JP7015112B2 - ジアルキル亜鉛およびジアルキル亜鉛部分加水分解物含有溶液、並びにこれらの溶液を用いる酸化亜鉛薄膜の製造方法 - Google Patents
ジアルキル亜鉛およびジアルキル亜鉛部分加水分解物含有溶液、並びにこれらの溶液を用いる酸化亜鉛薄膜の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7015112B2 JP7015112B2 JP2017017300A JP2017017300A JP7015112B2 JP 7015112 B2 JP7015112 B2 JP 7015112B2 JP 2017017300 A JP2017017300 A JP 2017017300A JP 2017017300 A JP2017017300 A JP 2017017300A JP 7015112 B2 JP7015112 B2 JP 7015112B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- zinc
- dialkyl
- thin film
- solution
- zinc oxide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 130
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims description 90
- 239000011701 zinc Substances 0.000 title claims description 79
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 title claims description 74
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 73
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 title claims description 65
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 26
- -1 diketone compound Chemical class 0.000 claims description 80
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 65
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 48
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 32
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 29
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 28
- HQWPLXHWEZZGKY-UHFFFAOYSA-N diethylzinc Chemical compound CC[Zn]CC HQWPLXHWEZZGKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 23
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims description 22
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 22
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 18
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 13
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 12
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 11
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N anhydrous diethylene glycol Natural products OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 238000005336 cracking Methods 0.000 claims description 10
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 8
- XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N ethyl acetoacetate Chemical compound CCOC(=O)CC(C)=O XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 6
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 6
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 6
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 6
- LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound CC(O)COC(C)COC(C)CO LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- WRQNANDWMGAFTP-UHFFFAOYSA-N Methylacetoacetic acid Chemical compound COC(=O)CC(C)=O WRQNANDWMGAFTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 4
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 4
- GVIIRWAJDFKJMJ-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl 3-oxobutanoate Chemical compound CC(C)OC(=O)CC(C)=O GVIIRWAJDFKJMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- REIYHFWZISXFKU-UHFFFAOYSA-N Butyl acetoacetate Chemical compound CCCCOC(=O)CC(C)=O REIYHFWZISXFKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N Ethyl pyruvate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=O XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 claims description 3
- 229940117360 ethyl pyruvate Drugs 0.000 claims description 3
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 claims description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 claims 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 50
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 48
- 229910001868 water Inorganic materials 0.000 description 47
- 238000000034 method Methods 0.000 description 30
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 17
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 13
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 13
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 11
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 11
- LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethoxyethane Chemical compound CCOCCOCC LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 10
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 10
- 239000002585 base Substances 0.000 description 9
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 9
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 8
- 239000000047 product Substances 0.000 description 8
- 238000005102 attenuated total reflection Methods 0.000 description 7
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 7
- BTNMPGBKDVTSJY-UHFFFAOYSA-N keto-phenylpyruvic acid Chemical compound OC(=O)C(=O)CC1=CC=CC=C1 BTNMPGBKDVTSJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 7
- 238000005118 spray pyrolysis Methods 0.000 description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 6
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 6
- RGGPNXQUMRMPRA-UHFFFAOYSA-N triethylgallium Chemical compound CC[Ga](CC)CC RGGPNXQUMRMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N Cyclopentane Chemical compound C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N cumene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1 RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- IIEWJVIFRVWJOD-UHFFFAOYSA-N ethylcyclohexane Chemical compound CCC1CCCCC1 IIEWJVIFRVWJOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N methylcyclohexane Chemical compound CC1CCCCC1 UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 4
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 4
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 4
- 239000001903 2-oxo-3-phenylpropanoic acid Substances 0.000 description 3
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical group 0.000 description 3
- DEDGUGJNLNLJSR-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxycinnamic acid Natural products OC(=O)C(O)=CC1=CC=CC=C1 DEDGUGJNLNLJSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 3
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- LEEANUDEDHYDTG-UHFFFAOYSA-N 1,2-dimethoxypropane Chemical compound COCC(C)OC LEEANUDEDHYDTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CYSGHNMQYZDMIA-UHFFFAOYSA-N 1,3-Dimethyl-2-imidazolidinon Chemical compound CN1CCN(C)C1=O CYSGHNMQYZDMIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WNXJIVFYUVYPPR-UHFFFAOYSA-N 1,3-dioxolane Chemical compound C1COCO1 WNXJIVFYUVYPPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOCC RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KIAMPLQEZAMORJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-[2-(2-ethoxyethoxy)ethoxy]ethane Chemical compound CCOCCOCCOCCOCC KIAMPLQEZAMORJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CRWNQZTZTZWPOF-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-4-phenylpyridine Chemical compound C1=NC(C)=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 CRWNQZTZTZWPOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AXLLOSUYAVXOIN-UHFFFAOYSA-N 2-oxo-3-phenylbutanoic acid Chemical compound OC(=O)C(=O)C(C)C1=CC=CC=C1 AXLLOSUYAVXOIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KNTJYANTMXAJAR-UHFFFAOYSA-N 2-oxo-3-phenylheptanoic acid Chemical compound CCCCC(C(=O)C(O)=O)C1=CC=CC=C1 KNTJYANTMXAJAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAVAAASMUZOCCF-UHFFFAOYSA-N 2-oxo-3-phenylnonanoic acid Chemical compound CCCCCCC(C(=O)C(O)=O)C1=CC=CC=C1 KAVAAASMUZOCCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical compound COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004813 Perfluoroalkoxy alkane Substances 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 230000001877 deodorizing effect Effects 0.000 description 2
