｃ）及び窒素（Ｎ）からなることから、最終的には、二酸化炭素（ＣＯ_２）や窒素（Ｎ_２）に分解される。なお、被処理水に、例えば、亜鉛シアノ錯体、ニッケルシアノ錯体、及び銅シアノ錯体等の易分解性のシアノ錯体が含有されている場合には、そのようなシアノ錯体も工程（Ｂ）によって分解することが期待できる。

工程（Ｂ）における被処理水への過酸化水素の添加量は、被処理水中のＨ_２Ｏ_２としての添加濃度が被処理水中のＦ－ＣＮ濃度の測定値に対して１．０～４．０倍となる量であるため、工程（Ｂ）で得られた反応液中に残留する過酸化水素の量を抑制することができる。本発明者らの検討により、被処理水に後述する銅（Ｉ）化合物を添加する際に、被処理水中に過酸化水素が比較的多めに残っていると、被処理水からのシアン成分の除去性能が低下しやすいとの知見が得られている。これに対し、本方法では、銅（Ｉ）化合物を添加する際に、工程（Ｂ）で得られた反応液中に残留する過酸化水素の量を抑制できることから、銅（Ｉ）化合物を使用することによるシアン成分の除去性能を高めやすくなる。この観点から、被処理水への過酸化水素の添加量は、被処理水中のＨ_２Ｏ_２としての添加濃度が被処理水中のＦ－ＣＮ濃度の測定値に対して３．５倍以下となる量が好ましく、３．０倍以下となる量がより好ましく、２．５倍以下となる量がさらに好ましい。

また、本方法では、被処理水への過酸化水素の添加量は、被処理水中のＦ－ＣＮ濃度の測定値に基づく量である。そのため、実際の廃水処理設備に処理対象として流入してくるシアン含有廃水のように、シアン成分の濃度が日々変動する被処理水中のＦ－ＣＮ濃度及びシアノ錯体濃度の差が急激に変化した場合であっても、その変化に追従しやすい。すなわち、被処理水中のＦ－ＣＮ濃度及びシアノ錯体濃度が様々な場合であっても、安定した処理性能を実現することが可能となる。

さらに、被処理水への銅（Ｉ）化合物の添加前に、被処理水に過酸化水素を添加して反応させる工程（Ｂ）を行うため、銅（Ｉ）化合物の添加によって難溶化物を生じさせた際に、難溶化物中に含有されるシアンの量を適度に低くすることができる。そのため、難溶化物中に含有されるシアンの量が低減されることから、難溶化物を処分する際に、シアンの溶出の可能性やその程度を低減できるという利点にもつながる。

上述の通り、工程（Ｂ）では、被処理水に特定量の過酸化水素を添加することで、工程（Ｂ）で得られた反応液中に残留する過酸化水素の量を抑制できるが、工程（Ｂ）で得られた反応液中の過酸化水素の残留量をさらに低減させる工程を行ってもよい。例えば、工程（Ｂ）で得られた反応液と、その反応液中に残留する過酸化水素の濃度を低減する過酸化水素除去剤とを接触させて反応させることにより、当該反応液中の残留過酸化水素濃度をさらに低減させてもよい。

工程（Ｂ）における処理を行う際の被処理水のｐＨは、５．０～１０．０が好ましく、５．５～９．５がより好ましく、６．０～８．０がさらに好ましい。この際、被処理水のｐＨをｐＨ調整剤（例えば、塩酸及び水酸化ナトリウム等）等により、調整してもよい。工程（Ｂ）における反応時間は、３～６０分であることが好ましく、５～３０分であることがより好ましい。また、工程（Ｂ）における反応温度は、１５～８０℃であることが好ましく、２０～６０℃であることがより好ましい。

工程（Ｃ）では、上述の工程（Ｂ）で得られた反応液に、被処理水中のＣｕとしての添加濃度（ｍｇ－Ｃｕ／Ｌ）が被処理水中のシアノ錯体濃度値（ｍｇ－ＣＮ／Ｌ）に対して１．０～４．０倍となる量の銅（Ｉ）化合物を添加し、反応させる。被処理水中のシアノ錯体濃度値は、前述の工程（Ａ）における被処理水中の全シアン（Ｔ－ＣＮ）濃度の測定値からシアン化物イオン（Ｆ－ＣＮ）濃度の測定値を減じて求められる。被処理水には、シアン化物イオン及びシアノ錯体が含有されているため、被処理水中のＴ－ＣＮ濃度の測定値からＦ－ＣＮ濃度の測定値を減じた値は、被処理水中のシアノ錯体濃度値とみなすことができる。

工程（Ｃ）における銅（Ｉ）化合物の添加量について、一例を挙げて説明する。例えば、工程（Ａ）において、被処理水中のＦ－ＣＮ濃度が２ｍｇ－ＣＮ／Ｌと測定され、かつ、Ｔ－ＣＮ濃度が８ｍｇ－ＣＮ／Ｌと測定された場合、被処理水中のシアノ錯体濃度値は、６ｍｇ－ＣＮ／Ｌと求められる。このシアノ錯体濃度値に対して、被処理水中のＣｕとしての添加濃度が１．０～４．０倍となる量の銅（Ｉ）化合物を添加する場合、被処理水（工程（Ｂ）で得られた反応液）に、銅（Ｉ）化合物を６～２４ｍｇ－Ｃｕ／Ｌ添加する。

工程（Ｃ）において、工程（Ｂ）で得られた反応液（被処理水）に銅（Ｉ）化合物を添加することにより、被処理水中のシアノ錯体（例えば鉄シアノ錯体等）、及び過酸化水素で分解されずに残る可能性があるシアン化物イオンを、銅（Ｉ）化合物と反応させて難溶化することができる。これにより、工程（Ｃ）で得られる反応液や処理水中に、シアン成分（例えば鉄シアノ錯体等）の難溶化物を生成することができる。この効果が得られやすい観点から、銅（Ｉ）化合物の添加量は、被処理水中のＣｕとしての添加濃度が被処理水中のシアノ錯体濃度値に対して１．２倍以上であることが好ましく、１．５倍以上であることがより好ましい。

また、工程（Ｃ）における被処理水（工程（Ｂ）で得られた反応液）への銅（Ｉ）化合物の添加量は、被処理水中のＣｕとしての添加濃度がシアノ錯体濃度値に対して１．０～４．０倍となる量であるため、工程（Ｃ）で得られる反応液や処理水中に残留する銅の量を抑制することができる。そのため、工程（Ｃ）の後に、処理水に銅が残留していた場合に必要となる、銅を除去するための設備及び処理（例えば、銅を水酸化物にして沈殿除去する沈殿装置やそれを用いた処理等）を要しない程度の処理水を得ることも可能となる。これにより、銅を処理するための工程や設備を省略可能となることが期待でき、その結果、設備費及び処理コストを抑えること、及び敷地面積を抑えることも期待できる。これらの効果が得られやすい観点から、銅（Ｉ）化合物の添加量は、被処理水中のＣｕとしての添加濃度が被処理水中のシアノ錯体濃度値に対して３．８倍以下であることが好ましく、３．５倍以下であることがより好ましく、３．０倍以下であることがさらに好ましい。

また、本方法では、被処理水への銅（Ｉ）化合物の添加量は、被処理水中のシアノ錯体濃度値に基づく量である。そのため、実際の廃水処理設備に処理対象として流入してくるシアン含有廃水のように、シアン成分の濃度が日々変動する被処理水中のＦ－ＣＮ濃度及びシアノ錯体濃度の差が急激に変化した場合であっても、その変化に追従しやすい。すなわち、被処理水中のＦ－ＣＮ濃度及びシアノ錯体濃度が様々な場合であっても、安定した処理性能を実現することが可能となる。

銅（Ｉ）化合物は、１価の銅化合物（第一銅化合物）である。銅（Ｉ）化合物を添加する際の銅（Ｉ）化合物の形態としては、粉末状や溶媒に溶かした溶液状等を挙げることができる。このため、銅（Ｉ）化合物としては、被処理水中で銅（Ｉ）イオン（Ｃｕ^＋）を生じ得る銅（Ｉ）化合物や、溶媒中でＣｕ^＋を生じ得る銅（Ｉ）化合物を用いることができる。銅（Ｉ）化合物としては、例えば、塩化銅（Ｉ）、酸化銅（Ｉ）（亜酸化銅）、及び硫酸銅（Ｉ）等を挙げることができる。これらのうちの１種又は２種以上を用いることが好ましい。これらのなかでも、酸化銅（Ｉ）を用いることがさらに好ましい。

工程（Ｃ）における処理を行う際の被処理水（工程（Ｂ）で得られた反応液）のｐＨは、５．０～１０．０が好ましく、５．５～９．５がより好ましく、６．０～８．０がさらに好ましい。このようなｐＨ範囲となるように前述のｐＨ調整剤を用いて調整してもよい。工程（Ｃ）において、工程（Ｂ）で得られた反応液に銅（Ｉ）化合物を添加してからそれを反応させる際の時間（反応時間）としては、３～６０分であることが好ましく、５～３０分であることがより好ましい。また、その際の反応温度は、１５～８０℃であることが好ましく、２０～６０℃であることがより好ましい。

前述の通り、本方法は、工程（Ｂ）で得られた反応液と、その反応液中に残留する過酸化水素の濃度を低減する過酸化水素除去剤とを接触させて反応させる工程を含んでいてもよい。この場合、工程（Ｃ）は、工程（Ｂ）で得られた反応液と、その反応液中に残留する過酸化水素の濃度を低減する過酸化水素除去剤とを接触させ反応させることで得られた反応液に、銅（Ｉ）化合物の添加が行われる工程（Ｃ１）を含むことができる。

工程（Ｃ１）により、銅（Ｉ）化合物を添加する対象となる、工程（Ｂ）で得られた反応液を、その反応液中の過酸化水素の残留量が十分に低い状態又は過酸化水素が残留していない状態にできる。そのため、被処理水中のＦ－ＣＮ濃度及びシアノ錯体濃度値が様々な場合においても、被処理水からのシアン成分の除去処理を安定して十分に行うことが可能となる。

工程（Ｂ）で得られた反応液と、過酸化水素除去剤との接触は、工程（Ｂ）で得られた反応液に、過酸化水素除去剤を接触させてもよく、過酸化水素除去剤に、工程（Ｂ）で得られた反応液を接触させてもよく、それら両方を行ってもよい。工程（Ｂ）で得られた反応液と過酸化水素除去剤との反応時間は、それらの接触を開始してから、１～３０分であることが好ましく、１～１５分であることがより好ましい。また、その際の反応温度は、１５～８０℃であることが好ましく、２０～６０℃であることがより好ましい。

過酸化水素除去剤は、過酸化水素の還元剤、及び過酸化水素の分解触媒のいずれか一方又は両方を含むことが好ましい。過酸化水素の還元剤としては、例えば、亜硫酸ナトリウム（Ｎａ_２ＳＯ_３）及び亜硫酸カリウム（Ｋ_２ＳＯ_３）等の亜硫酸塩；亜硫酸水素ナトリウム（ＮａＨＳＯ_３）及び亜硫酸水素カリウム（ＫＨＳＯ_３）等の亜硫酸水素塩（別名：重亜硫酸塩）；硫酸鉄（II）及び硝酸鉄（II）等の鉄（II）塩（別名：２価の鉄塩、第一鉄塩）；アスコルビン酸及びその塩等を挙げることができる。これらのような、過酸化水素の還元剤を過酸化水素除去剤として用いる場合、工程（Ｂ）で得られた反応液に、過酸化水素除去剤（過酸化水素の還元剤）を添加することにより、工程（Ｂ）で得られた反応液に、過酸化水素除去剤を接触させることが好ましい。過酸化水素の還元剤を添加する際の形態としては、粉末状や溶媒に溶かした溶液状等を挙げることができ、溶液状が好ましい。

過酸化水素の分解触媒としては、液体状の分解触媒や、固体状の分解触媒を用いることができる。液体状の分解触媒としては、例えば、カタラーゼや下水処理場で使用される活性汚泥等を挙げることができる。固体状の分解触媒としては、例えば、粉末状又は粒状の二酸化マンガンや、粒状又はペレット状の活性炭等を挙げることができる。上述のような過酸化水素の分解触媒を過酸化水素除去剤として用いる場合、工程（Ｂ）で得られた反応液に、過酸化水素除去剤（過酸化水素の分解触媒）を添加することにより、工程（Ｂ）で得られた反応液に、過酸化水素除去剤を接触させることが好ましい。また、過酸化水素の分解触媒を基材に担持させたものを反応液に浸漬させたり、固体状の分解触媒にあっては、繊維状やメッシュ状に加工したものを反応液に浸漬させたり、固体状の分解触媒を充填した槽に反応液を通過させたりすることにより、工程（Ｂ）で得られた反応液と、過酸化水素除去剤（過酸化水素の分解触媒）とを接触させることも好ましい。

工程（Ｃ）は、工程（Ｂ）で得られた反応液に、前述の被処理水中のシアノ錯体濃度値（ｍｇ－ＣＮ／Ｌ）に対して１．０～４．０倍となる量の第４級アンモニウム化合物をさらに添加し、反応させる工程（Ｃ２）を含むことが好ましい。この場合、第４級アンモニウム化合物の添加は、工程（Ｂ）で得られた反応液に行われれば、前述の銅（Ｉ）化合物の添加前及び添加後のいずれに行われてもよく、銅（Ｉ）化合物の添加と同時期に行われてもよい。

工程（Ｃ２）における第４級アンモニウム化合物の添加量について、一例を挙げて説明する。例えば、前述の例のように、工程（Ａ）によって測定された、被処理水中のＴ－ＣＮ濃度及びＦ－ＣＮ濃度に基づき、被処理水中のシアノ錯体濃度値が６ｍｇ－ＣＮ／Ｌと求められた場合を挙げる。このシアノ錯体濃度値に対して、１．０～４．０倍となる量の第４級アンモニウム化合物を添加する場合、被処理水（工程（Ｂ）で得られた反応液）に、第４級アンモニウム化合物を６～２４ｍｇ／Ｌ添加する。

工程（Ｃ２）における被処理水（工程（Ｂ）で得られた反応液）に、銅（Ｉ）化合物とともに、第４級アンモニウム化合物を特定量添加することにより、被処理水中のシアノ錯体（例えば鉄シアノ錯体等）を難溶化しやすくなる。また、被処理水への銅（Ｉ）化合物の添加により、被処理水中に溶解するシアンと銅の錯体として、テトラシアノ銅錯体（［Ｃｕ（ＣＮ）_４］^３－）やトリシアノ銅錯体（［Ｃｕ（ＣＮ）_３］^２－）が生じる可能性があるところ、これらの錯体も第４級アンモニウム化合物の併用により、難溶化することが可能となる。そのため、工程（Ｃ２）により、シアン成分の難溶化効果がより高まりやすくなり、また、工程（Ｃ）で得られる反応液や処理水中の銅の残留をより抑制しやすくなる。さらに、工程（Ｃ２）により、銅（Ｉ）化合物の必要量を減少させることも可能となる。

第４級アンモニウム化合物による上述の効果が奏されやすい観点から、第４級アンモニウム化合物の添加量は、被処理水中のシアノ錯体濃度値に対して、１．２～３．５倍であることがより好ましく、１．５～３．０倍であることがさらに好ましい。

第４級アンモニウム化合物は、第４級アンモニウムカチオンを有する化合物であり、モノマーでもよいし、ポリマーでもよい。第４級アンモニウム化合物としては、テトラアルキルアンモニウム化合物、及びカチオン性ポリマー等を好適に用いることができる。第４級アンモニウム化合物を添加する際の形態としては、粉末状や溶媒に溶かした溶液状等を挙げることができ、溶液状が好ましい。

テトラアルキルアンモニウム化合物としては、ジデシルジメチルアンモニウム塩、ヘキサデシルトリメチルアンモニウム塩、ジオクチルジメチルアンモニウム塩、ジドデシルジメチルアンモニウム塩、トリオクチルメチルアンモニウム塩、及びベンジルドデシルジメチルアンモニウム塩が好ましい。さらに、これらにおける第４級アンモニウムカチオンと対となる陰イオンが、ハロゲン化物イオンであるものが好ましく、塩化物イオン及び臭化物イオンであるものがより好ましい。

カチオン性ポリマーとしては、第４級アンモニウムカチオンを有するポリマーであればよく、例えば、ポリアクリル酸エステル系化合物、ポリメタクリル酸エステル系化合物、ポリアミン系化合物、ポリジアリルジアルキルアンモニウム塩系化合物、ジアリルジアルキルアンモニウム塩－アクリルアミド共重合体系化合物、ジメチルアミンとエピクロロヒドリンの重縮合物、並びにジメチルアミン、エピクロロヒドリン及びアンモニアの重縮合物等を挙げることできる。

工程（Ｄ）では、工程（Ｃ）で得られた反応液を固液分離処理し、工程（Ｃ）で生成した難溶化物を分離除去する。これによって、シアン成分が除去された処理水を得ることができる。被処理水や工程（Ｃ）で得られた反応液にその他の浮遊物質（ＳＳ）が含まれている場合には、工程（Ｄ）によって、ＳＳを除去することも可能である。

工程（Ｄ）における固液分離処理の手法としては、沈殿処理、膜分離処理、及びろ過処理等を挙げることができ、これらのなかでも沈殿処理が好ましい。固液分離処理の際には、固液分離処理を行う対象となる反応液に凝集剤を添加してもよく、また、その反応液を撹拌してもよい。凝集剤としては、例えば、ポリ塩化アルミニウム、硫酸アルミニウム、ポリ硫酸第二鉄、及び塩化第二鉄等の無機凝集剤、並びに高分子凝集剤等を挙げることができ、これらの１種又は２種以上を用いることができる。

工程（Ｄ）における処理を行う際の被処理水（工程（Ｃ）で得られた反応液）のｐＨは、５．０～１０．０が好ましく、５．５～９．５がより好ましく、６．０～８．０がさらに好ましい。このようなｐＨ範囲となるように前述のｐＨ調整剤を用いて調整してもよい。工程（Ｄ）における処理を行う際の反応温度は、１５～８０℃であることが好ましく、２０～６０℃であることがより好ましい。

前述の集塵水を固液分離処理して得られた排出ガス洗浄廃水を被処理水として、この水処理方法を適用する場合、本発明の一実施形態の水処理方法は、その一態様として、次の工程（Ｅ）及び（Ｆ）を含むことが好ましい。すなわち、工程（Ｄ）で液分とは分離された固形分を含むスラリーについて、濃縮処理及び脱水処理のいずれか一方又は両方を行う工程（Ｅ）と、工程（Ｅ）で得られた分離水を、排出ガスの洗浄廃水を得るための上記固液分離処理に送る工程（Ｆ）とを行うことが好ましい。工程（Ｄ）で得られる固形分を含むスラリーには、前述の工程（Ｃ）によって生じ得る難溶化物等が含まれ、そのスラリー中の水分に、酸化、ｐＨ変化、及び温度変化等の影響により、シアン成分が溶出する可能性がある。これに対して、上記工程（Ｅ）及び（Ｆ）を行うことによって、被処理水からのシアン成分の除去処理をさらに安定して行うことが可能となる。懸濁物質を含む排出ガスを湿式集塵処理して得られた集塵水から懸濁物質を除去するための固液分離処理としては、沈降分離処理、膜分離処理、及びろ過処理等を挙げることができ、これらのなかでも沈降分離処理が好ましい。

なお、本発明の一実施形態の水処理方法では、その一態様として、工程（Ｂ）における過酸化水素を添加する対象となる被処理水、及び工程（Ｃ）における銅（Ｉ）化合物を添加する対象となる反応液のいずれか一方又は両方に、さらに還元剤を添加してもよい。還元剤としては、例えば、チオ硫酸塩、亜硫酸塩、重亜硫酸塩、塩化第一鉄、並びに硫化ナトリウム及び四硫化ナトリウム等のアルカリ金属硫化物等を挙げることができ、これらの１種又は２種以上を用いることができる。これらのなかでも、前述の過酸化水素除去剤（過酸化水素の還元剤）も兼ね得ることから、亜硫酸塩及び重亜硫酸塩の少なくとも一方を用いることが好ましく、それを工程（Ｂ）で得られた反応液に添加することがより好ましい。チオ硫酸塩、亜硫酸塩、及び重亜硫酸塩における塩を形成する陽イオンとしては、例えば、ナトリウムイオン、カリウムイオン、カルシウムイオン、アンモニウムイオン、及び有機アンモニウムイオン等を挙げることができる。被処理水に添加する際の還元剤の形態としては、粉末状や溶媒に溶かした溶液状等を挙げることができ、溶液状が好ましい。

また、本発明の一実施形態の水処理方法では、その一態様として、過酸化水素を用いる工程（Ｂ）と、銅（Ｉ）化合物を用いる工程（Ｃ）とを、共通の反応槽で行ってもよく、別々の反応槽で行ってもよい。さらに、前述の過酸化水素除去剤を用いる場合、過酸化水素除去剤は、工程（Ｂ）及び（Ｃ）を行う各反応槽とは別個の反応槽で使用されてもよく、工程（Ｂ）を行う反応槽で使用されてもよく、工程（Ｃ）を行う反応槽で使用されてもよい。また、前述の第４級アンモニウム化合物を用いる場合、第４級アンモニウム化合物は、銅（Ｉ）化合物を用いる工程（Ｃ）を行う反応槽で使用されることが好ましい。

以下、本発明の一実施形態の水処理方法における各工程について、それらの処理方法を実行し得る水処理装置及び処理フローの概略構成を表す図面を参照しながら、さらに述べる。なお、図面における各図で共通する部分については同一の符号を付し、その説明を省略することがある。また、図１～図３中の実線矢印は、処理対象である被処理水とその処理過程にある液の流れを表す。

図１は、前述の本発明の一実施形態の水処理方法を実行し得る水処理装置及び処理フローの概略構成の一例を表す説明図である。図１に示すように、水処理装置１０は、全シアン（Ｔ－ＣＮ）濃度測定装置３２、シアン化物イオン（Ｆ－ＣＮ）濃度測定装置３４、第１の反応槽２２、第２の反応槽２４、及び固液分離装置２６を備える。Ｔ－ＣＮ濃度測定装置３２及びＦ－ＣＮ濃度測定装置３４にて、前述の工程（Ａ）を行うことができる。また、第１の反応槽２２にて前述の工程（Ｂ）を、第２の反応槽２４にて前述の工程（Ｃ）を、固液分離装置２６にて前述の工程（Ｄ）を行うことができる。

水処理装置１０は、被処理水Ｗ_１を第１の反応槽２２に送る前の段階において、被処理水を貯留させる調整槽２１を備えることが好ましい。この調整槽２１を設けることによって、被処理水Ｗ_１の性状が変動する場合のその性状の平均化、及び被処理水Ｗ_１の流入量が変動する場合に第１の反応槽２２に安定して一定程度の量を送る効果が期待できる。また、この場合、調整槽２１に流入されてきた被処理水Ｗ_１から、一定量を試料として分取して、Ｔ－ＣＮ濃度測定装置３２及びＦ－ＣＮ濃度測定装置３４に供給し、それぞれ、被処理水Ｗ_１中のＴ－ＣＮ濃度及びＦ－ＣＮ濃度の測定を行うことが好ましい。なお、調整槽２１を設けない場合には、第１の反応槽２２に流入されてきた被処理水を分取して上記測定装置（３２，３４）に供給してもよい。また、第１の反応槽２２の前段階の被処理水Ｗ_１の流路を分岐することで、被処理水Ｗ_１の一定量を試料として分取して、上記測定装置（３２，３４）に供給してもよい。

Ｔ－ＣＮ濃度測定装置３２及びＦ－ＣＮ濃度測定装置３４には、加熱通気蒸留－シアン化物イオン電極法を利用した測定装置を用いることが好ましい。前述の通り、Ｔ－ＣＮ濃度測定装置３２としては、例えば、株式会社アナテック・ヤナコ製の製品名「全シアン自動測定装置 ＴＣＮ－５８０」を用いることができる。また、Ｆ－ＣＮ濃度測定装置３４としては、使用試薬を変更したこと以外は上記全シアン濃度自動測定装置と同様の装置を用いることができる。これらの装置（３２，３４）は、例えば、試料（被処理水）の供給手段、希釈水（希釈水用タンク及びそれに貯留された希釈水）、使用する各試薬（各試薬用タンク及びそれに貯留された各試薬）及びそれらの各種計量管、導入用集合管、加熱槽、冷却管、測定槽（スターラ付き測定槽）、通気用ポンプ、シアン化物イオン電極、並びに比較電極等から構成される。Ｔ－ＣＮ濃度測定装置３２には、上記試薬として、水酸化ナトリウム水溶液、塩化第一銅溶液（好適には塩化第一銅の塩酸溶液）、及びリン酸水溶液を使用することができる。また、Ｆ－ＣＮ濃度測定装置３４には、上記試薬として、水酸化ナトリウム水溶液、酢酸亜鉛溶液（好適には酢酸亜鉛二水和物の水溶液）、及び酢酸水溶液を使用することができる。

上記Ｔ－ＣＮ濃度測定装置３２では、供給手段により被処理水Ｗ_１の一定量が試料として供給され、供給された試料、希釈水、塩化第一銅溶液、及びリン酸水溶液が導入用集合管で集合し、ｐＨ２以下に調整された試料が加熱槽に供給され、１０～３０分（より好ましくは１５～２５分、さらに好ましくは２０分）程度加熱される。一方、水酸化ナトリウム水溶液は、測定槽に供給され、貯留される。ｐＨ２以下に調整された試料の加熱通気蒸留により発生するシアン化水素ガスは、測定槽内の水酸化ナトリウム水溶液に捕集され、測定槽に設けられたシアン化物イオン電極及び比較電極により、被処理水中のＴ－ＣＮ濃度を測定することができる。

上記Ｆ－ＣＮ濃度測定装置３４では、供給手段により被処理水Ｗ_１の一定量が試料として供給され、供給された試料、希釈水、酢酸亜鉛溶液、及び酢酸水溶液が導入用集合管で集合し、ｐＨ５～６（より好ましくは５．３～５．７、さらに好ましくは５．５）に調整された試料が加熱槽に供給され、１０～３０分（より好ましくは１５～２５分、さらに好ましくは２０分）程度加熱される。一方、水酸化ナトリウム水溶液は、測定槽に供給され、貯留される。上記ｐＨに調整された試料の加熱通気蒸留により発生するシアン化水素ガスは、測定槽内の水酸化ナトリウム水溶液に捕集され、測定槽に設けられたシアン化物イオン電極及び比較電極により、被処理水中のＦ－ＣＮ濃度を測定することができる。

第１の反応槽２２は、流入されてきた被処理水Ｗ_１に過酸化水素を添加して反応させる槽である。この際、第１の反応槽２２では、Ｆ－ＣＮ濃度測定装置３４により測定されたＦ－ＣＮ濃度の測定値（ｍｇ－ＣＮ／Ｌ）に対して、被処理水中のＨ_２Ｏ_２としての添加濃度（ｍｇ－Ｈ_２Ｏ_２／Ｌ）が１．０～４．０倍となる量の過酸化水素が添加される。第１の反応槽２２には、過酸化水素を添加するための装置（過酸化水素添加装置）４２を設けることができる。

第２の反応槽２４は、第１の反応槽２２で得られた反応液Ｗ_２に銅（Ｉ）化合物を添加して反応させる槽である。この際、第２の反応槽２４では、被処理水中のシアノ錯体濃度値（ｍｇ－ＣＮ／Ｌ）に対して、被処理水中のＣｕとしての添加濃度（ｍｇ－Ｃｕ／Ｌ）が１．０～４．０倍となる量の銅（Ｉ）化合物が添加される。被処理水中のシアノ錯体濃度値（ｍｇ－ＣＮ／Ｌ）は、Ｔ－ＣＮ濃度測定装置３２により測定された被処理水Ｗ_１中のＴ－ＣＮ濃度の測定値から、Ｆ－ＣＮ濃度測定装置３４により測定された被処理水Ｗ_１中のＦ－ＣＮ濃度の測定値を減じて求められる。第２の反応槽２４には、銅（Ｉ）化合物を添加するための装置（銅（Ｉ）化合物添加装置）４４を設けることができる。

固液分離装置２６は、第２の反応槽２４で得られた、難溶化物を含む反応液Ｗ_４を固液分離処理し、第２の反応槽２４で生成した難溶化物を分離除去する装置である。固液分離装置２６での固液分離処理により、難溶化物が除去された処理水Ｗ_６を得ることができる。固液分離装置２６としては、例えば、シックナー等の沈殿装置や、各種のろ過器及び膜分離機等を用いることができる。これらのなかでも、沈殿装置が好ましく、沈殿装置には撹拌機構が設けられていてもよい。固液分離装置２６による処理の際に、凝集剤を用いる場合には、固液分離装置に、凝集剤を添加するための装置（凝集剤添加装置）を設けてもよい。

上述した過酸化水素添加装置４２、銅（Ｉ）化合物添加装置４４、及び凝集剤添加装置は、例えば、それらの装置において使用される各材料を貯留するためのタンク、並びに各材料を供給するためのポンプ及び供給管等を備えることができる。

水処理装置１０は、その一態様として、過酸化水素の添加量及び銅（Ｉ）化合物の添加量を制御することが可能な制御部を備えることが好ましい。制御部５１を備える水処理装置１２について、図２を参照しながら説明する。図２は、前述の本発明の一実施形態の水処理方法を実行し得る水処理装置及び処理フローの概略構成の別の一例を表す説明図である。

制御部５１は、上述した過酸化水素添加装置４２と接続し、協働することが好ましい。例えば、Ｆ－ＣＮ濃度測定装置３４により測定されたＦ－ＣＮ濃度の測定値を制御部５１に入力することにより、制御部５１に、Ｆ－ＣＮ濃度の測定値を過酸化水素添加装置４２に出力させることができる。そして、制御部５１は、過酸化水素添加装置４２に、被処理水中のＨ_２Ｏ_２としての添加濃度が被処理水中のＦ－ＣＮ濃度の測定値に対して１．０～４．０倍となる量の過酸化水素を添加させることができる。このように、第１の反応槽２２において、過酸化水素添加装置４２からの過酸化水素の添加量を、被処理水中のＦ－ＣＮ濃度の測定値に基づいて半自動的に制御することが可能となる。

また、制御部５１は、上述した銅（Ｉ）化合物添加装置４４と接続し、協働することが好ましい。例えば、上記Ｆ－ＣＮ濃度の測定値のほか、Ｔ－ＣＮ濃度測定装置３２により測定されたＴ－ＣＮ濃度の測定値を制御部５１に入力し、制御部５１に、Ｔ－ＣＮ濃度の測定値とＦ－ＣＮ濃度の測定値との差を演算させ、その差であるシアノ錯体濃度値を銅（Ｉ）化合物添加装置４４に出力させることができる。そして、制御部５１は、銅（Ｉ）化合物添加装置４４に、被処理水中のＣｕとしての添加濃度が被処理水中のシアノ錯体濃度値に対して１．０～４．０倍となる量の銅（Ｉ）化合物を添加させることができる。このように、第２の反応槽２４において、銅（Ｉ）化合物添加装置４４からの銅（Ｉ）化合物の添加量を、被処理水中のシアノ錯体濃度値に基づいて半自動的に制御することが可能となる。

制御部５１は、Ｔ－ＣＮ濃度測定装置３２及びＦ－ＣＮ濃度測定装置３４と接続し、それらとも協働することがより好ましい。例えば、Ｆ－ＣＮ濃度測定装置３４により測定されたＦ－ＣＮ濃度の測定値、及びＴ－ＣＮ濃度測定装置３２により測定されたＴ－ＣＮ濃度の測定値を制御部５１に自動入力させることができる。また、制御部５１に、シアノ錯体濃度値を演算させ、Ｆ－ＣＮ濃度の測定値を過酸化水素添加装置４２に出力させ、シアノ錯体濃度値を銅（Ｉ）化合物添加装置４４に出力させることが可能となる。これにより、第１の反応槽２２において、過酸化水素添加装置４２からの過酸化水素の添加量を、被処理水中のＦ－ＣＮ濃度の測定値に基づいて自動制御することが可能となる。また、第２の反応槽２４において、銅（Ｉ）化合物添加装置４４からの銅（Ｉ）化合物の添加量を、被処理水中のシアノ錯体濃度値に基づいて自動制御することが可能となる。制御部５１は、例えば、電源ユニット、ＣＰＵユニット、入力ユニット、出力ユニット、及び記憶ユニット等を備えて構成することができ、パーソナルコンピューター等を用いることができる。

前述の工程（Ｂ）において、過酸化水素とともに、前述の亜硫酸塩等の還元剤を用いる場合、第１の反応槽２２には、その第１の反応槽２２に還元剤を添加するための装置（還元剤添加装置）を設けることができる。また、工程（Ｃ）において、銅（Ｉ）化合物とともに、前述の還元剤や前述の第４級アンモニウム化合物を用いる場合、第２の反応槽２４には、還元剤添加装置や、第２の反応槽２４に第４級アンモニウム化合物を添加するための装置を設けることができる。一例として、図２において、第４級アンモニウム化合物を添加するための装置（第４級アンモニウム化合物添加装置）４５を示す。

第４級アンモニウム化合物添加装置４５を備える水処理装置１２の場合においても、上述の制御部５１が設けられていることが好ましく、制御部５１は、第４級アンモニウム化合物添加装置４５と接続し、協働することが好ましい。例えば、前述のように、制御部５１にシアノ錯体濃度値を演算させ、そのシアノ錯体濃度値を第４級アンモニウム化合物添加装置４５に出力させることができる。これにより、第２の反応槽２４において、第４級アンモニウム化合物添加装置４５からの第４級アンモニウム化合物の添加量を、被処理水中のシアノ錯体濃度値に基づいて半自動的に又は自動的に制御することが可能となる。

なお、図１及び図２では、過酸化水素を用いる工程（Ｂ）、及び銅（Ｉ）化合物を用いる工程（Ｃ）を説明し易いように、第１の反応槽２２と第２の反応槽２４とを別々に示したが、第１の反応槽２２及び第２の反応槽２４は同一（共通）の反応槽であってもよい。一方、工程（Ｂ）における過酸化水素による反応終了後に、次工程に進むことが好ましいことから、第１の反応槽２２と第２の反応槽２４とは別々の槽であることが好ましい。

前述の工程（Ｃ）が、前述の工程（Ｃ１）を含む場合、本発明の一実施形態の水処理装置は、その一態様として、過酸化水素除去槽（以下、単に「除去槽」と記載することがある。）をさらに備えることができる。過酸化水素除去槽２３を備える水処理装置１４について、図３を参照しながら説明する。図３は、前述の本発明の一実施形態の水処理方法を実行し得る水処理装置及び処理フローの概略構成のまた別の一例を表す説明図である。

除去槽２３は、第１の反応槽２２で得られた反応液Ｗ_２が流入される槽であり、その反応液Ｗ_２と、前述の過酸化水素除去剤とを接触させて反応させる槽である。この除去槽２３にて、反応液Ｗ_２中に残留する過酸化水素の濃度が低減された反応液Ｗ_３を得ることができる。除去槽２３には、第１の反応槽２２で得られた反応液Ｗ_２に過酸化水素除去剤を添加するための装置４３（タンク、ポンプ、及び供給管等）を設けることができる。また、過酸化水素除去剤として前述の分解触媒を用いる場合には、その分解触媒を担持させた基材を、除去槽２３内に設けることもできる。その除去槽２３に第１の反応槽２２で得られた反応液Ｗ_２を通過せることにより、分解触媒を担持させた基材が反応液Ｗ_２に浸漬するようにしてもよい。さらに、過酸化水素除去剤として前述の固体状の分解触媒を用いる場合には、除去槽２３を、固体状の分解触媒を充填した槽とすることもできる。その除去槽２３に、第１の反応槽２２で得られた反応液Ｗ_２を通過させることにより、反応液Ｗ_２と過酸化水素除去剤とを接触させてもよい。

なお、図３では、過酸化水素を用いる工程（Ｂ）、過酸化水素除去剤を用いる工程、及び銅（Ｉ）化合物を用いる工程（Ｃ）を説明し易いように、第１の反応槽２２、除去槽２３、及び第２の反応槽２４をそれぞれ別々に示したが、第１の反応槽２２及び除去槽２３；除去槽２３及び第２の反応槽２４；並びに第１の反応槽２２、除去槽２３、及び第２の反応槽２４；は、同一（共通）の槽であってもよい。一方、工程（Ｂ）における過酸化水素による反応終了後に、次工程に進むことが好ましく、また、過酸化水素除去剤による反応終了後、次工程に進むことが好ましいことから、第１の反応槽２２、除去槽２３、及び第２の反応槽２４は、それぞれ別々の槽であることが好ましい。

前述の通り、被処理水としては、排出ガスの洗浄廃水が好適であることから、前述の水処理方法を、排出ガスの洗浄廃水の処理設備に適用することもできる。図４は、本発明の一実施形態の水処理方法を適用することを想定した場合の排出ガスの処理設備及び処理フローの一例の概略構成を表す説明図である。

図４に示す排出ガスＧの処理設備６０は、排出ガスＧを連続的に洗浄する湿式集塵機（ベンチュリスクラバー）６１と、湿式集塵機６１から得られた集塵水Ｗ_６１を沈降分離処理する沈殿槽６３と、沈降分離により得られた上澄み液Ｗ_６３を一次処理水として貯留する一次処理水槽６５とを備える。また、一次処理水槽６５に送られた上澄み液（一次処理水）の一部は、循環水Ｗ_６５として、補給水Ｗ_６０が加えられつつ湿式集塵機６１に戻されて、排出ガスＧの洗浄に循環使用されてもよい。さらに、沈殿槽６３で沈降分離により得られた沈殿物Ｓ_６３を脱水処理する脱水機６７を設けてもよく、脱水機６７により処理された一部は脱水ケーキＣとして処理され、また別の一部は脱離液（脱水ろ液）Ｗ_６７として沈殿槽６３に再送されてもよい。

上述の一次処理水槽６５における一次処理水に、シアン化物イオン及びシアノ錯体が含有されている場合に、その一次処理水を、前述の水処理方法における処理対象である被処理水Ｗ_１とすることができる。図４では、一次処理水槽６５内の一次処理水をブロー水（被処理水Ｗ_１）として、前述した水処理装置１０、１２、１４（それらにおける第１の反応槽２２又は調整槽２１）に送り、被処理水Ｗ_１の処理を行う場合が例示されている。水処理装置１０、１２、１４における固液分離装置２６で液分とは分離された固形分を含むスラリーを脱水機６７に送って脱水処理し、脱水機６７で得られた分離水（脱離液、脱水ろ液）を、沈殿槽６３に送ることが好ましい。図４に示す脱水機６７は、濃縮槽であってもよく、濃縮槽と脱水機６７とを併用してもよい。また、沈殿槽６３には、脱水ろ液のほか、上記濃縮槽で得られた分離水が送られてもよく、余剰の上記スラリーが送られてもよい。なお、沈殿槽６３の代わりに、各種の膜分離装置及びろ過器等が使用されてもよい。

以上詳述した本発明の一実施形態の水処理方法では、被処理水中のシアン化物イオン濃度の測定値に対して特定量の過酸化水素を被処理水に添加するため、被処理水中のシアン化物イオンを十分に分解可能でありながら、過酸化水素添加後の反応液中に過酸化水素の残留を抑制することが可能である。また、上記水処理方法では、被処理水中のシアノ錯体濃度値に対して特定量の銅（Ｉ）化合物を被処理水に添加するため、被処理水中のシアノ錯体を難溶化し、その難溶化物を生成可能でありながら、銅（Ｉ）化合物添加後の反応液（処理水）中に、銅（Ｉ）化合物の残留を抑制することが可能である。そのため、処理水に銅が残留していた場合に必要となる、銅を処理するための工程や設備を省略可能となることが期待でき、それにより、設備費及び処理コストを抑えること、及び敷地面積を抑えることが期待できる。

また、本方法では、被処理水への過酸化水素の添加量が被処理水中のＦ－ＣＮ濃度の測定値に基づく特定量に制御され、被処理水への銅（Ｉ）化合物の添加量が被処理水中のシアノ錯体濃度値に基づく特定量に制御されている。そのため、実際の廃水処理設備に処理対象として流入してくるシアン含有廃水のように、シアン成分の濃度が日々変動する被処理水中のシアン化物イオン濃度及びシアノ錯体濃度の差が急激に変化した場合であっても、その変化に追従しやすい。したがって、本方法は、Ｆ－ＣＮ濃度及びシアノ錯体濃度が様々な値に日々変動するような実際のシアン含有廃水についても、そのシアン含有廃水中のシアン化物イオン及びシアノ錯体を安定して有効に除去処理することが可能である。

なお、本発明の一実施形態の水処理方法は、次の構成をとることが可能である。
［１］シアン化物イオン及びシアノ錯体を含有する被処理水を処理する水処理方法であって、前記被処理水中の全シアン濃度（ｍｇ－ＣＮ／Ｌ）及びシアン化物イオン濃度（ｍｇ－ＣＮ／Ｌ）を測定する工程（Ａ）と、前記被処理水に、前記被処理水中のＨ_２Ｏ_２としての添加濃度（ｍｇ－Ｈ_２Ｏ_２／Ｌ）が前記被処理水中の前記シアン化物イオン濃度の測定値（ｍｇ－ＣＮ／Ｌ）に対して１．０～４．０倍となる量の過酸化水素を添加し、反応させる工程（Ｂ）と、前記工程（Ｂ）で得られた反応液に、前記被処理水中のＣｕとしての添加濃度（ｍｇ－Ｃｕ／Ｌ）が前記被処理水中の前記全シアン濃度の測定値から前記シアン化物イオン濃度の測定値を減じて求められるシアノ錯体濃度値（ｍｇ－ＣＮ／Ｌ）に対して１．０～４．０倍となる量の銅（Ｉ）化合物を添加し、反応させる工程（Ｃ）と、前記工程（Ｃ）で得られた反応液を固液分離処理し、前記工程（Ｃ）で生成した難溶化物を分離除去する工程（Ｄ）と、を含む水処理方法。
［２］前記工程（Ａ）は、前記被処理水の一定量を試料としてその試料を前処理後、ｐＨ２以下に調整して加熱通気蒸留を行い、シアン化物イオン電極を用いて、前記被処理水中の前記全シアン濃度（ｍｇ－ＣＮ／Ｌ）を測定すること；及び前記被処理水の一定量を試料としてその試料を前処理後、ｐＨ５～６に調整して加熱通気蒸留を行い、シアン化物イオン電極を用いて、前記被処理水中の前記シアン化物イオン濃度（ｍｇ－ＣＮ／Ｌ）を測定すること；を含む、上記［１］に記載の水処理方法。
［３］前記工程（Ｃ）は、前記工程（Ｂ）で得られた反応液と、その反応液中に残留する前記過酸化水素の濃度を低減する過酸化水素除去剤とを接触させ反応させることで得られた反応液に、前記銅（Ｉ）化合物の添加が行われる工程（Ｃ１）を含む、上記［１］又は［２］に記載の水処理方法。
［４］前記工程（Ｃ）は、前記工程（Ｂ）で得られた反応液に、前記被処理水中の前記シアノ錯体濃度値（ｍｇ－ＣＮ／Ｌ）に対して１．０～４．０倍となる量の第４級アンモニウム化合物をさらに添加し、反応させる工程（Ｃ２）を含む、上記［１］～［３］のいずれかに記載の水処理方法。
［５］前記銅（Ｉ）化合物は、酸化銅（Ｉ）を含む上記［１］～［４］のいずれかに記載の水処理方法。

以下、試験例を挙げて、本発明の一実施形態の水処理方法の効果等をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の試験例に限定されるものではない。

＜被処理水＞
シアン化物イオン（溶解性Ｆ－ＣＮ）、及び溶解性金属シアノ錯体を含有する被処理水として、以下に述べる原水を用いた。所定の工場における排出ガスの洗浄を行う排ガス処理装置から排出された、未燃カーボン、鉄分、及び亜鉛分等の懸濁物質を含有する廃水を沈降分離して得られた上澄水を用意した。この上澄水について、表１に示す通り、溶解性のＦ－ＣＮ濃度及びシアノ錯体濃度が異なる３種類の原水（原水１～３）を用意した。原水１～３は、採取した日が異なること以外は同じである。

各原水中の全シアン（Ｔ－ＣＮ）濃度及びシアン化物イオン（Ｆ－ＣＮ）濃度は、次のようにして測定し、Ｔ－ＣＮ濃度の測定値からＦ－ＣＮ濃度の測定値を減じて、シアノ錯体濃度を求めた。各原水中のＴ－ＣＮ濃度の測定には、測定槽に水酸化ナトリウム溶液を用い、原水を前処理する試薬として塩化第一銅の塩酸溶液及びリン酸溶液を用いる、加熱通気蒸留－シアン化物イオン電極法を利用した測定装置（製品名「全シアン自動測定装置 ＴＣＮ－５８０」、株式会社アナテック・ヤナコ製）を使用した。この分析では、前処理として、塩化銅（Ｉ）の濃度が２質量％である塩化第一銅の塩酸溶液と、１＋２リン酸溶液（特級リン酸：純水＝１：２（質量比）の混合液）を原水試料に加え、その試料をｐＨ２以下に調整し、２０分の加熱通気蒸留を行い、発生するシアン化水素ガスを０．５質量％濃度の水酸化ナトリウム水溶液にて捕集し、シアン化物イオン電極により測定した。また、各原水中のＦ－ＣＮ濃度の測定には、上記全シアン自動測定装置における試薬（塩化第一銅の塩酸溶液及びリン酸水溶液）を、酢酸亜鉛二水和物の水溶液、及び酢酸水溶液に変更した装置を使用した。この分析では、前処理として、酢酸亜鉛二水和物の濃度を６６．４ｇ／Ｌに調整した酢酸亜鉛水溶液、並びに０．５Ｍ酢酸水溶液と０．５Ｍ酢酸ナトリウム水溶液を１：４（質量比）の割合で混合した酢酸水溶液を原水試料に加え、その試料をｐＨ５．３～５．７に調整し、２０分の加熱通気蒸留を行い、発生するシアン化水素ガスを０．５質量％濃度の水酸化ナトリウム水溶液にて捕集し、シアン化物イオン電極により測定した。

なお、各原水におけるシアン成分以外の水質については、ｐＨが７．０～８．０、水温が５０～６０℃、懸濁物質濃度が４０～８０ｍｇ／Ｌ、ＣＯＤ_Ｍｎが５～１５ｍｇ／Ｌ、Ｔ－Ｎ（全窒素）が８０～１４０ｍｇ／Ｌ、Ｔ－Ｐ（全りん）が１ｍｇ／Ｌ未満の範囲であった。これらについては、ＪＩＳ Ｋ０１０２の規定に準じて測定した。

また、各原水について、特開２０１８－６９２２７号公報に記載の装置（液体クロマトグラフィ－誘導結合プラズマ質量分析（ＬＣ－ＩＣＰ－ＭＳ）装置）及び条件にて分析したところ、各原水には、フェロシアン化物イオン、フェリシアン化物イオン、鉄カルボニルシアノ錯体（［Ｆｅ（ＣＮ）_５（ＣＯ）］^３－及び［Ｆｅ（ＣＮ）_４（ＣＯ）_２］^２－）、並びに銅シアノ錯体（［Ｃｕ（ＣＮ）_３］^３－）が含有されていたことが確認された。

＜予備試験例＞
各原水を用いて、原水に過酸化水素を添加することによるシアン化物イオンの分解能及び処理水（反応液）中の過酸化水素の残留量を確認した。

（予備試験例１～９）
原水を５００ｍＬビーカーにとり、塩酸により原水をｐＨ６．８に調整した後、原水に３５質量％濃度の過酸化水素水を添加した。過酸化水素水の添加量は、原水中のＨ_２Ｏ_２としての添加濃度が原水中のＦ－ＣＮ濃度の測定値に対して、１．０倍、３．０倍、及び５．０倍となる量とした。原水に過酸化水素水を添加してから１５分間、過酸化水素を反応させた後、反応液をろ紙（５種Ｃ）でろ過し、ろ液を得た。このろ液中のシアン化物イオンの濃度を、ＪＩＳ Ｋ０１０２の３８．１．１．２で規定される「加熱蒸留法（ｐＨ５．５で酢酸亜鉛の存在下で発生するシアン化水素）」で前処理し、ＪＩＳ Ｋ０１０２の３８．３で規定される「４－ピリジンカルボン酸－ピラゾロン吸光光度法」に準じて測定した。また、ろ液中に残留する過酸化水素（Ｈ_２Ｏ_２）の濃度を、簡易反射式光度計（製品名「ＲＱフレックス」、試験紙「リフレクトクァント 過酸化物テスト」、関東化学株式会社製）を用いて測定した。予備試験例１～９の結果を試験条件とともに表２に示す。

予備試験例１～９では、各原水のＦ－ＣＮ濃度に対し、１．０倍、３．０倍、及び５．０倍の過酸化水素を添加した結果、ろ液中のシアン化物イオン濃度はいずれも１ｍｇ－ＣＮ／Ｌ未満となることが確認された。一方、ろ液中の過酸化水素の濃度（残留濃度）は、過酸化水素の添加量を増やすほど高い値であった。予備試験例１～９の結果より、原水への過酸化水素の添加量は、原水中のＦ－ＣＮ濃度の１．０～４．０倍（好ましくは１．０～３．０倍）程度とすれば、シアン化物イオンを１ｍｇ－ＣＮ／Ｌ未満に低減でき、かつ、過酸化水素の添加後に得られる反応液中の残留過酸化水素の濃度を１０ｍｇ－Ｈ_２Ｏ_２／Ｌ以下に抑制できることがわかった。この予備試験例の結果から、原水への過酸化水素の添加量は、原水中のＦ－ＣＮ濃度の１．５倍を目安として以降の試験を行うこととした。

＜試験例＞
上記の各原水について、過酸化水素及び銅（Ｉ）化合物を用いて、原水中のシアン成分の除去処理を試みる試験を行った。試験例１（試験例１．１～１．９）では上記原水１を用い、試験例２（試験例２．１～２．１２）では上記原水２を用い、試験例３（試験例３．１～３．１２）では上記原水３を用いた。試験例１～３では、以下の処理手順にて試験を行った。

（処理手順）
原水を５００ｍＬビーカーにとり、塩酸により原水をｐＨ６．８に調整した後、原水に３５質量％濃度の過酸化水素水を添加し、１５分間反応させ、反応液を得た。過酸化水素水の添加量は、原水中のＨ_２Ｏ_２としての添加濃度が原水中のＦ－ＣＮ濃度の測定値に対して、１．５倍となる量とした。また、試験例２．４～２．１２及び３．４～３．１２では、過酸化水素水を添加した後の上記反応液にさらに、その液中の残留している可能性のある過酸化水素を除去するため、亜硫酸ナトリウムを添加し、１５分間反応させ、反応液を得た。亜硫酸ナトリウムの添加には、３０質量％濃度の亜硫酸ナトリウム水溶液を用い、添加量は、Ｎａ_２ＳＯ_３として７５ｍｇ／Ｌとした。

次に、上記反応液に、銅（Ｉ）化合物として、酸化銅（Ｉ）を添加し、１５分間反応させ、反応液を得た。酸化銅（Ｉ）の添加量は、原水中のＣｕとしての添加濃度が原水中のシアノ錯体濃度値に対して、試験例１．１～１．６、２．１～２．９及び３．１～３．９では、１．０～４．０倍の範囲内とし、それら以外の試験例では、１．０～４．０倍の範囲外とした。酸化銅（Ｉ）の添加には、酸化銅（Ｉ）を１＋１塩酸（純水：３５質量％塩酸＝１：１（質量比）の混合液）に溶解し、銅（Ｃｕ）として５質量％濃度となるように調整した酸化銅（Ｉ）溶液を使用した。

また、上記反応液に酸化銅（Ｉ）を添加する際に、試験例１．４～１．６、２．７～２．９、及び３．７～３．９、並びに試験例１．９、２．１２、及び３．１２では、酸化銅（Ｉ）溶液とともに、第４級アンモニウム化合物であるジデシルジメチルアンモニウムクロリド（ＤＤＡＣ）を添加した。ＤＤＡＣの添加量は、原水中のＤＤＡＣとしての添加濃度が原水中のシアノ錯体濃度値に対して、試験例１．４～１．６、２．７～２．９、３．７～３．９、及び３．１２では、１．０～４．０倍の範囲内とし、試験例１．９及び２．１２では、１．０～４．０倍の範囲外とした。

上述のようにして得られた反応液に、アニオン性高分子凝集剤（製品名「ＫＥＡ－７３０」、日鉄環境株式会社製）を１ｍｇ／Ｌ添加した。アニオン性高分子凝集剤を添加した後の反応液を静置させ、反応液中に生じた不溶性のシアン化合物を沈殿分離させることで固液分離し、得られた上澄水を処理水とした。この処理水について、処理水中の全シアンの濃度を、ＪＩＳ Ｋ０１０２の３８．１．２で規定される「全シアン（ｐＨ２以下で発生するシアン化水素）」で前処理し、ＪＩＳ Ｋ０１０２の３８．３で規定される「４－ピリジンカルボン酸－ピラゾロン吸光光度法」に準じて測定した。また、処理水中の銅（溶解性銅）の濃度を、ＪＩＳ Ｋ０１０２の５２．４で規定されるＩＣＰ発光分光分析法に準じて測定した。なお、上記の各反応はいずれも、マグネティックスターラを用いた撹拌下にて行った。

試験例１～３の結果を試験条件とともに表３に示す。

試験例１．１～１．６、２．１～２．９、及び３．１～３．９では、原水への過酸化水素の添加量を原水中のＦ－ＣＮ濃度の１．５倍に、かつ、原水への銅（Ｉ）化合物の添加量を原水中のシアノ錯体濃度の１．０～４．０倍の範囲内に制御したことによって、全シアンの濃度が十分に低減され、かつ、銅の残留量が抑制された処理水を得ることができた。また、過酸化水素を添加した後に亜硫酸ナトリウムを添加しなかった試験例２．１～２．３及び３．１～３．３と、亜硫酸ナトリウムを添加した試験例２．４～２．６及び３．４～３．６では、処理水中の全シアンの濃度、及び銅の残留濃度は同程度であったことから、過酸化水素の添加量を原水中のＦ－ＣＮ濃度から設定することで、過酸化水素の残留によるシアン成分の除去性が低下する問題を抑制できることが確認された。さらに、試験例１．４～１．６、２．７～２．９、及び３．７～３．９では、銅（Ｉ）化合物とともに、第４級アンモニウム化合物を、原水中のシアノ錯体濃度の１．０～４．０倍の範囲内となる量で添加したことによって、処理水中の全シアンの濃度、及び銅の残留量をさらに低減できることが確認された。

一方、試験例１．７及び２．１０では、銅（Ｉ）化合物の添加量が原水中のシアノ錯体濃度の０．５倍と少なかったために、また、試験例３．１０では、銅（Ｉ）化合物を添加しなかったために、原水からのシアン成分の除去性能は十分でなかった。

また、試験例１．８、１．９、２．１１、２．１２、３．１１、及び３．１２では、銅（Ｉ）化合物の添加量が原水中のシアノ錯体濃度の４．０倍を超えていた（約６．７倍又は７．５倍であった）ため、処理水中の全シアンの濃度は低下したが、処理水中に残留する銅の濃度が高くなった。そのため、試験例１．８、１．９、２．１１、２．１２、３．１１、及び３．１２では、処理水中に残留する銅を処理するための処理がさらに必要となった。

以上の試験例の結果から、前述した本発明の一実施形態の水処理方法によれば、原水中のシアン化物イオンを十分に分解可能であるとともに原水中のシアノ錯体を十分に難溶化することが可能でありながら、銅の残留が抑制された処理水を得られることがわかった。したがって、前述した本発明の一実施形態の水処理方法によれば、処理水中の残留銅を処理するための工程や設備を省略可能となることが期待でき、それにより、設備費及び処理コストを抑えること、及び敷地面積を抑えることが期待できる。

１０、１２、１４ 水処理装置
２２ 第１の反応槽
２４ 第２の反応槽
２６ 固液分離装置
３２ 全シアン濃度測定装置
３４ シアン化物イオン濃度測定装置
４２ 過酸化水素添加装置
４４ 銅（Ｉ）化合物添加装置

Claims (5)

1. シアン化物イオン及びシアノ錯体を含有する被処理水を処理する水処理方法であって、
   前記被処理水中の全シアン濃度（ｍｇ－ＣＮ／Ｌ）及びシアン化物イオン濃度（ｍｇ－ＣＮ／Ｌ）を測定する工程（Ａ）と、
   前記被処理水に、前記被処理水中のＨ_２Ｏ_２としての添加濃度（ｍｇ－Ｈ_２Ｏ_２／Ｌ）が前記被処理水中の前記シアン化物イオン濃度の測定値（ｍｇ－ＣＮ／Ｌ）に対して１．０～４．０倍となる量の過酸化水素を添加し、反応させる工程（Ｂ）と、
   前記工程（Ｂ）で得られた反応液に、前記被処理水中のＣｕとしての添加濃度（ｍｇ－Ｃｕ／Ｌ）が前記被処理水中の前記全シアン濃度の測定値から前記シアン化物イオン濃度の測定値を減じて求められるシアノ錯体濃度値（ｍｇ－ＣＮ／Ｌ）に対して１．０～４．０倍となる量の銅（Ｉ）化合物を添加し、反応させる工程（Ｃ）と、
   前記工程（Ｃ）で得られた反応液を固液分離処理し、前記工程（Ｃ）で生成した難溶化物を分離除去する工程（Ｄ）と、
   を含む水処理方法。
2. 前記工程（Ａ）は、前記被処理水の一定量を試料としてその試料を前処理後、ｐＨ２以下に調整して加熱通気蒸留を行い、シアン化物イオン電極を用いて、前記被処理水中の前記全シアン濃度（ｍｇ－ＣＮ／Ｌ）を測定すること；及び
   前記被処理水の一定量を試料としてその試料を前処理後、ｐＨ５～６に調整して加熱通気蒸留を行い、シアン化物イオン電極を用いて、前記被処理水中の前記シアン化物イオン濃度（ｍｇ－ＣＮ／Ｌ）を測定すること；を含む、請求項１に記載の水処理方法。
3. 前記工程（Ｃ）は、前記工程（Ｂ）で得られた反応液と、その反応液中に残留する前記過酸化水素の濃度を低減する過酸化水素除去剤とを接触させ反応させることで得られた反応液に、前記銅（Ｉ）化合物の添加が行われる工程（Ｃ１）を含む、請求項１又は２に記載の水処理方法。
4. 前記工程（Ｃ）は、前記工程（Ｂ）で得られた反応液に、前記被処理水中の前記シアノ錯体濃度値（ｍｇ－ＣＮ／Ｌ）に対して１．０～４．０倍となる量の第４級アンモニウム化合物をさらに添加し、反応させる工程（Ｃ２）を含む、請求項１～３のいずれか１項に記載の水処理方法。
5. 前記銅（Ｉ）化合物は、酸化銅（Ｉ）を含む請求項１～４のいずれか１項に記載の水処理方法。
   
   

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