JP7115590B2 - 光学材料用高純度1,2,3,5,6-ペンタチエパン、およびその精製方法 - Google Patents
光学材料用高純度1,2,3,5,6-ペンタチエパン、およびその精製方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7115590B2 JP7115590B2 JP2021085559A JP2021085559A JP7115590B2 JP 7115590 B2 JP7115590 B2 JP 7115590B2 JP 2021085559 A JP2021085559 A JP 2021085559A JP 2021085559 A JP2021085559 A JP 2021085559A JP 7115590 B2 JP7115590 B2 JP 7115590B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pentathiepane
- insoluble matter
- optical materials
- mass
- optical material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D341/00—Heterocyclic compounds containing rings having three or more sulfur atoms as the only ring hetero atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G75/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing sulfur with or without nitrogen, oxygen, or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G75/02—Polythioethers
- C08G75/06—Polythioethers from cyclic thioethers
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
イバー、情報記録基盤、フィルター等の光学材料、中でもプラスチックレンズに好適であ
る光学材料用組成物等に関する。
特に要求される性能は、低比重、高透明性及び低黄色度、光学性能として高屈折率と高ア
ッベ数、高耐熱性、高強度等である。高屈折率はレンズの薄肉化を可能とし、高アッベ数
はレンズの色収差を低減する。
近年、高屈折率と高アッベ数を目的として、硫黄原子を有する有機化合物が数多く報告
されている。
中でも高屈折率を有する材料が求められ、硫黄原子を含む環状骨格の有機化合物を含有
する光学材料用組成物を用いた光学材料が提案され、特に高屈折率化に寄与する化合物と
して1,2,3,5,6-ペンタチエパンが用いられ、屈折率1.73以上を達している
(特許文献1)。
しかしながら、ペンタチエパンは安定性が低く市販品を入手してもオリゴマー等の不溶
物を含有しており、該化合物を重合して得られる光学材料に曇りや白濁が発生するという
問題があった。一般的に、オリゴマー等を含む組成物の精製は溶媒を用いてオリゴマー等
を濾過により除去することが行われる。しかし、本件における不溶物は、ペンタチエパン
を通常の一般的な溶媒に溶かした際には、この不溶物の一部が溶液中に分散して粘性を有
する状態になる。そのためフィルターに詰まりやすく濾過による精製が困難であった。こ
のため、ペンタチエパンを光学材料として使用するには、精製法の確立が必要であった。
れる光学材料用の高純度の1,2,3,5,6-ペンタチエパンおよびその精製法を提供
することである。
5,6-ペンタチエパンから特定の溶媒を用いて不溶物を除去することにより高純度に精
製できることを見出した。
すなわち、本発明は以下の通りである。
した溶液の濁度が500ppm以下である1,2,3,5,6-ペンタチエパン。
ペンタチエパンの製造方法。
A工程:不溶物を含む精製前の1,2,3,5,6-ペンタチエパンを含有する組成物に
芳香族炭化水素類またはハロゲン化炭化水素類を加えて、1,2,3,5,6-ペンタチ
エパンを溶解させる工程。
B工程:前記不溶物を濾過する工程。
C工程:前記溶解した1,2,3,5,6-ペンタチエパンを再結晶する工程。
ルムである[2]に記載の1,2,3,5,6-ペンタチエパンの製造方法。
不溶物を容易に取り除くことができ、高純度な光学材料用1,2,3,5,6-ペンタチ
エパンを得ることが可能となった。
、及びC工程を有する製造方法によって得られる。
(A工程):不溶物を含む精製前の1,2,3,5,6-ペンタチエパンを含有する組成
物に芳香族炭化水素類またはハロゲン化炭化水素類を加えて、1,2,3,5,6-ペン
タチエパンを溶解させる工程。
(B工程):前記不溶物を濾過する工程。
(C工程):前記溶解した1,2,3,5,6-ペンタチエパンを再結晶する工程。
A工程では、不溶物を含む精製前の1,2,3,5,6-ペンタチエパンを含有する組
成物に芳香族炭化水素類またはハロゲン化炭化水素類を加えて、1,2,3,5,6-ペ
ンタチエパンを溶解させる。
本発明において、不溶物を含む精製前の1,2,3,5,6-ペンタチエパンを含有す
る組成物は、純粋な1,2,3,5,6-ペンタチエパン及び、そのオリゴマー等からな
る不溶物を含有する。
不溶物を含む精製前の1,2,3,5,6-ペンタチエパンを含有する組成物は、1,
2,3,5,6-ペンタチエパンの市販品を用いてもよく、原油や動植物等の天然物から
採取抽出してもよく、又公知の方法で合成することによって入手してもよいが、いずれの
1,2,3,5,6-ペンタチエパンも、そのオリゴマー等からなる不溶物を含有する。
合成法の一例としては、N. Takeda等,Bull.Chem.Soc.Jpn
.,68,2757(1995)、F.Feherら,Angew.Chem.Int.