- 229940019778 diethylene glycol diethyl ether Drugs 0.000 description 2
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N heptamethylene Natural products C1CCCCCC1 DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 2
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000003350 kerosene Substances 0.000 description 2
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SKTCDJAMAYNROS-UHFFFAOYSA-N methoxycyclopentane Chemical compound COC1CCCC1 SKTCDJAMAYNROS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N methyl-cycloheptane Natural products CC1CCCCCC1 GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 2
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229920011301 perfluoro alkoxyl alkane Polymers 0.000 description 2
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 229920002493 poly(chlorotrifluoroethylene) Polymers 0.000 description 2
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 2
- 239000005023 polychlorotrifluoroethylene (PCTFE) polymer Substances 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N selenium;zinc Chemical compound [Se]=[Zn] SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000411 transmission spectrum Methods 0.000 description 2
- YFNKIDBQEZZDLK-UHFFFAOYSA-N triglyme Chemical compound COCCOCCOCCOC YFNKIDBQEZZDLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GDXHBFHOEYVPED-UHFFFAOYSA-N 1-(2-butoxyethoxy)butane Chemical compound CCCCOCCOCCCC GDXHBFHOEYVPED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- IDDYNNYMUPHFMO-UHFFFAOYSA-N 2-Keto-n-heptylic acid Chemical compound CCCCCC(=O)C(O)=O IDDYNNYMUPHFMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RDGWNAQZASCAAO-UHFFFAOYSA-N 2-oxo-3-phenylhexanoic acid Chemical compound CCCC(C(=O)C(O)=O)C1=CC=CC=C1 RDGWNAQZASCAAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FGHPMPCSNCGMRY-UHFFFAOYSA-N 2-oxo-3-phenyloctanoic acid Chemical compound CCCCCC(C(=O)C(O)=O)C1=CC=CC=C1 FGHPMPCSNCGMRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TYEYBOSBBBHJIV-UHFFFAOYSA-M 2-oxobutanoate Chemical compound CCC(=O)C([O-])=O TYEYBOSBBBHJIV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- TYEYBOSBBBHJIV-UHFFFAOYSA-N 2-oxobutanoic acid Chemical compound CCC(=O)C(O)=O TYEYBOSBBBHJIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNIHZNNZJHYHLC-UHFFFAOYSA-M 2-oxohexanoate Chemical compound CCCCC(=O)C([O-])=O XNIHZNNZJHYHLC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XNIHZNNZJHYHLC-UHFFFAOYSA-N 2-oxohexanoic acid Chemical compound CCCCC(=O)C(O)=O XNIHZNNZJHYHLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SHDOPXQMNJDYDK-UHFFFAOYSA-N 2-oxononanoic acid Chemical compound CCCCCCCC(=O)C(O)=O SHDOPXQMNJDYDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPPUPQFYDYLTIY-UHFFFAOYSA-N 2-oxooctanoic acid Chemical compound CCCCCCC(=O)C(O)=O GPPUPQFYDYLTIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDVFRMMRZOCFLS-UHFFFAOYSA-N 2-oxopentanoic acid Chemical compound CCCC(=O)C(O)=O KDVFRMMRZOCFLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHKABHOOEWYVLI-UHFFFAOYSA-N 3-methyl-2-oxobutanoic acid Chemical compound CC(C)C(=O)C(O)=O QHKABHOOEWYVLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PRRBQHNMYJRHFW-UHFFFAOYSA-M 3-oxoheptanoate Chemical compound CCCCC(=O)CC([O-])=O PRRBQHNMYJRHFW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BDCLDNALSPBWPQ-UHFFFAOYSA-M 3-oxohexanoate Chemical compound CCCC(=O)CC([O-])=O BDCLDNALSPBWPQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BKAJNAXTPSGJCU-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-2-oxopentanoic acid Chemical compound CC(C)CC(=O)C(O)=O BKAJNAXTPSGJCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YCIPQJTZJGUXND-UHFFFAOYSA-N Aglaia odorata Alkaloid Natural products C1=CC(OC)=CC=C1C1(C(C=2C(=O)N3CCCC3=NC=22)C=3C=CC=CC=3)C2(O)C2=C(OC)C=C(OC)C=C2O1 YCIPQJTZJGUXND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000298 Cellophane Polymers 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 240000007594 Oryza sativa Species 0.000 description 1
- 235000007164 Oryza sativa Nutrition 0.000 description 1
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 1
- 229920012266 Poly(ether sulfone) PES Polymers 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- LCTONWCANYUPML-UHFFFAOYSA-M Pyruvate Chemical compound CC(=O)C([O-])=O LCTONWCANYUPML-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- FMRLDPWIRHBCCC-UHFFFAOYSA-L Zinc carbonate Chemical compound [Zn+2].[O-]C([O-])=O FMRLDPWIRHBCCC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- OFRQKYNQFYBASL-UHFFFAOYSA-N acetyl heptanoate Chemical compound CCCCCCC(=O)OC(C)=O OFRQKYNQFYBASL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KLUDQUOLAFVLOL-UHFFFAOYSA-N acetyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OC(C)=O KLUDQUOLAFVLOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDYRYUINDGQKMC-UHFFFAOYSA-M acetyloxyaluminum;dihydrate Chemical compound O.O.CC(=O)O[Al] HDYRYUINDGQKMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YBCVMFKXIKNREZ-UHFFFAOYSA-N acoh acetic acid Chemical compound CC(O)=O.CC(O)=O YBCVMFKXIKNREZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007605 air drying Methods 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 150000004716 alpha keto acids Chemical class 0.000 description 1
- SMZOGRDCAXLAAR-UHFFFAOYSA-N aluminium isopropoxide Chemical compound [Al+3].CC(C)[O-].CC(C)[O-].CC(C)[O-] SMZOGRDCAXLAAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940009827 aluminum acetate Drugs 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000003242 anti bacterial agent Substances 0.000 description 1
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 1
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 229910052795 boron group element Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 1
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- KYHHMFUFEIHUHB-UHFFFAOYSA-N di-tert-butylzinc Chemical compound CC(C)(C)[Zn]C(C)(C)C KYHHMFUFEIHUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYWVTSQYJIPZLW-UHFFFAOYSA-K diacetyloxygallanyl acetate Chemical compound [Ga+3].CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O FYWVTSQYJIPZLW-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- VBXWCGWXDOBUQZ-UHFFFAOYSA-K diacetyloxyindiganyl acetate Chemical compound [In+3].CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O VBXWCGWXDOBUQZ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- FRLYMSHUDNORBC-UHFFFAOYSA-N diisopropylzinc Chemical compound [Zn+2].C[CH-]C.C[CH-]C FRLYMSHUDNORBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005594 diketone group Chemical group 0.000 description 1
