JP7104512B2 - 保持テーブル及び保持テーブルを備える研磨装置 - Google Patents
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Description
したがって、研磨装置においては、より高精度にウェーハの被研磨面内の厚み差を無くすという課題がある。
なお、研磨手段6は、スラリを用いないでウェーハWを研磨(ドライポリッシュ)する乾式の研磨手段であってもよい。
下板303の上面における圧電素子306の配設個数及びその並べ方については、図2の例に限定されず、例えば、図5に示すように、より多く(図5においては、21個)の圧電素子306を下板303の上面に面方向に等間隔で配列させるものとしてもよい。
スピンドル350は、外形が筒状のロータリージョイント33に図示しない軸受けを介して上方から挿通されており、例えば、スピンドル350の下端側から中間部にかけてロータリージョイント33により囲繞されている。ロータリージョイント33の筒内周面とスピンドル350の外周面との間には、僅かな隙間(所謂シール空間)が形成されている。
支持ベース31の支持面31aに配設された接続端子312には電線358が接続されており、該電線358は、支持ベース31内部及びスピンドル350の内部を通り各第2のインダクタ356に接続されている。なお、図6においては、1つの接続端子312から1つの第2のインダクタ356に接続されている1本の電線358のみを図示しており、その他の接続端子312と第2のインダクタ356とを繋ぐ電線358は省略している。
なお、上記実施例のような非接触式給電ではなく、接触式給電を用いてもよい。
環状側壁304Aは、所定の合金、プラスチック、又は硬質ゴム等からなりZ軸方向に伸縮可能な蛇腹筒304Aであり、上板300の外周縁と下板303の外周縁とを連結している。そして、保持テーブル30の内部は、上板300の下面と蛇腹筒304Aの内側面と下板303の上面とにより包まれた密閉した部屋304dとなる。
厚さ測定手段は、ハイトゲージ等で構成される接触式の厚さ測定手段であってもよい。
研磨加工中は、図6に示す回転手段35がスピンドル350を回転させて支持ベース31及び保持テーブル30を回転させるのに伴って、保持面300a上に保持されたウェーハWも回転するので、研磨パッド64がウェーハWの裏面Wbの全面の研磨加工を行う。吸引源39が生み出す吸引力は、ロータリージョイント33からスピンドル350に伝達される際においても遺漏することがないため、研磨加工中に保持面300aの吸引力が低下することはない。
また、研磨加工中は、スラリが研磨パッド64とウェーハWとの接触部位に対して供給され、研磨パッド64による化学的機械的研磨法、所謂CMPが行われる。
なお、上記のように、保持テーブル30をX軸方向に移動させない場合においては、厚さ測定手段15を保持テーブル30の中心上方に位置させ保持テーブル30を所定の速度で回転させつつ、ウェーハWの各測定位置における厚さを測定しても良い。
なお、第1の電力量、及び第1の電力量よりも少ない第2の電力量は、保持テーブル30の上板300の材質、圧電素子306の種類、測定位置P1におけるウェーハWの厚さ値の平均値との差の大きさ等に対応して実験的、経験的、又は理論的に選択された電力量である。
例えば、保持テーブル30は、図2に示すように、下板303は、下板303の上下面を貫通し上板300の下面と環状側壁304の内側面と下板303の上面とにより包まれ密閉した部屋304b内を吸引源39に連通する第2の吸引路302を備えている。図2に示す例において第2の吸引路302の上端側は、下板303の上面の第1の吸引路301が形成された領域よりもさらに中央側の領域に周方向に180度空けて2箇所で開口している。そして、第2の吸引路302は下板303の内部で一本に合流しており、図3(B)に示すように、第2の吸引路302の下端側は下板303の下面の略中央に1箇所で開口している。
更に、ロータリージョイント33Aは、支持ベース31が回転しているときに第2の吸引路302を吸引源39Aに連通可能とする。例えば、ロータリージョイント33Aの環状室330の上方の位置には、スピンドル350の内部の第2の連通路362に吸引力を伝達させるための環状室332が形成されており、環状室332はロータリージョイント33Aの筒内周面を一周している。環状室332からはロータリージョイント33Aの外側面に向かって吸引路334が延びている。そして、連通路334には配管を介してバキュームポンプやエジェクタなどの真空発生装置からなる吸引源39Aが連通している。そして、下板303の第2の吸引路302と、ロータリージョイント33Aとを含み保持テーブル30の部屋304bを吸引源39Aに連通させ部屋304bを負圧にする吸引手段が形成される。
1:研磨装置 10:ベース 17:コラム 7:移動手段 6:研磨手段
3:保持手段
30:保持テーブル 300:上板 300a:保持面 300b:吸着部 300c:枠体 301:第1の吸引路 302:第2の吸引路
303:下板 303d:ボルト挿通孔
304:環状側壁 304b:部屋 306:圧電素子 307:配線 308:端子
304A:蛇腹筒状の環状側壁 304f:吸引チューブ
31:支持ベース 31a:支持ベースの上面 312:接続端子
320:カバー 321:蛇腹カバー
35:回転手段 350:スピンドル 351:モータ 352:主動プーリ 353:無端ベルト 354:従動プーリ 356:第2のインダクタ 358:電線
361:第1の連通路 362:第2の連通路
33:ロータリージョイント 330:環状室 331:吸引路 39:吸引源
33A:ロータリージョイント 39A:吸引源
335:電力供給コネクター 336:第1のインダクタ
15:厚さ測定手段
9:制御手段 90:記憶手段 91:第1の制御部 92:第2の制御部 95:算出部
99:電源
Claims (2)
- 研磨パッドでウェーハを研磨加工する為にウェーハを保持する保持テーブルであって、
ウェーハを吸引保持する保持面を上面に有する上板と、該上板の該保持面を吸引源に連通させる吸引路と、該上板の下面に対面し隙間を備えて配設される下板と、該上板の外周縁と該下板の外周縁とを連結する環状側壁と、該下板の上面に面方向に等間隔に複数配設され該上板の下面に向かって延在し該上板の下面と該下板の上面とに接触して電力の供給により高さが伸縮する複数の圧電素子と、該複数の圧電素子にそれぞれ電力を供給するために一方の端を該圧電素子に接続した配線と、該下板の下面に配設され該配線の他方の端が接続される複数の端子と、を備え、
該環状側壁は、該圧電素子の伸縮方向と同方向に伸縮可能な蛇腹筒で形成され、
該吸引路は、該上板の下面と該蛇腹筒の内側面と該下板の上面とにより包まれ密閉した部屋内を通り該保持面に連通する、保持テーブル。 - 請求項1記載の保持テーブルを装着し前記保持面でウェーハを保持する保持手段と、研磨パッドを回転可能に装着して該保持手段が保持したウェーハを該研磨パッドで研磨する研磨手段と、該保持手段と該研磨手段とを相対的に該保持面に対して垂直方向に移動させる移動手段と、を備えた研磨装置であって、
該保持手段は、該保持テーブルを支持する支持面を有する支持ベースと、該支持面に配設され前記下板の下面の複数の前記端子にそれぞれ接続する複数の接続端子と、該支持ベースの中心を軸に該支持ベースを回転させるモータと、該支持ベースが回転しているときに複数の前記圧電素子に電力の供給を可能にすると共に前記吸引路を吸引源に連通可能にするロータリージョイントとを備え、
該保持テーブルが保持した研磨加工後のウェーハの厚さを測定する厚さ測定手段と、該厚さ測定手段が等間隔の測定位置で測定した複数箇所の厚さ値を記憶する記憶手段と、制御手段と、を備え、
該制御手段は、該厚さ測定手段が複数測定し該記憶手段に記憶されたウェーハの厚さ値の平均値を算出する算出部を備え、該厚さ測定手段が厚さ測定した複数の測定位置に対応する該圧電素子のうち、ウェーハの測定した厚さ値が平均値よりも大きい測定位置の該圧電素子に対して、ウェーハの測定した厚さ値が平均値よりも小さい、又は同じである測定位置の該圧電素子に供給する第2の電力量よりも大きい第1の電力量を供給して、ウェーハの測定した厚さ値が平均値よりも大きい測定位置の該圧電素子を、ウェーハの測定した厚さ値が平均値よりも小さい、又は同じである測定位置の該圧電素子よりも、高さ方向により高く伸ばす制御を行う研磨装置。
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