Ed.,7,301(1968)、G.W.Kutneyら,Can.J.Chem,5
8,1233(1980)が挙げられる。
表される環状化合物である1,2,3,5,6-ペンタチエパンは不安定であり、開環し
てオリゴマー化が進行するためである。
、ペンタチエパンの製造工程で副生したジスルフィドとトリスルフィド等が想定される。
この不溶物を含む1,2,3,5,6-ペンタチエパン組成物を用い、重合硬化して光
学材料とした際には白濁や曇りが発生する。
する組成物において、1,2,3,5,6-ペンタチエパンの含有量は70~99.9質
量%であり、好ましくは80~99質量%である。この範囲にあることで、溶解や濾過を
速やかに行うことが可能となる。
本発明で用いられる芳香族炭化水素類は、具体的にはベンゼン、及びトルエンが挙げら
れ、ハロゲン化炭化水素類としては、ジクロロメタン、クロロホルム、及びクロロベンゼ
ンが挙げられるが、1,2,3,5,6-ペンタチエパンを溶解し、不溶物を溶解しなけ
れば特に制限されない。好ましくはトルエン、及びクロロホルムであり、これらは1,2
,3,5,6-ペンタチエパンの溶解性が高く、不溶物の溶解性が非常に低い。法規制の
面から更に好ましくはトルエンである。これら溶媒は単独でも混合して用いても構わない
。
溶媒を要し、高すぎると1,2,3,5,6-ペンタチエパンの分解やオリゴマーの除去
効率の低下が起こるためである。
する組成物との合計を100質量部として、前記組成物が10~60質量部、好ましくは
20~50質量部、より好ましくは20~40質量部、特に好ましくは30~40質量部
である。前記組成物の濃度が低すぎると再結晶収率が低下し、収率低下を防止するために
は濃縮工程を要し、また高すぎると不溶物の除去効率の低下が起こるためである。
B工程では、1,2,3,5,6-ペンタチエパンが溶解した溶液から不溶物を濾過す
る。濾過の方法は、特に限定されない。具体例として、0.05~10μmの孔径を有す
るフィルターを使用するのが好ましく、より好ましくは 0.1~ 5.0μmの孔径を
有するフィルターを使用する。孔径が0.05μm未満の場合、濾過速度が遅くなったり
、濾液が流出しなかったりして、実質上濾過の実施が困難となる。10μmを超える場合
、不溶物の除去が不十分になり、重合して得られる光学材料は異物残留や白濁化のため品
質が低下する。
また、濾過の際には、濾過助剤を使用することが好ましい。無機濾過助剤としてシリカ
ゲル、珪藻土および/またはパーライトが含まれるのが好ましい。好ましい濾過助剤とし
ては珪藻土を使用する。濾過助剤を使用しない場合には濾過速度が遅くなったり、濾液が
流出しなかったりして、実質上濾過の実施が困難となる場合がある。
C工程は、濾過後の溶液から、1,2,3,5,6-ペンタチエパンを再結晶する。
冷却温度は、-20~10℃が好ましく、より好ましくは-20~0℃である。冷却温
度が高すぎると再結晶収率が低下し、冷却温度が低すぎるとエネルギーコストが増大する
。
再結晶収率は50~80%の範囲が好ましい。この範囲にあることで高純度1,2,3
,5,6-ペンタチエパンを経済的に得られる。
精製した1,2,3,5,6-ペンタチエパンは下記の方法で分析することができる。
精製後の1,2,3,5,6-ペンタチエパン2.0gをクロロホルム30gに溶解さ
せた溶液の濁度を測定する。本発明では、濁度は500ppm以下であり、好ましくは2
00ppm以下、より好ましくは100ppm以下である。濁度が高すぎると光学材料に
曇りや白濁が発生する。濁度は低ければ低いほど好ましいが経済的な面から0.1ppm
以上が好ましい。
化合物及び硫黄と混合することで光学材料用組成物とすることができる。
であり、好ましくは5~50質量%である。1,2,3,5,6-ペンタチエパンの割合
が5質量%未満の場合は屈折率向上効果が弱く、一方、70質量%を超える場合は得られ
る光学材料の透明性が悪化する場合がある。
。好ましい化合物は、ビス(β-エピチオプロピル)スルフィド、及びビス(β-エピチ
オプロピル)ジスルフィドであり、最も好ましい化合物は、ビス(β-エピチオプロピル
)スルフィドである。
精製後の1,2,3,5,6-ペンタチエパン、エピスルフィド化合物、硫黄及び、必
要に応じてチオール化合物、硬化触媒、酸化防止剤、ブルーイング剤、紫外線吸収剤、各
種性能改良添加剤等の添加剤を混合して均一な光学材料用組成物を調製する。次に、これ
をガラスや金属製の型に注入し、加熱によって重合硬化反応を進めた後、型から外して光
学材料を製造する。
適宜実施形態を変更することが出来る。
不溶物を含む精製前の1,2,3,5,6-ペンタチエパンを含有する組成物としてハ
イケム社製の1,2,3,5,6-ペンタチエパンを使用した。
なお、精製後の1,2,3,5,6-ペンタチエパンおよびレンズの評価は以下の方法
で行った。
実施例又は比較例で得られた1,2,3,5,6-ペンタチエパン33質量部、ビス(
β-エピチオプロピル)スルフィド49.5質量部、及び硫黄17.5質量部と、これら
の合計100質量部に対し、硬化触媒としてテトラブチルアンモニウムブロマイド0.2
質量部を加えて60℃で撹拌し混合後均一液とした。次にこれを0.5μmのPTFEフ
ィルターで濾過し、2.6mm厚のガラスモールドに注入し、オーブン中で60℃から2
2時間かけて100℃に昇温し重合硬化させてレンズを製造した。得られたレンズの屈折
率、くもり評価結果を表1に示した。
実験操作等で得られた精製後の1,2,3,5,6-ペンタチエパン2gにクロロホル
ム30gを加え30分以上撹拌の後5分以上静置し、濁度計T-2600ADX(有限会