- AXAZMDOAUQTMOW-UHFFFAOYSA-N dimethylzinc Chemical compound C[Zn]C AXAZMDOAUQTMOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 125000002573 ethenylidene group Chemical group [*]=C=C([H])[H] 0.000 description 1
- VUYNTIDSHCJIKF-UHFFFAOYSA-N ethyl 4,4-dimethyl-3-oxopentanoate Chemical compound CCOC(=O)CC(=O)C(C)(C)C VUYNTIDSHCJIKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XCLDSQRVMMXWMS-UHFFFAOYSA-N ethyl 4-methyl-3-oxopentanoate Chemical compound CCOC(=O)CC(=O)C(C)C XCLDSQRVMMXWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- HHLFWLYXYJOTON-UHFFFAOYSA-N glyoxylic acid Chemical class OC(=O)C=O HHLFWLYXYJOTON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- SSVITZDGXXOBGK-UHFFFAOYSA-N hexyl 2-oxoacetate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C=O SSVITZDGXXOBGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000413 hydrolysate Substances 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005355 lead glass Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- MBHINSULENHCMF-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylpropanamide Chemical compound CCC(=O)N(C)C MBHINSULENHCMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- ISWFEFYUDDXZAN-UHFFFAOYSA-N pentyl 2-oxo-2-phenylacetate Chemical compound CCCCCOC(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISWFEFYUDDXZAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLXKKJMDDIHVAH-UHFFFAOYSA-N pentyl 2-oxoacetate Chemical compound CCCCCOC(=O)C=O JLXKKJMDDIHVAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 description 1
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- OPFNZXZQKMKHQZ-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl 2-oxo-2-phenylacetate Chemical compound CC(C)OC(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 OPFNZXZQKMKHQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUPPTESMCLXHNC-UHFFFAOYSA-N propyl 2-oxo-2-phenylacetate Chemical compound CCCOC(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 IUPPTESMCLXHNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWQSEDZTBKYDHS-UHFFFAOYSA-N propyl 2-oxoacetate Chemical compound CCCOC(=O)C=O BWQSEDZTBKYDHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- VTGOHKSTWXHQJK-UHFFFAOYSA-N pyrimidin-2-ol Chemical compound OC1=NC=CC=N1 VTGOHKSTWXHQJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004728 pyruvic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 235000009566 rice Nutrition 0.000 description 1
- 238000007790 scraping Methods 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- ILJSQTXMGCGYMG-UHFFFAOYSA-N triacetic acid Chemical compound CC(=O)CC(=O)CC(O)=O ILJSQTXMGCGYMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N triethylaluminium Chemical compound CC[Al](CC)CC VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XCZXGTMEAKBVPV-UHFFFAOYSA-N trimethylgallium Chemical compound C[Ga](C)C XCZXGTMEAKBVPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- 150000003752 zinc compounds Chemical class 0.000 description 1
- ABIAVOPWHAWUGT-UHFFFAOYSA-N zinc;2-methanidylpropane Chemical compound [Zn+2].CC(C)[CH2-].CC(C)[CH2-] ABIAVOPWHAWUGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D1/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on inorganic substances
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
- C04B35/453—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on zinc, tin, or bismuth oxides or solid solutions thereof with other oxides, e.g. zincates, stannates or bismuthates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G9/00—Compounds of zinc
- C01G9/02—Oxides; Hydroxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/62218—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products obtaining ceramic films, e.g. by using temporary supports
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
- C07C69/66—Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety
- C07C69/67—Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety of saturated acids
- C07C69/716—Esters of keto-carboxylic acids or aldehydo-carboxylic acids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
- C07C69/66—Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety
- C07C69/67—Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety of saturated acids
- C07C69/716—Esters of keto-carboxylic acids or aldehydo-carboxylic acids
- C07C69/72—Acetoacetic acid esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/20—Diluents or solvents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
- C23C18/12—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
- C23C18/1204—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material inorganic material, e.g. non-oxide and non-metallic such as sulfides, nitrides based compounds
- C23C18/1208—Oxides, e.g. ceramics
- C23C18/1216—Metal oxides
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B1/00—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
- H01B1/02—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of metals or alloys
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B1/00—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
- H01B1/20—Conductive material dispersed in non-conductive organic material
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B13/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing conductors or cables
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B13/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing conductors or cables
- H01B13/30—Drying; Impregnating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/48—Organic compounds becoming part of a ceramic after heat treatment, e.g. carbonising phenol resins
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
- C04B2235/96—Properties of ceramic products, e.g. mechanical properties such as strength, toughness, wear resistance
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F3/00—Compounds containing elements of Groups 2 or 12 of the Periodic Table
- C07F3/06—Zinc compounds
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Conductive Materials (AREA)
- Manufacturing Of Electric Cables (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
Description
本発明は、ジアルキル亜鉛およびジアルキル亜鉛部分加水分解物の少なくともいずれか１つを含有する溶液、並びにこれらの溶液を用いる酸化亜鉛薄膜の製造方法に関する。
可視光線に対して高い透過性を有する透明な酸化亜鉛薄膜は、光触媒膜、紫外線カット膜、赤外線反射膜、ＣＩＧＳ、有機薄膜太陽電池のバッファ層、色素増感太陽電池の電極膜、帯電防止膜、薄膜トランジスタ、化合物半導体発光素子、蛍光体素子、抗菌・脱臭膜、圧電膜、バリスタ膜、メッキ膜、等に使用され、幅広い用途を持つ（非特許文献１）。
透明な酸化亜鉛薄膜の製造方法として種々の方法が知られている（非特許文献２）が、真空容器を用いる必要がなく装置が簡便で、膜形成速度が速いため生産性も高く膜製造コストが低い塗布法による製造が望ましい。
塗布法として、スピンコート法（特許文献１）、ディップコート法（非特許文献３）、スプレー熱分解法（非特許文献４）等がある。
上記スピンコート法、ディップコート法、スプレー熱分解法では、それぞれ塗布後に基板温度を３５０℃以上に加熱することで酸化亜鉛薄膜を得ている。
しかし、透明な酸化亜鉛薄膜は、基板としてプラスチック基板を用いるようになってきている。そのため、透明な酸化亜鉛薄膜の形成時に適用される加熱は、プラスチック基板の耐熱温度以下で実施される必要がある。しかるに、上記スピンコート法、ディップコート法、スプレー熱分解法では、プラスチックの耐熱温度以下の加熱では、透明な酸化亜鉛薄膜を得ることはできない。
そこで、本発明者らの検討により、ジアルキル亜鉛と水を反応させたジアルキル亜鉛部分加水分解物含有溶液を用いることで、３００℃以下の温度でも透明な酸化亜鉛薄膜を形成する方法が見出された（特許文献２）。
"酸化亜鉛透明導電膜：次世代ディスプレイに向けて" ハクスイ株式会社総合情報誌 インフォ， 第１３巻 （２００５） ｐ１
日本学術振興会透明酸化物光電子材料１６６委員会編， 透明導電膜の技術 改訂２版， （２００６） ｐ１６５～１７３
Ｙ．Ｏｈｙａ ｅｔ ａｌ， Ｊ． Ｍａｔｅｒ． Ｓｃｉ．， ２９，４０９９～４１０３頁 （１９９４）
Ｊ．Ａｒａｎｏｖｉｃｈ ｅｔ ａｌ， Ｊ． Ｖａｃ． Ｓｃｉ． Ｔｅｃｈｎｏｌ．， １６（４）， ９９４～１００２頁（１９７９）
従来、ジエチル亜鉛部分加水分解物含有溶液は、水又は水分との反応性があり、そのため、透明な酸化亜鉛薄膜を形成するためには、通常、水又は水分が除去された乾燥状態で供給される窒素、アルゴン等の不活性ガスや乾燥処理を施した空気中で製膜をする方法が採られていた。しかし、不活性ガスや空気の乾燥状態を維持しつつ操作をするには、不活性ガス、不活性ガス供給設備、または空気の乾燥装置、さらにはグローブボックス等のガス保持設備を必要とし、酸化亜鉛薄膜の形成コストが通常の塗布法よりやや高くなるという課題があった。
本発明の目的は、酸化亜鉛薄膜の形成を乾燥処理を施していない空気（大気）中で行うことが可能なジアルキル亜鉛およびジアルキル亜鉛部分加水分解物の少なくともいずれか１つを含有する溶液を提供することである。加えて本発明は、空気中での実施も可能な、酸化亜鉛薄膜の製造方法を提供する。
本発明は以下の通りである。
［１］
アルコキシ基を有するジケトン化合物、下記一般式（１）で表されるジアルキル亜鉛及び／又は当該ジアルキル亜鉛の部分加水分解物、及び溶媒を含有する溶液。
（式中、Ｒ10は炭素数１～６の直鎖または分岐したアルキル基である。）
［２］
前記アルコキシ基を有するジケトン化合物が、アルコキシ基を有するαジケトン化合物、アルコキシ基を有するβジケトン化合物、αケト酸エステル及びβケト酸エステルからなる群から選ばれる１又は２以上のジケトン化合物である、［１］に記載の溶液。
［３］
前記アルコキシ基を有するジケトン化合物が、次の一般式（２）又は一般式（３）で示される化合物、又はそれらの混合物である、［１］又は［２］に記載の溶液。
（式中、Ｒ1は炭素数１～６のアルキル基、フェニル基及びベンジル基から選ばれる置換基を、Ｒ2は炭素数１～６のアルキル基を示す。）
（式中、Ｒ1は炭素数１～６のアルキル基、フェニル基及びベンジル基から選ばれる置換基、Ｒ2は炭素数１～６のアルキル基、Ｒ3およびＲ4は水素または炭素数１～６のアルキル基をそれぞれ示す）
［４］
前記アルコキシ基を有するジケトン化合物が、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸イソプロピル、アセト酢酸ブチル及びピルビン酸エチル、又はそれらの混合物である、［１］～［３］のいずれか１項に記載の溶液。
［５］
前記アルコキシ基を有するジケトン化合物が、ジアルキル亜鉛又はジアルキル亜鉛の部分加水分解物中の亜鉛に対するモル比で０．０１～２の範囲で含有される、［１］
～［４］のいずれか１項に記載の溶液。
［６］
前記ジアルキル亜鉛がジエチル亜鉛である、［１］～［５］のいずれか１項に記載の溶液。
［７］
前記ジアルキル亜鉛の部分加水分解物が、ジアルキル亜鉛の亜鉛に対してモル比が０．４～０．９の範囲の水で加水分解した部分加水分解物である、［１］～［６］のいずれか１項に記載の溶液。
［８］
前記ジアルキル亜鉛の部分加水分解物が、下記一般式（４）で表される部分加水分解物である［１］～［７］のいずれか１項に記載の溶液。
（式中、Ｒ10は炭素数１～６の直鎖または分岐したアルキル基であり、ｍは１～２０の整数である。）
［９］
前記溶媒は、脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、芳香族炭化水素、炭化水素系溶媒、エーテル化合物、エチレングリコールジアルキルエーテル化合物、ジエチレングリコールジアルキルエーテル化合物、トリエチレングリコールジアルキルエーテル化合物、プロピレングリコールジアルキル化合物、ジプロピレングリコールジアルキル、トリプロピレングリコールジアルキル化合物、鎖状アミド化合物および環状アミド化合物から成る群から選ばれる少なくとも１種の溶媒である、［１］～［８］のいずれか１項に記載の溶液。
［１０］
［１］～［９］のいずれか１項に記載の溶液を基材に塗布する工程を含む酸化亜鉛薄膜の製造方法。
［１１］
基材を加熱する工程を含む［１０］に記載の製造方法。
［１２］
５００℃以下の温度で基材を加熱した状態において、前記溶液を基材に塗布する［１０］又は［１１］に記載の製造方法。
［１３］
前記塗布を空気中で行う［１０］～［１２］のいずれか１項に記載の製造方法。
［１４］
前記塗布を相対湿度３５～８０％の雰囲気下で行う［１０］～［１３］のいずれか１項に記載の製造方法。
［１５］
前記酸化亜鉛薄膜が、５５０ｎｍの可視光線に対して８０％以上の透過率を有する薄膜である、［１０］～［１４］に記載の製造方法。
［１］
アルコキシ基を有するジケトン化合物、下記一般式（１）で表されるジアルキル亜鉛及び／又は当該ジアルキル亜鉛の部分加水分解物、及び溶媒を含有する溶液。
［２］
前記アルコキシ基を有するジケトン化合物が、アルコキシ基を有するαジケトン化合物、アルコキシ基を有するβジケトン化合物、αケト酸エステル及びβケト酸エステルからなる群から選ばれる１又は２以上のジケトン化合物である、［１］に記載の溶液。
［３］
前記アルコキシ基を有するジケトン化合物が、次の一般式（２）又は一般式（３）で示される化合物、又はそれらの混合物である、［１］又は［２］に記載の溶液。
［４］
前記アルコキシ基を有するジケトン化合物が、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸イソプロピル、アセト酢酸ブチル及びピルビン酸エチル、又はそれらの混合物である、［１］～［３］のいずれか１項に記載の溶液。
［５］
前記アルコキシ基を有するジケトン化合物が、ジアルキル亜鉛又はジアルキル亜鉛の部分加水分解物中の亜鉛に対するモル比で０．０１～２の範囲で含有される、［１］
～［４］のいずれか１項に記載の溶液。
［６］
前記ジアルキル亜鉛がジエチル亜鉛である、［１］～［５］のいずれか１項に記載の溶液。
［７］
前記ジアルキル亜鉛の部分加水分解物が、ジアルキル亜鉛の亜鉛に対してモル比が０．４～０．９の範囲の水で加水分解した部分加水分解物である、［１］～［６］のいずれか１項に記載の溶液。
［８］
前記ジアルキル亜鉛の部分加水分解物が、下記一般式（４）で表される部分加水分解物である［１］～［７］のいずれか１項に記載の溶液。
［９］
前記溶媒は、脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、芳香族炭化水素、炭化水素系溶媒、エーテル化合物、エチレングリコールジアルキルエーテル化合物、ジエチレングリコールジアルキルエーテル化合物、トリエチレングリコールジアルキルエーテル化合物、プロピレングリコールジアルキル化合物、ジプロピレングリコールジアルキル、トリプロピレングリコールジアルキル化合物、鎖状アミド化合物および環状アミド化合物から成る群から選ばれる少なくとも１種の溶媒である、［１］～［８］のいずれか１項に記載の溶液。
［１０］
［１］～［９］のいずれか１項に記載の溶液を基材に塗布する工程を含む酸化亜鉛薄膜の製造方法。
［１１］
基材を加熱する工程を含む［１０］に記載の製造方法。
［１２］
５００℃以下の温度で基材を加熱した状態において、前記溶液を基材に塗布する［１０］又は［１１］に記載の製造方法。
［１３］
前記塗布を空気中で行う［１０］～［１２］のいずれか１項に記載の製造方法。
［１４］
前記塗布を相対湿度３５～８０％の雰囲気下で行う［１０］～［１３］のいずれか１項に記載の製造方法。
［１５］
前記酸化亜鉛薄膜が、５５０ｎｍの可視光線に対して８０％以上の透過率を有する薄膜である、［１０］～［１４］に記載の製造方法。
本発明によれば、空気中で透明な酸化亜鉛薄膜を形成しうるジアルキル亜鉛およびジアルキル亜鉛部分加水分解物の少なくともいずれか１つを含有する溶液を提供することができ、かつ、本発明のジアルキル亜鉛およびジアルキル亜鉛部分加水分解物の少なくともいずれか１つ含有する溶液を用いれば、空気中での成膜においても基材への密着性の高い透明な酸化亜鉛薄膜を形成することができる。
［ジアルキル亜鉛含有溶液］
本発明の第一の態様は、一般式（１）で表されるジアルキル亜鉛を含有する、ジアルキル亜鉛含有溶液であって、さらにアルコキシ基を有するジケトン化合物を含むものである。
本発明の第一の態様は、一般式（１）で表されるジアルキル亜鉛を含有する、ジアルキル亜鉛含有溶液であって、さらにアルコキシ基を有するジケトン化合物を含むものである。
アルキル基としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基を挙げることができるが、これらに限定される意図ではない。
［ジアルキル亜鉛部分加水分解物含有溶液］
また、本発明の第二の態様は、一般式（１）で表されるジアルキル亜鉛の部分加水分解物及び溶媒を含有する、ジアルキル亜鉛部分加水分解物含有溶液であって、さらにアルコキシ基を有するジケトン化合物を含むものである。
また、本発明の第二の態様は、一般式（１）で表されるジアルキル亜鉛の部分加水分解物及び溶媒を含有する、ジアルキル亜鉛部分加水分解物含有溶液であって、さらにアルコキシ基を有するジケトン化合物を含むものである。
さらに、前記部分加水分解物は、前記ジアルキル亜鉛中の亜鉛に対して、モル比が０．４～０．９の範囲の水で加水分解したものである。前記部分加水分解物は、前記ジアルキル亜鉛と溶媒との混合物に対して水を添加してジアルキル亜鉛を加水分解することで得られる物であることが、加水分解の操作により、本発明のジアルキル亜鉛部分加水分解物含有溶液を得ることができることから適当である。
アルキル基としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基を挙げることができるが、これらに限定される意図ではない。
［ジアルキル亜鉛］
一般式（１）で表されるジアルキル亜鉛の例としては、ジメチル亜鉛、ジエチル亜鉛、ジイソプロピル亜鉛、ジイソブチル亜鉛、ジ－ｔｅｒｔ－ブチル亜鉛等をあげることができる。価格が安価であるという観点から、ジエチル亜鉛が好ましい。但し、これらの化合物に限定される意図ではない。
一般式（１）で表されるジアルキル亜鉛の例としては、ジメチル亜鉛、ジエチル亜鉛、ジイソプロピル亜鉛、ジイソブチル亜鉛、ジ－ｔｅｒｔ－ブチル亜鉛等をあげることができる。価格が安価であるという観点から、ジエチル亜鉛が好ましい。但し、これらの化合物に限定される意図ではない。
［ジアルキル亜鉛およびジアルキル亜鉛部分加水分解物の少なくともいずれか１つを含有する溶液］
本発明においては、前述のジアルキル亜鉛溶液とジアルキル亜鉛部分加水分解物はそれぞれ単独して用いてもよく、またそれらを混合して用いてもよい。即ち、ジアルキル亜鉛およびジアルキル亜鉛部分加水分解物の少なくともいずれか１つを含有する溶液を用いることが出来る。
本発明においては、前述のジアルキル亜鉛溶液とジアルキル亜鉛部分加水分解物はそれぞれ単独して用いてもよく、またそれらを混合して用いてもよい。即ち、ジアルキル亜鉛およびジアルキル亜鉛部分加水分解物の少なくともいずれか１つを含有する溶液を用いることが出来る。
［溶媒］
ジアルキル亜鉛およびジアルキル亜鉛部分加水分解物の少なくともいずれか１つを含有する溶液で用いることのできる溶媒としては、例えば、ｎ－ヘキサン、オクタン、ｎ－デカン、等の脂肪族炭化水素；シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素；ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン、等の芳香族炭化水素；ミネラルスピリット、ソルベントナフサ、ケロシン、石油エーテル、等の炭化水素系溶媒；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ｔ－ブチルメチルエーテル、ジｎ－プロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、１，４－ジオキサン、１，３－ジオキサラン、ジブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、アニソール等のエーテル化合物；１，２－ジメトキシエタン、１，２－ジエトキシエタン、１，２－ジブトキシエタン等のエチレングリコールジアルキルエーテル化合物；ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル等のジエチレングリコールジアルキルエーテル化合物；トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジエチルエーテル等のトリエチレングリコールジアルキルエーテル化合物；プロピレングリコールジメチルエーテル等のプロピレングリコールジアルキル化合物；ジプロピレングリコールジメチル等のジプロピレングリコールジアルキル；トリプロピレングリコールジメチル等のトリプロピレングリコールジアルキル化合物、Ｎ，Ｎ，ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルプロピオンアミド、ヘキサメチルホスホリルアミド等の鎖状アミド化合物、Ｎ－メチル－２－ピロリドン（ＮＭＰと略記することがある）、１，３－ジメチル－イミダゾリジノン、１，３－ジメチル－３，４，５，６－テトラヒドロ－２（１Ｈ）－ピリミジノン等の環状アミド化合物、又はそれらの混合物等を挙げることができる。
ジアルキル亜鉛およびジアルキル亜鉛部分加水分解物の少なくともいずれか１つを含有する溶液で用いることのできる溶媒としては、例えば、ｎ－ヘキサン、オクタン、ｎ－デカン、等の脂肪族炭化水素；シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素；ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン、等の芳香族炭化水素；ミネラルスピリット、ソルベントナフサ、ケロシン、石油エーテル、等の炭化水素系溶媒；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ｔ－ブチルメチルエーテル、ジｎ－プロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、１，４－ジオキサン、１，３－ジオキサラン、ジブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、アニソール等のエーテル化合物；１，２－ジメトキシエタン、１，２－ジエトキシエタン、１，２－ジブトキシエタン等のエチレングリコールジアルキルエーテル化合物；ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル等のジエチレングリコールジアルキルエーテル化合物；トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジエチルエーテル等のトリエチレングリコールジアルキルエーテル化合物；プロピレングリコールジメチルエーテル等のプロピレングリコールジアルキル化合物；ジプロピレングリコールジメチル等のジプロピレングリコールジアルキル；トリプロピレングリコールジメチル等のトリプロピレングリコールジアルキル化合物、Ｎ，Ｎ，ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルプロピオンアミド、ヘキサメチルホスホリルアミド等の鎖状アミド化合物、Ｎ－メチル－２－ピロリドン（ＮＭＰと略記することがある）、１，３－ジメチル－イミダゾリジノン、１，３－ジメチル－３，４，５，６－テトラヒドロ－２（１Ｈ）－ピリミジノン等の環状アミド化合物、又はそれらの混合物等を挙げることができる。
［ジアルキル亜鉛含有溶液の製造］
ジアルキル亜鉛含有溶液は前記ジアルキル亜鉛と溶媒とを混合することにより調製される。具体的には、ジアルキル亜鉛との反応性を考慮すると、例えば、乾燥雰囲気(例えば、乾燥状態で供給される不活性ガス雰囲気)下、前記ジアルキル亜鉛を前記溶媒に溶解することにより調製される。
ジアルキル亜鉛含有溶液は前記ジアルキル亜鉛と溶媒とを混合することにより調製される。具体的には、ジアルキル亜鉛との反応性を考慮すると、例えば、乾燥雰囲気(例えば、乾燥状態で供給される不活性ガス雰囲気)下、前記ジアルキル亜鉛を前記溶媒に溶解することにより調製される。
前記ジアルキル亜鉛含有溶液中のジアルキル亜鉛の濃度は、０．１～５０質量％とすることができ、０．１～３０質量％の範囲であることが、塗布における造膜性（形成された膜の密着性、均一性等）の容易さという観点から好ましい。但し、この範囲は例示であり、この範囲に限定される意図ではない。
前記ジアルキル亜鉛への溶媒の添加は、混合する原料の種類や容量等により適宜設定できるが、例えば、１分～１０時間の範囲とすることができる。添加時の温度は－２０～１５０℃の間の任意の温度を選択できる。但し、安全性等を考慮すると－２０～８０℃の範囲であることが好ましい。但し、この範囲は例示であり、この範囲に限定される意図ではない。
溶媒の添加後に、前記ジアルキル亜鉛の混合を進行させるために、必要に応じて０．１～５０時間熟成させることができる。熟成温度は－２０～１５０℃の間で任意の温度を選択できる。但し、この範囲は例示であり、この範囲に限定される意図ではない。
前記溶媒、ジアルキル亜鉛は、あらゆる慣用の方法に従って反応容器に導入できる。反応容器の圧力は制限されない。ジアルキル亜鉛含有溶液の調製の工程は回分操作式、半回分操作式、連続操作式のいずれでもよく特に制限はないが、回分操作式が好ましい。
［ジアルキル亜鉛部分加水分解物含有溶液の製造］
ジアルキル亜鉛部分加水分解物の調製は、前記ジアルキル亜鉛に対するモル比が０．４～０．９の範囲で、水、又は水を含有する溶液を用いて行う。ジアルキル亜鉛に対する水のモル比が０．４未満では、溶媒を乾燥除去した後も液状になり易く(固体になりにくく)均一な酸化亜鉛薄膜を形成することが困難である。均一な酸化亜鉛薄膜を形成するという観点からは、ジアルキル亜鉛に対する水のモル比が０．６以上であることがより好ましい。一方、ジアルキル亜鉛に対する水のモル比が０．９を超えると溶媒に不溶なゲル、固体が析出し、ゲル、固体による均一な酸化亜鉛薄膜の形成が困難になる。析出したゲルや固体は、ろ過除去することも可能であるが、亜鉛分の損失に繋がるので好ましくない。
ジアルキル亜鉛部分加水分解物の調製は、前記ジアルキル亜鉛に対するモル比が０．４～０．９の範囲で、水、又は水を含有する溶液を用いて行う。ジアルキル亜鉛に対する水のモル比が０．４未満では、溶媒を乾燥除去した後も液状になり易く(固体になりにくく)均一な酸化亜鉛薄膜を形成することが困難である。均一な酸化亜鉛薄膜を形成するという観点からは、ジアルキル亜鉛に対する水のモル比が０．６以上であることがより好ましい。一方、ジアルキル亜鉛に対する水のモル比が０．９を超えると溶媒に不溶なゲル、固体が析出し、ゲル、固体による均一な酸化亜鉛薄膜の形成が困難になる。析出したゲルや固体は、ろ過除去することも可能であるが、亜鉛分の損失に繋がるので好ましくない。
前記ジアルキル亜鉛部分加水分解物の調製は、具体的には、ジアルキル亜鉛との反応性を考慮すると、例えば、乾燥雰囲気(例えば、乾燥状態で供給される不活性ガス雰囲気)下、前記ジアルキル亜鉛を前記溶媒に溶解した溶液に、水、又は水を含有する溶液を添加して行うことができる。水自身(溶媒との混合物ではない純粋な水)を添加してもよいが、ジアルキル亜鉛と水の反応時の発熱制御の点からは水を含有する溶液を添加して行うことが好ましい。水を含有する溶液の溶媒は、水の溶媒への溶解度、製造の簡易さ、という観点から、前記溶媒のうち、エーテル化合物、エチレングリコールジアルキルエーテル化合物、ジエチレングリコールジアルキルエーテル化合物、トリエチレングリコールジアルキルエーテル化合物、プロピレングリコールジアルキル化合物、ジプロピレングリコールジアルキル、トリプロピレングリコールジアルキル化合物、鎖状アミド化合物、環状アミド化合物、又はそれらの混合物を用いることが好ましい。
水、又は水を含有する溶液を添加する前記ジアルキル亜鉛溶液中のジアルキル亜鉛の濃度は、０．１～５０質量％とすることができ、０．１～３０質量％の範囲であることが、塗布における造膜性（形成された膜の密着性、均一性等）の容易さという観点から好ましい。但し、この範囲は例示であり、この範囲に限定される意図ではない。
前記ジアルキル亜鉛溶液への水、又は水を含有する溶液の添加は、混合する原料の種類や容量等により適宜設定できるが、例えば、１分～１０時間の範囲とすることができる。添加時の温度は－２０～１５０℃の間の任意の温度を選択できる。但し、安全性等を考慮すると－２０～８０℃の範囲であることが好ましい。但し、この範囲は例示であり、この範囲に限定される意図ではない。
水、又は水を含有する溶液の添加後に、前記ジアルキル亜鉛の水による部分加水分解をさらに進行させるために、０．１～５０時間熟成させることができる。熟成温度は－２０～１５０℃の間で任意の温度を選択できる。但し、この範囲は例示であり、この範囲に限定される意図ではない。
前記溶媒、ジアルキル亜鉛、水、又は水を含有する溶液は、あらゆる慣用の方法に従って反応容器に導入できる。反応容器の圧力は制限されない。ジアルキル亜鉛部分加水分解反応工程は回分操作式、半回分操作式、連続操作式のいずれでもよく特に制限はないが、回分操作式が好ましい。
上記部分加水分解により、上記ジアルキル亜鉛部分加水分解物含有溶液が得られる。部分加水分解物の組成についての解析は古くから行われている。しかし、報告により生成物の組成結果が異なり、生成物の組成が明確に特定されていない。また、溶媒、濃度、水の添加モル比、添加温度、反応温度、反応時間、等によっても生成物の組成は変化する。
本発明の方法におけるジアルキル亜鉛部分加水分解物は下記一般式（４）で表される構造単位を含む化合物の混合物であると推定される。
前記部分加水分解は、固体（ゲル）等が析出しない条件で行うことが好ましく、固体（ゲル）等は、ジアルキル亜鉛の加水分解が進んだ、完全加水分解物（酸化亜鉛）であるか、または、上記一般式（４）におけるｍが２０を超え、分子中のアルキル基Ｒ10の量が低下して、溶媒に対する溶解度が低下した部分加水分解物である。部分加水分解終了後、このような固体（ゲル）等が析出している場合には、ろ過、遠心分離、デカント等の方法により精製することで固体等を除去することができ、この除去操作により、溶媒に溶解した部分加水分解物のみを実質的に含有し、透明性が良好な酸化亜鉛薄膜調製に適したジアルキル亜鉛部分加水分解物含有溶液を得ることができる。
上記ジアルキル亜鉛部分加水分解物含有溶液は、例えば、濃縮（溶媒除去）により固形分濃度を調整する（増大させる）ことができる。また、濃縮後または濃縮することなく、加水分解反応に使用した溶媒、加水分解反応に使用したものとは異なる溶媒を添加して、固形分濃度、極性、粘度、沸点、経済性等を適宜調整することもできる。
加水分解反応に使用したものとは異なる溶媒としては、例えば、ｎ－ヘキサン、オクタン、ｎ－デカン、等の脂肪族炭化水素；シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素；ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン、等の芳香族炭化水素；ミネラルスピリット、ソルベントナフサ、ケロシン、石油エーテル、等の炭化水素系溶媒；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ｔ－ブチルメチルエーテル、ジｎ－プロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、１，４－ジオキサン、１，３－ジオキサラン、ジブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、アニソール等のエーテル化合物；１，２－ジメトキシエタン、１，２－ジエトキシエタン、１，２－ジブトキシエタン等のエチレングリコールジアルキルエーテル化合物；ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル等のジエチレングリコールジアルキルエーテル化合物；トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジエチルエーテル等のトリエチレングリコールジアルキルエーテル化合物；プロピレングリコールジメチルエーテル等のプロピレングリコールジアルキル化合物；ジプロピレングリコールジメチル等のジプロピレングリコールジアルキル；トリプロピレングリコールジメチル等のトリプロピレングリコールジアルキル化合物、Ｎ，Ｎ，ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルプロピオンアミド、ヘキサメチルホスホリルアミド等の鎖状アミド化合物、Ｎ－メチル－２－ピロリドン（ＮＭＰと略記することがある）、１，３－ジメチル－イミダゾリジノン、１，３－ジメチル－３，４，５，６－テトラヒドロ－２（１Ｈ）－ピリミジノン等の環状アミド化合物、又はそれらの混合物を挙げることができる。
本発明のジアルキル亜鉛部分加水分解物含有溶液におけるジアルキル亜鉛部分加水分解物の含有量は、用途に応じて適宜決定できる。含有量は、使用する溶媒の量を調整することで調整できる。ジアルキル亜鉛部分加水分解物の含有量は、例えば、０．１～５０質量％の範囲で、後述する酸化亜鉛薄膜の製造に適した性状等も考慮して、適宜調整できる。但し、この範囲に限定される意図ではない。
［本発明のアルコキシ基を有するジケトン化合物を含有する溶液］
本発明においては、ジアルキル亜鉛およびジアルキル亜鉛部分加水分解物の少なくともいずれか１つを含有する溶液に、さらにアルコキシ基を有するジケトン化合物を含有する。
本発明においては、ジアルキル亜鉛およびジアルキル亜鉛部分加水分解物の少なくともいずれか１つを含有する溶液に、さらにアルコキシ基を有するジケトン化合物を含有する。
本発明で用いることのできる、アルコキシ基を有するジケトン化合物としては、特に具体的には、αまたはβケト酸エステルを挙げることが出来る。
本発明で用いるα-ケトン酸エステルは、次の一般式（２）で示される化合物である。
本発明で用いるα-ケトン酸エステルは、次の一般式（２）で示される化合物である。
αケト酸エステルの具体例として、例えば、グリオキシル酸メチル、グリオキシル酸エチル、グリオキシル酸ｎ－プロピル、グリオキシル酸イソプロピル、グリオキシル酸ｎ－ブチル、グリオキシル酸ｎ－ペンチル、グリオキシル酸ｎ－ヘキシル等のグリオキシル酸エステル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸ｎ－プロピル、ピルビン酸イソプロピル、ピルビン酸ｎ－ブチル、ピルビン酸ｎ－ペンチル、ピルビン酸ｎ－ヘキシル等のピルビン酸エステル、フェニルグリオキシル酸メチル、フェニルグリオキシル酸エチル、フェニルグリオキシル酸ｎ－プロピル、フェニルグリオキシル酸イソプロピル、フェニルグリオキシル酸ｎ－ブチル、フェニルグリオキシル酸ｎ－ペンチル、フェニルグリオキシル酸ｎ－ヘキシル等のフェニルグリオキシル酸エステル、フェニルピルビン酸メチル、フェニルピルビン酸エチル、フェニルピルビン酸ｎ－プロピル、フェニルピルビン酸ｉ－プロピル、フェニルピルビン酸ｎ－ブチル、フェニルピルビン酸ｎ－ペンチル、フェニルピルビン酸ｎ－ヘキシル等のフェニルピルビン酸エステルなどを挙げることができる。
本発明で用いるβケト酸エステルは、次の一般式（３）で示される化合物である。
（式中、Ｒ1は炭素数１～６のアルキル基、フェニル基及びベンジル基から選ばれる置換基、Ｒ2は炭素数１～６のアルキル基、Ｒ3およびＲ4は水素または炭素数１～６のアルキル基をそれぞれ示す。）
Ｒ1としては、炭素原子数１～６のアルキル基がよく、アルキル基は直鎖状あるいは分岐状であってもよく、さらに好ましくはメチル基，エチル基がよい。Ｒ2としては、炭素原子数１～６のアルキル基がよく、アルキル基は直鎖状あるいは分岐状であってもよく、さらに好ましくはメチル基，エチル基がよい。
βケト酸エステルの具体例として、例えば、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸－ｎ－プロピル、アセト酢酸イソプロピル、アセト酢酸－ｎ－ブチル、アセト酢酸－ｓｅｃ－ブチル、アセト酢酸－ｔ－ブチル等のアセト酢酸エステル、プロピオニル酢酸メチル、プロピオニル酢酸エチル、プロピオニル酢酸プロピル、プロピオニル酢酸イソプロピル、プロピオニル酢酸ブチル、プロピオニル酢酸イソブチル、プロピオニル酢酸アミル，プロピオニル酢酸イソアミル等のプロピオニル酢酸エステル、ブチリル酢酸エチル、イソブチリル酢酸エチル、バレリル酢酸エチル，イソバレリル酢酸エチル、ピバロイル酢酸エチル、カプロイル酢酸エチル，イソカプロイル酢酸エチル、ヘプタノイル酢酸エチル、フェニルアセト酢酸メチル、α－メチルアセト酢酸メチル等などを挙げることが出来る。
これらの中でも特に、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸イソプロピル、アセト酢酸ブチル、およびピルビン酸エチルを用いることが好ましい。
アルコキシ基を有するジケトン化合物は、上記化合物を単独、又はそれらの混合物として用いることが出来る。
アルコキシ基を有するジケトン化合物は、上記化合物を単独、又はそれらの混合物として用いることが出来る。
前記アルコキシ基を有するジケトン化合物の含有量は、前記ジアルキル亜鉛含有溶液またはジアルキル亜鉛部分加水分解物中の亜鉛に対するモル比で０．０２～２とすることが、化学的に安定なジアルキル亜鉛含有溶液または部分加水分解物含有溶液を得るとの観点から好ましい。好ましくは、前記ジアルキル亜鉛含有溶液またはジアルキル亜鉛部分加水分解物中の亜鉛に対するモル比は、０．０５～１．５、さらに好ましくは０．１～１．２である。上限は、ジアルキル亜鉛またはジアルキル亜鉛の部分加水分解物の溶液中の濃度や、溶媒の種類やそれらの含有量などに応じて適宜設定できる。尚、ジアルキル亜鉛を部分加水分解物とすることで、空気に対する化学的安定性はジアルキル亜鉛に比べれば向上するが、依然として安定性に欠けることから、化学的により安定な部分加水分解物含有溶液を得るという観点から、上記所定量のアルコキシ基を有するジケトン化合物との混合物とすることが好ましい。
ジアルキル亜鉛含有溶液またはジアルキル亜鉛加水分解物含有溶液へのアルコキシ基を有するジケトン化合物の含有の方法としては、ジアルキル亜鉛含有溶液を用いる場合においては、例えば、ジアルキル亜鉛と溶媒との混合後にアルコキシ基を有するジケトン化合物を添加する方法、溶媒にアルコキシ基を有するジケトン化合物を添加した後にジアルキル亜鉛と混合する等の方法を用いることが出来る。また、ジアルキル亜鉛加水分解物含有溶液を用いる場合においては、例えば、ジアルキル亜鉛加水分解物含有溶液を調製時あるいは調製後にアルコキシ基を有するジケトン化合物を混合する等の方法を用いることが出来る。
前記アルコキシ基を有するジケトン化合物を用いることで、空気に対する安定性が向上する理由は定かではなく、また理論に拘泥する意図はないが、前記アルコキシ基を有するジケトン化合物は、その化合物構造中の酸素の非共有電子対の亜鉛への配位結合等により空気に対する安定性が大きく向上すると推定される。
また、本発明の溶液においては、Ｍｇ、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｇｅ等の他の元素が共存していてもよい。
例えば、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎといった第１３族元素を共存させた溶液を用いて成膜を行うことで、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎがドープされた酸化亜鉛薄膜を得ることが出来る。これらのドープされた酸化亜鉛薄膜は、例えば、透明導電膜として用いることが出来る。
これらの元素はその形態として有機化合物、無機化合物として添加が可能である。例えば、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎにおいては、トリエチルアルミニウム、トリエチルガリウム、トリメチルガリウム、トリメチルインジウム等のアルキル化化合物、酢酸アルミミウム、酢酸ガリウム、酢酸インジウム等のカルボン酸塩、アルミニウムアセチルアセトナト、ガリウムアセチルアセトナト、インジウムアセチルアセトナト等のアセチルアセトナト塩、アルミニウムトリイソプロポキシド、ガリウムトリエトキシド、インジウムイソプソポキシ等のアルコキシ化合物等の有機化合物や、それらの塩化物、硝酸塩、硫酸塩等の無機化合物、およびそれらの混合物の形で用いることが出来る。
［酸化亜鉛薄膜の製造方法］
本発明の第２の態様は、酸化亜鉛薄膜の製造方法であり、この方法は、前記本発明のジアルキル亜鉛およびジアルキル亜鉛部分加水分解物の少なくともいずれか１つを含有する溶液を基材に塗布することを含む、酸化亜鉛薄膜の製造方法である。
本発明の第２の態様は、酸化亜鉛薄膜の製造方法であり、この方法は、前記本発明のジアルキル亜鉛およびジアルキル亜鉛部分加水分解物の少なくともいずれか１つを含有する溶液を基材に塗布することを含む、酸化亜鉛薄膜の製造方法である。
前記基材への前記溶液の塗布は、スピンコート法、ディップコート法、スクリーン印刷法、バーコート法、スリットコート法、ダイコート法、グラビアコート法、ロールコート法、カーテンコート法、スプレー熱分解法、静電スプレー熱分解法、インクジェット法、ミストＣＶＤ法、等の慣用の方法で行うことができる。
前記基材への前記溶液の塗布を行う雰囲気は特に制限はなく、例えば、不活性雰囲気下でも空気雰囲気下でも行うことができる。但し、経済性の観点から、空気雰囲気下で行うことが装置も簡便となり好ましい。
さらに、前記基材への前記溶液の塗布を行う雰囲気の湿度は特に制限はなく、例えば、相対湿度３５～８０％の雰囲気下で行うことができる。
前記基材への前記溶液の塗布は、加圧下や減圧下でも実施できるが、経済性の点から、大気圧下で行うことが装置も簡便となり好ましい。
前記基材は、特に制限はないが、例えば、鉛ガラス、ソーダガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、等のガラス；シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、複合酸化物、等の酸化物；ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリメチルメタクレート（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリ塩化ビニリデン、環状ポリオレフィン（ＣＯＰ）、エチレン－酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）、ポリイミド、ポリアミド、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリウレタン、トリアセテート、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、セロファン、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、ポリクロロトリフルオロエチレン（ＰＣＴＦＥ）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、ポリフッ化ビニル（ＰＶＦ）、ペルフルオロアルコキシフッ素樹脂（ＰＦＡ）、四フッ化エチレン・六フッ化プロピレン共重合体（ＥＴＦＥ）、エチレン・クロロトリフルオロエチレン共重合体（ＥＣＴＦＥ）、等の高分子、等を挙げることができる。
前記基材の形状は、特に制限はないが、例えば、粉、フィルム、板、又は三次元形状を有する立体構造物を挙げることができる。
本発明のジアルキル亜鉛およびジアルキル亜鉛部分加水分解物の少なくともいずれか１つを含有する溶液を塗布した基材は、所定の温度において溶媒を乾燥し、次いで所定の温度で焼成するか、または所定の温度で乾燥と焼成を並行して行うことにより酸化亜鉛薄膜を形成させることができる。尚、塗布を、スプレー熱分解法、静電スプレー熱分解法、インクジェット法、ミストＣＶＤ法により行う場合には、塗布前に基材を所定の温度に加熱できるため、塗布と同時に溶媒を乾燥、または、乾燥と同時に焼成させることができる。
前記溶媒を乾燥させるための所定の温度は、基材の耐熱性を考慮すると３００℃以下が好ましく、２０～２５０℃の間がさらに好ましい。前記溶媒を、例えば、０．５～６０分かけて乾燥させることができる。但し、これらの範囲に限定される意図ではない。
前記酸化亜鉛を形成させるための焼成は、例えば、５０～５５０℃の範囲の任意の温度で実施することができる。但し、基材の種類（耐熱性）を考慮して、基材がダメージを受けない温度に設定することが適当であり、耐熱性の低い基材に対しても基材にダメージを与えることなく酸化亜鉛薄膜を形成させることができるという観点からは、本発明の方法においては、ジアルキル亜鉛部分加水分解物含有溶液の塗布膜を３００℃以下の温度で焼成することより、酸化亜鉛薄膜を形成させることが適当である。焼成させる所定の温度が、溶媒を乾燥させる所定の温度と同一な場合、溶媒の乾燥と焼成を並行して行うことができる。焼成時間は、溶媒を乾燥して前駆膜を得た後に異なる温度で焼成する場合、および溶媒乾燥と焼成を並行して行う場合の何れの場合にも、例えば、０．５～３００分かけて焼成させることができ、焼成時間は、焼成温度、ジアルキル亜鉛およびジアルキル亜鉛部分加水分解物の少なくともいずれか１つを含有する溶液、塗布膜の膜厚などにより適宜設定できる。
前記のようにして得られる酸化亜鉛薄膜の膜厚は、例えば、０．００５～３μｍであることができる。１回の操作で成形される酸化亜鉛薄膜の膜厚は、ジアルキル亜鉛およびジアルキル亜鉛部分加水分解物の少なくともいずれか１つを含有する溶液の組成や濃度、塗布方法や条件を調整することで調整でき、さらに必要に応じ、前記の塗布、乾燥、焼成の工程を複数回繰り返すことにより、前述の膜厚より厚いものを得ることもできる。
必要に応じて前記のようにして得られた酸化亜鉛薄膜を、酸素等の酸化ガス雰囲気下、水素等の還元ガス雰囲気下、多量に水分が存在する水蒸気雰囲気下、またはアルゴン、窒素、酸素等のプラズマ雰囲気下で、所定の温度で加熱することにより酸化亜鉛の結晶性、緻密性を向上させることもできる。紫外線等の光照射やマイクロ波処理により得られた酸化亜鉛薄膜中の残存有機物等を除去することができる。
以下、本発明を実施例に基づいて更に詳細に説明する。但し、実施例は本発明の例示であって、本発明は実施例に限定される意図ではない。
本発明のジアルキル亜鉛およびジアルキル亜鉛部分加水分解物の少なくともいずれか１つを含有する溶液の調製は、窒素ガス雰囲気下で行い、溶媒は全て脱水および脱気して使用した。
＜物性測定＞
本発明のジアルキル亜鉛含有溶液、ジアルキル亜鉛部分加水分解物含有溶液をＣ6Ｄ6に溶解させた後、ＮＭＲ装置（ＪＥＯＬ ＲＥＳＯＮＡＮＣＥ社製「ＪＮＭ－ＥＣＡ５００」）にて１Ｈ－ＮＭＲ測定を実施した。
本発明のジアルキル亜鉛含有溶液、ジアルキル亜鉛部分加水分解物含有溶液をＣ6Ｄ6に溶解させた後、ＮＭＲ装置（ＪＥＯＬ ＲＥＳＯＮＡＮＣＥ社製「ＪＮＭ－ＥＣＡ５００」）にて１Ｈ－ＮＭＲ測定を実施した。
本発明の製造方法により作成された酸化亜鉛薄膜は、ＦＴ－ＩＲ分光装置（日本分光社製「ＦＴ／ＩＲ－４１００」）にてＺｎＳｅプリズムを用いたＡＴＲ（Ａｔｔｅｎｕａｔｅｄ Ｔｏｔａｌ Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ：全反射）法によりＡＴＲ補正なしで相対的にＩＲ測定を実施した。
本来ＺｎＳｅプリズムを用いた場合、屈折率が１．７を超える薄膜の測定は難しく、一般的な酸化亜鉛の屈折率が１．９であることを考えると測定は難しいと想定された。しかし、驚くべきことに測定が可能であった。
本発明の製造方法により作成された酸化亜鉛薄膜の膜厚測定は、膜の一部をナイフで削り取り、触針式表面形状測定装置（ブルカーナノ社製、ＤｅｋｔａｋＸＴ－Ｓ）を用いて実施した。
酸化亜鉛薄膜の均質性（割れ・剥がれの有無）については、光学顕微鏡を用いて、目視で、割れ、剥がれの有無を確認し、以下の評価とした（表２、３）。
○・・・薄膜に割れ・剥がれ等が見られない。
△・・・薄膜に剥がれはないが、割れがわずかにみられる。
×・・・薄膜に割れ・剥がれ等が顕著に観察される。
○・・・薄膜に割れ・剥がれ等が見られない。
△・・・薄膜に剥がれはないが、割れがわずかにみられる。
×・・・薄膜に割れ・剥がれ等が顕著に観察される。
［参考例１］
１，２－ジエトキシエタン３６０．０２ｇとジエチル亜鉛４０ｇを室温で混合したものを－１１℃に冷却し、撹拌下で１２．３質量％水含有ＴＨＦ溶液２８．５ｇ（［水］／［ジエチル亜鉛］＝０．６）を３．５時間かけて滴下して加えた。－１０℃で４０分熟成した後、２５℃まで放温しながら、終夜攪拌を続けることにより熟成反応を行い、薄黄色透明なジエチル亜鉛部分加水分解組成物１，２－ジエトキシエタン溶液（組成物Ａ）を得た。
１，２－ジエトキシエタン３６０．０２ｇとジエチル亜鉛４０ｇを室温で混合したものを－１１℃に冷却し、撹拌下で１２．３質量％水含有ＴＨＦ溶液２８．５ｇ（［水］／［ジエチル亜鉛］＝０．６）を３．５時間かけて滴下して加えた。－１０℃で４０分熟成した後、２５℃まで放温しながら、終夜攪拌を続けることにより熟成反応を行い、薄黄色透明なジエチル亜鉛部分加水分解組成物１，２－ジエトキシエタン溶液（組成物Ａ）を得た。
［参考例２］
トルエン１５．０ｇとトリエチルガリウム０．９１ｇとを室温で混合したものを－８℃に冷却し、撹拌下で２．８質量％水含有ＴＨＦ溶液３．６ｇを１５分かけて滴下した。得らえた反応混合物に、冷却した状態でトルエン２８３ｇとジエチル亜鉛３６ｇの混合物を２時間かけて加えた。滴下終了後、３０分撹拌の後、－１０℃に冷却した状態で、８．３質量％水含有ＴＨＦ溶液３６ｇ（［水］／［ジエチル亜鉛］＝０．６）を５．４時間かけて滴下して加えた。－１０℃で３０分熟成した後、２５℃まで放温しながら、終夜攪拌を続けることにより熟成反応を行い、薄黄色透明なジエチル亜鉛部分加水分解組成物トルエン溶液（組成物Ｂ）を得た。
トルエン１５．０ｇとトリエチルガリウム０．９１ｇとを室温で混合したものを－８℃に冷却し、撹拌下で２．８質量％水含有ＴＨＦ溶液３．６ｇを１５分かけて滴下した。得らえた反応混合物に、冷却した状態でトルエン２８３ｇとジエチル亜鉛３６ｇの混合物を２時間かけて加えた。滴下終了後、３０分撹拌の後、－１０℃に冷却した状態で、８．３質量％水含有ＴＨＦ溶液３６ｇ（［水］／［ジエチル亜鉛］＝０．６）を５．４時間かけて滴下して加えた。－１０℃で３０分熟成した後、２５℃まで放温しながら、終夜攪拌を続けることにより熟成反応を行い、薄黄色透明なジエチル亜鉛部分加水分解組成物トルエン溶液（組成物Ｂ）を得た。
［参考例３］
１，２－ジエトキシエタン３０．０ｇとトリエチルガリウム１．０２ｇとを室温で混合したものを－１１℃に冷却し、撹拌下で２．３４質量％水含有ＴＨＦ溶液５．１２ｇを１０分かけて滴下した。得らえた反応混合物に、冷却した状態で１，２－ジエトキシエタン３２５ｇとジエチル亜鉛４０ｇの混合物を４．４時間かけて加えた。滴下終了後、１０分撹拌の後、－１０℃に冷却した状態で、１１．２質量％水含有ＴＨＦ溶液２８．４ｇ（［水］／［ジエチル亜鉛］＝０．６）を１．２５時間かけて滴下して加えた。－１０℃で３０分熟成した後、２５℃まで放温しながら、終夜攪拌を続けることにより熟成反応を行い、無色透明なジエチル亜鉛部分加水分解組成物１，２－ジエトキシエタン溶液（組成物Ｃ）を得た。
１，２－ジエトキシエタン３０．０ｇとトリエチルガリウム１．０２ｇとを室温で混合したものを－１１℃に冷却し、撹拌下で２．３４質量％水含有ＴＨＦ溶液５．１２ｇを１０分かけて滴下した。得らえた反応混合物に、冷却した状態で１，２－ジエトキシエタン３２５ｇとジエチル亜鉛４０ｇの混合物を４．４時間かけて加えた。滴下終了後、１０分撹拌の後、－１０℃に冷却した状態で、１１．２質量％水含有ＴＨＦ溶液２８．４ｇ（［水］／［ジエチル亜鉛］＝０．６）を１．２５時間かけて滴下して加えた。－１０℃で３０分熟成した後、２５℃まで放温しながら、終夜攪拌を続けることにより熟成反応を行い、無色透明なジエチル亜鉛部分加水分解組成物１，２－ジエトキシエタン溶液（組成物Ｃ）を得た。
［参考例４］
キシレン２０．０ｇとトリエチルガリウム２．０３ｇとを室温で混合したものを－１１℃に冷却し、撹拌下で７．２質量％水含有ＴＨＦ溶液３．２３ｇを１０分かけて滴下した。得らえた反応混合物に、冷却した状態でキシレン４２０ｇとジエチル亜鉛８０ｇの混合物を３時間かけて加えた。滴下終了後、２６分撹拌の後、－１３℃に冷却した状態で、１０．１質量％水含有ＴＨＦ溶液６６．７７ｇ（［水］／［ジエチル亜鉛］＝０．６）を３．４時間かけて滴下して加えた。－１２℃で１５分熟成した後に、２５℃まで放温しながら、終夜攪拌を続けることにより熟成反応を行った。熟成後に得られた溶液について微量の濁りを濾過することで、薄黄色透明なジエチル亜鉛部分加水分解組成物キシレン溶液（組成物Ｄ）を得た。
キシレン２０．０ｇとトリエチルガリウム２．０３ｇとを室温で混合したものを－１１℃に冷却し、撹拌下で７．２質量％水含有ＴＨＦ溶液３．２３ｇを１０分かけて滴下した。得らえた反応混合物に、冷却した状態でキシレン４２０ｇとジエチル亜鉛８０ｇの混合物を３時間かけて加えた。滴下終了後、２６分撹拌の後、－１３℃に冷却した状態で、１０．１質量％水含有ＴＨＦ溶液６６．７７ｇ（［水］／［ジエチル亜鉛］＝０．６）を３．４時間かけて滴下して加えた。－１２℃で１５分熟成した後に、２５℃まで放温しながら、終夜攪拌を続けることにより熟成反応を行った。熟成後に得られた溶液について微量の濁りを濾過することで、薄黄色透明なジエチル亜鉛部分加水分解組成物キシレン溶液（組成物Ｄ）を得た。
［参考例５］
Ｎ－メチル－２－ピロリドン（以下、ＮＭＰ）２０４．５６ｇとジエチル亜鉛２２．７３ｇとを室温で混合したものを－１１℃に冷却し、撹拌下で１１．４質量％水含有ＮＭＰ溶液１７．４９ｇを１．７時間かけて滴下した。－１０℃で３０分熟成した後、さらに、撹拌下で１２．８質量％水含有ＮＭＰ溶液１．１７ｇを１時間かけて滴下した（水の添加量の合計として、［水］／［ジエチル亜鉛］＝０．６５（モル比））。２５℃まで放温しながら、終夜攪拌を続けることにより熟成反応を行い、無色透明なジエチル亜鉛部分加水分解組成物１，２－ジエトキシエタン溶液（組成物Ｅ）を得た。
Ｎ－メチル－２－ピロリドン（以下、ＮＭＰ）２０４．５６ｇとジエチル亜鉛２２．７３ｇとを室温で混合したものを－１１℃に冷却し、撹拌下で１１．４質量％水含有ＮＭＰ溶液１７．４９ｇを１．７時間かけて滴下した。－１０℃で３０分熟成した後、さらに、撹拌下で１２．８質量％水含有ＮＭＰ溶液１．１７ｇを１時間かけて滴下した（水の添加量の合計として、［水］／［ジエチル亜鉛］＝０．６５（モル比））。２５℃まで放温しながら、終夜攪拌を続けることにより熟成反応を行い、無色透明なジエチル亜鉛部分加水分解組成物１，２－ジエトキシエタン溶液（組成物Ｅ）を得た。
［実施例１～２０］
上記、参考例１～５の各ジアルキル亜鉛部分加水分解物含有溶液に、アルコキシ基を有するジケトン化合物を表１に記載の量比で窒素雰囲気下で添加し、室温で混合することで本発明の溶液（組成物１～２０）を調製した。
また、参考例１～５の組成物Ａ～Ｅも、酸化亜鉛薄膜形成の評価のために各２５ｇずつ小分けした。
上記、参考例１～５の各ジアルキル亜鉛部分加水分解物含有溶液に、アルコキシ基を有するジケトン化合物を表１に記載の量比で窒素雰囲気下で添加し、室温で混合することで本発明の溶液（組成物１～２０）を調製した。
また、参考例１～５の組成物Ａ～Ｅも、酸化亜鉛薄膜形成の評価のために各２５ｇずつ小分けした。
［実施例２１］
ジエチル亜鉛部分加水分解組成物１，２－ジエトキシエタン溶液（組成物Ａ）にアセト酢酸エチルを添加した実施例１の組成物（組成物１）を、湿気を含む空気雰囲気下（湿度：６５％）、室温（温度：２３℃）で、１５ｍｍ角のガラス基板（コーニング社製、ＥａｇｌｅＸＧ）上に５０μｌ滴下し、スピンコーターにより１０００ｒｐｍ、２０秒間スピンして塗布した。１００℃で２分乾燥を兼ねた加熱を実施することで薄膜を形成させた。得られた酸化亜鉛薄膜の垂直透過率を測定した。スペクトルを図１に示す。得られた薄膜の５５０ｎｍの光の垂直透過率は９９％であった。紫外領域の垂直透過率が低いことから酸化亜鉛の形成が確認された。また、膜に剥がれや割れ等は見られなかった。得られた薄膜の膜厚は９０ｎｍであった。
ジエチル亜鉛部分加水分解組成物１，２－ジエトキシエタン溶液（組成物Ａ）にアセト酢酸エチルを添加した実施例１の組成物（組成物１）を、湿気を含む空気雰囲気下（湿度：６５％）、室温（温度：２３℃）で、１５ｍｍ角のガラス基板（コーニング社製、ＥａｇｌｅＸＧ）上に５０μｌ滴下し、スピンコーターにより１０００ｒｐｍ、２０秒間スピンして塗布した。１００℃で２分乾燥を兼ねた加熱を実施することで薄膜を形成させた。得られた酸化亜鉛薄膜の垂直透過率を測定した。スペクトルを図１に示す。得られた薄膜の５５０ｎｍの光の垂直透過率は９９％であった。紫外領域の垂直透過率が低いことから酸化亜鉛の形成が確認された。また、膜に剥がれや割れ等は見られなかった。得られた薄膜の膜厚は９０ｎｍであった。
ＡＴＲ法によるＩＲ測定したところ、図２のようなスペクトルが得られた。５５０から１５００ｃｍ-1付近にブロードなＺｎ－Ｏ－Ｚｎの振動ピークが確認され、Ｚｎ－Ｏ－Ｚｎの形成が確認できた。したがって、酸化亜鉛薄膜の形成が確認された。３０００ｃｍ-1付近の有機物の振動ピークがほとんどないため、残存有機物が少ないことが確認できた。
［比較例１］
参考例１で得られたジエチル亜鉛部分加水分解組成物１，２－ジエトキシエタン溶液（組成物Ａ）のみを用いたこと以外は実施例１と同様にして薄膜を形成させた。垂直透過率を測定したところ、５５０ｎｍの光の垂直透過率は６５％であり、８０％未満の不透明な薄膜になった。また、膜に剥がれが見られ基板への密着性も劣っていた。
参考例１で得られたジエチル亜鉛部分加水分解組成物１，２－ジエトキシエタン溶液（組成物Ａ）のみを用いたこと以外は実施例１と同様にして薄膜を形成させた。垂直透過率を測定したところ、５５０ｎｍの光の垂直透過率は６５％であり、８０％未満の不透明な薄膜になった。また、膜に剥がれが見られ基板への密着性も劣っていた。
［実施例２２～２７］
実施例１で得られた組成物１、実施例７で得られた組成物７、実施例６で得られた組成物６、および、実施例８で得られた組成物８について、それぞれ、実施例２１記載の方法で基板に塗布し、１００℃あるいは５００℃で２分乾燥を兼ねた加熱を実施することでそれぞれ薄膜を形成させた。成膜時の相対湿度は、得られた酸化亜鉛薄膜はいずれも９０％以上の透明な薄膜で、膜に剥がれや割れ等は見られなかった。
実施例１で得られた組成物１、実施例７で得られた組成物７、実施例６で得られた組成物６、および、実施例８で得られた組成物８について、それぞれ、実施例２１記載の方法で基板に塗布し、１００℃あるいは５００℃で２分乾燥を兼ねた加熱を実施することでそれぞれ薄膜を形成させた。成膜時の相対湿度は、得られた酸化亜鉛薄膜はいずれも９０％以上の透明な薄膜で、膜に剥がれや割れ等は見られなかった。
［比較例２～６］
参考例１で得られた組成物Ａ、参考例４で得られた組成物Ｄ、および、参考例３で得られた組成物Ｃについて、それぞれ、実施例２１記載の方法で基板に塗布し、１００℃あるいは５００℃で２分乾燥を兼ねた加熱を実施することでそれぞれ薄膜を形成させた。１００℃で成膜した酸化亜鉛薄膜はいずれも膜に剥がれが見られた。また、５００℃で成膜した酸化亜鉛薄膜は、膜に剥がれが見られるとともに、いずれも８０％未満の不透明な薄膜になった。
参考例１で得られた組成物Ａ、参考例４で得られた組成物Ｄ、および、参考例３で得られた組成物Ｃについて、それぞれ、実施例２１記載の方法で基板に塗布し、１００℃あるいは５００℃で２分乾燥を兼ねた加熱を実施することでそれぞれ薄膜を形成させた。１００℃で成膜した酸化亜鉛薄膜はいずれも膜に剥がれが見られた。また、５００℃で成膜した酸化亜鉛薄膜は、膜に剥がれが見られるとともに、いずれも８０％未満の不透明な薄膜になった。
［実施例２８～３５］
実施例２～５で得られた、組成物Ｂに濃度の異なるアセト酢酸エチルを共存させた組成物２～５について、それぞれ、実施例２１記載の方法で基板に塗布し、１００℃あるいは５００℃で２分乾燥を兼ねた加熱を実施することでそれぞれ薄膜を形成させた。得られた酸化亜鉛薄膜はいずれも９０％以上の透明な薄膜であった。亜鉛に対するアルコキシ基を有するジケトン化合物のモル比が０．１以上の組成物は膜に剥がれや割れ等は見られなかった。また、前記モル比が０．０５、０．０２の組成物であっても、わずかにひび割れが観測される程度であり、顕著な剥がれ等は見られなかった。
実施例２～５で得られた、組成物Ｂに濃度の異なるアセト酢酸エチルを共存させた組成物２～５について、それぞれ、実施例２１記載の方法で基板に塗布し、１００℃あるいは５００℃で２分乾燥を兼ねた加熱を実施することでそれぞれ薄膜を形成させた。得られた酸化亜鉛薄膜はいずれも９０％以上の透明な薄膜であった。亜鉛に対するアルコキシ基を有するジケトン化合物のモル比が０．１以上の組成物は膜に剥がれや割れ等は見られなかった。また、前記モル比が０．０５、０．０２の組成物であっても、わずかにひび割れが観測される程度であり、顕著な剥がれ等は見られなかった。
［比較例７、８］
参考例２で得られた組成物Ｂのみについて、それぞれ、実施例２１記載の方法で基板に塗布し、１００℃あるいは５００℃で２分乾燥を兼ねた加熱を実施することでそれぞれ薄膜を形成させた。１００℃あるいは５００℃で成膜した酸化亜鉛薄膜のいずれからも、膜に剥がれが見られるとともに、いずれも８０％未満の不透明な薄膜になった。
参考例２で得られた組成物Ｂのみについて、それぞれ、実施例２１記載の方法で基板に塗布し、１００℃あるいは５００℃で２分乾燥を兼ねた加熱を実施することでそれぞれ薄膜を形成させた。１００℃あるいは５００℃で成膜した酸化亜鉛薄膜のいずれからも、膜に剥がれが見られるとともに、いずれも８０％未満の不透明な薄膜になった。
［実施例３６、３７］
実施例２０で得られた組成物２０について、それぞれ、実施例２１記載の方法で基板に塗布し、１００℃あるいは５００℃で２分乾燥を兼ねた加熱を実施することでそれぞれ薄膜を形成させた。得られた酸化亜鉛薄膜はいずれも９５％以上の透明な薄膜であった。亜鉛に対するアルコキシ基を有するジケトン化合物のモル比が０．１以上の組成物を用いて得られた酸化亜鉛薄膜に剥がれや割れ等は見られなかった。
実施例２０で得られた組成物２０について、それぞれ、実施例２１記載の方法で基板に塗布し、１００℃あるいは５００℃で２分乾燥を兼ねた加熱を実施することでそれぞれ薄膜を形成させた。得られた酸化亜鉛薄膜はいずれも９５％以上の透明な薄膜であった。亜鉛に対するアルコキシ基を有するジケトン化合物のモル比が０．１以上の組成物を用いて得られた酸化亜鉛薄膜に剥がれや割れ等は見られなかった。
［実施例３８～５６］
種々のアルコキシ基を有するジケトン化合物を組成物Ｂに添加することで得られた実施例１０～１９の各組成物１０～１９について、それぞれ、実施例２１記載の方法で基板に塗布し、１００℃あるいは５００℃で２分乾燥を兼ねた加熱を実施することでそれぞれ薄膜を形成させた。得られた酸化亜鉛薄膜はいずれも９０％以上の透明な薄膜であった。また、得られた酸化亜鉛薄膜に剥がれや割れ等は見られなかった。
種々のアルコキシ基を有するジケトン化合物を組成物Ｂに添加することで得られた実施例１０～１９の各組成物１０～１９について、それぞれ、実施例２１記載の方法で基板に塗布し、１００℃あるいは５００℃で２分乾燥を兼ねた加熱を実施することでそれぞれ薄膜を形成させた。得られた酸化亜鉛薄膜はいずれも９０％以上の透明な薄膜であった。また、得られた酸化亜鉛薄膜に剥がれや割れ等は見られなかった。
［実施例５７］
トルエン１５５．７２ｇ、ジエチル亜鉛１７．３０ｇ、トリエチルガリウム０．４４ｇ、および、アセト酢酸エチル０．５９ｇを室温で混合し、アルコキシ基を有するジケトン化合物を含むジエチル亜鉛を含むトルエン溶液（組成物Ｆ）を調製した。
トルエン１５５．７２ｇ、ジエチル亜鉛１７．３０ｇ、トリエチルガリウム０．４４ｇ、および、アセト酢酸エチル０．５９ｇを室温で混合し、アルコキシ基を有するジケトン化合物を含むジエチル亜鉛を含むトルエン溶液（組成物Ｆ）を調製した。
この組成物Ｆをスプレーノズルより１ｍｌ／分で３２分間、２００℃に加熱された基板に吹き付けて、大気中でスプレー成膜を行った。成膜時の相対湿度は７３～７５％であった。
得られた薄膜の垂直透過率を測定したところ、図３のようなスペクトルが得られ、５５０ｎｍの光の垂直透過率は９１％であった。紫外領域の垂直透過率が低いことから酸化亜鉛の形成が確認された。ＡＴＲ法によるＩＲ測定したところ、図４のようなスペクトルが得られた。５５０から１５００ｃｍ-1付近にブロードなＺｎ－Ｏ－Ｚｎの振動ピークが確認され、Ｚｎ－Ｏ－Ｚｎの形成が確認できた。したがって、酸化亜鉛薄膜の形成が確認された。３０００ｃｍ-1付近の有機物の振動ピークがほとんどないため、残存有機物が少ないことが確認できた。得らえた薄膜の膜厚は８２１ｎｍであった。また、波長２５４ｎｍのＵＶ照射５分により薄膜は低抵抗化し、１０８０Ω／□を得た。
［実施例５８］
実施例５７において、トリエチルガリウムを含まないこと以外は、実施例５７の方法と同様にして、アルコキシ基を有するジケトン化合物を含むジエチル亜鉛を含むトルエン溶液（組成物Ｇ）を調製した。
この組成物Ｆをスプレーノズルより１ｍｌ／分で３２分間、２００℃に加熱された基板に吹き付けて、大気中でスプレー成膜を行った。成膜時の相対湿度は７３～７５％であった。
実施例５７において、トリエチルガリウムを含まないこと以外は、実施例５７の方法と同様にして、アルコキシ基を有するジケトン化合物を含むジエチル亜鉛を含むトルエン溶液（組成物Ｇ）を調製した。
この組成物Ｆをスプレーノズルより１ｍｌ／分で３２分間、２００℃に加熱された基板に吹き付けて、大気中でスプレー成膜を行った。成膜時の相対湿度は７３～７５％であった。
実施例５７と同様に、得られた薄膜の垂直透過率を測定したところ、５５０ｎｍの光の垂直透過率は９２％であり、紫外領域の垂直透過率は低かった。また、実施例５７と同様に得られた薄膜について、ＡＴＲ法によるＩＲ測定を行い、Ｚｎ－Ｏ－Ｚｎの形成を確認した。以上より、実施例５７の操作において酸化亜鉛薄膜の形成が確認された。３０００ｃｍ-1付近の有機物の振動ピークがほとんどないため、残存有機物が少ないことが確認できた。
本発明は、酸化亜鉛薄膜の製造分野に有用である。酸化亜鉛薄膜は光触媒膜、紫外線カット膜、赤外線反射膜、ＣＩＧＳ、有機薄膜太陽電池のバッファ層、色素増感太陽電池の電極膜、帯電防止膜、薄膜トランジスタ、化合物半導体発光素子、蛍光体素子、抗菌・脱臭膜、圧電膜、バリスタ膜、メッキ膜などに供することができる。
Claims (8)
- アルコキシ基を有するジケトン化合物、下記一般式（１）で表されるジアルキル亜鉛及び／又は当該ジアルキル亜鉛の部分加水分解物、及び溶媒を含有し、前記アルコキシ基を有するジケトン化合物が、下記一般式（２）若しくは一般式（３）で示される化合物、又はそれらの混合物であり、
前記ジアルキル亜鉛の部分加水分解物は、酸化亜鉛及び析出物を含まない、下記一般式（４）で表される部分加水分解物であり、前記溶媒が、脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、芳香族炭化水素、炭化水素系溶媒、エーテル化合物、エチレングリコールジアルキルエーテル化合物、ジエチレングリコールジアルキルエーテル化合物、トリエチレングリコールジアルキルエーテル化合物、プロピレングリコールジアルキル化合物、ジプロピレングリコールジアルキル、およびトリプロピレングリコールジアルキル化合物から成る群から選ばれる少なくとも１種の溶媒であり、相対湿度３５～８０％の雰囲気下で基材に塗布して基材上に、割れ及び剥がれを有さず、かつ５５０ｎｍの可視光線に対して８０％以上の透過率を有する酸化亜鉛薄膜を製造する方法に用いるための溶液。
- 前記アルコキシ基を有するジケトン化合物が、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸イソプロピル、アセト酢酸ブチル及びピルビン酸エチル、又はそれらの混合物である、請求項１に記載の溶液。
- 前記アルコキシ基を有するジケトン化合物が、ジアルキル亜鉛又はジアルキル亜鉛の部分加水分解物中の亜鉛に対するモル比で０．０１～２の範囲で含有される、請求項１～２のいずれか１項に記載の溶液。
- 前記ジアルキル亜鉛がジエチル亜鉛である、請求項１～３のいずれか１項に記載の溶液。
- 請求項１～４のいずれか１項に記載の溶液を相対湿度３５～８０％の雰囲気下で基材に塗布する工程を含む、割れ及び剥がれを有さず、かつ５５０ｎｍの可視光線に対して８０％以上の透過率を有する酸化亜鉛薄膜の製造方法。
- 基材を加熱する工程を含む請求項５に記載の製造方法。
- ５００℃以下の温度で基材を加熱した状態において、前記溶液を基材に塗布する請求項５又は６に記載の製造方法。
- 前記塗布を空気中で行う請求項５～７のいずれか１項に記載の製造方法。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2017017300A JP7015112B2 (ja) | 2017-02-02 | 2017-02-02 | ジアルキル亜鉛およびジアルキル亜鉛部分加水分解物含有溶液、並びにこれらの溶液を用いる酸化亜鉛薄膜の製造方法 |
| KR1020197023428A KR102454816B1 (ko) | 2017-02-02 | 2018-01-30 | 다이알킬아연 및 다이알킬아연 부분가수분해물 함유 용액, 그리고 이러한 용액을 이용하는 산화아연 박막의 제조방법 |
| EP18747943.1A EP3578540B1 (en) | 2017-02-02 | 2018-01-30 | Dialkylzinc- and dialkylzinc partial hydrolysate-containing solution, and method for producing zinc oxide thin film using solution |
| PCT/JP2018/002862 WO2018143156A1 (ja) | 2017-02-02 | 2018-01-30 | ジアルキル亜鉛およびジアルキル亜鉛部分加水分解物含有溶液、並びにこれらの溶液を用いる酸化亜鉛薄膜の製造方法 |
| CN201880009707.5A CN110234623B (zh) | 2017-02-02 | 2018-01-30 | 含二烷基锌和二烷基锌部分水解物的溶液、以及使用这些溶液的氧化锌薄膜的制造方法 |
| US16/481,104 US11453786B2 (en) | 2017-02-02 | 2018-01-30 | Dialkylzinc- and dialkylzinc partial hydrolysate-containing solution, and method for producing zinc oxide thin film using solution |
| TW107103770A TWI753095B (zh) | 2017-02-02 | 2018-02-02 | 含二烷基鋅及二烷基鋅部分水解物之溶液及使用彼等溶液之氧化鋅薄膜之製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2017017300A JP7015112B2 (ja) | 2017-02-02 | 2017-02-02 | ジアルキル亜鉛およびジアルキル亜鉛部分加水分解物含有溶液、並びにこれらの溶液を用いる酸化亜鉛薄膜の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2018123095A JP2018123095A (ja) | 2018-08-09 |
| JP7015112B2 true JP7015112B2 (ja) | 2022-02-15 |
Family
ID=63040565
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2017017300A Active JP7015112B2 (ja) | 2017-02-02 | 2017-02-02 | ジアルキル亜鉛およびジアルキル亜鉛部分加水分解物含有溶液、並びにこれらの溶液を用いる酸化亜鉛薄膜の製造方法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US11453786B2 (ja) |
| EP (1) | EP3578540B1 (ja) |
| JP (1) | JP7015112B2 (ja) |
| KR (1) | KR102454816B1 (ja) |
| CN (1) | CN110234623B (ja) |
| TW (1) | TWI753095B (ja) |
| WO (1) | WO2018143156A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2023214543A1 (ja) * | 2022-05-06 | 2023-11-09 | 東ソー・ファインケム株式会社 | 酸化亜鉛被膜を有する物品およびその製造方法ならびに脱臭方法 |
Citations (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005350423A (ja) | 2004-06-14 | 2005-12-22 | Asahi Denka Kogyo Kk | 薄膜形成用原料及び薄膜の製造方法 |
| JP2006342960A (ja) | 2005-05-09 | 2006-12-21 | Osaka Gas Co Ltd | 漏洩抑止シール方法 |
| JP2008013653A (ja) | 2006-07-05 | 2008-01-24 | Nissha Printing Co Ltd | 透明導電膜形成用インキとその製造方法 |
| JP2008088511A (ja) | 2006-10-03 | 2008-04-17 | Adeka Corp | 薄膜形成用原料、薄膜の製造方法及び亜鉛化合物 |
| JP2008120686A (ja) | 2006-11-08 | 2008-05-29 | Adeka Corp | 亜鉛化合物、該亜鉛化合物を含有してなる薄膜形成用原料及び薄膜の製造方法 |
| JP2009120873A (ja) | 2007-11-12 | 2009-06-04 | Dainippon Printing Co Ltd | 金属酸化物膜の製造方法 |
| JP2010254481A (ja) | 2009-04-21 | 2010-11-11 | Tosoh Finechem Corp | 酸化亜鉛薄膜製造用組成物とそれを用いた酸化亜鉛薄膜の製造方法 |
| JP2011170979A (ja) | 2010-02-16 | 2011-09-01 | Univ Of Miyazaki | 酸化亜鉛薄膜製造方法、およびこの方法で製造した帯電防止薄膜、紫外線カット薄膜、透明電極薄膜 |
| JP2011168407A (ja) | 2010-02-16 | 2011-09-01 | Tosoh Finechem Corp | 酸化亜鉛薄膜製造用組成物 |
| JP2012087019A (ja) | 2010-10-20 | 2012-05-10 | Tosoh Finechem Corp | 酸化亜鉛薄膜製造用組成物およびドープ酸化亜鉛薄膜製造用組成物 |
| WO2012120918A1 (ja) | 2011-03-09 | 2012-09-13 | 株式会社Adeka | 酸化亜鉛系膜形成用組成物、酸化亜鉛系膜の製造方法、及び亜鉛化合物 |
| JP2012184192A (ja) | 2011-03-04 | 2012-09-27 | Tosoh Corp | 亜鉛アルコキシ錯体及びその製造法、並びにその用途 |
| JP2016216292A (ja) | 2015-05-19 | 2016-12-22 | 東ソー・ファインケム株式会社 | ジアルキル亜鉛部分加水分解物含有溶液及びこの溶液を用いる酸化亜鉛薄膜の製造方法 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07182939A (ja) * | 1993-12-22 | 1995-07-21 | Mitsubishi Materials Corp | 透明導電膜形成用組成物及び透明導電膜形成方法 |
| JPH1152600A (ja) | 1997-07-30 | 1999-02-26 | Canon Inc | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び電子写真装置 |
| CN102482113B (zh) * | 2009-04-21 | 2015-08-26 | 东曹精细化工株式会社 | 掺杂或非掺杂的氧化锌薄膜制造用组合物以及使用其的氧化锌薄膜的制造方法 |
| WO2012053542A1 (ja) | 2010-10-20 | 2012-04-26 | 東ソー・ファインケム株式会社 | 酸化物薄膜製造用組成物およびこの組成物を用いる酸化物薄膜の製造方法 |
| CN104254495B (zh) * | 2012-04-25 | 2017-03-29 | 东曹精细化工株式会社 | 复合氧化物薄膜制造用组合物和使用该组合物的薄膜的制造方法、以及复合氧化物薄膜 |
-
2017
- 2017-02-02 JP JP2017017300A patent/JP7015112B2/ja active Active
-
2018
- 2018-01-30 US US16/481,104 patent/US11453786B2/en active Active
- 2018-01-30 EP EP18747943.1A patent/EP3578540B1/en active Active
- 2018-01-30 CN CN201880009707.5A patent/CN110234623B/zh active Active
- 2018-01-30 KR KR1020197023428A patent/KR102454816B1/ko active IP Right Grant
- 2018-01-30 WO PCT/JP2018/002862 patent/WO2018143156A1/ja unknown
- 2018-02-02 TW TW107103770A patent/TWI753095B/zh active
Patent Citations (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005350423A (ja) | 2004-06-14 | 2005-12-22 | Asahi Denka Kogyo Kk | 薄膜形成用原料及び薄膜の製造方法 |
| JP2006342960A (ja) | 2005-05-09 | 2006-12-21 | Osaka Gas Co Ltd | 漏洩抑止シール方法 |
| JP2008013653A (ja) | 2006-07-05 | 2008-01-24 | Nissha Printing Co Ltd | 透明導電膜形成用インキとその製造方法 |
| JP2008088511A (ja) | 2006-10-03 | 2008-04-17 | Adeka Corp | 薄膜形成用原料、薄膜の製造方法及び亜鉛化合物 |
| JP2008120686A (ja) | 2006-11-08 | 2008-05-29 | Adeka Corp | 亜鉛化合物、該亜鉛化合物を含有してなる薄膜形成用原料及び薄膜の製造方法 |
| JP2009120873A (ja) | 2007-11-12 | 2009-06-04 | Dainippon Printing Co Ltd | 金属酸化物膜の製造方法 |
| JP2010254481A (ja) | 2009-04-21 | 2010-11-11 | Tosoh Finechem Corp | 酸化亜鉛薄膜製造用組成物とそれを用いた酸化亜鉛薄膜の製造方法 |
| JP2011170979A (ja) | 2010-02-16 | 2011-09-01 | Univ Of Miyazaki | 酸化亜鉛薄膜製造方法、およびこの方法で製造した帯電防止薄膜、紫外線カット薄膜、透明電極薄膜 |
| JP2011168407A (ja) | 2010-02-16 | 2011-09-01 | Tosoh Finechem Corp | 酸化亜鉛薄膜製造用組成物 |
| JP2012087019A (ja) | 2010-10-20 | 2012-05-10 | Tosoh Finechem Corp | 酸化亜鉛薄膜製造用組成物およびドープ酸化亜鉛薄膜製造用組成物 |
| JP2012184192A (ja) | 2011-03-04 | 2012-09-27 | Tosoh Corp | 亜鉛アルコキシ錯体及びその製造法、並びにその用途 |
| WO2012120918A1 (ja) | 2011-03-09 | 2012-09-13 | 株式会社Adeka | 酸化亜鉛系膜形成用組成物、酸化亜鉛系膜の製造方法、及び亜鉛化合物 |
| JP2016216292A (ja) | 2015-05-19 | 2016-12-22 | 東ソー・ファインケム株式会社 | ジアルキル亜鉛部分加水分解物含有溶液及びこの溶液を用いる酸化亜鉛薄膜の製造方法 |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| European Journal of Inorganic Chemistry，2015年，pp. 3658-3665 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN110234623B (zh) | 2023-04-18 |
| EP3578540A4 (en) | 2020-12-16 |
| KR20190113824A (ko) | 2019-10-08 |
| KR102454816B1 (ko) | 2022-10-14 |
| CN110234623A (zh) | 2019-09-13 |
| US20210009813A1 (en) | 2021-01-14 |
| JP2018123095A (ja) | 2018-08-09 |
| TW201834962A (zh) | 2018-10-01 |
| US11453786B2 (en) | 2022-09-27 |
| EP3578540A1 (en) | 2019-12-11 |
| TWI753095B (zh) | 2022-01-21 |
| EP3578540B1 (en) | 2022-05-04 |
| WO2018143156A1 (ja) | 2018-08-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR102472173B1 (ko) | 화학적으로 안정한 알킬 알루미늄 용액, 알킬 알루미늄 가수분해 조성물 용액, 알루미늄 산화물막 도포형성용 조성물, 알루미늄 산화물막을 구비하는 물품, 그의 제조 방법, 산화알루미늄 박막의 제조 방법, 부동태막의 제조 방법, 부동태막, 그리고 그것을 이용한 태양 전지 소자 | |
| JP5288464B2 (ja) | 酸化亜鉛薄膜の製造方法 | |
| US10381488B2 (en) | Dialkylzinc partial hydrolysate-containing solution and method of production of zinc oxide thin film using the solution | |
| JP7015112B2 (ja) | ジアルキル亜鉛およびジアルキル亜鉛部分加水分解物含有溶液、並びにこれらの溶液を用いる酸化亜鉛薄膜の製造方法 | |
| JP7162402B2 (ja) | ポリオレフィン系ポリマーナノコンポジットの製造方法 | |
| JP6440409B2 (ja) | アルミニウム酸化物膜塗布形成用組成物、アルミニウム酸化物膜を有する物品の製造方法、及びアルミニウム酸化物膜を有する物品 | |
| JP6440408B2 (ja) | アルミニウム酸化物膜塗布形成用組成物、アルミニウム酸化物膜を有する物品の製造方法、及びアルミニウム酸化物膜を有する物品 | |
| JP2010254481A (ja) | 酸化亜鉛薄膜製造用組成物とそれを用いた酸化亜鉛薄膜の製造方法 | |
| JP6389732B2 (ja) | 第２族元素を含有する酸化亜鉛薄膜製造用組成物およびその製造方法 | |
| JP6487709B2 (ja) | 簡便な酸化アルミニウム薄膜の製造方法 | |
| JP5515144B2 (ja) | ドープ酸化亜鉛薄膜形成用組成物及びドープ酸化亜鉛薄膜の製造方法 | |
| JP6669449B2 (ja) | 化学的に安定なアルキルアルミニウム溶液、アルキルアルミニウム加水分解組成物溶液及び酸化アルミニウム薄膜の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20191121 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200728 |
|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20200925 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20201111 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210105 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210304 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210525 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210705 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20211005 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20211118 |
|
| C60 | Trial request (containing other claim documents, opposition documents) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C60 Effective date: 20211118 |
|
| A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20211129 |
|
| C21 | Notice of transfer of a case for reconsideration by examiners before appeal proceedings |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C21 Effective date: 20211130 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220118 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220121 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7015112 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |