JP7076689B2 - ラジカル重合制御剤及びラジカル重合制御方法 - Google Patents

ラジカル重合制御剤及びラジカル重合制御方法 Download PDF

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Description

本発明は、ラジカル重合性化合物のラジカル重合制御剤及びラジカル重合制御方法に関する。特に、明状態と暗状態とでラジカル重合性化合物のラジカル重合を制御することができるラジカル重合制御剤及びラジカル重合制御方法に関するものである。
本発明のラジカル重合制御剤は、光が照射されていない状態ではラジカル重合禁止効果を有しているが、ある特定の波長の光が照射された状態ではラジカル重合禁止効果を失う全く新しいタイプの重合制御剤及び当該ラジカル制御剤を用いたラジカル重合制御方法である。
通常、ラジカル重合性化合物には保存安定剤としてラジカル重合禁止剤が含有されている。例えば、芳香族ビニル化合物などは、貯蔵中に光・熱・空気などによってモノマーが重合してしまうのを防ぐために，例えば、ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルカテコール、ｐ－メチルカテコール等のカテコール系化合物；ヒドロキノン、メトキシヒドロキノンなどのヒドロキノン系化合物；ピラジン、パラチアジン、１，３，５－トリアジン、フェノチアジンなどのアジン環化合物；１，２－ジフェニルヒドラジン、ジフェニルピクリルヒドラジンなどのヒドラジン系化合物；ニトロフェノール、ビスフェノールＡなどのフェノール系化合物等の重合禁止剤を添加されている。しかし、この芳香族ビニル化合物などを用いて重合反応を行うときは、このラジカル重合禁止剤がラジカル重合阻害剤となり重合反応を遅らせることになる。そのため添加している重合禁止剤を蒸留、吸着、洗浄などして取り除いたのち反応を行うのが一般的である。また、取り除かない場合は、そのラジカル重合禁止剤のラジカル重合禁止効果を上回るようにラジカル重合開始剤の添加量を増やすなどすることが必要となる。
例えばスチレンには、保存中の重合反応を防止するため、カテコール系化合物、ヒドロキノン系化合物等のラジカル重合禁止剤が１～数百ｐｐｍ程度含まれている。このようなラジカル重合禁止剤を含むスチレンを単独重合又は共重合してポリマーを得ようとする際、ラジカル重合禁止剤が重合触媒や重合開始剤と反応してしまい、所望のポリマーの生成を妨げることになる。このため、スチレン中の重合禁止剤を除去し、精製したスチレンを用いて重合が行われている（例えば、特許文献１、２）。このようなラジカル重合禁止剤の除去には時間とコストがかかっている。
そこで、保存中はラジカル重合性化合物中に発生したラジカルを捕捉する能力を有するが、いざ、ラジカル重合性化合物をラジカル重合させる時には無害となるようなラジカル重合禁止剤、及びそのようなラジカル重合方法が求められている。
一方、上記に挙げたラジカル重合禁止剤のほかに、ナフタレン系、ナフトキノン系のラジカル重合禁止剤も知られている。例えば、芳香族ビニル化合物向け重合禁止剤として、アルキル化されたナフトキノン化合物（例えば、特許文献３）や２－ヒドロキシ－１，４－ナフトキノン（例えば、特許文献４）等が知られている。また、酢酸ビニル向け重合禁止剤として、１，４－ナフトキノン等が知られている（例えば、特許文献５）他、（メタ）アクリル酸及びエステル向け重合禁止剤として、１，２－ナフトキノンが知られている（例えば、特許文献６）。更に、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸エステル、及びスチレン等のラジカル重合禁止剤として、アルコキシナフトールが知られている（特許文献７）。しかし、これらの重合禁止剤は、あくまで、発生したラジカルを捕捉するために用いられるラジカル重合禁止剤であり、ラジカル重合反応においては不要な添加剤であり、本来、ラジカル重合反応時においては除かれることが好ましい化合物である。
特開２０００－３４４６８８号公報 特開２０１５-２０９３７４号公報 特開昭６３－２３５３９０号公報 特開昭５６－８６１２３号公報 特開２００３－８９７０６号公報 特開平０９－３１６０２２号公報 特開２００５-３３６０８２号公報
本発明の目的は、ラジカル重合性化合物の保存時には、発生したラジカルを捕捉することにより、ラジカル重合性の安定性を高めるなど、意図しない重合を禁止する役割をするが、当該ラジカル重合性化合物を重合させる時には、全く無害となるラジカル重合禁止能を持つラジカル重合制御剤を提供することであり、かつ、当該ラジカル重合制御剤を用いたラジカル重合制御方法を提供するものである。
本発明のラジカル重合制御剤は、基底状態（暗反応）では遊離ラジカルを捕捉してラジカル重合禁止剤として働くが、ある特定の波長の光を照射すると励起状態となり、ラジカル捕捉能力を失い、ラジカル重合反応に無害となる化合物である。更に、その励起状態のエネルギーを、例えばラジカル重合開始剤などに移行して、むしろラジカル重合を促進する機能を持つ化合物である。
すなわち、本発明のラジカル重合性組成物中に含有されるラジカル重合制御剤は、例えば暗所で保存しているときは、熱や分解によって発生したラジカルを捕捉して重合性化合物のラジカル重合禁止剤として働くが、重合時（熱重合でも光重合でも可能）に、ある特定の波長の光を照射しながら、重合を開始することにより、ラジカル重合禁止効果は失われ、ラジカル重合開始剤の量を増やすことなく、容易にラジカル重合性化合物のラジカル重合を開始させることができるようになる。
すなわち、本発明における第一の発明は、ラジカル重合性化合物のラジカル重合を禁止する効果を有する化合物であって、３００ｎｍ～５００ｎｍの波長範囲の光を含有する光線の照射下では当該ラジカル重合禁止効果が消失することを特徴とする、下記一般式（1）で表されるラジカル重合制御剤に存する。
Figure 0007076689000001
上記（１）式中、Ｒはそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１から１５のアルキル基、炭素数６から１２のアリール基、炭素数６から１２のアラルキル基、炭素数１から１５のアルコキシアルキル基、グリシジル基、炭素数１から１５のヒドロキシアルキル基又は炭素数７から１４のアリールオキシアルキル基、炭素数２から１３のアシル基又は炭素数２から１３の置換カルボニル基を表し、Ｘはそれぞれ独立して水素原子、炭素数１から１５のアルキル基又は炭素数６から１２のアリール基を表すが、隣接する一組のＸは、前記置換基に代えて、互いに結合して飽和又は不飽和の６員環を形成してもよい。この隣接する一組のＸによって形成される６員環はさらに炭素数１から１５のアルキル基、炭素数６から１２のアリール基、炭素数６から１２のアラルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１から１５のアルコキシ基、炭素数６から１２のアリールオキシ基又はハロゲン原子が置換していてもよい。
第二の発明は、ラジカル重合性化合物のラジカル重合を禁止する効果を有する化合物であって、３００ｎｍ～５００ｎｍの波長範囲の光を含有する光線の照射下では当該ラジカル重合禁止効果が消失することを特徴とする、下記一般式（２）で表されるラジカル重合制御剤に存する。
Figure 0007076689000002
上記（２）式中、Ｒはそれぞれ独立して、炭素数１から１５のアルキル基、炭素数６から１２のアリール基、炭素数６から１２のアラルキル基、炭素数１から１５のアルコキシアルキル基、グリシジル基、炭素数１から１５のヒドロキシアルキル基又は炭素数７から１４のアリールオキシアルキル基、炭素数２から１３のアシル基又は炭素数２から１３の置換カルボニル基を表し、Ｘはそれぞれ独立して水素原子、炭素数１から１５のアルキル基又は炭素数６から１２のアリール基を表す。
第三の発明は、ラジカル重合性化合物のラジカル重合を禁止する効果を有する化合物であって、３００ｎｍ～５００ｎｍの波長範囲の光を含有する光線の照射下では当該ラジカル重合禁止効果が消失することを特徴とする、下記一般式（３）で表されるラジカル重合制御剤に存する。
Figure 0007076689000003
上記（３）式中、Ｒは炭素数１から１５のアルキル基、炭素数６から１２のアリール基、炭素数６から１２のアラルキル基、炭素数１から１５のアルコキシアルキル基、グリシジル基、炭素数１から１５のヒドロキシアルキル基又は炭素数７から１４のアリールオキシアルキル基、炭素数２から１３のアシル基又は炭素数２から１３の置換カルボニル基を表し、Ｘはそれぞれ独立して水素原子、炭素数１から１５のアルキル基又は炭素数６から１２のアリール基を表す。
第四の発明は、ラジカル重合性化合物のラジカル重合を禁止する効果を有する化合物であって、３００ｎｍ～５００ｎｍの波長範囲の光を含有する光線の照射下では当該ラジカル重合禁止効果が消失することを特徴とする、下記一般式（４）で表されるラジカル重合制御剤に存する。
Figure 0007076689000004
上記（４）式中、Ｘはそれぞれ独立して水素原子、炭素数１から１５のアルキル基、炭素数６から１２のアリール基、炭素数６から１２のアラルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１から１５のアルコキシ基、炭素数６から１２のアリールオキシ基又はハロゲン原子を表し、Ｙ及びＺはそれぞれ独立して水素原子、ヒドロキシ基、炭素数１から１５のアルキル基、炭素数１～１５のアルコキシ基、アミノ基、又はハロゲン原子を表すが、Ｙ及びＺは、前記置換基に代えて、互いに結合して飽和又は不飽和の６員環を形成してもよい。このＹとＺによって形成される６員環はさらに炭素数１から１５のアルキル基、炭素数６から１２のアリール基、炭素数６から１２のアラルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１から１５のアルコキシ基、炭素数６から１２のアリールオキシ基又はハロゲン原子が置換していてもよい。
第五の発明は、一般式（４）において、Ｘが水素原子であり、Ｙ及びＺが水素原子であることを特徴とする、請求項４に記載のラジカル重合制御剤に存する。
第六の発明は、一般式（４）において、Ｘが水素原子であり、Ｙがヒドロキシ基、炭素数１から１５のアルキル基、炭素数1から１５のアルコキシ基、アミノ基又はハロゲン原子であり、Ｚが水素原子であることを特徴とする、請求項４に記載のラジカル重合制御剤に存する。
第七の発明は、一般式（４）において、Ｘが水素原子であり、Ｙがヒドロキシ基又はメチル基であり、Ｚが水素原子であることを特徴とする、請求項４に記載のラジカル重合制御剤に存する。
第八の発明は、一般式（４）において、Ｘが水素原子であり、Ｙが塩素原子であり、Ｚが塩素原子又はアミノ基であることを特徴とする、請求項４に記載のラジカル重合制御剤に存する。
第九の発明は、ラジカル重合性化合物のラジカル重合を禁止する効果を有する化合物であって、３００ｎｍ～５００ｎｍの波長範囲の光を含有する光線の照射下では当該ラジカル重合禁止効果が消失することを特徴とする、下記一般式（５）又は（６）で表されるラジカル重合制御剤に存する。
Figure 0007076689000005
上記（５）式中、Ｘはそれぞれ独立して水素原子、炭素数１から１５のアルキル基、炭素数６から１２のアリール基、炭素数６から１２のアラルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１から１５のアルコキシ基、炭素数６から１２のアリールオキシ基又はハロゲン原子を表し、Ｑは水素原子、炭素数1から１５のアルキル基又はハロゲン原子を表す。
Figure 0007076689000006
上記（６）式中、Ｘはそれぞれ独立して水素原子、炭素数１から１５のアルキル基、炭素数６から１２のアリール基、炭素数６から１２のアラルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１から１５のアルコキシ基、炭素数６から１２のアリールオキシ基又はハロゲン原子を表し、Ｑは水素原子、炭素数１から１５のアルキル基又はハロゲン原子を表す。
第十の発明は、第一乃至第九の発明のいずれかひとつに記載するラジカル重合制御剤と、ラジカル重合性化合物とを含有するラジカル重合性組成物に存する。
第十一の発明は、ラジカル重合性化合物が、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸エステルまたはスチレン又はそのオリゴマーであることを特徴とする第十の発明に記載のラジカル重合性組成物に存する。
第十二の発明は、第十の発明又は第十一の発明に記載するラジカル重合性組成物に、更にラジカル重合開始剤を含有するラジカル重合性組成物に存する。
第十三の発明は、ラジカル重合開始剤が熱ラジカル重合開始剤である、第十二の発明に記載のラジカル重合性組成物に存する。
第十四の発明は、ラジカル重合開始剤が光ラジカル重合開始剤である、第十二の発明に記載のラジカル重合性組成物に存する。
第十五の発明は、第十三の発明に記載のラジカル重合性組成物を３００ｎｍ～５００ｎｍの波長範囲の光を含有する光線の照射下に熱エネルギーをかけてラジカル重合を開始させることを特徴とする、ラジカル重合制御方法に存する。
第十六の発明は、第十三の発明に記載のラジカル重合性組成物を基板上に塗布した皮膜の一部を遮蔽した状態で３００ｎｍ～５００ｎｍの波長範囲の光を照射し、熱エネルギーをかけラジカル重合させることにより、当該光が照射されたところのみを重合させることを特徴とする、ラジカル重合制御方法に存する。
第十七の発明は、第十三の発明に記載のラジカル重合性組成物に熱エネルギーをかけてラジカル重合をさせる際に、特定の領域に３００ｎｍ～５００ｎｍの波長範囲の光を含有する光線を照射することにより、当該特定の領域のみをラジカル重合させることを特徴とする、ラジカル重合制御方法に存する。
第十八の発明は、第十四の発明に記載のラジカル重合性組成物を３００ｎｍ～５００ｎｍの波長範囲の光を含有する光線の照射下に、重合を開始させるための光エネルギーをかけてラジカル重合を開始させることを特徴とする、ラジカル重合制御方法に存する。
第十九の発明は、第十四の発明に記載のラジカル重合性組成物を基板上に塗布した皮膜の一部を遮蔽した状態で３００ｎｍ～５００ｎｍの波長範囲の光を照射し、同時に重合を開始させるための光エネルギーをかけラジカル重合させることにより、当該３００ｎｍ～５００ｎｍの波長範囲の光が照射されたところのみを重合させることを特徴とする、ラジカル重合制御方法に存する。
第二十の発明は、第十四の発明に記載のラジカル重合性組成物に重合を開始させるための光エネルギーを照射してラジカル重合をさせる際に、特定の領域に３００ｎｍ～５００ｎｍの波長範囲の光を含有する光線を照射することにより、当該特定の領域のみをラジカル重合させることを特徴とする、ラジカル重合制御方法に存する。
本発明のラジカル重合制御剤を含有するラジカル重合性組成物において、例えば暗所で保存しているときは、当該ラジカル重合制御剤はラジカル重合禁止剤として働くが、当該ラジカル重合性組成物の重合時には、ある特定の波長の光を照射しながら、重合を開始することにより、当該ラジカル重合制御剤のラジカル重合禁止効果は失われ、ラジカル重合開始剤の量を増やすことなく、容易にラジカル重合をさせることができる。すなわち、本発明のラジカル重合制御剤はある特定の波長の光を照射下（明部）ではラジカル重合性化合物のラジカル重合を開始させ、ある特定の波長の光が当たらない（暗部）ではラジカル重合性化合物のラジカル重合を禁止する。つまり、ラジカル重合性化合物のラジカル重合の開始を明暗制御することができるものである。
［ラジカル重合制御剤］
本発明のラジカル重合制御剤は、下記一般式（１）乃至（６）で表される化合物である。
Figure 0007076689000007
上記（１）式中、Ｒはそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１から１５のアルキル基、炭素数６から１２のアリール基、炭素数６から１２のアラルキル基、炭素数１から１５のアルコキシアルキル基、グリシジル基、炭素数１から１５のヒドロキシアルキル基又は炭素数７から１４のアリールオキシアルキル基、炭素数２から１３のアシル基又は炭素数２から１３の置換カルボニル基を表し、Ｘはそれぞれ独立して水素原子、炭素数１から１５のアルキル基又は炭素数６から１２のアリール基を表すが、隣接する一組のＸは、前記置換基に代えて、互いに結合して飽和又は不飽和の６員環を形成してもよい。この隣接する一組のＸによって形成される６員環はさらに炭素数１から１５のアルキル基、炭素数６から１２のアリール基、炭素数６から１２のアラルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１から１５のアルコキシ基、炭素数６から１２のアリールオキシ基又はハロゲン原子が置換していてもよい。
Figure 0007076689000008
上記（２）式中、Ｒはそれぞれ独立して、炭素数１から１５のアルキル基、炭素数６から１２のアリール基、炭素数６から１２のアラルキル基、炭素数１から１５のアルコキシアルキル基、グリシジル基、炭素数１から１５のヒドロキシアルキル基又は炭素数７から１４のアリールオキシアルキル基、炭素数２から１３のアシル基又は炭素数２から１３の置換カルボニル基を表し、Ｘはそれぞれ独立して水素原子、炭素数１から１５のアルキル基又は炭素数６から１２のアリール基を表す。
Figure 0007076689000009
上記（３）式中、Ｒは炭素数１から１５のアルキル基、炭素数６から１２のアリール基、炭素数６から１２のアラルキル基、炭素数１から１５のアルコキシアルキル基、グリシジル基、炭素数１から１５のヒドロキシアルキル基又は炭素数７から１４のアリールオキシアルキル基、炭素数２から１３のアシル基又は炭素数２から１３の置換カルボニル基を表し、Ｘはそれぞれ独立して水素原子、炭素数１から１５のアルキル基又は炭素数６から１２のアリール基を表す。
Figure 0007076689000010
上記（４）式中、Ｘはそれぞれ独立して水素原子、炭素数１から１５のアルキル基、炭素数６から１２のアリール基、炭素数６から１２のアラルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１から１５のアルコキシ基、炭素数６から１２のアリールオキシ基又はハロゲン原子を表し、Ｙ及びＺはそれぞれ独立して水素原子、ヒドロキシ基、炭素数１から１５のアルキル基、炭素数１～１５のアルコキシ基、アミノ基、又はハロゲン原子を表すが、Ｙ及びＺは、前記置換基に代えて、互いに結合して飽和又は不飽和の６員環を形成してもよい。このＹとＺによって形成される６員環はさらに炭素数１から１５のアルキル基、炭素数６から１２のアリール基、炭素数６から１２のアラルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１から１５のアルコキシ基、炭素数６から１２のアリールオキシ基又はハロゲン原子が置換していてもよい。
Figure 0007076689000011
上記（５）式中、Ｘはそれぞれ独立して水素原子、炭素数１から１５のアルキル基、炭素数６から１２のアリール基、炭素数６から１２のアラルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１から１５のアルコキシ基、炭素数６から１２のアリールオキシ基又はハロゲン原子を表し、Ｑは水素原子、炭素数１から１５のアルキル基又はハロゲン原子を表す。
Figure 0007076689000012
上記（６）式中、Ｘはそれぞれ独立して水素原子、炭素数１から１５のアルキル基、炭素数６から１２のアリール基、炭素数６から１２のアラルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１から１５のアルコキシ基、炭素数６から１２のアリールオキシ基又はハロゲン原子を表し、Ｑは水素原子、炭素数１から１５のアルキル基又はハロゲン原子を表す。
一般式（１）乃至（３）において、Ｒで表されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｉ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｉ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、２－エチルヘキシル基、ｎ－デシル基、ｎ－ドデシル基等が挙げられ、アリール基としては、フェニル基、ｐ－トリル基、ｏ－トリル基、ナフチル基等が挙げられ、アラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、ナフチルエチル基等が挙げられ、アルコキシアルキル基としては、２－メトキシエチル基、２－エトキシエチル基、２－メトキシエトキシエチル基等が挙げられる。グリシジル基としては、グリシジル基、２－メチルグリシジル基等が挙げられる。ヒドロキシアルキル基としては、ヒドロキシメチル基、２－ヒドロキシエチル基、２－ヒドロキシプロピル基、３－ヒドロキシプロピル基、２－ヒドロキシブチル基、３－ヒドロキシブチル基等が挙げられる。アリールオキシアルキル基としては、フェノキシエチル基、トリロキシエチル基等が挙げられる。
一般式（１）乃至（６）における、Ｘで表されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｉ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｉ－ブチル基、アミル基、２－エチルヘキシル基、４－メチルペンチル基、４－メチル－３－ペンテニル基等が挙げられ、アリール基としては、フェニル基、ｐ-トリル基、ｏ-トリル基、ナフチル基等が挙げられる。また、一般式（３）乃至（６）における、Ｘで表されるアラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、ナフチルエチル基等が挙げられ、アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、ｉ－プロポキシ基等が挙げられる。グリシジル基としては、グリシジル基、２－メチルグリシジル基等が挙げられる。アリールオキシ基としては、フェノキシ基、トリロキシ基等が挙げられる。ハロゲン原子としてはフッ素、塩素、臭素、よう素が挙げられる。
一般式（４）における、Ｙ及びＺで表されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｉ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｉ－ブチル基、ペンチル基、２－エチルヘキシル基、４－メチルペンチル基、４－メチル－３－ペンテニル基等が挙げられ、アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、ｉ－プロポキシ基等が挙げられ、ハロゲン原子としてはフッ素、塩素、臭素、よう素が挙げられる。
一般式（４）において、ＹとＺが互いに結合している例としては、Ｙ及びＺがＣＨ２ＣＨ２基であり、Ｙ及びＺが一重結合で結合しているもの、この化合物は、一般式（６）で表される。Ｙ及びＺがＣＨ２ＣＨ基であり、Ｙ及びＺが二重結合で結合しているもの、この化合物は、一般式（５）で表される。ＹとＺによって形成される６員環はさらにアルキル基、アリール基、アラルキル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基又はハロゲン原子が置換していてもよい。
一般式（５）及び（６）において、Ｑで表されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｉ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｉ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、２－エチルヘキシル基、ｎ－デシル基、ｎ－ドデシル基等が挙げられ、ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、よう素が挙げられる。
次に、本発明のラジカル重合制御剤の具体例を示す。
まず、下記一般式（１）で表される化合物の具体例について説明する。
Figure 0007076689000013
上記（１）式中、Ｒはそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１から１５のアルキル基、炭素数６から１２のアリール基、炭素数６から１２のアラルキル基、炭素数１から１５のアルコキシアルキル基、グリシジル基、炭素数１から１５のヒドロキシアルキル基又は炭素数７から１４のアリールオキシアルキル基、炭素数２から１３のアシル基又は炭素数２から１３の置換カルボニル基を表し、Ｘはそれぞれ独立して水素原子、炭素数１から１５のアルキル基又は炭素数６から１２のアリール基を表すが、隣接する一組のＸは、前記置換基に代えて、互いに結合して飽和又は不飽和の６員環を形成してもよい。この隣接する一組のＸによって形成される６員環はさらに炭素数１から１５のアルキル基、炭素数６から１２のアリール基、炭素数６から１２のアラルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１から１５のアルコキシ基、炭素数６から１２のアリールオキシ基又はハロゲン原子が置換していてもよい。
一般式（１）で表される化合物としては、次の化合物が挙げられる。例えば１，４－ジヒドロキシナフタレン、４－メトキシ－１－ナフトール、４－エトキシ－１－ナフトール、４－（ｎ－プロポキシ）－１－ナフトール、４－（ｎ－ブトキシ）－１－ナフトール、４－（ｎ－ペンチルオキシ）－１－ナフトール、４－（ｎ－ヘキシルオキシ）－１－ナフトール、４－（ｎ－ヘプチルオキシ）－１－ナフトール、４－（ｎ－オクチルオキシ）－１－ナフトール、４－（２－エチルヘキシルオキシ）－１－ナフトール、４－（ｎ－ノニルオキシ）－１－ナフトール、４－ベンジルオキシ－１－ナフトール、４－フェネチルオキシ－１－ナフトール、４－グリシジルオキシ－１－ナフトール、４－（２－メチルグリシジルオキシ）－１－ナフトール、１，４－ジメトキシナフタレン、１，４－ジエトキシナフタレン、１，４－ジ－ｎ－プロポキシナフタレン、１，４－ジイソプロポキシナフタレン、１，４－ジ－ｎ－ブトキシナフタレン、１，４－ジヘキシルオキシナフタレン、１，４－ビス（２－エチルヘキシルオキシ）ナフタレン、１，４－ジドデシルオキシナフタレン、１，４－ジフェネチルオキシナフタレン、１，４－ビス（２－メトキシエトキシ）ナフタレン、１，４－ビス（２－フェノキシエトキシ）ナフタレン、１，４－ジグリシジルオキシナフタレン、１，４－ビス（２－ヒドロキシエトキシ）ナフタレン、１，４－ビス（２－ヒドロキシプロポキシ）ナフタレン、１－メトキシ－４－エトキシナフタレン、１－メトキシ－４－ブトキシナフタレン等が挙げられる。
更に、２－メチル－１，４－ジメトキシナフタレン、２－メチル－１，４－ジエトキシナフタレン、２－メチル－１，４－ジ－ｎ－プロポキシナフタレン、２－メチル－１，４－ジイソプロポキシナフタレン、２－メチル－１，４－ジ－ｎ－ブトキシナフタレン、２－メチル－１，４－ジヘキシルオキシナフタレン、２－メチル－１，４－ビス（２－エチルヘキシルオキシ）ナフタレン、２－メチル－１，４－ジドデシルオキシナフタレン、２－メチル－１，４－ジフェネチルオキシナフタレン、２－メチル－１，４－ビス（２－メトキシエトキシ）ナフタレン、２－メチル－１，４－ビス（２－フェノキシエトキシ）ナフタレン、２－メチル－１，４－ジグリシジルオキシナフタレン、２－メチル－１，４－ビス（２－ヒドロキシエトキシ）ナフタレン、２－メチル－１，４－ビス（２－ヒドロキシプロポキシ）ナフタレン、２－エチル－１，４－ジエトキシナフタレン、６-メチル－１，４－ジメトキシナフタレン、６-メチル－１，４－ジエトキシナフタレン、６-メチル－１，４－ジ－ｎ－プロポキシナフタレン、６-メチル－１，４－ジイソプロポキシナフタレン、６-メチル－１，４－ジ－ｎ－ブトキシナフタレン、６-メチル－１，４－ジヘキシルオキシナフタレン、６-メチル－１，４－ビス（２－エチルヘキシルオキシ）ナフタレン、６-メチル－１，４－ジドデシルオキシナフタレン、６-メチル－１，４－ジフェネチルオキシナフタレン、６-メチル－１，４－ビス（２－メトキシエトキシ）ナフタレン、６-メチル－１，４－ビス（２－フェノキシエトキシ）ナフタレン、６-メチル－１，４－ジグリシジルオキシナフタレン、６-メチル－１，４－ビス（２－ヒドロキシエトキシ）ナフタレン、６-メチル－１，４－ビス（２－ヒドロキシプロポキシ）ナフタレン、６－エチル－１，４－ジエトキシナフタレン、２，３－ジメチル－１，４－ジメトキシナフタレン、２，３－ジメチル－１，４－ジエトキシナフタレン、２，３－ジメチル－１，４－ジ－ｎ－プロポキシナフタレン、２，３－ジメチル－１，４－ジイソプロポキシナフタレン、２，３－ジメチル－１，４－ジ－ｎ－ブトキシナフタレン、２，３－ジメチル－１，４－ジヘキシルオキシナフタレン、２，３－ジメチル－１，４－ビス（２－エチルヘキシルオキシ）ナフタレン、２，３－ジメチル－１，４－ジドデシルオキシナフタレン、２，３－ジメチル－１，４－ジフェネチルオキシナフタレン、２，３－ジメチル－１，４－ビス（２－メトキシエトキシ）ナフタレン、２，３－ジメチル－１，４－ビス（２－フェノキシエトキシ）ナフタレン、２，３－ジメチル－１，４－ジグリシジルオキシナフタレン、２，３－ジメチル－１，４－ビス（２－ヒドロキシエトキシ）ナフタレン、２，３－ジメチル－１，４－ビス（２－ヒドロキシプロポキシ）ナフタレン等が挙げられる。
一般式（１）において、Ｒが炭素数２から１３のアシル基で表される化合物の具体例としては、たとえば次の化合物が挙げられる。すなわち、Ｘが水素原子である場合の例としては、１，４－ビス（アセチルオキシ）ナフタレン、１，４－ビス（プロピオニルオキシ）ナフタレン，１，４－ビス（ｎ－ブチリルオキシ）ナフタレン、１，４－ビス（ｉ－ブチリルオキシ）ナフタレン、１，４－ビス（ｎ－ペンタノイルオキシ）ナフタレン，１，４－ビス（ｎ－ヘキサノイルオキシ）ナフタレン、１，４－ビス（ｎ－ヘプタノイルオキシ）ナフタレン、１，４－ビス（ｎ－オクタノイルオキシ）ナフタレン、１，４－ビス（２－エチルヘキサノイルオキシ）ナフタレン、１，４－ビス（ｎ－ノナノイルオキシ）ナフタレン、１，４－ビス（ｎ－デカノイルオキシ）ナフタレン、１，４－ビス（ｎ－ウンデカノイルオキシ）ナフタレン、１，４－ビス（ｎ－ドデカノイルオキシ）ナフタレン等が挙げられる。
更に、Ｘがアルキル基である場合としては、２－メチル－１，４－ビス（アセチルオキシ）ナフタレン、２－メチル－１，４－ビス（プロピオニルオキシ）ナフタレン、２－メチル－１，４－ビス（ｎ－ブチリルオキシ）ナフタレン、２－メチル－１，４－ビス（ｉ－ブチリルオキシ）ナフタレン、２－メチル－１，４－ビス（ｎ－ペンタノイルオキシ）ナフタレン、２－メチル－１，４－ビス（ｎ－ヘキサノイルオキシ）ナフタレン、２－メチル－１，４－ビス（ｎ－ヘプタノイルオキシ）ナフタレン、２－メチル－１，４－ビス（ｎ－オクタノイルオキシ）ナフタレン、２－メチル－１，４－ビス（２－エチルヘキサノイルオキシ）ナフタレン、２－メチル－１，４－ビス（ｎ－ノナノイルオキシ）ナフタレン、２－メチル－１，４－ビス（ｎ－デカノイルオキシ）ナフタレン、２－メチル－１，４－ビス（ｎ－ウンデカノイルオキシ）ナフタレン、２－メチル－１，４－ビス（ｎ－ドデカノイルオキシ）ナフタレン、２－エチル－１，４－ビス（アセチルオキシ）ナフタレン、２－エチル－１，４－ビス（プロピオニルオキシ）ナフタレン、２－エチル－１，４－ビス（ｎ－ブチリルオキシ）ナフタレン、２－エチル－１，４－ビス（ｉ－ブチリルオキシ）ナフタレン、２－エチル－１，４－ビス（ｎ－ペンタノイルオキシ）ナフタレン、２－エチル－１，４－ビス（ｎ－ヘキサノイルオキシ）ナフタレン、２－エチル－１，４－ビス（ｎ－ヘプタノイルオキシ）ナフタレン、２－エチル－１，４－ビス（ｎ－オクタノイルオキシ）ナフタレン、２－エチル－１，４－ビス（２－エチルヘキサノイルオキシ）ナフタレン、２－エチル－１，４－ビス（ｎ－ノナノイルオキシ）ナフタレン、２－エチル－１，４－ビス（ｎ－デカノイルオキシ）ナフタレン、２－エチル－１，４－ビス（ｎ－ウンデカノイルオキシ）ナフタレン、２－エチル－１，４－ビス（ｎ－ドデカノイルオキシ）ナフタレン等が挙げられる。
一般式（１）において、Ｒが炭素数２から１３の置換カルボニル基で表される化合物の具体例としては、Ｘが水素原子である場合の例としては、１，４－ビス（メトキシカルボニルオキシ）ナフタレン、１，４－ビス（エトキシカルボニルオキシ）ナフタレン、１，４－ビス（ｎ－プロポキシカルボニルオキシ）ナフタレン，１，４－ビス（ｉ－プロポキシカルボニルオキシ）ナフタレン、１，４－ビス（ｎ－ブトキシカルボニルオキシ）ナフタレン、１，４－ビス（ｎ－ペントキシカルボニルオキシ）ナフタレン、１，４－ビス（ｎ－ヘキシルオキシカルボニルオキシ）ナフタレン、１，４－ビス（ｎ－ヘプチルオキシカルボニルオキシ）ナフタレン、１，４－ビス（ｎ－オクチルオキシカルボニルオキシ）ナフタレン、１，４－ビス（２－エチルヘキシルオキシカルボニルオキシ）ナフタレン、１，４－ビス（ｎ－ノニルオキシカルボニルオキシ）ナフタレン、１，４－ビス（ｎ－デシルオキシカルボニルオキシ）ナフタレン、１，４－ビス（ｎ－ウンデシルオキシカルボニルオキシ）ナフタレン、１，４－ビス（ｎ－ドデシルオキシカルボニルオキシ）ナフタレン等が挙げられる。
次に、Ｘがアルキル基である場合としては、２－メチル－１，４－ビス（メトキシカルボニルオキシ）ナフタレン、２－メチル－１，４－ビス（エトキシカルボニルオキシ）ナフタレン、２－メチル－１，４－ビス（ｎ－プロポキシカルボニルオキシ）ナフタレン、２－メチル－１，４－ビス（ｉ－プロポキシカルボニルオキシ）ナフタレン、２－メチル－１，４－ビス（ｎ－ブトキシカルボニルオキシ）ナフタレン、２－メチル－１，４－ビス（ｎ－ペントキシカルボニルオキシ）ナフタレン、２－メチル－１，４－ビス（ｎ－ヘキシルオキシカルボニルオキシ）ナフタレン、２－メチル－１，４－ビス（ｎ－ヘプチルオキシカルボニルオキシ）ナフタレン、２－メチル－１，４－ビス（ｎ－オクチルオキシカルボニルオキシ）ナフタレン、２－メチル－１，４－ビス（２－エチルヘキシルオキシカルボニルオキシ）ナフタレン、２－メチル－１，４－ビス（ｎ－ノニルオキシカルボニルオキシ）ナフタレン、２－メチル－１，４－ビス（ｎ－デシルオキシカルボニルオキシ）ナフタレン、２－メチル－１，４－ビス（ｎ－ウンデシルオキシカルボニルオキシ）ナフタレン、２－メチル－１，４－ビス（ｎ－ドデシルオキシカルボニルオキシ）ナフタレン、２－エチル－１，４－ビス（メトキシカルボニルオキシ）ナフタレン、２－エチル－１，４－ビス（エトキシカルボニルオキシ）ナフタレン、２－エチル－１，４－ビス（ｎ－プロポキシカルボニルオキシ）ナフタレン、２－エチル－１，４－ビス（ｉ－プロポキシカルボニルオキシ）ナフタレン、２－エチル－１，４－ビス（ｎ－ブトキシカルボニルオキシ）ナフタレン、２－エチル－１，４－ビス（ｎ－ペントキシカルボニルオキシ）ナフタレン、２－エチル－１，４－ビス（ｎ－ヘキシルオキシカルボニルオキシ）ナフタレン、２－エチル－１，４－ビス（ｎ－ヘプチルオキシカルボニルオキシ）ナフタレン、２－エチル－１，４－ビス（ｎ－オクチルオキシカルボニルオキシ）ナフタレン、２－エチル－１，４－ビス（２－エチルヘキシルオキシカルボニルオキシ）ナフタレン、２－エチル－１，４－ビス（ｎ－ノニルオキシカルボニルオキシ）ナフタレン、２－エチル－１，４－ビス（ｎ－デシルオキシカルボニルオキシ）ナフタレン、２－エチル－１，４－ビス（ｎ－ウンデシルオキシカルボニルオキシ）ナフタレン、２－エチル－１，４－ビス（ｎ－ドデシルオキシカルボニルオキシ）ナフタレン等が挙げられる。
また、一般式（１）において、隣接する一組のＲが互いに結合して飽和の６員環を形成している場合の具体例としては、９，１０－ジメトキシ－１，２，３，４－テトラヒドロアントラセン、９，１０－ジエトキシ－１，２，３，４－テトラヒドロアントラセン、９，１０－ジ－ｎ－プロポキシ－１，２，３，４－テトラヒドロアントラセン、９，１０－ジイソプロポキシ－１，２，３，４－テトラヒドロアントラセン、９，１０－ジ－ｎ－ブトキシ－１，２，３，４－テトラヒドロアントラセン、９，１０－ビス（２－エチルヘキシルオキシ）－１，２，３，４－テトラヒドロアントラセン、９，１０－ジドデシルオキシ－１，２，３，４－テトラヒドロアントラセン、９，１０－ジフェネチルオキシ－１，２，３，４－テトラヒドロアントラセン、９，１０－ビス（２－メトキシエトキシ）－１，２，３，４－テトラヒドロアントラセン、９，１０－ビス（２－フェノキシエトキシ）－１，２，３，４－テトラヒドロアントラセン、９，１０－ビス（２－ヒドロキシエトキシ）－１，２，３，４－テトラヒドロアントラセン、９－メトキシ－１０－エトキシ－１，２，３，４－テトラヒドロアントラセン、９－メトキシ－１０－ブトキシ－１，２，３，４－テトラヒドロアントラセン、２－メチル－９，１０－ジエトキシ－１，２，３，４－テトラヒドロアントラセン、２－エチル－９，１０－ジエトキシ－１，２，３，４－テトラヒドロアントラセン等が挙げられる。
更に、一般式（１）において、隣接する一組のＲが互いに結合して不飽和の６員環を形成している場合で当該６員環が非芳香族性の場合の具体例としては、９，１０－ジメトキシ－１，４－ジヒドロアントラセン、９，１０－ジエトキシ－１，４－ジヒドロアントラセン、９，１０－ジ－ｎ－プロポキシ－１，４－ジヒドロアントラセン、９，１０－ジイソプロポキシ－１，４－ジヒドロアントラセン、９，１０－ジ－ｎ－ブトキシ－１，４－ジヒドロアントラセン、９，１０－ビス（２－エチルヘキシルオキシ）－１，４－ジヒドロアントラセン、９，１０－ジドデシルオキシ－１，４－ジヒドロアントラセン、９，１０－ジフェネチルオキシ－１，４－ジヒドロアントラセン、９，１０－ビス（２－メトキシエトキシ）－１，４－ジヒドロアントラセン、９，１０－ビス（２－フェノキシエトキシ）－１，４－ジヒドロアントラセン、９，１０－ビス（２－ヒドロキシエトキシ）－１，４－ジヒドロアントラセン、９－メトキシ－１０－エトキシ－１，４－ジヒドロアントラセン、９－メトキシ－１０－ブトキシ－１，４－ジヒドロアントラセン、２－メチル－９，１０－ジエトキシ－１，４－ジヒドロアントラセン、２－エチル－９，１０－ジエトキシ－１，４－ジヒドロアントラセン等が挙げられる。
つぎに、下記一般式（２）で表される化合物の具体例について説明する。
Figure 0007076689000014
上記（２）式中、Ｒはそれぞれ独立して、炭素数１から１５のアルキル基、炭素数６から１２のアリール基、炭素数６から１２のアラルキル基、炭素数１から１５のアルコキシアルキル基、グリシジル基、炭素数１から１５のヒドロキシアルキル基又は炭素数７から１４のアリールオキシアルキル基、炭素数２から１３のアシル基又は炭素数２から１３の置換カルボニル基を表し、Ｘはそれぞれ独立して水素原子、炭素数１から１５のアルキル基又は炭素数６から１２のアリール基を表す。
一般式（２）において、炭素数１から１５のアルキル基、炭素数６から１２のアリール基、炭素数６から１２のアラルキル基、炭素数１から１５のアルコキシアルキル基、グリシジル基、炭素数1から１５のヒドロキシアルキル基又は炭素数７から１４のアリールオキシアルキル基で表される化合物でＸが水素原子である場合の具体例としては、９，１０－ジメトキシアントラセン、９，１０－ジエトキシアントラセン、９，１０－ジ－ｎ－プロポキシアントラセン、９，１０－ジイソプロポキシアントラセン、９，１０－ジ－ｎ－ブトキシアントラセン、９，１０－ビス（２－エチルヘキシルオキシ）アントラセン、９，１０－ジドデシルオキシアントラセン、９，１０－ジフェネチルオキシアントラセン、９，１０－ビス（２－メトキシエトキシ）アントラセン、９，１０－ビス（２－フェノキシエトキシ）アントラセン、９，１０－ビス（２－ヒドロキシエトキシ）アントラセン、９，１０－ジグリシジルオキシアントラセン、９－メトキシ－１０－エトキシアントラセン、９－メトキシ－１０－ブトキシアントラセン等が挙げられる。
更に、Ｘがアルキル基である場合としては、２－メチル－９，１０－ジメトキシアントラセン、２－メチル－９，１０－ジエトキシアントラセン、２－メチル－９，１０－ジ－ｎ－プロポキシアントラセン、２－メチル－９，１０－ジイソプロポキシアントラセン、２－メチル－９，１０－ジ－ｎ－ブトキシアントラセン、２－メチル－９，１０－ビス（２－エチルヘキシルオキシ）アントラセン、２－メチル－９，１０－ジドデシルオキシアントラセン、２－メチル－９，１０－ジフェネチルオキシアントラセン、２－メチル－９，１０－ビス（２－メトキシエトキシ）アントラセン、２－メチル－９，１０－ビス（２－フェノキシエトキシ）アントラセン、２－メチル－９，１０－ビス（２－ヒドロキシエトキシ）アントラセン、２－メチル－９，１０－ジグリシジルオキシアントラセン、９－メトキシ－１０－エトキシアントラセン、９－メトキシ－１０－ブトキシアントラセン、２－メチル－２－メチル－９，１０－ジエトキシアントラセン、２－エチル－２－メチル－９，１０－ジエトキシアントラセン、２－エチル－９，１０－ジメトキシアントラセン、２－エチル－９，１０－ジエトキシアントラセン、２－エチル－９，１０－ジ－ｎ－プロポキシアントラセン、２－エチル－９，１０－ジイソプロポキシアントラセン、２－エチル－９，１０－ジ－ｎ－ブトキシアントラセン、２－エチル－９，１０－ビス（２－エチルヘキシルオキシ）アントラセン、２－エチル－９，１０－ジドデシルオキシアントラセン、２－エチル－９，１０－ジフェネチルオキシアントラセン、２－エチル－９，１０－ビス（２－メトキシエトキシ）アントラセン、２－エチル－９，１０－ビス（２－フェノキシエトキシ）アントラセン、２－エチル－９，１０－ビス（２－ヒドロキシエトキシ）アントラセン、２－エチル－９，１０－ジグリシジルオキシアントラセン、９－メトキシ－１０－エトキシアントラセン、９－メトキシ－１０－ブトキシアントラセン、２－メチル－２－エチル－９，１０－ジエトキシアントラセン、２－エチル－２－エチル－９，１０－ジエトキシアントラセン等が挙げられる。
一般式（２）において、Ｒが炭素数２から１３のアシル基で表される化合物の具体例としては、たとえば次の化合物が挙げられる。すなわち、Ｘが水素原子である場合の例としては、９，１０－ビス（アセチルオキシ）アントラセン、９，１０－ビス（プロピオニルオキシ）アントラセン，９，１０－ビス（ｎ－ブチリルオキシ）アントラセン、９，１０－ビス（ｉ－ブチリルオキシ）アントラセン、９，１０－ビス（ｎ－ペンタノイルオキシ）アントラセン，９，１０－ビス（ｎ－ヘキサノイルオキシ）アントラセン、９，１０－ビス（ｎ－ヘプタノイルオキシ）アントラセン、９，１０－ビス（ｎ－オクタノイルオキシ）アントラセン、９，１０－ビス（２－エチルヘキサノイルオキシ）アントラセン、９，１０－ビス（ｎ－ノナノイルオキシ）アントラセン、９，１０－ビス（ｎ－デカノイルオキシ）アントラセン、９，１０－ビス（ｎ－ウンデカノイルオキシ）アントラセン、９，１０－ビス（ｎ－ドデカノイルオキシ）アントラセン等が挙げられる。
更に、Ｘがアルキル基である場合としては、２－メチル－９、１０－ビス（アセチルオキシ）アントラセン、２－メチル－９、１０－ビス（プロピオニルオキシ）アントラセン、２－メチル－９、１０－ビス（ｎ－ブチリルオキシ）アントラセン、２－メチル－９、１０－ビス（ｉ－ブチリルオキシ）アントラセン、２－メチル－９、１０－ビス（ｎ－ペンタノイルオキシ）アントラセン、２－メチル－９、１０－ビス（ｎ－ヘキサノイルオキシ）アントラセン、２－メチル－９、１０－ビス（ｎ－ヘプタノイルオキシ）アントラセン、２－メチル－９、１０－ビス（ｎ－オクタノイルオキシ）アントラセン、２－メチル－９、１０－ビス（２－エチルヘキサノイルオキシ）アントラセン、２－メチル－９、１０－ビス（ｎ－ノナノイルオキシ）アントラセン、２－メチル－９、１０－ビス（ｎ－デカノイルオキシ）アントラセン、２－メチル－９、１０－ビス（ｎ－ウンデカノイルオキシ）アントラセン、２－メチル－９、１０－ビス（ｎ－ドデカノイルオキシ）アントラセン、２－エチル－９、１０－ビス（アセチルオキシ）アントラセン、２－エチル－９、１０－ビス（プロピオニルオキシ）アントラセン、２－エチル－９、１０－ビス（ｎ－ブチリルオキシ）アントラセン、２－エチル－９、１０－ビス（ｉ－ブチリルオキシ）アントラセン、２－エチル－９、１０－ビス（ｎ－ペンタノイルオキシ）アントラセン、２－エチル－９、１０－ビス（ｎ－ヘキサノイルオキシ）アントラセン、２－エチル－９、１０－ビス（ｎ－ヘプタノイルオキシ）アントラセン、２－エチル－９、１０－ビス（ｎ－オクタノイルオキシ）アントラセン、２－エチル－９、１０－ビス（２－エチルヘキサノイルオキシ）アントラセン、２－エチル－９、１０－ビス（ｎ－ノナノイルオキシ）アントラセン、２－エチル－９、１０－ビス（ｎ－デカノイルオキシ）アントラセン、２－エチル－９、１０－ビス（ｎ－ウンデカノイルオキシ）アントラセン、２－エチル－９、１０－ビス（ｎ－ドデカノイルオキシ）アントラセン等が挙げられる。
一般式（２）において、Ｒが炭素数２から１３の置換カルボニル基で表される化合物の具体例としては、Ｘが水素原子である場合の例としては、９，１０－ビス（メトキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０－ビス（エトキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０－ビス（ｎ－プロポキシカルボニルオキシ）アントラセン，９，１０－ビス（ｉ－プロポキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０－ビス（ｎ－ブトキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０－ビス（ｎ－ペントキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０－ビス（ｎ－ヘキシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０－ビス（ｎ－ヘプチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０－ビス（ｎ－オクチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０－ビス（２－エチルヘキシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０－ビス（ｎ－ノニルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０－ビス（ｎ－デシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０－ビス（ｎ－ウンデシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０－ビス（ｎ－ドデシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン等が挙げられる。
次に、Ｘがアルキル基である場合としては、２－メチル－９，１０－ビス（メトキシカルボニルオキシ）アントラセン、２－メチル－９，１０－ビス（エトキシカルボニルオキシ）アントラセン、２－メチル－９，１０－ビス（ｎ－プロポキシカルボニルオキシ）アントラセン、２－メチル－９，１０－ビス（ｉ－プロポキシカルボニルオキシ）アントラセン、２－メチル－９，１０－ビス（ｎ－ブトキシカルボニルオキシ）アントラセン、２－メチル－９，１０－ビス（ｎ－ペントキシカルボニルオキシ）アントラセン、２－メチル－９，１０－ビス（ｎ－ヘキシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２－メチル－９，１０－ビス（ｎ－ヘプチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２－メチル－９，１０－ビス（ｎ－オクチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２－メチル－９，１０－ビス（２－エチルヘキシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２－メチル－９，１０－ビス（ｎ－ノニルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２－メチル－９，１０－ビス（ｎ－デシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２－メチル－９，１０－ビス（ｎ－ウンデシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２－メチル－９，１０－ビス（ｎ－ドデシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２－エチル－９，１０－ビス（メトキシカルボニルオキシ）アントラセン、２－エチル－９，１０－ビス（エトキシカルボニルオキシ）アントラセン、２－エチル－９，１０－ビス（ｎ－プロポキシカルボニルオキシ）アントラセン、２－エチル－９，１０－ビス（ｉ－プロポキシカルボニルオキシ）アントラセン、２－エチル－９，１０－ビス（ｎ－ブトキシカルボニルオキシ）アントラセン、２－エチル－９，１０－ビス（ｎ－ペントキシカルボニルオキシ）アントラセン、２－エチル－９，１０－ビス（ｎ－ヘキシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２－エチル－９，１０－ビス（ｎ－ヘプチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２－エチル－９，１０－ビス（ｎ－オクチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２－エチル－９，１０－ビス（２－エチルヘキシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２－エチル－９，１０－ビス（ｎ－ノニルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２－エチル－９，１０－ビス（ｎ－デシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２－エチル－９，１０－ビス（ｎ－ウンデシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２－エチル－９，１０－ビス（ｎ－ドデシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン等が挙げられる。
つぎに、下記一般式（３）で表される化合物の具体例について説明する。
Figure 0007076689000015
上記（３）式中、Ｒは炭素数１から１５のアルキル基、炭素数６から１２のアリール基、炭素数６から１２のアラルキル基、炭素数１から１５のアルコキシアルキル基、グリシジル基、炭素数１から１５のヒドロキシアルキル基又は炭素数７から１４のアリールオキシアルキル基、炭素数２から１３のアシル基又は炭素数２から１３の置換カルボニル基を表し、Ｘはそれぞれ独立して水素原子、炭素数１から１５のアルキル基又は炭素数６から１２のアリール基を表す。
一般式（３）において、炭素数１から１５のアルキル基、炭素数６から１２のアリール基、炭素数６から１２のアラルキル基、炭素数１から１５のアルコキシアルキル基、グリシジル基、炭素数１から１５のヒドロキシアルキル基又は炭素数７から１４のアリールオキシアルキル基で表される化合物でＸが水素原子である場合の具体例としては、９－メトキシアントラセン、９－エトキシアントラセン、９－ｎ－プロポキシアントラセン、９－イソプロポキシアントラセン、９－ｎ－ブトキシアントラセン、９－（２－エチルヘキシルオキシ）アントラセン、９－ドデシルオキシアントラセン、９－フェネチルオキシアントラセン、９－（２－メトキシエトキシ）アントラセン、９－（２－フェノキシエトキシ）アントラセン、９，１０－ビス（２－ヒドロキシエトキシ）アントラセン、９－グリシジルオキシアントラセン等が挙げられる。
更に、Ｘがアルキル基である場合としては、２－メチル－９－メトキシアントラセン、２－メチル－９－エトキシアントラセン、２－メチル－９－ｎ－プロポキシアントラセン、２－メチル－９－イソプロポキシアントラセン、２－メチル－９－ｎ－ブトキシアントラセン、２－メチル－９－（２－エチルヘキシルオキシ）アントラセン、２－メチル－９－ドデシルオキシアントラセン、２－メチル－９－フェネチルオキシアントラセン、２－メチル－９－（２－メトキシエトキシ）アントラセン、２－メチル－９－（２－フェノキシエトキシ）アントラセン、９，１０－ビス（２－ヒドロキシエトキシ）アントラセン、２－メチル－９－グリシジルオキシアントラセン、２－エチル－９－メトキシアントラセン、２－エチル－９－エトキシアントラセン、２－エチル－９－ｎ－プロポキシアントラセン、２－エチル－９－イソプロポキシアントラセン、２－エチル－９－ｎ－ブトキシアントラセン、２－エチル－９－（２－エチルヘキシルオキシ）アントラセン、２－エチル－９－ドデシルオキシアントラセン、２－エチル－９－フェネチルオキシアントラセン、２－エチル－９－（２－メトキシエトキシ）アントラセン、２－エチル－９－（２－フェノキシエトキシ）アントラセン、９，１０－ビス（２－ヒドロキシエトキシ）アントラセン、２－エチル－９－グリシジルオキシアントラセン等が挙げられる。
一般式（３）において、Ｒが炭素数２から１３のアシル基で表される化合物の具体例としては、たとえば次の化合物が挙げられる。たとえば、Ｘが水素原子である場合の例としては、９，１０－ビス（アセチルオキシ）アントラセン、９，１０－ビス（プロピオニルオキシ）アントラセン，９，１０－ビス（ｎ－ブチリルオキシ）アントラセン、９，１０－ビス（ｉ－ブチリルオキシ）アントラセン、９，１０－ビス（ｎ－ペンタノイルオキシ）アントラセン，９，１０－ビス（ｎ－ヘキサノイルオキシ）アントラセン、９，１０－ビス（ｎ－ヘプタノイルオキシ）アントラセン、９，１０－ビス（ｎ－オクタノイルオキシ）アントラセン、９，１０－ビス（２－エチルヘキサノイルオキシ）アントラセン、９，１０－ビス（ｎ－ノナノイルオキシ）アントラセン、９，１０－ビス（ｎ－デカノイルオキシ）アントラセン、９，１０－ビス（ｎ－ウンデカノイルオキシ）アントラセン、９，１０－ビス（ｎ－ドデカノイルオキシ）アントラセン等が挙げられる。
次に、Ｘがアルキル基である場合としては、２－メチル－９、１０－ビス（アセチルオキシ）アントラセン、２－メチル－９、１０－ビス（プロピオニルオキシ）アントラセン、２－メチル－９、１０－ビス（ｎ－ブチリルオキシ）アントラセン、２－メチル－９、１０－ビス（ｉ－ブチリルオキシ）アントラセン、２－メチル－９、１０－ビス（ｎ－ペンタノイルオキシ）アントラセン、２－メチル－９、１０－ビス（ｎ－ヘキサノイルオキシ）アントラセン、２－メチル－９、１０－ビス（ｎ－ヘプタノイルオキシ）アントラセン、２－メチル－９、１０－ビス（ｎ－オクタノイルオキシ）アントラセン、２－メチル－９、１０－ビス（２－エチルヘキサノイルオキシ）アントラセン、２－メチル－９、１０－ビス（ｎ－ノナノイルオキシ）アントラセン、２－メチル－９、１０－ビス（ｎ－デカノイルオキシ）アントラセン、２－メチル－９、１０－ビス（ｎ－ウンデカノイルオキシ）アントラセン、２－メチル－９、１０－ビス（ｎ－ドデカノイルオキシ）アントラセン、２－エチル－９、１０－ビス（アセチルオキシ）アントラセン、２－エチル－９、１０－ビス（プロピオニルオキシ）アントラセン、２－エチル－９、１０－ビス（ｎ－ブチリルオキシ）アントラセン、２－エチル－９、１０－ビス（ｉ－ブチリルオキシ）アントラセン、２－エチル－９、１０－ビス（ｎ－ペンタノイルオキシ）アントラセン、２－エチル－９、１０－ビス（ｎ－ヘキサノイルオキシ）アントラセン、２－エチル－９、１０－ビス（ｎ－ヘプタノイルオキシ）アントラセン、２－エチル－９、１０－ビス（ｎ－オクタノイルオキシ）アントラセン、２－エチル－９、１０－ビス（２－エチルヘキサノイルオキシ）アントラセン、２－エチル－９、１０－ビス（ｎ－ノナノイルオキシ）アントラセン、２－エチル－９、１０－ビス（ｎ－デカノイルオキシ）アントラセン、２－エチル－９、１０－ビス（ｎ－ウンデカノイルオキシ）アントラセン、２－エチル－９、１０－ビス（ｎ－ドデカノイルオキシ）アントラセン等が挙げられる。
一般式（３）において、Ｒが炭素数２から１３の置換カルボニル基で表される化合物の具体例としては、Ｘが水素原子である場合の例としては、９－メトキシカルボニルオキシアントラセン、９－エトキシカルボニルオキシアントラセン、９－（ｎ－プロポキシカルボニルオキシ）アントラセン、９－（ｉ－プロポキシカルボニルオキシ）アントラセン、９－（ｎ－ブトキシカルボニルオキシ）アントラセン、９－（ｎ－ペントキシカルボニルオキシ）アントラセン、９－（ｎ－ヘキシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン，９－（ｎ－ヘプチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、９－（ｎ－オクチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン，９－（２－エチルヘキシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、９－（ｎ－ノニルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、９－（ｎ－デシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン，９－（ｎ－ウンデシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、９－（ｎ－ドデシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン等が挙げられる。
次に、Ｘがアルキル基である場合としては、２－メチル－９－メトキシカルボニルオキシアントラセン、２－メチル－９－エトキシカルボニルオキシアントラセン、２－メチル－９－（ｎ－プロポキシカルボニルオキシ）アントラセン、２－メチル－９－（ｉ－プロポキシカルボニルオキシ）アントラセン、２－メチル－９－（ｎ－ブトキシカルボニルオキシ）アントラセン、２－メチル－９－（ｎ－ペントキシカルボニルオキシ）アントラセン、２－メチル－９－（ｎ－ヘキシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２－メチル－９－（ｎ－ヘプチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２－メチル－９－（ｎ－オクチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン，２－メチル－９－（２－エチルヘキシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２－メチル－９－（ｎ－ノニルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２－メチル－９－（ｎ－デシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２－メチル－９－（ｎ－ウンデシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２－メチル－９－（ｎ－ドデシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２－エチル－９－メトキシカルボニルオキシアントラセン、２－エチル－９－エトキシカルボニルオキシアントラセン、２－エチル－９－（ｎ－プロポキシカルボニルオキシ）アントラセン、２－エチル－９－（ｉ－プロポキシカルボニルオキシ）アントラセン、２－エチル－９－（ｎ－ブトキシカルボニルオキシ）アントラセン、２－エチル－９－（ｎ－ペントキシカルボニルオキシ）アントラセン、２－エチル－９－（ｎ－ヘキシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２－エチル－９－（ｎ－ヘプチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２－エチル－９－（ｎ－オクチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２－エチル－９－（２－エチルヘキシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２－エチル－９－（ｎ－ノニルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２－エチル－９－（ｎ－デシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２－エチル－９－（ｎ－ウンデシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２－エチル－９－（ｎ－ドデシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン等が挙げられる。
つぎに、下記一般式（４）で表される化合物の具体例について説明する。
Figure 0007076689000016
（４）式中、Ｘはそれぞれ独立して水素原子、炭素数１から１５のアルキル基、炭素数６から１２のアリール基、炭素数６から１２のアラルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１から１５のアルコキシ基、炭素数６から１２のアリールオキシ基又はハロゲン原子を表し、Ｙ及びＺはそれぞれ独立して水素原子、ヒドロキシ基、炭素数１から１５のアルキル基、炭素数１～１５のアルコキシ基、アミノ基、又はハロゲン原子を表すが、Ｙ及びＺは、前記置換基に代えて、互いに結合して飽和又は不飽和の６員環を形成してもよい。このＹとＺによって形成される６員環はさらに炭素数１から１５のアルキル基、炭素数６から１２のアリール基、炭素数６から１２のアラルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１から１５のアルコキシ基、炭素数６から１２のアリールオキシ基又はハロゲン原子が置換していてもよい。
一般式（４）で表される化合物の具体例として、まず、Ｙ及びＺが水素原子である化合物としては、次の化合物が挙げられる。例えば、１，４－ナフトキノン、５－メチル－１，４－ナフトキノン、６－メチル－１，４－ナフトキノン、６，７－ジメチル－１，４－ナフトキノン、５－ブチル－１，４－ナフトキノン、６－ブチル－１，４－ナフトキノン、６，７－ジブチル－１，４－ナフトキノン、５－ペンチル－１，４－ナフトキノン、６－ペンチル－１，４－ナフトキノン、５－クロロ－１，４－ナフトキノン、６－クロロ－１，４－ナフトキノン、６，７－ジクロロ－１，４－ナフトキノン、５－ヒドロキシ－１，４－ナフトキノン、６－ヒドロキシ－１，４－ナフトキノン、５，８－ジヒドロキシ－１，４－ナフトキノン、５，６，８－トリヒドロキシ－１，４－ナフトキノン、５－メトキシ－１，４－ナフトキノン、６－メトキシ－１，４－ナフトキノン、５，８－ジメトキシ－１，４－ナフトキノン等が挙げられる。
次に、一般式（４）において、Ｙがヒドロキシ基、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、又はハロゲン原子であり、Ｚが水素原子である化合物としては、次の化合物が挙げられる。例えば、２－メチル－１，４－ナフトキノン、２－エチル－１，４－ナフトキノン、２－ヒドロキシ－１，４－ナフトキノン、２－メトキシ－１，４－ナフトキノン、２－クロロ－１，４－ナフトキノン、２－アミノ－１，４－ナフトキノン、２，５－ジメチル－１，４－ナフトキノン、２，６－ジメチル－１，４－ナフトキノン、２，６，７－トリメチル－１，４－ナフトキノン、２－メチル－５－ブチル－１，４－ナフトキノン、２－メチル－６－ブチル－１，４－ナフトキノン、２－メチル－６，７－ジブチル－１，４－ナフトキノン、２－メチル－５－ペンチル－１，４－ナフトキノン、２－メチル－６－ペンチル－１，４－ナフトキノン、２－メチル－５－クロロ－１，４－ナフトキノン、２－メチル－６－クロロ－１，４－ナフトキノン、２－メチル－６，７－ジクロロ－１，４－ナフトキノン、２－メチル－５－ヒドロキシ－１，４－ナフトキノン、２－メチル－６－ヒドロキシ－１，４－ナフトキノン、２－メチル－５，８－ジヒドロキシ－１，４－ナフトキノン、２－メチル－５，６，８－トリヒドロキシ－１，４－ナフトキノン、２－メチル－５－メトキシ－１，４－ナフトキノン、２－メチル－６－メトキシ－１，４－ナフトキノン、２－メチル－５，８－ジメトキシ－１，４－ナフトキノン、２－ヒドロキシ－５－メチル－１，４－ナフトキノン、２－エチル－５－メチル－１，４－ナフトキノン、２－エチル－６－メチル－１，４－ナフトキノン、２－エチル－６，７－ジメチル－１，４－ナフトキノン、２－エチル－５－ブチル－１，４－ナフトキノン、２－エチル－６－ブチル－１，４－ナフトキノン、２－エチル－６，７－ジブチル－１，４－ナフトキノン、２－エチル－５－ペンチル－１，４－ナフトキノン、２－エチル－６－ペンチル－１，４－ナフトキノン、２－エチル－５－クロロ－１，４－ナフトキノン、２－エチル－６－クロロ－１，４－ナフトキノン、２－エチル－６，７－ジクロロ－１，４－ナフトキノン、２－エチル－５－ヒドロキシ－１，４－ナフトキノン、２－エチル－６－ヒドロキシ－１，４－ナフトキノン、２－エチル－５，８－ジヒドロキシ－１，４－ナフトキノン、２－エチル－５，６，８－トリヒドロキシ－１，４－ナフトキノン、２－エチル－５－メトキシ－１，４－ナフトキノン、２－エチル－６－メトキシ－１，４－ナフトキノン、２－エチル－５，８－ジメトキシ－１，４－ナフトキノン、２－ヒドロキシ－６－メチル－１，４－ナフトキノン、２－ヒドロキシ－６，７－ジメチル－１，４－ナフトキノン、２－ヒドロキシ－５－ブチル－１，４－ナフトキノン、２－ヒドロキシ－６－ブチル－１，４－ナフトキノン、２－ヒドロキシ－６，７－ジブチル－１，４－ナフトキノン、２－ヒドロキシ－５－ペンチル－１，４－ナフトキノン、２－ヒドロキシ－６－ペンチル－１，４－ナフトキノン、２－ヒドロキシ－５－クロロ－１，４－ナフトキノン、２－ヒドロキシ－６－クロロ－１，４－ナフトキノン、２－ヒドロキシ－６，７－ジクロロ－１，４－ナフトキノン、２，５－ジヒドロキシ－１，４－ナフトキノン、２，６－ジヒドロキシ－１，４－ナフトキノン、２，５，８－トリヒドロキシ－１，４－ナフトキノン、２，５，６，８－テトラヒドロキシ－１，４－ナフトキノン、２－ヒドロキシ－５－メトキシ－１，４－ナフトキノン、２－ヒドロキシ－６－メトキシ－１，４－ナフトキノン、２－ヒドロキシ－５，８－ジメトキシ－１，４－ナフトキノン、２－メトキシ－５－メチル－１，４－ナフトキノン、２－メトキシ－６－メチル－１，４－ナフトキノン、２－メトキシ－６，７－ジメチル－１，４－ナフトキノン、２－メトキシ－５－ブチル－１，４－ナフトキノン、２－メトキシ－６－ブチル－１，４－ナフトキノン、２－メトキシ－６，７－ジブチル－１，４－ナフトキノン、２－メトキシ－５－ペンチル－１，４－ナフトキノン、２－メトキシ－６－ペンチル－１，４－ナフトキノン、２－メトキシ－５－クロロ－１，４－ナフトキノン、２－メトキシ－６－クロロ－１，４－ナフトキノン、２－メトキシ－６，７－ジクロロ－１，４－ナフトキノン、２－メトキシ－５－ヒドロキシ－１，４－ナフトキノン、２－メトキシ－６－ヒドロキシ－１，４－ナフトキノン、２－メトキシ－５，８－ジヒドロキシ－１，４－ナフトキノン、２－メトキシ－５，６，８－トリヒドロキシ－１，４－ナフトキノン、２，５－ジメトキシ－１，４－ナフトキノン、２，６－ジメトキシ－１，４－ナフトキノン、２，５，８－トリメトキシ－１，４－ナフトキノン、２－クロロ－５－メチル－１，４－ナフトキノン、２－クロロ－６－メチル－１，４－ナフトキノン、２－クロロ－６，７－ジメチル－１，４－ナフトキノン、２－クロロ－５－ブチル－１，４－ナフトキノン、２－クロロ－６－ブチル－１，４－ナフトキノン、２－クロロ－６，７－ジブチル－１，４－ナフトキノン、２－クロロ－５－ペンチル－１，４－ナフトキノン、２－クロロ－６－ペンチル－１，４－ナフトキノン、２，５－ジクロロ－１，４－ナフトキノン、２，６－ジクロロ－１，４－ナフトキノン、２，６，７－トリクロロ－１，４－ナフトキノン、２－クロロ－５－ヒドロキシ－１，４－ナフトキノン、２－クロロ－６－ヒドロキシ－１，４－ナフトキノン、２－クロロ－５，８－ジヒドロキシ－１，４－ナフトキノン、２－クロロ－５，６，８－トリヒドロキシ－１，４－ナフトキノン、２－クロロ－５－メトキシ－１，４－ナフトキノン、２－クロロ－６－メトキシ－１，４－ナフトキノン、２－クロロ－５，８－ジメトキシ－１，４－ナフトキノン、２－アミノ－５－メチル－１，４－ナフトキノン、２－アミノ－６－メチル－１，４－ナフトキノン、２－アミノ－６，７－ジメチル－１，４－ナフトキノン、２－アミノ－５－ブチル－１，４－ナフトキノン、２－アミノ－６－ブチル－１，４－ナフトキノン、２－アミノ－６，７－ジブチル－１，４－ナフトキノン、２－アミノ－５－ペンチル－１，４－ナフトキノン、２－アミノ－６－ペンチル－１，４－ナフトキノン、２－アミノ－５－クロロ－１，４－ナフトキノン、２－アミノ－６－クロロ－１，４－ナフトキノン、２－アミノ－６，７－ジクロロ－１，４－ナフトキノン、２－アミノ－５－ヒドロキシ－１，４－ナフトキノン、２－アミノ－６－ヒドロキシ－１，４－ナフトキノン、２－アミノ－５，８－ジヒドロキシ－１，４－ナフトキノン、２－アミノ－５，６，８－トリヒドロキシ－１，４－ナフトキノン、２－アミノ－５－メトキシ－１，４－ナフトキノン、２－アミノ－６－メトキシ－１，４－ナフトキノン、２－アミノ－５，８－ジメトキシ－１，４－ナフトキノン等が挙げられる。
更に、一般式（４）において、Ｙ及びＺがヒドロキシ基、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、又はハロゲン原子である化合物としては、次の化合物が挙げられる。例えば、２，３－ジメチル－１，４－ナフトキノン、２，３－ジエチル－１，４－ナフトキノン、２－メチル－３－ヒドロキシ－１，４－ナフトキノン、２－メチル－３－メトキシ－１，４－ナフトキノン、２，３－ジヒドロキシ－１，４－ナフトキノン、２，３－ジメトキシ－１，４－ナフトキノン、２，３－ジクロロ－１，４－ナフトキノン、２－アミノ－３－クロロ－１，４－ナフトキノン、２，３，６－トリメチル－１，４－ナフトキノン、２，３，６，７－テトラメチル－１，４－ナフトキノン、２，３－ジメチル－５－ブチル－１，４－ナフトキノン、２，３－ジメチル－６－ブチル－１，４－ナフトキノン、２，３－ジメチル－６，７－ジブチル－１，４－ナフトキノン、２，３－ジメチル－５－ペンチル－１，４－ナフトキノン、２，３－ジメチル－６－ペンチル－１，４－ナフトキノン、２，３－ジメチル－５－クロロ－１，４－ナフトキノン、２，３－ジメチル－６－クロロ－１，４－ナフトキノン、２，３－ジメチル－６，７－ジクロロ－１，４－ナフトキノン、２，３－ジメチル－５－ヒドロキシ－１，４－ナフトキノン、２，３－ジメチル－６－ヒドロキシ－１，４－ナフトキノン、２，３－ジメチル－５，８－ジヒドロキシ－１，４－ナフトキノン、２，３－ジメチル－５，６，８－トリヒドロキシ－１，４－ナフトキノン、２，３－ジメチル－５－メトキシ－１，４－ナフトキノン、２，３－ジメチル－６－メトキシ－１，４－ナフトキノン、２，３－ジメチル－５，８－ジメトキシ－１，４－ナフトキノン、２，６－ジメチル－３－ヒドロキシ－１，４－ナフトキノン、２，６，７－トリメチル－３－ヒドロキシ－１，４－ナフトキノン、２－メチル－３－ヒドロキシ－５－ブチル－１，４－ナフトキノン、２－メチル－３－ヒドロキシ－６－ブチル－１，４－ナフトキノン、２－メチル－３－ヒドロキシ－６，７－ジブチル－１，４－ナフトキノン、２－メチル－３－ヒドロキシ－５－ペンチル－１，４－ナフトキノン、２－メチル－３－ヒドロキシ－６－ペンチル－１，４－ナフトキノン、２－メチル－３－ヒドロキシ－５－クロロ－１，４－ナフトキノン、２－メチル－３－ヒドロキシ－６－クロロ－１，４－ナフトキノン、２－メチル－３－ヒドロキシ－６，７－ジクロロ－１，４－ナフトキノン、２－メチル－３，５－ジヒドロキシ－１，４－ナフトキノン、２－メチル－３，６－ジヒドロキシ－１，４－ナフトキノン、２－メチル－３，５，８－トリヒドロキシ－１，４－ナフトキノン、２－メチル－３，５，６，８－テトラヒドロキシ－１，４－ナフトキノン、２－メチル－３－ヒドロキシ－５－メトキシ－１，４－ナフトキノン、２－メチル－３－ヒドロキシ－６－メトキシ－１，４－ナフトキノン、２－メチル－３－ヒドロキシ－５，８－ジメトキシ－１，４－ナフトキノン、２，３－ジクロロ－６－メチル－１，４－ナフトキノン、２，３－ジクロロ－６，７－ジメチル－１，４－ナフトキノン、２，３－ジクロロ－５－ブチル－１，４－ナフトキノン、２，３－ジクロロ－６－ブチル－１，４－ナフトキノン、２，３－ジクロロ－６，７－ジブチル－１，４－ナフトキノン、２，３－ジクロロ－５－ペンチル－１，４－ナフトキノン、２，３－ジクロロ－６－ペンチル－１，４－ナフトキノン、２，３，５－トリクロロ－１，４－ナフトキノン、２，３，６－トリクロロ－１，４－ナフトキノン、２，３，６，７－テトラクロロ－１，４－ナフトキノン、２，３－ジクロロ－５－ヒドロキシ－１，４－ナフトキノン、２，３－ジクロロ－６－ヒドロキシ－１，４－ナフトキノン、２，３－ジクロロ－５，８－ジヒドロキシ－１，４－ナフトキノン、２，３－ジクロロ－５，６，８－トリヒドロキシ－１，４－ナフトキノン、２，３－ジクロロ－５－メトキシ－１，４－ナフトキノン、２，３－ジクロロ－６－メトキシ－１，４－ナフトキノン、２，３－ジクロロ－５，８－ジメトキシ－１，４－ナフトキノン、２－アミノ－３－クロロ－６－メチル－１，４－ナフトキノン、２－アミノ－３－クロロ－６，７－ジメチル－１，４－ナフトキノン、２－アミノ－３－クロロ－５－ブチル－１，４－ナフトキノン、２－アミノ－３－クロロ－６－ブチル－１，４－ナフトキノン、２－アミノ－３－クロロ－６，７－ジブチル－１，４－ナフトキノン、２－アミノ－３－クロロ－５－ペンチル－１，４－ナフトキノン、２－アミノ－３－クロロ－６－ペンチル－１，４－ナフトキノン、２－アミノ－３－クロロ－５－クロロ－１，４－ナフトキノン、２－アミノ－３，６－ジクロロ－１，４－ナフトキノン、２－アミノ－３，６，７－トリクロロ－１，４－ナフトキノン、２－アミノ－３－クロロ－５－ヒドロキシ－１，４－ナフトキノン、２－アミノ－３－クロロ－６－ヒドロキシ－１，４－ナフトキノン、２－アミノ－３－クロロ－５，８－ジヒドロキシ－１，４－ナフトキノン、２－アミノ－３－クロロ－５，６，８－トリヒドロキシ－１，４－ナフトキノン、２－アミノ－３－クロロ－５－メトキシ－１，４－ナフトキノン、２－アミノ－３－クロロ－６－メトキシ－１，４－ナフトキノン、２－アミノ－３－クロロ－５，８－ジメトキシ－１，４－ナフトキノン等が挙げられる。
つぎに、下記一般式（５）で表される化合物の具体例について説明する。
Figure 0007076689000017
（５）式中、Ｘはそれぞれ独立して水素原子、炭素数１から１５のアルキル基、炭素数６から１２のアリール基、炭素数６から１２のアラルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１から１５のアルコキシ基、炭素数６から１２のアリールオキシ基又はハロゲン原子を表し、Ｑは水素原子、炭素数１から１５のアルキル基又はハロゲン原子を表す。
一般式（５）の具体例としては、１，４－ジヒドロ－９，１０－アントラキノン、２－メチル－１，４－ジヒドロ－９，１０－アントラキノン、２－クロロ－１，４－ジヒドロ－９，１０－アントラキノン、６－メチル－１，４－ジヒドロ－９，１０－アントラキノン、２，６－ジメチル－１，４－ジヒドロ－９，１０－アントラキノン、２－クロロ－６－メチル－１，４－ジヒドロ－９，１０－アントラキノン、２，６－ジクロロ－１，４－ジヒドロ－９，１０－アントラキノン等が挙げられる。
つぎに、下記一般式（６）で表される化合物の具体例について説明する。
Figure 0007076689000018
（６）式中、Ｘはそれぞれ独立して水素原子、炭素数１から１５のアルキル基、炭素数６から１２のアリール基、炭素数６から１２のアラルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１から１５のアルコキシ基、炭素数６から１２のアリールオキシ基又はハロゲン原子を表し、Ｑは水素原子、炭素数１から１５のアルキル基又はハロゲン原子を表す。
一般式（６）で表される化合物の具体例としては、１，２，３，４－テトラヒドロ－９，１０－アントラキノン、２－メチル－１，２，３，４－テトラヒドロ－９，１０－アントラキノン、２－クロロ－１，２，３，４－テトラヒドロ－９，１０－アントラキノン、６－メチル－１，２，３，４－テトラヒドロ－９，１０－アントラキノン、２，６－ジメチル－１，２，３，４－テトラヒドロ－９，１０－アントラキノン、２－クロロ－６－メチル－１，２，３，４－テトラヒドロ－９，１０－アントラキノン、２，６－ジクロロ－１，２，３，４－テトラヒドロ－９，１０－アントラキノン等が挙げられる。
本発明の一般式（１）乃至（３）で表される化合物は、対応するヒドロキシナフタレン化合物又はヒドロキシアントラセン化合物を、アルキル化剤によるアルキル化、アリール化剤によるアリール化、アルキレンオキサイドによるヒドロキシアルキル化、アシル化剤によるアシル化、置換カルボニル化剤による置換カルボニル化をすることにより容易に合成できる。
一般式（４）で表されるこれらの２位に置換基を有するナフトキノン化合物は、試薬として入手可能なものも多いが、１，４－ナフトキノン化合物と、対応する求核試薬との反応により、２位に置換したハイドロキノン化合物としたのち、酸化処理することによって得ることができる。例えば、第５版実験化学講座１５有機化合物の合成IIIアルデヒド・ケトン・キノン（日本化学会編）３６９頁や３８４頁に記載の方法等で合成できる。
また、一般式（５）、（６）の化合物は、１，４－ナフトキノン化合物と、対応するブタジエン化合物のディールス・アルダー反応により環状付加体を合成し、その後異性化したのち酸化すること、更には、この酸化体を接触水素還元すること、により合成可能である。
上記に挙げた具体例の中でも、一般式（１）の化合物としては、４－メトキシ－１－ナフトール、４－エトキシ－１－ナフトール、１，４－ジメトキシナフタレン、１，４－ジエトキシナフタレン、１，４－ジ－ｎ－プロポキシナフタレン、１，４－ジイソプロポキシナフタレン、１，４－ジ－ｎ－ブトキシナフタレン、１，４－ジヘキシルオキシナフタレン、１，４－ビス（２－エチルヘキシルオキシ）ナフタレンが挙げられる。一般式（２）の化合物としては、９，１０－ジメトキシアントラセン、９，１０－ジエトキシアントラセン、９，１０－ジ－ｎ－プロポキシアントラセン、９，１０－ジイソプロポキシアントラセン、９，１０－ジ－ｎ－ブトキシアントラセン、９，１０－ビス（２－エチルヘキシルオキシ）アントラセン、９，１０－ジドデシルオキシアントラセン、９，１０－ビス（アセチルオキシ）アントラセン、９，１０－ビス（プロピオニルオキシ）アントラセン，９，１０－ビス（ｎ－ブチリルオキシ）アントラセン、９，１０－ビス（ｉ－ブチリルオキシ）アントラセン、９，１０－ビス（ｎ－ペンタノイルオキシ）アントラセン，９，１０－ビス（ｎ－ヘキサノイルオキシ）アントラセン、９，１０－ビス（ｎ－ヘプタノイルオキシ）アントラセン、９，１０－ビス（ｎ－オクタノイルオキシ）アントラセン、９，１０－ビス（２－エチルヘキサノイルオキシ）アントラセン、９，１０－ビス（ｎ－ノナノイルオキシ）アントラセン、９，１０－ビス（メトキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０－ビス（エトキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０－ビス（ｎ－プロポキシカルボニルオキシ）アントラセン，９，１０－ビス（ｉ－プロポキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０－ビス（ｎ－ブトキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０－ビス（ｎ－ペントキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０－ビス（ｎ－ヘキシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０－ビス（ｎ－ヘプチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０－ビス（ｎ－オクチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０－ビス（２－エチルヘキシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０－ビス（ｎ－ノニルオキシカルボニルオキシ）アントラセンが挙げられる。一般式（３）の化合物としては、９－メトキシアントラセン、９－エトキシアントラセン、９－ｎ－プロポキシアントラセン、９－イソプロポキシアントラセン、９－ｎ－ブトキシアントラセン、９－（２－エチルヘキシルオキシ）アントラセン、９－ドデシルオキシアントラセンが挙げられる。一般式（４）の化合物としては、１，４－ナフトキノン、２－メチル－１，４－ナフトキノン、２－エチル－１，４－ナフトキノン、２－ヒドロキシ－１，４－ナフトキノン、２－メトキシ－１，４－ナフトキノン、２－クロロ－１，４－ナフトキノンが挙げられる。一般式（５）の化合物としては、１，４－ジヒドロ－９，１０－アントラキノン、２－メチル－１，４－ジヒドロ－９，１０－アントラキノン、一般式（６）の化合物としては、１，２，３，４－テトラヒドロ－９，１０－アントラキノン、２－メチル－１，２，３，４－テトラヒドロ－９，１０－アントラキノンが挙げられる。これらの中でも、製造の容易さから、４－メトキシ－１－ナフトール、４－エトキシ－１－ナフトール、１，４－ジメトキシナフタレン、１，４－ジエトキシナフタレン、９，１０－ジメトキシアントラセン、９，１０－ジエトキシアントラセン、９，１０－ジ－ｎ－プロポキシアントラセン、９，１０－ジイソプロポキシアントラセン、９，１０－ジ－ｎ－ブトキシアントラセン、９，１０－ビス（ｎ－ブチリルオキシ）、９，１０－ビス（ｎ－ヘプタノイルオキシ）アントラセン、９，１０－ビス（ｎ－オクタノイルオキシ）アントラセン、９，１０－ビス（ｎ－ブトキシカルボニルオキシ）アントラセン、９－イソプロポキシアントラセン、９－ｎ－ブトキシアントラセン、１，４－ナフトキノン、２－メチル－１，４－ナフトキノン、２－ヒドロキシ－１，４－ナフトキノン、２－メトキシ－１，４－ナフトキノンが好ましい。特に、４－メトキシ－１－ナフトール、４－エトキシ－１－ナフトール、１，４－ジエトキシナフタレン、９，１０－ジ－ｎ－プロポキシアントラセン、９，１０－ジ－ｎ－ブトキシアントラセン、９，１０－ビス（ｎ－オクタノイルオキシ）アントラセン、１，４－ナフトキノン、２－メチル－１，４－ナフトキノン、２－ヒドロキシ－１，４－ナフトキノンが好ましい。
［ラジカル重合性組成物］
本発明のラジカル重合性組成物は、本発明のラジカル重合制御剤とラジカル重合性化合物を含有する。本発明のラジカル重合制御剤を含有することにより、ラジカル重合性組成物中に熱などの影響でラジカル種が発生した場合、当該ラジカル種を本発明のラジカル重合制御剤が捕捉して、ラジカル重合性化合物のラジカル重合が開始することを禁止する。すなわち、ラジカル重合性化合物の保存安定化が成し遂げられる。しかし、いざラジカル重合性化合物をラジカル重合させる時に、特定の波長の光（３００ｎｍ～５００ｎｍの波長の範囲の光を含む光）を照射することにより、本発明のラジカル重合制御剤がラジカルに対して無害となり、ラジカル重合を開始することが可能となる。すなわち、本発明のラジカル重合制御剤は、ある特定の波長の光の照射によって、ラジカル重合の開始と停止をコントロールできるということである。また、光が当たっているところと当たっていないところで重合の開始と禁止をコントロールできるというものである。
本発明のラジカル重合制御剤と光ラジカル重合開始剤との違いであるが、光ラジカル重合開始剤は、特定の波長の光を照射（明条件）することによりラジカル重合を開始する能力を有するが、暗条件（特定の波長の光が照射されていない条件）においては、ラジカルに対して不活性な存在である。一方、本発明のラジカル重合制御剤は、暗条件（特定の波長の光が照射されていない条件）においては、ラジカルに対して活性で、発生したラジカルを捕捉する能力を有しラジカル重合禁止剤の役割をするが、特定の波長の光を照射することによりラジカル重合を捕捉する能力を失い、不活性となる。暗条件で重合せず、明条件で重合を起こすという現象は同じであるが、作用の中身は全く異なっている。
本発明のラジカル重合制御剤は、ラジカル重合性化合物にあらかじめ添加しておくことにより、ラジカル重合性化合物の保存安定剤として用いることが可能であるが、ラジカル重合を開始するときに、ラジカル重合性化合物に添加して、特定の波長の光の照射による重合制御の目的で用いてもよい。
本発明のラジカル重合制御剤の配合量は、十分なラジカル重合禁止効果と経済性との観点から、通常、ラジカル重合性化合物１００重量部に対して０．１～１０重量部が好ましく、０．２から５重量部が更に好ましい。
［ラジカル重合性化合物］
本発明におけるラジカル重合性化合物は、分子内に重合性二重結合を有する化合物であれば特に限定されない。このようなラジカル重合性化合物としては、アクリル酸、メタクリル酸等のα、β－不飽和カルボン酸化合物；アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸－２－エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸－２－ヒドロキシエチル、アクリル酸－２－ヒドロキシプロピル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸ブチル等のα、β－不飽和カルボン酸エステル化合物；酢酸ビニル等のビニルエステル化合物；アクリロニトリル、アクリルアミドのようなアクリル化合物；スチレン、α－メチルスチレン、ビニルトルエン、ジビニルベンゼン等の芳香族ビニル化合物等；塩化ビニル、塩化ビニリデンのような置換エチレン化合物；エチレン、プロピレン、ブテン、ブタジエン、イソプレン、シクロペンタジエン、ピネン等のエチレン性不飽和化合物、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシランなどの不飽和有機シラン化合物などが挙げられる。上記ラジカル重合性化合物のオリゴマーでも構わない。
前記ラジカル重合性化合物の中でも、α、β－不飽和カルボン酸化合物である（メタ）アクリル酸、α、β－不飽和カルボン酸エステルである（メタ）アクリル酸エステル、芳香族ビニル化合物であるスチレンが好ましい。
前記ラジカル重合性組成物に含有されるラジカル重合性化合物は、その形態や含有量は特に限定されない。例えばラジカル重合性化合物そのものやラジカル重合性化合物の溶液等が挙げられる。
本発明のラジカル重合制御剤を必須成分として含有するラジカル重合性組成物には、ラジカル反応を開始するラジカル重合開始剤が必要により添加される。そして、重合を開始するに必要な熱や光などの開始エネルギーを与え、重合を開始することにより、重合物を製造することができる。そして、当該重合反応時に特定の波長の光を照射することにより、重合反応の開始と停止をコントロールできる。
［ラジカル重合開始剤］
ラジカル重合開始剤としては、エネルギーを与えてラジカル重合性化合物に対して活性なラジカルを発生するものであれば特に限定されない。一般には市販されているいわゆるラジカル重合開始剤を用いることができる。通常便宜的に、熱エネルギーを与えて用いるものを熱ラジカル重合開始剤と呼び、光エネルギーを与えるものを光ラジカル重合開始剤と呼ぶ。本発明は熱ラジカル重合開始剤及び光ラジカル重合開始剤のどちらも使用することが可能である。
熱ラジカル重合開始剤としては特に限定されず、公知の化合物を使用することができる。例えば、ペルオキシド、ヒドロペルオキシド、及びアゾ系化合物が挙げられる。具体的には、ベンゾイルペルオキシド、ジ－ｔ－アミルペルオキシド、ｔ－ブチルペルオキシベンゾエート、２，５－ジメチル－２，５ジ－（ｔ－ブチルペルオキシ）ヘキサン、２，５－ジメチル－２，５－ジ－（ｔ－ブチルペルオキシ）ヘキシン－３、及びジ－クミルペルオキシド等のペルオキシド、ｔ－アミルヒドロペルオキシド、ｔ－ブチルヒドロペルオキシド、及び過酸化水素等のヒドロペルオキシド、（２，２’－アゾビス（２，４－ジメチルペンタンニトリル））、（２，２’－アゾビス（２－メチルプロパンニトリル））、（２，２’－アゾビス（２－メチルブタンニトリル））、（２，２’－アゾビス（シクロヘキサンカルボニトリル））等のアゾ系化合物が挙げられる。
また、熱ラジカル重合開始剤を比較的低温で使用するためにペルオキシド、ヒドロペルオキシド、アスコルビン酸等の酸化剤系開始剤に対して遷移金属やアミン等の還元剤を組み合わせるいわゆるレドックス開始剤系を用いることもできる。
光ラジカル重合開始剤としては、特に限定されず、公知の化合物を使用することができる。例えば、ベンゾイン系化合物、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサトン類、α－アシロキシムエステル類、フェニルグリオキシレート類、ベンジル類、アゾ系化合物、ジフェニルスルフィド系化合物、アシルホスフィンオキシド系化合物、有機色素系化合物、鉄－フタロシアニン系、ベンゾイン類、ベンゾインエーテル類、アントラキノン類が含まれる。具体的に、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテルなどのベンゾイン類；アセトフェノン、２，２－ジエトキシ－２－フェニルアセトフェノン、１，１－ジクロロアセトフェノン、２－ヒドロキシ－２－メチル－フェニルプロパン－１－オン、ジエトキシアセトフェノン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２－メチル－１－〔４－（メチルチオ）フェニル〕－２－モルホリノプロパン－１－オンなどのアセトフェノン類；２－エチルアントラキノン、２－ｔ－ブチルアントラキノン、２－クロロアントラキノン、２－アミルアントラキノンなどのアントラキノン類；２，４－ジエチルチオキサントン、２－イソプロピルチオキサントン、２－クロロチオキサントンなどのチオキサントン類；アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタールなどのケタール類；ベンゾフェノン、４－ベンゾイル－４’－メチルジフェニルサルファイド、４，４’－ビスメチルアミノベンゾフェノンなどのベンゾフェノン類；２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルホスフィンオキサイドなどのホスフィンオキサイド類等が挙げられる。有機合成化学協会誌６６，４５８（２００８）等公知文献に紹介されている光ラジカル重合開始剤も用いることができる。
また、市場より入手可能な光ラジカル重合開始剤として、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（チバ・スペシャリティケミカルズ社製イルガキュア１８４、イルガキュアはチバ・スペシャリティケミカルズ社の登録商標）、（２－メチル－１－（４－（メチルチオ）フェニル）－２－（４－モルフォリニル）－１－プロパノン）（イルガキュア９０７）、またビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－ジフェニル－ホスフィンオキサイド（イルガキュア８１９）等のアシルホスフィンオキサイド化合物；ビス(η5－２，４－シクロペンタジエン－１－イル)－ビス（２，６－ジフルオロ－３－（１Ｈ－ピロール－１－イル）－フェニル）チタニウム（イルガキュア７８４）等のチタノセン化合物；６，１２－ビス（トリメチルシリルオキシ）－１，１１－ナフタセンキノン等のナフタセンキノン化合物等が挙げられる。
これらのラジカル重合開始剤は、単独でまたは２種以上を組み合わせて用いてもよい。熱ラジカル重合開始剤と光ラジカル重合開始剤を組み合わせて用いてもよい。ラジカル重合開始剤の添加量は、用いるラジカル重合性化合物及びラジカル重合制御剤にもよるが、ラジカル重合性化合物の合計量１００質量部に対して０．０００１質量部以上１０質量部以下の範囲内であるのが好ましい。
［重合開始エネルギー］
重合開始エネルギーは添加したラジカル開始剤からラジカルを発生しうるエネルギーであればよい。一般には熱エネルギー、電離波エネルギーが適宜選ばれる。具体的なエネルギー源としては熱、光、電子線（EB)、マイクロ波、放射線等の電磁線が挙げられ、用いるエネルギー源に応じて、熱重合、電磁線重合（光重合、電子線重合、マイクロ波重合、放射線重合）等と呼ばれる。
［熱重合］
熱重合の場合、用いるラジカル重合性化合物及びその様態にもよるが、重合に用いる温度範囲は通常－２０～２００℃で、好ましくは０～１５０℃、より好ましくは１０～１２０℃である。
さらに熱重合の一種として酸化還元（レドックス）開始剤（後述）を用いるレドックス重合が挙げられる。この際、用いられる温度範囲は通常の熱重合より低く、－４０～１００℃で、好ましくは－２０～８０℃、より好ましくは０～６０℃である。
本発明のラジカル重合制御剤とラジカル重合性化合物を含有するラジカル重合性組成物に、ラジカル重合開始剤を添加し、開始エネルギーを与えることにより、ラジカル重合性化合物の重合が開始される。この開始エネルギーを付与するとき、３００～５００ｎｍの波長範囲の光の照射がない状態では、ラジカル重合開始剤より発生したラジカルが、本発明のラジカル重合制御剤に捕捉されて重合が禁止される。そのため、ラジカル重合を開始させるためには、ラジカル重合制御剤の捕捉能力を超えるラジカルを発生させるために、必要以上のラジカル重合開始剤を添加する必要がある。しかし、当該ラジカル重合の開始を３００～５００ｎｍの波長範囲の光の照射下に行うことにより、ラジカル重合制御剤のラジカル捕捉能力は失われ、少量のラジカル重合開始剤の添加で、ラジカル重合を開始することができるようになる。
また、熱ラジカル重合開始剤と本発明のラジカル重合制御剤を含有するラジカル重合性組成物をフィルム状に塗布し、その塗布膜上にパターンを有する光遮蔽膜を被せ、３００～５００ｎｍの波長範囲の光を照射下にラジカル重合性組成物を加熱することにより、光が当たった所だけが重合し、光が当たらなかったところは重合反応が十分進行せず、重合物のパターンを形成することが可能となる。すなわち、通常、光重合開始剤により形成される重合物のパターンが、熱重合開始剤で形成することができるようになる。
さらにまた、熱ラジカル重合開始剤と本発明のラジカル重合制御剤を含有するラジカル重合性組成物に熱エネルギーをかけてラジカル重合をさせる際に、ラジカル重合性組成物の特定の領域に３００ｎｍ～５００ｎｍの波長範囲の光を含有する光線を照射することにより、当該特定の領域のみをラジカル重合させることが可能となる。
当該重合反応時に照射する特定の波長範囲を含む光としては、３００～５００ｎｍの波長範囲の光を含む光線である。光源としては、３００～５００ｎｍの範囲の波長の光線を照射できるものであればよい。たとえば、ＬＥＤ（発光ダイオード）やランプが使用できる。ＬＥＤとしては、ＵＶ－ＬＥＤ、青色ＬＥＤ、白色ＬＥＤ等が挙げられる。ランプとしては、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、ハロゲンランプ、メタルハライドランプ等が挙げられる。
３００～５００ｎｍの波長範囲の光を含む光線の中でも、上述の一般式（１）、（４）乃至（６）で表される本発明のラジカル重合制御剤の場合は、３００～３７０ｎｍの波長範囲の光を含む光線が好ましく、一般式（２）又は（３）で表される本発明のラジカル重合制御剤の場合は、３５０～５００ｎｍの波長範囲の光を含む光線が好ましい。
照射する強度としては、１～２０００ｍＷ／ｃｍ２程度の強さで光照射する。
［光重合］
本発明のラジカル重合制御剤を用いた重合反応は、光重合においても用いることができる。光重合において、照射する光としては紫外線、可視光線、赤外線等を用いることができる。本発明のラジカル重合制御剤のほかに、光ラジカル重合開始剤が用いられ、光重合増感剤を用いることもできる。具体的には、本発明のラジカル重合制御剤、ラジカル重合性化合物、光ラジカル重合開始剤を含むラジカル重合性組成物を調製し、重合開始エネルギーとして紫外線、可視光線等の光を照射することにより、重合を開始することができる。この時、同時に、３００～５００ｎｍの範囲の波長の光線を照射することにより、本発明のラジカル重合制御剤を無害化することが可能となり、余分な光ラジカル重合開始剤を添加する必要がなくなる。
照射する紫外線、可視光線の場合具体的には、たとえば３００～８００ｎｍの波長範囲の光線である。光源としては、３００～８００ｎｍの範囲の波長の光線を照射できるＬＥＤ（発光ダイオード）やランプを使用する。ＬＥＤとしては、ＵＶ－ＬＥＤ、青色ＬＥＤ、白色ＬＥＤ等が挙げられる。ランプとしては、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、ハロゲンランプ、メタルハライドランプ等が挙げられる。
電子線重合は電子線照射により行われる。電子線照射には、前記の電子線重合化合物に作用し重合性物質の重合を起こすことができる方法であれば、特に制限なく使用することができる。照射する電子線量は、吸収線量として１から３００ｋＧｙ程度の範囲で調節するのが望ましい。１ｋＧｙ未満では十分な照射効果が得られず、３００ｋＧｙを超えるような照射は基材を劣化させる恐れがあるため好ましくない。電子線の照射方法としては、例えばスキャニング方式、カーテンビーム方式、ブロードビーム方式などが用いられ、電子線を照射する際の加速電圧は、照射する側の基材の厚さによりコントロールする必要があるが、２０から１００ｋＶ程度が適当である。
マイクロ波重合はＳｔｒａｕｓｓら（Ａｕｓｔ. Ｊ. Ｃｈｅｍ.，４８，１６６５～１６９２（１９９５））の公知の手法を用いることが出来る。マイクロ波は、マイクロ波技術において既知の種々の方法のいずれかによって発生させることができる。一般に、これらの方法は、マイクロ波発生源として作用するクライストロンまたはマグネトロンに依存している。一般に、発生の周波数は約３００ＭＨｚ～３０ＧＨｚの範囲であり、対応する波長は約１ｍ～１ｍｍである。理論的には、この範囲のいずれの周波数も、効果的に使用することができるが、約８５０～９５０ＭＨｚまたは約２３００～２６００ＭＨｚを包含する商業的に利用可能な範囲の周波数を使用するのが好ましい。
放射線重合はγ線、Ｘ線、α線、β線を照射して重合を行う。通常、コバルト６０のγ線照射が用いられることが多い。
光ラジカル重合開始剤を用いた場合も、光ラジカル重合開始剤と本発明のラジカル重合制御剤を含有するラジカル重合性組成物をフィルム状に塗布し、その塗布膜上にパターンを有する光遮蔽膜を被せ、３００～５００ｎｍの波長範囲の光を照射下にラジカル重合性組成物に光ラジカル重合開始剤を活性化する光エネルギー（電磁波エネルギー）を照射し重合を開始することにより、３００～５００ｎｍの波長範囲の光が当たった所だけが重合し、３００～５００ｎｍの波長範囲の光が当たらなかったところは重合反応が十分進行せず、重合物のパターンを形成することが可能となる。
当該光重合において照射する光エネルギーの光線の波長が、３００～５００ｎｍの波長範囲の光である場合は、光重合の開始と、本発明のラジカル重合制御剤の無害化が同時に起こることとなる。
例えば、光ラジカル重合開始剤と本発明のラジカル重合制御剤を含有するラジカル重合性組成物をフィルム状に塗布し、その塗布膜上にパターンを有する光遮蔽膜を被せ、３００～５００ｎｍの波長範囲の光を照射下にラジカル重合性組成物を開始することにより、光が当たった所だけが重合し、重合物のパターンを形成することが可能となる。当該反応は、本発明のラジカル重合制御剤が含まれていなくても進行する反応であるが、当該反応において、ラジカル重合性化合物中に本発明のラジカル重合制御剤ではなく、通常のラジカル重合禁止剤が含まれていた場合は、ラジカル重合のリードタイムが長くなったり、光ラジカル重合開始剤の添加量を増やさなければ、重合反応がうまく進行しなかったりする。しかし、重合禁止剤ではなく本発明のラジカル重合制御剤を含有することにより、ラジカル重合性化合物の保存安定性を確保すると同時に、ラジカル重合をスムーズに進行させることができ、光ラジカル重合開始剤の添加量が少なくて済むという効果を生じる。また、同時に、光を当てるところを絞っている場合や一部を遮蔽して光重合を行う場合などでは、本発明のラジカル重合制御剤が、光の当たっていないところではラジカル重合禁止剤としての役割を有するため、光が照射されたところと、光が当たらないところの境界がシャープになるという特徴を有する。
さらにまた、光ラジカル重合開始剤と本発明のラジカル重合制御剤を含有するラジカル重合性組成物に光エネルギーを照射してラジカル重合をさせる際にも、ラジカル重合性組成物の特定の領域に３００ｎｍ～５００ｎｍの波長範囲の光を含有する光線を照射することにより、当該特定の領域のみをラジカル重合させることが可能となる。
［他の成分］
本発明のラジカル重合制御剤とラジカル重合性化合物とを含有するラジカル重合性組成物をラジカル重合させるにあたり、本発明のラジカル重合制御剤、ラジカル重合性化合物、ラジカル重合開始剤のほかに必要があれば、本発明の効果を損なわない範囲で他の成分を含有していてもよく、溶剤、着色剤、可塑剤、粘着付与剤、酸化防止剤、各種安定剤、充填剤、界面活性剤、カップリング材、帯電防止剤、紫外線吸収剤なども添加することが可能である。
以下、本発明をより具体的に説明するためにいくつかの実施例を示す。ただし、本発明の範囲はこれら実施例の範囲に限定されるものではない。
＜光ＤＳＣ測定＞
本実施例において、光ＤＳＣ測定は下記のようにして行った。ＤＳＣ測定装置は日立ハイテク社製ＸＤＳＣ－７０００を用い、それに光ＤＳＣ測定用ユニットを装着し光を照射しながらＤＳＣ測定ができるよう設えた。
光照射用の光源は、林時計工業社製ＬＡ－４１０ＵＶを用い、バンドパスフィルターで４０５ｎｍ光又は３６５ｎｍ光を取り出してサンプルに照射できるようにした。光の照度は５０ｍＷ／ｃｍ２とした。光源の光はグラスファイバーを用いてサンプル上部まで導けるようにし、光照射開始と同時にＤＳＣ測定ができるよう光源のシャッターをトリガー制御できるようにした。
光ＤＳＣの測定は、サンプルを１ｍｇ程度測定用アルミ製パンの中に精秤し、ＤＳＣ測定部に収めたのち光ＤＳＣユニットを装着した。その後測定部内を測定温度まで昇温すると当時に雰囲気を窒素雰囲気に置換を５分間で実施し、測定を開始した。測定は通常光を照射しながら１０分間継続した。一回目の測定後、サンプルはそのままで再度同条件で測定を行い、一回目の測定結果から二回目の測定結果を差し引いた値を当該サンプルの測定結果とした。結果は特に断らない限り光照射後１０分間におけるサンプル１ｍｇあたりの総発熱量で比較した。光を照射しない場合は測定温度一定で１００分間測定を１回行い、発熱の有無を確認した。
光照射に伴ってサンプル（ラジカル重合性組成物）の重合が生じた場合、重合に伴う反応熱が生ずるが光ＤＳＣではその反応熱を測定することができる。そのため、光ＤＳＣによって光照射による重合進行の状況が測定できることになる。本実施例では光照射後１０分間の総発熱量を測定しているが、発熱量が測定されかつ測定後のサンプルを指触してラジカル重合性化合物が液状から固体に変化していれば、重合反応が進行したこと考えることができる。
（実施例１）
トリメチルプロパントリアクリレート１０ｇに対し、ラジカル重合制御剤として４－メトキシ－１－ナフトール（ＭＮＴ）を５ｍｇ（５００ｐｐｍ）とラジカル開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルを２５ｍｇ（２５００ｐｐｍ）混合し、ラジカル重合性組成物を得た。当該ラジカル重合性組成物を１ｍｇ程度精秤し、測定用アルミ製パンに入れ、温度を６０℃に保持しながら波長３６５ｎｍの光を照度は５０ｍＷ／ｃｍ２の照度で光を照射し、当該ラジカル重合性組成物の光ＤＳＣ測定を行ったところ、光照射開始から１０分間の総発熱量は３２２ｍＪ／ｍｇであった。また、当該ラジカル重合性組成物を指触したところ液状から固体に変化していた。その結果を表１に示した。
（実施例２）
実施例１と同様にラジカル重合性組成物を調製し、アルミ製パンに入れ、光を照射しないで温度を６０℃に保持したところ、発熱は観測されず、当該ラジカル重合性組成物は液状のまま変化しなかった。その結果を表１に示した。
（実施例３）
実施例１において４－メトキシ－１－ナフトール（ＭＮＴ）の代わりに２－ヒドロキシ－１，４－ナフトキノン（ＬＳＮ）を５０ｍｇ（５０００ｐｐｍ）、アゾビスイソブチロニトリルの量を２．５ｍｇ（２５０ｐｐｍ）に変えた以外は実施例１の通りに測定を実施した。その結果、光照射開始から１０分間の総発熱量は３５３ｍＪ／ｍｇであった。また、当該ラジカル重合性組成物を指触したところ液状から固体に変化していた。その結果を表１に示した。
（実施例４）
実施例３と同様にラジカル重合性組成物を調製し、アルミ製パンに入れ、光を照射しないで温度を６０℃に保持したところ、発熱は観測されず、当該ラジカル重合性組成物は液状のまま変化しなかった。その結果を表１に示した。
（実施例５）
実施例１において、４－メトキシ－１－ナフトール（ＭＮＴ）の代わりに９，１０－ジエトキシアントラセン（ＤＥＡ）を２５ｍｇ（２５００ｐｐｍ）、アゾビスイソブチロニトリルの量を２．５ｍｇ（２５０ｐｐｍ）に変え、照射光の波長を４０５ｎｍに変えた以外は実施例１の通りに測定を実施した。その結果、光照射開始から１０分間の総発熱量は５８６ｍＪ／ｍｇであった。また、当該ラジカル重合性組成物を指触したところ液状から固体に変化していた。その結果を表１に示した。
（実施例６）
実施例５と同様にラジカル重合性組成物を調製し、アルミ製パンに入れ、光を照射しないで温度を６０℃に保持したところ、発熱は観測されず、当該ラジカル重合性組成物は液状のまま変化しなかった。その結果を表１に示した。
（実施例７）
実施例１において、４－メトキシ－１－ナフトール（ＭＮＴ）の代わりに９，１０－ジブトキシアントラセン（ＤＢＡ）を２５ｍｇ（２５００ｐｐｍ）、アゾビスイソブチロニトリルの量を２．５ｍｇ（２５０ｐｐｍ）に変え、照射光の波長を４０５ｎｍに変えた以外は実施例１の通りに測定を実施した。その結果、光照射開始から１０分間の総発熱量は３３３ｍＪ／ｍｇであった。また、当該ラジカル重合性組成物を指触したところ液状から固体に変化していた。その結果を表１に示した。
（実施例８）
実施例７と同様にラジカル重合性組成物を調製し、アルミ製パンに入れ、光を照射しないで温度を６０℃に保持したところ、発熱は観測されず、当該ラジカル重合性組成物は液状のまま変化しなかった。その結果を表１に示した。
（実施例９）
実施例１において４－メトキシ－１－ナフトール（ＭＮＴ）の代わりに９ ， １ ０ － ビス（ ｎ － オクタノイルオキシ） アントラセン（ＯｃＡ）を２５ｍｇ（２５００ｐｐｍ）、アゾビスイソブチロニトリルの量を２．５ｍｇ（２５０ｐｐｍ）に変え、照射光の波長を４０５ｎｍに変えた以外は実施例１の通りに測定を実施した。その結果、光照射開始から１０分間の総発熱量は２６２ｍＪ／ｍｇであった。また、当該ラジカル重合性組成物を指触したところ液状から固体に変化していた。その結果を表１に示した。
（実施例１０）
実施例９と同様にラジカル重合性組成物を調製し、アルミ製パンに入れ、光を照射しないで温度を６０℃に保持したところ、発熱は観測されず、当該ラジカル重合性組成物は液状のまま変化しなかった。その結果を表１に示した。
（比較例１）
実施例１においてラジカル重合制御剤を添加しなかった以外は実施例１の通りに測定を実施した。その結果、光照射開始から１０分間の総発熱量は１２５ｍＪ／ｍｇであった。また、当該ラジカル重合性組成物を指触したところ液状から半固体に変化していたが、重合反応がまだ十分進行していなかった。その結果を表1に示した。
Figure 0007076689000019
実施例２、４、６、８、１０から明らかなように、熱ラジカル重合開始剤を含有するラジカル重合性組成物において、本来ラジカル重合が開始するはずの６０℃という温度において、本発明のラジカル重合制御剤の添加により、ラジカル重合の開始が阻止されていることがわかる。この例から、本発明のラジカル重合制御剤が、ラジカル重合禁止能を持つことがわかる。一方、実施例２、４、６、８、１０と実施例１、３、５、７、９とを比較することにより明らかなように、６０℃に加熱時に同時にある特定の波長の光を照射することにより、重合が開始していることがわかる。すなわち、３６５ｎｍ又は４０５ｎｍの光を照射することにより、本発明のラジカル重合制御剤のラジカル重合禁止効果が消滅して、熱ラジカル重合開始剤から発生したラジカルにより、通常のラジカル重合が行われたことがわかる。
一方、実施例１と本発明のラジカル重合制御剤を含まない比較例１を比較すると、実施例１は比較例１の２倍以上の総発熱量を有しており、ラジカル重合制御剤による重合禁止効果は見られず、むしろ重合促進していることがわかる。
当該効果を生じる機構は定かではないが、本発明のラジカル重合制御剤が光照射により励起されて、ラジカル捕捉能力を失うとともに、生成されたラジカル重合制御剤の励起種がそのエネルギーを他の化合物を移動し活性化するなどしてラジカル種を生成する反応を起こしたり促進したりしているのではないかと考えられる。
（実施例１１）
トリメチルプロパントリアクリレート１０ｇに対し、ラジカル重合制御剤として４－メトキシ－１－ナフトール（ＭＮＴ）を２５ｍｇ（２５００ｐｐｍ）とラジカル開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルを２５ｍｇ（２５００ｐｐｍ）混合し、ラジカル重合性組成物を得た。当該ラジカル重合性組成物を１０ｍｇ程度精秤し、測定用アルミ製パンに入れ、３０℃から３００℃まで３℃／分の昇温速度の条件でＤＳＣ測定を行った。その結果、重合開始温度は１８３．４℃で総発熱量は４７５ｍＪ／ｍｇであった。その結果を表２に示した。
（比較例２）
実施例１１においてラジカル重合制御剤を添加しなかった以外は実施例１１の通りに測定を実施した。その結果重合開始温度は９４．７℃で総発熱量は４９８ｍＪ／ｍｇであった。その結果を表２に示した。
Figure 0007076689000020
実施例１１と比較例２を比較すると、実施例１１は比較例２よりも重合開始温度が高く、光照射がない状態では明らかに本発明のラジカル重合制御剤による重合禁止効果が表れていることを示している。
つまり、本発明のラジカル重合制御剤を添加したラジカル重合性組成物にある特定の波長の光を照射することでラジカル重合制御剤のラジカル重合禁止効果が消失し、当該ラジカル重合性組成物が重合し、硬化する。むしろ促進効果が観測される。一方、ある特定の波長の光を照射しない場合は、ラジカル重合制御剤の重合禁止効果が失われない為に、重合反応が起きることがないか、重合反応に対して制御的に働いていることがわかる。

Claims (3)

  1. 下記一般式（１）乃至（６）のいずれかひとつで表されるラジカル重合制御剤と、熱ラジカル重合開始剤と、ラジカル重合性化合物とを含有するラジカル重合性組成物を３００ｎｍ～５００ｎｍの波長範囲の光を含有する光線の照射下に熱エネルギーをかけてラジカル重合を開始させることにより、３００ｎｍ～５００ｎｍの波長範囲の光を含有する光線を照射したところのみを重合させることを特徴とする、ラジカル重合制御方法。
    Figure 0007076689000021
     （上記（１）式中、Ｒはそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１から１５のアルキル基、炭素数６から１２のアリール基、炭素数６から１２のアラルキル基、炭素数１から１５のアルコキシアルキル基、グリシジル基、炭素数１から１５のヒドロキシアルキル基又は炭素数７から１４のアリールオキシアルキル基、炭素数２から１３のアシル基又は炭素数２から１３の置換カルボニル基を表し、Ｘはそれぞれ独立して水素原子、炭素数１から１５のアルキル基又は炭素数６から１２のアリール基を表すが、隣接する一組のＸは、前記置換基に代えて、互いに結合して飽和又は不飽和の６員環を形成してもよい。この隣接する一組のＸによって形成される６員環はさらに炭素数１から１５のアルキル基、炭素数６から１２のアリール基、炭素数６から１２のアラルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１から１５のアルコキシ基、炭素数６から１２のアリールオキシ基又はハロゲン原子が置換していてもよい。）
    Figure 0007076689000022
     （上記（２）式中、Ｒはそれぞれ独立して、炭素数１から１５のアルキル基、炭素数６から１２のアリール基、炭素数６から１２のアラルキル基、炭素数１から１５のアルコキシアルキル基、グリシジル基、炭素数１から１５のヒドロキシアルキル基又は炭素数７から１４のアリールオキシアルキル基、炭素数２から１３のアシル基又は炭素数２から１３の置換カルボニル基を表し、Ｘはそれぞれ独立して水素原子、炭素数１から１５のアルキル基又は炭素数６から１２のアリール基を表す。）
    Figure 0007076689000023
     （上記（３）式中、Ｒは炭素数１から１５のアルキル基、炭素数６から１２のアリール基、炭素数６から１２のアラルキル基、炭素数１から１５のアルコキシアルキル基、グリシジル基、炭素数１から１５のヒドロキシアルキル基又は炭素数７から１４のアリールオキシアルキル基、炭素数２から１３のアシル基又は炭素数２から１３の置換カルボニル基を表し、Ｘはそれぞれ独立して水素原子、炭素数１から１５のアルキル基又は炭素数６から１２のアリール基を表す。）
    Figure 0007076689000024
    （（４）式中、Ｘはそれぞれ独立して水素原子、炭素数１から１５のアルキル基、炭素数６から１２のアリール基、炭素数６から１２のアラルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１から１５のアルコキシ基、炭素数６から１２のアリールオキシ基又はハロゲン原子を表し、Ｙ及びＺはそれぞれ独立して水素原子、ヒドロキシ基、炭素数１から１５のアルキル基、炭素数１～１５のアルコキシ基、アミノ基、又はハロゲン原子を表すが、Ｙ及びＺは、前記置換基に代えて、互いに結合して飽和又は不飽和の６員環を形成してもよい。このＹとＺによって形成される６員環はさらに炭素数１から１５のアルキル基、炭素数６から１２のアリール基、炭素数６から１２のアラルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１から１５のアルコキシ基、炭素数６から１２のアリールオキシ基又はハロゲン原子が置換していてもよい。）
    Figure 0007076689000025
    （（５）式中、Ｘはそれぞれ独立して水素原子、炭素数１から１５のアルキル基、炭素数６から１２のアリール基、炭素数６から１２のアラルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１から１５のアルコキシ基、炭素数６から１２のアリールオキシ基又はハロゲン原子を表し、Ｑは水素原子、炭素数１から１５のアルキル基又はハロゲン原子を表す。）
    Figure 0007076689000026
    （（６）式中、Ｘはそれぞれ独立して水素原子、炭素数１から１５のアルキル基、炭素数６から１２のアリール基、炭素数６から１２のアラルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１から１５のアルコキシ基、炭素数６から１２のアリールオキシ基又はハロゲン原子を表し、Ｑは水素原子、炭素数１から１５のアルキル基又はハロゲン原子を表す。）
  2. 下記一般式（１）乃至（６）のいずれかひとつで表されるラジカル重合制御剤と、熱ラジカル重合開始剤と、ラジカル重合性化合物とを含有するラジカル重合性組成物を基板上に塗布した皮膜の一部を遮蔽した状態で３００ｎｍ～５００ｎｍの波長範囲の光を照射し、熱エネルギーをかけラジカル重合させることにより、当該光が照射されたところのみを重合させることを特徴とする、ラジカル重合制御方法。
    Figure 0007076689000027
     （上記（１）式中、Ｒはそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１から１５のアルキル基、炭素数６から１２のアリール基、炭素数６から１２のアラルキル基、炭素数１から１５のアルコキシアルキル基、グリシジル基、炭素数１から１５のヒドロキシアルキル基又は炭素数７から１４のアリールオキシアルキル基、炭素数２から１３のアシル基又は炭素数２から１３の置換カルボニル基を表し、Ｘはそれぞれ独立して水素原子、炭素数１から１５のアルキル基又は炭素数６から１２のアリール基を表すが、隣接する一組のＸは、前記置換基に代えて、互いに結合して飽和又は不飽和の６員環を形成してもよい。この隣接する一組のＸによって形成される６員環はさらに炭素数１から１５のアルキル基、炭素数６から１２のアリール基、炭素数６から１２のアラルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１から１５のアルコキシ基、炭素数６から１２のアリールオキシ基又はハロゲン原子が置換していてもよい。）
    Figure 0007076689000028
     （上記（２）式中、Ｒはそれぞれ独立して、炭素数１から１５のアルキル基、炭素数６から１２のアリール基、炭素数６から１２のアラルキル基、炭素数１から１５のアルコキシアルキル基、グリシジル基、炭素数１から１５のヒドロキシアルキル基又は炭素数７から１４のアリールオキシアルキル基、炭素数２から１３のアシル基又は炭素数２から１３の置換カルボニル基を表し、Ｘはそれぞれ独立して水素原子、炭素数１から１５のアルキル基又は炭素数６から１２のアリール基を表す。）
    Figure 0007076689000029
     （上記（３）式中、Ｒは炭素数１から１５のアルキル基、炭素数６から１２のアリール基、炭素数６から１２のアラルキル基、炭素数１から１５のアルコキシアルキル基、グリシジル基、炭素数１から１５のヒドロキシアルキル基又は炭素数７から１４のアリールオキシアルキル基、炭素数２から１３のアシル基又は炭素数２から１３の置換カルボニル基を表し、Ｘはそれぞれ独立して水素原子、炭素数１から１５のアルキル基又は炭素数６から１２のアリール基を表す。）
    Figure 0007076689000030
    （（４）式中、Ｘはそれぞれ独立して水素原子、炭素数１から１５のアルキル基、炭素数６から１２のアリール基、炭素数６から１２のアラルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１から１５のアルコキシ基、炭素数６から１２のアリールオキシ基又はハロゲン原子を表し、Ｙ及びＺはそれぞれ独立して水素原子、ヒドロキシ基、炭素数１から１５のアルキル基、炭素数１～１５のアルコキシ基、アミノ基、又はハロゲン原子を表すが、Ｙ及びＺは、前記置換基に代えて、互いに結合して飽和又は不飽和の６員環を形成してもよい。このＹとＺによって形成される６員環はさらに炭素数１から１５のアルキル基、炭素数６から１２のアリール基、炭素数６から１２のアラルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１から１５のアルコキシ基、炭素数６から１２のアリールオキシ基又はハロゲン原子が置換していてもよい。）
    Figure 0007076689000031
    （（５）式中、Ｘはそれぞれ独立して水素原子、炭素数１から１５のアルキル基、炭素数６から１２のアリール基、炭素数６から１２のアラルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１から１５のアルコキシ基、炭素数６から１２のアリールオキシ基又はハロゲン原子を表し、Ｑは水素原子、炭素数１から１５のアルキル基又はハロゲン原子を表す。）
    Figure 0007076689000032
    （（６）式中、Ｘはそれぞれ独立して水素原子、炭素数１から１５のアルキル基、炭素数６から１２のアリール基、炭素数６から１２のアラルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１から１５のアルコキシ基、炭素数６から１２のアリールオキシ基又はハロゲン原子を表し、Ｑは水素原子、炭素数１から１５のアルキル基又はハロゲン原子を表す。）
  3. 下記一般式（１）乃至（６）のいずれかひとつで表されるラジカル重合制御剤と、熱ラジカル重合開始剤と、ラジカル重合性化合物とを含有するラジカル重合性組成物に熱エネルギーをかけてラジカル重合をさせる際に、特定の領域に３００ｎｍ～５００ｎｍの波長範囲の光を含有する光線を照射することにより、当該特定の領域のみをラジカル重合させることを特徴とする、ラジカル重合制御方法。
    Figure 0007076689000033
     （上記（１）式中、Ｒはそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１から１５のアルキル基、炭素数６から１２のアリール基、炭素数６から１２のアラルキル基、炭素数１から１５のアルコキシアルキル基、グリシジル基、炭素数１から１５のヒドロキシアルキル基又は炭素数７から１４のアリールオキシアルキル基、炭素数２から１３のアシル基又は炭素数２から１３の置換カルボニル基を表し、Ｘはそれぞれ独立して水素原子、炭素数１から１５のアルキル基又は炭素数６から１２のアリール基を表すが、隣接する一組のＸは、前記置換基に代えて、互いに結合して飽和又は不飽和の６員環を形成してもよい。この隣接する一組のＸによって形成される６員環はさらに炭素数１から１５のアルキル基、炭素数６から１２のアリール基、炭素数６から１２のアラルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１から１５のアルコキシ基、炭素数６から１２のアリールオキシ基又はハロゲン原子が置換していてもよい。）
    Figure 0007076689000034
     （上記（２）式中、Ｒはそれぞれ独立して、炭素数１から１５のアルキル基、炭素数６から１２のアリール基、炭素数６から１２のアラルキル基、炭素数１から１５のアルコキシアルキル基、グリシジル基、炭素数１から１５のヒドロキシアルキル基又は炭素数７から１４のアリールオキシアルキル基、炭素数２から１３のアシル基又は炭素数２から１３の置換カルボニル基を表し、Ｘはそれぞれ独立して水素原子、炭素数１から１５のアルキル基又は炭素数６から１２のアリール基を表す。）
    Figure 0007076689000035
     （上記（３）式中、Ｒは炭素数１から１５のアルキル基、炭素数６から１２のアリール基、炭素数６から１２のアラルキル基、炭素数１から１５のアルコキシアルキル基、グリシジル基、炭素数１から１５のヒドロキシアルキル基又は炭素数７から１４のアリールオキシアルキル基、炭素数２から１３のアシル基又は炭素数２から１３の置換カルボニル基を表し、Ｘはそれぞれ独立して水素原子、炭素数１から１５のアルキル基又は炭素数６から１２のアリール基を表す。）
    Figure 0007076689000036
    （（４）式中、Ｘはそれぞれ独立して水素原子、炭素数１から１５のアルキル基、炭素数６から１２のアリール基、炭素数６から１２のアラルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１から１５のアルコキシ基、炭素数６から１２のアリールオキシ基又はハロゲン原子を表し、Ｙ及びＺはそれぞれ独立して水素原子、ヒドロキシ基、炭素数１から１５のアルキル基、炭素数１～１５のアルコキシ基、アミノ基、又はハロゲン原子を表すが、Ｙ及びＺは、前記置換基に代えて、互いに結合して飽和又は不飽和の６員環を形成してもよい。このＹとＺによって形成される６員環はさらに炭素数１から１５のアルキル基、炭素数６から１２のアリール基、炭素数６から１２のアラルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１から１５のアルコキシ基、炭素数６から１２のアリールオキシ基又はハロゲン原子が置換していてもよい。）
    Figure 0007076689000037
    （（５）式中、Ｘはそれぞれ独立して水素原子、炭素数１から１５のアルキル基、炭素数６から１２のアリール基、炭素数６から１２のアラルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１から１５のアルコキシ基、炭素数６から１２のアリールオキシ基又はハロゲン原子を表し、Ｑは水素原子、炭素数１から１５のアルキル基又はハロゲン原子を表す。）
    Figure 0007076689000038
    （（６）式中、Ｘはそれぞれ独立して水素原子、炭素数１から１５のアルキル基、炭素数６から１２のアリール基、炭素数６から１２のアラルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１から１５のアルコキシ基、炭素数６から１２のアリールオキシ基又はハロゲン原子を表し、Ｑは水素原子、炭素数１から１５のアルキル基又はハロゲン原子を表す。）
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7276652B2 (ja) * 2019-04-11 2023-05-18 エア・ウォーター・パフォーマンスケミカル株式会社 光ラジカル硬化酸素阻害低減剤、光ラジカル硬化酸素阻害低減剤を含有する光ラジカル重合性組成物及び光ラジカル硬化酸素阻害低減剤を含有する塗膜並びにその硬化方法
JP2020176254A (ja) * 2019-04-15 2020-10-29 川崎化成工業株式会社 光重合性組成物及び該光重合性組成物を含有する塗膜並びにその硬化方法
JP7421401B2 (ja) * 2020-03-31 2024-01-24 太陽ホールディングス株式会社 低粘度光硬化性組成物、硬化物及び電子部品
CN115520872A (zh) * 2022-11-02 2022-12-27 中国科学院过程工程研究所 一种硅醇的制备方法及其储存方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012111741A (ja) 2010-11-06 2012-06-14 Kawasaki Kasei Chem Ltd 縮合多環芳香族骨格を有する重合禁止剤及びその組成物
JP2014091814A (ja) 2012-11-06 2014-05-19 Kawasaki Kasei Chem Ltd 縮合多環芳香族骨格を有する連鎖移動剤並びに該縮合多環芳香族骨格を有するポリマーおよびポリマーの製造方法
JP2015164995A (ja) 2013-04-30 2015-09-17 川崎化成工業株式会社 縮合多環芳香族骨格を有する重合制御剤を用いた分子量の制御されたポリマーの製造方法
JP2015183139A (ja) 2014-03-25 2015-10-22 川崎化成工業株式会社 エネルギー線重合性組成物
JP2016056283A (ja) 2014-09-10 2016-04-21 川崎化成工業株式会社 ラジカル硬化性組成物

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5686123A (en) 1979-12-17 1981-07-13 Nippon Steel Chem Co Ltd Polymerization inhibitor for aromatic vinyl compound
JPS63235390A (ja) 1987-03-25 1988-09-30 Nippon Steel Chem Co Ltd ビニル化合物の重合防止剤
DE846681T1 (de) * 1995-08-22 1998-11-19 Nippon Soda Co. Ltd., Tokio/Tokyo Neue sulfoniumsalzverbindungen, polymerisierungsinitiator, härtbare zusammensetzung und stärkungsverfahren
JPH09316022A (ja) 1996-05-23 1997-12-09 Sumitomo Chem Co Ltd （メタ）アクリル酸およびそのエステルの重合防止方法
JP2000344688A (ja) 1999-06-04 2000-12-12 Mitsubishi Chemicals Corp 易重合性化合物の精製方法
JP4993831B2 (ja) 2001-09-19 2012-08-08 日本合成化学工業株式会社 エチレン−酢酸ビニル共重合体及びそのケン化物の製造法
JP4556491B2 (ja) 2004-05-26 2010-10-06 三菱化学株式会社 重合禁止剤、これを含有する組成物、及び前記重合禁止剤を用いる易重合性化合物の製造方法
JP6103470B2 (ja) * 2011-12-14 2017-03-29 川崎化成工業株式会社 縮合多環芳香族骨格を有する連鎖移動剤並びに該縮合多環芳香族骨格を有するポリマーおよびポリマーの製造方法
US8926084B2 (en) * 2012-11-22 2015-01-06 Ricoh Company, Ltd. Polymerizable ink composition, ink cartridge containing the same, and inkjet printer
JP2015209374A (ja) 2014-04-23 2015-11-24 旭化成ケミカルズ株式会社 芳香族ビニル化合物の精製方法
JP6895423B2 (ja) * 2016-03-07 2021-06-30 昭和電工株式会社 活性エネルギー線硬化性組成物の製造方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012111741A (ja) 2010-11-06 2012-06-14 Kawasaki Kasei Chem Ltd 縮合多環芳香族骨格を有する重合禁止剤及びその組成物
JP2014091814A (ja) 2012-11-06 2014-05-19 Kawasaki Kasei Chem Ltd 縮合多環芳香族骨格を有する連鎖移動剤並びに該縮合多環芳香族骨格を有するポリマーおよびポリマーの製造方法
JP2015164995A (ja) 2013-04-30 2015-09-17 川崎化成工業株式会社 縮合多環芳香族骨格を有する重合制御剤を用いた分子量の制御されたポリマーの製造方法
JP2015183139A (ja) 2014-03-25 2015-10-22 川崎化成工業株式会社 エネルギー線重合性組成物
JP2016056283A (ja) 2014-09-10 2016-04-21 川崎化成工業株式会社 ラジカル硬化性組成物

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