社東京電色製)を用いて溶液の濁度を測定した。なお、比較例1では、精製前の1,2,
3,5,6-ペンタチエパン溶液の濁度を測定した。
[光学材料の屈折率]
得られた光学材料の屈折率は、デジタル精密屈折率計(株式会社島津製作所製、KPR
-200)を用い、25℃でのe線での屈折率を測定した。
[光学材料のくもり評価]
得られた光学材料の透明性は、2.6mm厚の平板を暗室内で蛍光灯下、黒紙を背景に
して観察し、以下の基準で評価した。
A:くもりが見えない
B:くもりが薄く見える
C:くもりが明瞭に見える
D:白濁して光が透過しない
不溶物を含む精製前の1,2,3,5,6-ペンタチエパンを含有する組成物100g
にトルエン900gを加えて50℃で30分撹拌を行って1,2,3,5,6-ペンタチ
エパンを溶解させた。その後、0.2μmのPTFE製メンブレンフィルターにより濾過
を行った。その後、-10℃に冷却して析出した固体を濾取し、トルエンにて洗浄を行っ
た。得られた固体を真空乾燥して32gの精製1,2,3,5,6-ペンタチエパンを得
た。これらの結果を表1に示す。
不溶物を含む精製前の1,2,3,5,6-ペンタチエパンを含有する組成物とトルエ
ンの量を変更した以外は、実施例1に従って行った。これらの結果を表1に示す。
不溶物を含む精製前の1,2,3,5,6-ペンタチエパンを含有する組成物100g
にクロロホルム900gを加えて25℃で30分撹拌を行って1,2,3,5,6-ペン
タチエパンを溶解させた。その後、0.2μmのPTFE製メンブレンフィルターにより
濾過を行った。濾液をロータリーエバポレーターで濃縮し、クロロホルム700gを留去
した。その後、-10℃に冷却して析出した固体を濾取し、氷冷したクロロホルムにて洗
浄を行った。得られた固体を真空乾燥して70gの精製1,2,3,5,6-ペンタチエ
パンを得た。これらの結果を表1に示す。
不溶物を含む精製前の1,2,3,5,6-ペンタチエパンを含有する組成物を精製す
ることなく使用した。
不溶物を含む精製前の1,2,3,5,6-ペンタチエパンを含有する組成物300g
にジオキサン700gを加えて50℃で30分撹拌を行って1,2,3,5,6-ペンタ
チエパンを溶解させた。その後、0.2μmのPTFE製メンブレンフィルターにより濾
過を行った。その後、15℃に冷却して析出した固体を濾取し、ジオキサンにて洗浄を行
った。得られた固体を真空乾燥して48gの精製1,2,3,5,6-ペンタチエパンを
得た。これらの結果を表1に示す。
不溶物を含む精製前の1,2,3,5,6-ペンタチエパンを含有する組成物300g
にシクロヘキサン700gを加えて50℃で30分撹拌を行ったが、ペンタチエパンとシ
クロヘキサンが相溶しなかった。
Claims (3)
- 不溶物を含む精製前の1,2,3,5,6-ペンタチエパンを精製した精製後の1,2,3,5,6-ペンタチエパン2gをクロロホルム30gに溶解した溶液の濁度が0.2~340ppmである、精製後の1,2,3,5,6-ペンタチエパンを含む光学材料用組成物。
- 請求項1に記載の光学材料用組成物を硬化した光学材料用樹脂。
- 請求項2に記載の光学材料用樹脂を用いた光学材料。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016046950 | 2016-03-10 | ||
JP2016046950 | 2016-03-10 | ||
JP2017035609A JP6935671B2 (ja) | 2016-03-10 | 2017-02-28 | 光学材料用高純度1,2,3,5,6−ペンタチエパン、およびその精製方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017035609A Division JP6935671B2 (ja) | 2016-03-10 | 2017-02-28 | 光学材料用高純度1,2,3,5,6−ペンタチエパン、およびその精製方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021138722A JP2021138722A (ja) | 2021-09-16 |
JP7115590B2 true JP7115590B2 (ja) | 2022-08-09 |
Family
ID=59830703
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017035609A Active JP6935671B2 (ja) | 2016-03-10 | 2017-02-28 | 光学材料用高純度1,2,3,5,6−ペンタチエパン、およびその精製方法 |
JP2021085559A Active JP7115590B2 (ja) | 2016-03-10 | 2021-05-20 | 光学材料用高純度1,2,3,5,6-ペンタチエパン、およびその精製方法 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017035609A Active JP6935671B2 (ja) | 2016-03-10 | 2017-02-28 | 光学材料用高純度1,2,3,5,6−ペンタチエパン、およびその精製方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JP6935671B2 (ja) |
CN (1) | CN107176946A (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6399257B1 (ja) * | 2017-01-23 | 2018-10-03 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 1,2,3,5,6−ペンタチエパンの製造方法 |
WO2019181484A1 (ja) * | 2018-03-22 | 2019-09-26 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 1,2,3,5,6-ペンタチエパンの製造方法 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002040201A (ja) | 2000-07-21 | 2002-02-06 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 光学材料用組成物 |
JP2004043526A (ja) | 2002-07-08 | 2004-02-12 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 光学材料用組成物 |
JP2011231305A (ja) | 2010-04-08 | 2011-11-17 | Mitsubishi Gas Chemical Co Inc | 光学材料用組成物 |
WO2015159811A1 (ja) | 2014-04-14 | 2015-10-22 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 光学材料用組成物及びその製造方法並びに光学材料用組成物から得られる光学材料 |
WO2016152400A1 (ja) | 2015-03-24 | 2016-09-29 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 新規な硫黄化合物及びそれを含む光学材料用組成物 |
WO2016204080A1 (ja) | 2015-06-17 | 2016-12-22 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 光学材料用組成物及びそれを用いた光学材料 |
JP2017114972A (ja) | 2015-12-22 | 2017-06-29 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 光学材料用組成物及び光学材料 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4682392B2 (ja) * | 1999-03-19 | 2011-05-11 | 三菱瓦斯化学株式会社 | エピスルフィド化合物の精製方法 |
CN1413994A (zh) * | 2001-10-26 | 2003-04-30 | 上海香料研究所 | 香菇-l及其同系物的合成方法 |
JP5387518B2 (ja) * | 2010-06-18 | 2014-01-15 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 光学材料用組成物 |
JP6017222B2 (ja) * | 2011-08-11 | 2016-10-26 | 大阪ガスケミカル株式会社 | フルオレン骨格を有する多官能性(メタ)アクリレートを含む硬化性組成物およびその硬化物 |
TWI619707B (zh) * | 2013-12-11 | 2018-04-01 | Mitsubishi Gas Chemical Co | Novel thiol compound and composition for optical material using the same |
US10647819B2 (en) * | 2015-12-10 | 2020-05-12 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Photocurable composition and optical material |
-
2017
- 2017-02-28 JP JP2017035609A patent/JP6935671B2/ja active Active
- 2017-03-07 CN CN201710131776.0A patent/CN107176946A/zh active Pending
-
2021
- 2021-05-20 JP JP2021085559A patent/JP7115590B2/ja active Active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002040201A (ja) | 2000-07-21 | 2002-02-06 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 光学材料用組成物 |
JP2004043526A (ja) | 2002-07-08 | 2004-02-12 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 光学材料用組成物 |
JP2011231305A (ja) | 2010-04-08 | 2011-11-17 | Mitsubishi Gas Chemical Co Inc | 光学材料用組成物 |
WO2015159811A1 (ja) | 2014-04-14 | 2015-10-22 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 光学材料用組成物及びその製造方法並びに光学材料用組成物から得られる光学材料 |
WO2016152400A1 (ja) | 2015-03-24 | 2016-09-29 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 新規な硫黄化合物及びそれを含む光学材料用組成物 |
WO2016204080A1 (ja) | 2015-06-17 | 2016-12-22 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 光学材料用組成物及びそれを用いた光学材料 |
JP2017114972A (ja) | 2015-12-22 | 2017-06-29 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 光学材料用組成物及び光学材料 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2017165950A (ja) | 2017-09-21 |
CN107176946A (zh) | 2017-09-19 |
JP6935671B2 (ja) | 2021-09-15 |
JP2021138722A (ja) | 2021-09-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7115590B2 (ja) | 光学材料用高純度1,2,3,5,6-ペンタチエパン、およびその精製方法 | |
JP2014234429A (ja) | 光学材料用重合性組成物およびその製造方法 | |
WO2021014962A1 (ja) | 熱可塑性樹脂及びそれを含む光学部材 | |
JP2014234430A (ja) | 光学材料用重合性組成物およびその製造方法 | |
JP7322293B2 (ja) | 1,3-ジイソシアネートメチルシクロヘキサン組成物及びそれから調製された光学樹脂 | |
JP6241208B2 (ja) | 光学材料用ポリチオール化合物の製造方法 | |
JP6724780B2 (ja) | ポリチオール組成物およびその製造方法 | |
WO2014002876A1 (ja) | ビス(β-エポキシプロピル)スルフィドおよびビス(β-エポキシプロピル)ポリスルフィドの製造方法 | |
JP4682392B2 (ja) | エピスルフィド化合物の精製方法 | |
JP2931161B2 (ja) | ポリイソシアネート化合物 | |
JP2942400B2 (ja) | ポリイソシアネート化合物、それを用いて得られた光学材料及び光学製品 | |
JP6826756B2 (ja) | 水酸基を有する新規なエピスルフィド化合物及びその製造方法 | |
JPH01128966A (ja) | イオウ含有脂肪族系アクリル化合物 | |
CN112424193B (zh) | 环硫化合物和光学材料用组合物 | |
CN107200847A (zh) | 高折射率、高硬度含硫光学树脂材料及其制备方法 | |
DE60032640T2 (de) | Schwefelverbindung und ihre verwendung | |
JP4205329B2 (ja) | ビス(1,2−エピチオエチル)スルフィドの製造方法 | |
CN112479954B (zh) | 一种降低多硫醇含水量的方法 | |
JPS63150324A (ja) | 新規な含硫黄ポリマ−およびその製法 | |
CN104583252A (zh) | 环氧丙烯酸类光学材料用聚合性组合物及环氧丙烯酸类光学材料的制备方法 | |
CN100376606C (zh) | 重氢化(甲基)丙烯酸降冰片基酯、其制备方法、其聚合物以及光学元件 | |
JP4149832B2 (ja) | 視力矯正用眼鏡レンズ | |
JP2898119B2 (ja) | ポリイソシアネート化合物、それを用いて得られた光学材料及び光学製品 | |
JPH06145090A (ja) | 光学特性に優れたビスフェノールaf及びその製造方法 | |
WO2020050013A1 (ja) | 光学材料用組成物及び光学材料 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210524 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20210524 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20220309 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220315 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220419 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220628 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220711 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 7115590 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |