JP7055326B2 - 現像廃液処理装置及び処理方法 - Google Patents
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- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims description 133
- 238000011282 treatment Methods 0.000 title claims description 44
- 239000002699 waste material Substances 0.000 title claims description 37
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 12
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 claims description 99
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 claims description 99
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 98
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 claims description 72
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 67
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 54
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 49
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 claims description 43
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 34
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 34
- 239000002002 slurry Substances 0.000 claims description 31
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 19
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 10
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 claims description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 65
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 30
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 21
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 20
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 10
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 8
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 7
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 6
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 5
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 2
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 239000006166 lysate Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 240000007594 Oryza sativa Species 0.000 description 1
- 235000007164 Oryza sativa Nutrition 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 1
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000002934 lysing effect Effects 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000004094 preconcentration Methods 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 235000009566 rice Nutrition 0.000 description 1
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 150000005622 tetraalkylammonium hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F9/00—Multistage treatment of water, waste water or sewage
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
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- B01D35/02—Filters adapted for location in special places, e.g. pipe-lines, pumps, stop-cocks
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/38—Treatment of water, waste water, or sewage by centrifugal separation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/52—Treatment of water, waste water, or sewage by flocculation or precipitation of suspended impurities
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/001—Processes for the treatment of water whereby the filtration technique is of importance
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/02—Treatment of water, waste water, or sewage by heating
- C02F1/04—Treatment of water, waste water, or sewage by heating by distillation or evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/52—Treatment of water, waste water, or sewage by flocculation or precipitation of suspended impurities
- C02F2001/5218—Crystallization
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2301/00—General aspects of water treatment
- C02F2301/04—Flow arrangements
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
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- C02F2301/00—General aspects of water treatment
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Description
そこで、前段濃縮・冷却晶析処理に加えて、後段に高度精製処理を行い、現像液として再利用可能な高純度の回収液を得ることができる現像廃液処理装置及び処理方法が要望されていた。
また、上記構成によれば、回収率向上と純度向上の効果を奏する。具体的には以下の通りである。
(1)ろ液を後段濃縮装置に返すことで、回収率を上げることができる。
(2)ただし、ろ液を後段濃縮装置に返す処理を継続すると、後段冷却晶析側における不純物濃度が徐々に高くなる。設定値以上の濃度になった場合には、ろ液を前段濃縮装置に戻すことで、後段の不純物濃度を下げることができ、回収液の純度の向上を図ることができる。
(3)不純物濃度が高い場合、ろ液を外部に排出しても良いが、回収率を下げることになる。ろ液を前段濃縮装置に戻すことで、回収率を下げること無く処理ができる。前段濃縮装置に戻すろ液は、前段冷却晶析側で不純物が大きく低減されているため、前段濃縮装置における不純物量に大きな影響を与えること無く、再度回収処理できる。
また、上記構成によれば、回収率向上と純度向上の効果を奏する。具体的には以下の通りである。
(1)ろ液を前段濃縮装置に返すことで、回収率を上げることができる。
(2)ただし、ろ液を前段濃縮装置に返す処理を継続すると、前段冷却晶析ユニットにおける不純物濃度が徐々に高くなるため、設定値以上の濃度になった場合には、ろ液を外部に排出することで不純物濃度の上昇を抑制でき、回収液の純度の向上を図ることができる。
また、上記構成によれば、凝縮水を溶解水として利用することにより、別途に溶解水を供給することを抑制できる。また、蒸発濃縮装置を適用することで、生成される凝縮水温度が高くなるため、結晶の溶解が容易となる。さらに、濃縮装置が蒸発濃縮装置の場合に、高温の凝縮水を溶解装置に供給すれば、溶解装置において加熱するエネルギーを少なくできる。
また、上記構成によれば、凝縮水を溶解水として利用することにより、別途に溶解水を供給することを抑制できる。また、蒸発濃縮装置を適用することで、生成される凝縮水温度が高くなるため、結晶の溶解が容易となる。さらに、濃縮装置が蒸発濃縮装置の場合に、高温の凝縮水を溶解装置に供給すれば、溶解装置において加熱するエネルギーを少なくできる。なお、後段濃縮装置で生成される凝縮水量は少ないが、不純物の含有が極めて低い綺麗な溶液であるので、回収液の純度向上の観点から溶解タンクに供給するのが好ましい。
この現像廃液処理装置1は、前段冷却晶析ユニット2aと、前段冷却晶析ユニット2aで回収精製された回収液(後述する図1の溶解装置6aで生成された溶解液に相当)に対して高度精製処理を行う後段冷却晶析ユニット2bとから構成されている。以下、前段冷却晶析ユニット2a及び後段冷却晶析ユニット2bの構成を具体的に説明する。
前段冷却晶析ユニット2aは、現像廃液を濃縮する前段濃縮装置3aと、前段濃縮装置3aで濃縮された濃縮液を冷却して溶解度を下げ濃縮液中の溶質を結晶させて結晶が析出したスラリーを生成する前段冷却晶析装置4aと、前段冷却晶析装置4aから供給されるスラリーから結晶を分離する前段固液分離装置5aと、加熱手段80を有し前段固液分離装置5aから供給される結晶を加熱溶解する溶解装置6aと、前段固液分離装置5aで結晶が分離・除去された後のろ液を貯留する前段ろ液タンク7aと、前段濃縮装置3aで得られた凝縮水を貯留する凝縮水タンク8aを有する。
ここで、本明細書においては、「溶解水」は結晶を溶解するための水を意味し、「溶解液」は結晶が溶解された後の状態である液を意味する。換言すれば、溶解のために溶解装置6aや溶解タンク6bに供給される液を「溶解水」と定義し、溶解装置6aや溶解タンク6bにおいて溶解処理された後の液を「溶解液」と定義する。
なお、溶解装置6aから供給される溶解液は、後述する後段冷却晶析装置4bに与えられるようになっている。
後段冷却晶析ユニット2bは、基本的には前段冷却晶析ユニット2aと同様の構成を有しており、前段冷却晶析ユニット2bの各構成部分には対応する数字に添え字bを付して示す。具体的は、後段冷却晶析ユニット2bは、後段濃縮装置3bと、後段冷却晶析装置4bと、後段固液分離装置5bと、溶解タンク6bと、後段ろ液タンク7bと、第1返送ライン9bと、ろ液ポンプ10bと、分岐ライン11bと、吸光度計(後段不純物測定手段に相当)14bとを有する。後段濃縮装置3bの例としては、前段と同様の蒸発濃縮装置を挙げることができる。溶解タンク6bと溶解装置6aとは溶解処理を行う点において共通するが、溶解タンク6bは溶解装置6aに備えられる加熱手段80を有しておらず、一般的な溶解タンクと同様である。また、吸光度計14bの測定結果は制御装置40に与えられ、測定結果に応じて後段制御弁13bの開閉が制御されようになっている。なお、後段冷却晶析ユニット2bでは、ろ液を外部に排出する排出ライン12aに代えて、ろ液を前段濃縮装置3aに返送する第2返送ライン20が設けられている。従って、吸光度計14bによる不純物濃度の測定結果に応じて、後段ろ液タンク7b内のろ液は後段濃縮装置3bにすべて返送されるか、ろ液の一部が前段濃縮装置3aに返送されるようにろ液通路が切換えるように構成されている。
次いで、現像廃液処理装置1の処理動作について説明する。
先ず、現像廃液は前段濃縮装置3aに供給される。前段濃縮装置3aでは、飽和近くまで濃縮された濃縮液が生成される。この前段濃縮装置3aにおいて低圧蒸発濃縮装置を使用した場合は、低圧蒸発により濃縮液温度が低くなるため、次の冷却晶析に必要なエネルギーを少なくできる。また、蒸気圧縮型蒸発濃縮装置を使用すると、蒸発缶で発生した蒸気を圧縮機により断熱圧縮して高温に持ち上げるので、蒸気加熱の場合に比べてエネルギー効率がよく、さらに省エネルギー化が図られる。なお、前段濃縮装置3aで生成される凝縮水は凝縮水タンク8aに供給される。
なお、溶解装置6aでは、凝縮水タンク8aから供給される凝縮水を溶解水として利用する。このとき、凝縮水は高温のため、溶解装置6aにおいて加熱するエネルギーを少なくできる。
なお、後段濃縮装置3bで生成された凝縮水は、前段濃縮装置3aで生成された凝縮水と同様に、凝縮水タンク8aに供給されるようになっている。
(1)上記実施の形態では、前段濃縮装置3aで生成された凝縮水はすべて凝縮水タンク8aに供給されるようなっていたが、図2に示すように、凝縮水供給ラインL10の途中で分岐する分岐ラインL11を設け、この分岐ラインL11に予熱器50及び冷却器51を設けるように構成してもよい。このような図2の構成により、凝縮水の一部は予熱器50を通過して現像廃液と熱交換され、現像廃液が予熱されることになる。また、凝縮水は予熱器50及び冷却器51を通過することにより冷却され、この冷却された凝縮水は前段固液分離装置5a及び後段固液分離装置5bの少なくとも一方に供給し、結晶洗浄水として利用することが可能となる。
2b:後段冷却晶析ユニット 3a:前段濃縮装置
3b:後段濃縮装置 4a:前段冷却晶析装置
4b:後段冷却晶析装置 5a:前段固液分離装置
5b:後段固液分離装置 6a:溶解装置
6b:溶解タンク 8a:凝縮水タンク
9a:第3返送ライン 9b:第1返送ライン
12a:排出ライン 13a:前段制御弁
13b:後段制御弁
14a:吸光度計(前段不純物測定手段)
14b:吸光度計(後段不純物測定手段)
20:第2返送ライン
40:制御装置(前段切換制御手段、後段切換制御手段)
80:加熱手段
Claims (2)
- 現像廃液を濃縮する前段濃縮装置と、
前記前段濃縮装置から供給される濃縮液を冷却晶析し、結晶が析出したスラリーを生成する前段冷却晶析装置と、
前記前段冷却晶析装置から供給されるスラリーから結晶を分離する前段固液分離装置と、
加熱手段を有し、前記前段固液分離装置から供給される結晶を加熱溶解する溶解装置と、
前記溶解装置から供給される溶解液を冷却晶析し、結晶が析出したスラリーを生成する後段冷却晶析装置と、
前記後段冷却晶析装置から供給されるスラリーから結晶を分離する後段固液分離装置と、
前記後段固液分離装置から供給される結晶を溶解する溶解タンクと、
前記後段固液分離装置により結晶が分離・除去された後のろ液を濃縮すると共に、濃縮液を前記後段冷却晶析装置に供給する後段濃縮装置と、
前記後段固液分離装置により結晶が分離・除去された後のろ液に含まれる不純物濃度を測定する後段不純物測定手段と、
ろ液を前記後段濃縮装置に返送する第1返送ラインと、
ろ液を前記前段濃縮装置に返送する第2返送ラインと、
前記第2返送ラインに設けられる後段制御弁と、
前記後段不純物測定手段の測定結果により、不純物の濃度が設定値未満の場合には前記後段制御弁を閉状態とし、ろ液を前記後段濃縮装置に返送し、不純物の濃度が設定値以上の場合には前記後段制御弁を開状態とし、ろ液の少なくとも一部を前記前段濃縮装置に返送するようにろ液の返送通路を切換える後段切換制御手段と、
を備えたことを特徴とする現像廃液処理装置。 - 現像廃液を濃縮する前段濃縮装置と、
前記前段濃縮装置から供給される濃縮液を冷却晶析し、結晶が析出したスラリーを生成する前段冷却晶析装置と、
前記前段冷却晶析装置から供給されるスラリーから結晶を分離する前段固液分離装置と、
加熱手段を有し、前記前段固液分離装置から供給される結晶を加熱溶解する溶解装置と、
前記溶解装置から供給される溶解液を冷却晶析し、結晶が析出したスラリーを生成する後段冷却晶析装置と、
前記後段冷却晶析装置から供給されるスラリーから結晶を分離する後段固液分離装置と、
前記後段固液分離装置から供給される結晶を溶解する溶解タンクと、
前記前段固液分離装置により結晶が分離・除去された後のろ液に含まれる不純物濃度を測定する前段不純物測定手段と、
ろ液を前記前段濃縮装置に返送する第3返送ラインと、
ろ液を外部に排出する排出ラインと、
前記排出ラインに設けられる前段制御弁と、
前記前段不純物測定手段の測定結果により、不純物の濃度が設定値未満の場合には前記前段制御弁を閉状態とし、ろ液を前記前段濃縮装置に返送し、不純物の濃度が設定値以上の場合には前記前段制御弁を開状態とし、ろ液の少なくとも一部を外部に排出するようにろ液の返送通路を切換える前段切換制御手段と、
を備えたことを特徴とする現像廃液処理装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017177403A JP7055326B2 (ja) | 2017-09-15 | 2017-09-15 | 現像廃液処理装置及び処理方法 |
TW107117507A TWI821186B (zh) | 2017-09-15 | 2018-05-23 | 顯像廢液處理裝置及處理方法 |
KR1020180080800A KR102499569B1 (ko) | 2017-09-15 | 2018-07-11 | 현상 폐액 처리 장치 및 처리 방법 |
CN201810998990.0A CN109502860A (zh) | 2017-09-15 | 2018-08-29 | 显影废液处理装置和处理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017177403A JP7055326B2 (ja) | 2017-09-15 | 2017-09-15 | 現像廃液処理装置及び処理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019051479A JP2019051479A (ja) | 2019-04-04 |
JP7055326B2 true JP7055326B2 (ja) | 2022-04-18 |
Family
ID=65745634
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017177403A Active JP7055326B2 (ja) | 2017-09-15 | 2017-09-15 | 現像廃液処理装置及び処理方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7055326B2 (ja) |
KR (1) | KR102499569B1 (ja) |
CN (1) | CN109502860A (ja) |
TW (1) | TWI821186B (ja) |
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2017
- 2017-09-15 JP JP2017177403A patent/JP7055326B2/ja active Active
-
2018
- 2018-05-23 TW TW107117507A patent/TWI821186B/zh active
- 2018-07-11 KR KR1020180080800A patent/KR102499569B1/ko active IP Right Grant
- 2018-08-29 CN CN201810998990.0A patent/CN109502860A/zh active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201915071A (zh) | 2019-04-16 |
TWI821186B (zh) | 2023-11-11 |
CN109502860A (zh) | 2019-03-22 |
JP2019051479A (ja) | 2019-04-04 |
KR102499569B1 (ko) | 2023-02-15 |
KR20190031129A (ko) | 2019-03-25 |
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A977 | Report on retrieval |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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