JP2021044340A - 加工装置 - Google Patents
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- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 claims abstract description 22
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims description 262
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 claims description 5
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 18
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 10
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 9
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 5
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 4
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 101000869912 Cerastes vipera Disintegrin CV-11-alpha Proteins 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002601 GaN Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N Gallium nitride Chemical compound [Ga]#N JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001174 ascending effect Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
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- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Machine Tool Sensing Apparatuses (AREA)
- Feeding Of Workpieces (AREA)
- Constituent Portions Of Griding Lathes, Driving, Sensing And Control (AREA)
- Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)
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Abstract
Description
よって、加工装置においては、チャックテーブルにウェーハを保持させるよりも早い段階でウェーハの厚みに問題があるか否かを認識できるようにして、作業効率を向上させるという課題がある。
なお、本発明に係る加工装置は、加工装置1のような加工手段16が1軸の研削装置に限定されるものではなく、粗研削手段と仕上げ研削手段とを備え、回転するターンテーブルでウェーハWを各研削手段の下方に位置づけ可能な2軸の研削装置等であってもよい。また、加工装置は、研磨パッドを備える加工手段でウェーハWに研磨加工を施す研磨装置であってもよい。
図2に詳しく示す第1のカセット21は、例えば、底板210と、天板211と、後壁212と、2枚の側壁213と、前方側(+Y方向側)の開口214とを有しており、開口214からウェーハWを搬出入できる構成となっている。第1のカセット21の内部には、複数の棚部215が上下方向に所定の間隔をあけて形成されており、棚部215においてウェーハWを一枚ずつ収納することが可能となっている。なお、第1のカセット21の構成は本例に限定されるものではない。
ロボット4は、多関節ロボットであり、ウェーハWを保持するロボットハンド40と、ロボットハンド40を移動させる移動手段42と、ロボットハンド40がウェーハWを保持した状態でウェーハWの厚みが所定の正常な厚みであるか否かを判断する判断手段44と、を備えている。
なお、旋回移動手段48は、昇降ケーシング470の内部に配設していてもよい。
X軸エンコーダ432及びX軸モータ431に図示しない配線で電気的につながれた電流制御部429は、X軸エンコーダ432で認識されるX軸モータ431の回転角度で回転軸433の回転角度を認識し、その認識した回転角度によってロボットハンド40のX軸方向の位置(又は、Y軸方向の位置)を認識し、設定した移動先にロボットハンド40を移動する際にX軸モータ431に流れる電流を制御することができる。
X軸モータ431に連結する回転軸433を回転させると、第2のアーム422が旋回され、第2のアーム422の旋回によってアーム連結部425で連結する第1のアーム421が旋回され、ロボットハンド40が水平方向に移動される。即ち、第1のアーム421及び第2のアーム422を互いが交差した状態から互いが直線状となる状態等に変形させることができる。
なお、吸引孔403には、変形可能なゴム吸盤等が配設されていてもよい。
スピンナ洗浄機構156により洗浄及び例えば回転乾燥されたウェーハWは、ロボット4により第2のカセット22に搬入される。
図2に示すように、第1のカセット21内において、ウェーハWの表面Waは、例えば下側を向いた状態になっている。そして、例えば、ロボットハンド40の吸着面40aが、下側を向いているウェーハWの表面Waを吸引保持するために、スピンドル450が回転することで上側(+Z方向側)を向いた状態にセットされる。
なお、図4において、上下移動手段47及び反転移動手段45の各構成は簡略化して示している。
なお、図5に示す電流値は、Z軸モータ471が加速を完了し等速動作時の電流値を示している。なお、加速動作時の電流値で判断してもよい。
例えば、判断手段44の記憶部443には、正常な重さのウェーハWを吸引保持したロボットハンド40が、所定の速度で上昇しているときに電流制御部429により制御されZ軸モータ471に流れる電流値についての、上限値CV3及び下限値CV4(図5参照)が記憶されている。これによって、Z軸モータ471に流れる電流値についての所定範囲である上限値CV3〜下限値CV4が予め判断手段44に設定された状態になっている。該所定範囲である上限値CV3〜下限値CV4は、過去の実験から得られたデータによって定められた範囲である。
なお、正常な重さのウェーハWとは、厚みが厚すぎず、かつ、薄すぎず、研削を適切に施せる所定の範囲内の厚みを有し、また、外周縁等に欠けが発生していないウェーハである。
その後、厚すぎるウェーハWは、加工装置1に設定されるウェーハWの加工条件を変えることで適切に研削可能となる。
例えば、判断手段44の記憶部443には、正常な重さのウェーハWを吸引保持したロボットハンド40が、反転モータ454の回転角度が回転角度θ2(180度)となるまでの間において、増加したウェーハWの重さで電流制御部429により制御され反転モータ454に流れる電流値についての、上限値CV9及び下限値CV10(図7参照)が記憶されている。これによって、反転モータ454に流れる電流値についての所定範囲である上限値CV9〜下限値CV10が予め判断手段44に設定された状態になっている。該所定範囲である上限値CV9〜下限値CV10は、過去の実験から得られたデータによって定められた範囲である。
例えば、判断手段44の記憶部443には、正常な重さのウェーハWを吸引保持したロボットハンド40が、所定の速度で位置Y1から位置Y2に移動する間において、電流制御部429により制御されX軸モータ431に流れる電流値についての、上限値CV15及び下限値CV16(図9参照)が記憶されている。これによって、X軸モータ431に流れる電流値についての所定範囲である上限値CV15〜下限値CV16が予め判断手段44に設定された状態になっている。該所定範囲である上限値CV15〜下限値CV16は、過去の実験から得られたデータによって定められた範囲である。
1:加工装置 10:装置ベース A:着脱領域 B:加工領域 100:コラム
150:第1のカセットステージ
21:第1のカセット 214:開口 215:棚部
151:第2のカセットステージ 22:第2のカセット
152:仮置き領域 153:位置合わせ手段 154a:ローディングアーム 154b:アンローディングアーム
4:ロボット
40:ロボットハンド 40a:吸着面 400:基部 401:吸引部 403:吸引孔
404:吸引路 490:樹脂チューブ 49:吸引源
42:移動手段 421:第1のアーム 422:第2のアーム 423:ロボットハンド連結部 425:アーム連結部 429:電流制御部
43:X軸方向移動手段 431:X軸モータ 432:X軸エンコーダ
47:上下移動手段 470:昇降ケーシング 471:Z軸モータ 472:Z軸エンコーダ 473:ボールネジ 474:一対のガイドレール 475:昇降板
45:反転移動手段 450:スピンドル 451:ハウジング 452:ホルダ
454:反転モータ 456:反転エンコーダ
44:判断手段 440:電流値比較部 443:記憶部
48:旋回移動手段 481:旋回モータ 482:旋回エンコーダ 483:旋回ローラ
30:チャックテーブル 300:保持面
16:加工手段 17:加工送り手段 38:厚み測定手段
Claims (4)
- 複数のウェーハを収納可能な棚を備えるカセットと、該カセットを載置するカセットステージと、該カセットステージに載置されたカセットに収納されるウェーハを保持し該カセットから搬出するロボットと、該ロボットにより搬出されチャックテーブルに保持されたウェーハを加工する加工手段と、を少なくとも備える加工装置であって、
該ロボットは、ウェーハを保持するロボットハンドと、該ロボットハンドを移動させる移動手段と、該ロボットハンドに保持されたウェーハの厚みが所定の正常な厚みであるか否かを判断する判断手段と、を備え、
該移動手段は、該ロボットハンドを移動させる駆動力を生み出すモータと、該モータに流れる電流を制御する電流制御部と、を備え、
該判断手段は、該ロボットハンドにウェーハを保持させ該モータを駆動させた際に該電流制御部により制御され該モータに流れる電流の値が、予め設定された所定範囲内であったら保持した該ウェーハが正常な厚みであると判断し該ウェーハを該チャックテーブルに搬送させ加工を実施させ、該電流の値が、予め設定された該所定範囲内から外れていたら保持した該ウェーハが異常な厚みであると判断する加工装置。 - 前記移動手段は、前記ロボットハンドの一方の面と他方の面とを反転移動させる反転移動手段である請求項1記載の加工装置。
- 前記移動手段は、前記ロボットハンドを上下方向に移動させる上下移動手段である請求項1記載の加工装置。
- 前記移動手段は、前記ロボットハンドを水平方向に移動させる水平移動手段である請求項1記載の加工装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019164310A JP7303709B2 (ja) | 2019-09-10 | 2019-09-10 | 加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019164310A JP7303709B2 (ja) | 2019-09-10 | 2019-09-10 | 加工装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021044340A true JP2021044340A (ja) | 2021-03-18 |
JP7303709B2 JP7303709B2 (ja) | 2023-07-05 |
Family
ID=74864280
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019164310A Active JP7303709B2 (ja) | 2019-09-10 | 2019-09-10 | 加工装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7303709B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102669497B1 (ko) | 2022-07-13 | 2024-05-27 | 한국로봇융합연구원 | 웨이퍼 측정 포인트 검사를 위한 로봇 매니퓰레이터의 제어장치 및 방법 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS591192A (ja) * | 1982-06-24 | 1984-01-06 | 神鋼電機株式会社 | 産業用ロボツトにおける重量計測方法 |
JPH10138187A (ja) * | 1996-11-01 | 1998-05-26 | Nachi Fujikoshi Corp | 多関節ロボットの負荷重量及び負荷重心位置の自動算出方法 |
JP2011235374A (ja) * | 2010-05-07 | 2011-11-24 | Yaskawa Electric Corp | ロボットの負荷推定装置及び負荷推定方法 |
JP2017013144A (ja) * | 2015-06-26 | 2017-01-19 | 株式会社ディスコ | 研削装置 |
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2019
- 2019-09-10 JP JP2019164310A patent/JP7303709B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS591192A (ja) * | 1982-06-24 | 1984-01-06 | 神鋼電機株式会社 | 産業用ロボツトにおける重量計測方法 |
JPH10138187A (ja) * | 1996-11-01 | 1998-05-26 | Nachi Fujikoshi Corp | 多関節ロボットの負荷重量及び負荷重心位置の自動算出方法 |
JP2011235374A (ja) * | 2010-05-07 | 2011-11-24 | Yaskawa Electric Corp | ロボットの負荷推定装置及び負荷推定方法 |
JP2017013144A (ja) * | 2015-06-26 | 2017-01-19 | 株式会社ディスコ | 研削装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102673392B1 (ko) | 2021-12-07 | 2024-06-10 | 에스케이실트론 주식회사 | 웨이퍼 연마량 측정장치 및 그 측정방법 |
KR102669497B1 (ko) | 2022-07-13 | 2024-05-27 | 한국로봇융합연구원 | 웨이퍼 측정 포인트 검사를 위한 로봇 매니퓰레이터의 제어장치 및 방법 |
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