JP7117903B2 - 加工方法及び加工装置 - Google Patents
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Description
被加工面が複数の単位領域に区分され、前記単位領域の各々に対応して複数のアライメントマークが設けられ、前記単位領域の内部に複数の被加工点の位置が定義された基板の、前記単位領域の各々の内部の前記複数の被加工点の加工を行う工程を含み、
前記単位領域の加工ごとに、次に加工すべき前記単位領域に対応する前記複数のアライメントマークの位置を検出し、前記複数のアライメントマークの位置の検出結果に基づいて前記複数の被加工点のそれぞれに定義された位置を補正し、補正後の位置に対して加工を行う加工方法が提供される。
レーザビームを出力するレーザ光源と、
前記レーザ光源から出力されたレーザビームを、基板の表面に入射させるとともに、入射位置を前記基板の表面上で移動させるビーム走査器と、
前記基板に設けられた複数のアライメントマークを検知するセンサと、
被加工面が複数の単位領域に区分され、前記被加工面の複数の被加工点の位置を記憶しており、前記単位領域の加工ごとに、次に加工すべき前記単位領域に対応する前記複数のアライメントマークの位置を、前記センサの検知結果から検出し、検出結果に基づいて前記ビーム走査器を制御して前記複数の被加工点のそれぞれに定義された位置を補正し、補正後の位置に対して順番にレーザビームを入射させる制御装置と
を有する加工装置が提供される。
複数のアライメントマークが設けられており、加工すべき複数の被加工点の位置が定義されている基板の、少なくとも一部の前記アライメントマークの位置を検出する工程と、
前記アライメントマークの位置の検出結果に基づいて、前記複数の被加工点のうち一部の複数の被加工点のそれぞれに定義された位置を補正し、補正後の位置に対して加工を順番に行う工程と
を交互に複数回繰り返す加工方法が提供される。
レーザビームを出力するレーザ光源と、
前記レーザ光源から出力されたレーザビームを、基板の被加工面に入射させるとともに、入射位置を前記基板の表面上で移動させるビーム走査器と、
前記基板に設けられた複数のアライメントマークの各々を検知するセンサと、
前記被加工面の複数の被加工点のそれぞれの位置を記憶しており、前記センサの検知結果に基づいて前記レーザ光源及び前記ビーム走査器を制御する制御装置と
を有し、
前記制御装置は、少なくとも一部の前記複数のアライメントマークの位置を前記センサの検知結果に基づいて検出する処理と、前記アライメントマークの位置の検出結果に基づいて前記レーザ光源及び前記ビーム走査器を制御して、前記複数の被加工点のうち一部の複数の被加工点のそれぞれに定義された位置を補正し、補正後の位置に対して加工を順番に行う処理とを、交互に複数回繰り返す加工装置が提供される。
図1は、実施例によるレーザ加工装置の概略図である。レーザ光源10がパルスレーザビームを出力する。レーザ光源10として、例えば炭酸ガスレーザ発振器を用いることができる。レーザ光源10から出力されたパルスレーザビームが音響光学素子(AOM)11、ミラー12、ビーム走査器13、及び集光レンズ14を経由して、ステージ17に保持された加工対象の基板30に入射する。
本願発明者が行った評価実験によると、基板30(図2)の被加工点33にレーザビームの入射によって貫通孔を形成すると、基板30に歪みが生じ得ることが判明した。特に、基板30の厚さが0.04mm以下のとき、基板30が歪む現象が生じやすいことが分かった。従来は、基板30の加工を行う前にアライメントマーク31の位置を検出し、その検出結果に基づいて全ての単位領域32の加工を行っていた。加工が進むに従って基板30に歪みが生じると、歪みが生じた後に加工を行う被加工点33においては、加工すべき本来の被加工点33の位置と、レーザビームが入射する位置とがずれてしまう。このような現象は、本願の出願時点では知られていなかった。
図4は、ビーム走査器13の走査可能範囲35と単位領域32との大きさの関係の一例を示す図である。ビーム走査器13は、基板30を移動させることなく走査可能範囲35の内部の任意の点にレーザビームを入射させることができる。図4に示した例では、走査可能範囲35の内部に、少なくとも1つの単位領域32が収まる。この場合には、図3のステップSA2において、1つの単位領域32内の被加工点33の加工を行うときに、ステージ17を移動させることなく基板30を静止させた状態で加工を行う。1つの単位領域32の加工が終了すると、ステップSA1でアライメントマーク31の位置を検出するときに、ステージ17を移動させればよい。
図6は、他の実施例による加工方法で加工される基板30の平面図である。図2に示した実施例では、単位領域32の各々に対応する複数のアライメントマーク31が、当該単位領域32の内部に配置されていた。図6に示した実施例では、一部のアライメントマーク31が隣り合う単位領域32の仮想的な境界線上に配置されている。すなわち、1つのアライメントマーク31が複数の単位領域32で共用される。本実施例のように、1つのアライメントマーク31を複数の単位領域32に対応付けてもよい。
図7は、本実施例による加工方法で加工対象となる基板30の平面図である。図2に示した実施例では、基板30の被加工面が複数の単位領域32に区分されていた。図7に示した実施例では、被加工面が単位領域32に区分されておらず、複数のアライメントマーク31が、基板30の被加工面内に配置されている。
図9Aは、加工前の基板30の断面図である。ステージ17の上に基板30が保持される。基板30は、樹脂からなるコア層40の両面にそれぞれ銅箔41、42が貼り付けられた銅張積層板である。一方の銅箔41の表面を上面といい、他方の銅箔42の表面を下面ということとする。基板30に、下面から上面まで達する貫通孔からなるアライメントマーク31が設けられている。基板30の上面及び下面に、複数の被加工点33の位置が予め設定されている。上面の被加工点33の位置と下面の被加工点33の位置とは、基板30の面内に関して同一であり、被加工点33の位置は、制御装置20の記憶装置21に記憶されている。
本実施例では、基板30に貫通孔46(図9D)が形成されて基板30に歪みが生じた場合でも、レーザビームを入射させる位置と、本来の被加工点33の位置とのずれを少なくすることができる。このため、上面に形成された凹部45(図9B)と下面に形成された凹部とを繋げて貫通孔46(図9D)を形成することができる。
11 音響光学素子(AOM)
12 ミラー
13 ビーム走査器
14 集光レンズ
15 ビームダンパ
16 センサ
17 ステージ
20 制御装置
21 記憶装置
30 基板
31 アライメントマーク
32 単位領域
33 被加工点
35 ビーム走査器の走査可能範囲
40 コア層
41、42 銅箔
45 凹部
46 貫通孔
Claims (6)
- 被加工面が複数の単位領域に区分され、前記単位領域の各々に対応して複数のアライメントマークが設けられ、前記単位領域の内部に複数の被加工点の位置が定義された基板の、前記単位領域の各々の内部の前記複数の被加工点の加工を行う工程を含み、
前記単位領域の加工ごとに、次に加工すべき前記単位領域に対応する前記複数のアライメントマークの位置を検出し、前記複数のアライメントマークの位置の検出結果に基づいて前記複数の被加工点のそれぞれに定義された位置を補正し、補正後の位置に対して加工を行う加工方法。 - 前記アライメントマークの位置を検出した後、前記アライメントマークの位置の検出結果に基づいて前記基板の歪みを表す歪み情報を求め、前記歪み情報に基づいて前記被加工点の位置を補正し、前記被加工点の加工を行う際に、補正後の前記被加工点の位置に基づいて加工を行う請求項1に記載の加工方法。
- レーザビームを出力するレーザ光源と、
前記レーザ光源から出力されたレーザビームを、基板の表面に入射させるとともに、入射位置を前記基板の表面上で移動させるビーム走査器と、
前記基板に設けられた複数のアライメントマークを検知するセンサと、
被加工面が複数の単位領域に区分され、前記被加工面の複数の被加工点の位置を記憶しており、前記単位領域の加工ごとに、次に加工すべき前記単位領域に対応する前記複数のアライメントマークの位置を、前記センサの検知結果から検出し、検出結果に基づいて前記ビーム走査器を制御して前記複数の被加工点のそれぞれに定義された位置を補正し、補正後の位置に対して順番にレーザビームを入射させる制御装置と
を有する加工装置。 - 複数のアライメントマークが設けられており、加工すべき複数の被加工点の位置が定義されている基板の、少なくとも一部の前記アライメントマークの位置を検出する工程と、
前記アライメントマークの位置の検出結果に基づいて、前記複数の被加工点のうち一部の複数の被加工点のそれぞれに定義された位置を補正し、補正後の位置に対して加工を順番に行う工程と
を交互に複数回繰り返す加工方法。 - 前記アライメントマークの位置を検出した後、前記アライメントマークの位置の検出結果に基づいて前記基板の歪みを表す歪み情報を求め、前記歪み情報に基づいて前記被加工点の位置を補正し、前記被加工点の加工を行う際に、補正後の前記被加工点の位置に基づいて加工を行う請求項4に記載の加工方法。
- レーザビームを出力するレーザ光源と、
前記レーザ光源から出力されたレーザビームを、基板の被加工面に入射させるとともに、入射位置を前記基板の表面上で移動させるビーム走査器と、
前記基板に設けられた複数のアライメントマークの各々を検知するセンサと、
前記被加工面の複数の被加工点のそれぞれの位置を記憶しており、前記センサの検知結果に基づいて前記レーザ光源及び前記ビーム走査器を制御する制御装置と
を有し、
前記制御装置は、少なくとも一部の前記複数のアライメントマークの位置を前記センサの検知結果に基づいて検出する処理と、前記アライメントマークの位置の検出結果に基づいて前記レーザ光源及び前記ビーム走査器を制御して、前記複数の被加工点のうち一部の複数の被加工点のそれぞれに定義された位置を補正し、補正後の位置に対して加工を順番に行う処理とを、交互に複数回繰り返す加工装置。
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