JP7012143B2 - レチクルの搬送システム及び搬送方法 - Google Patents
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Description
前記回転マニピュレーターを移動させ、前記フォークが内部レチクル保管庫のレチクルをピックアップするようにするステップS1、
前記回転マニピュレーターが前記フォークをプリアライメントユニットに移動させるステップS2、
前記プリアライメントユニットは前記フォークによってピックアップされた前記レチクルの位置情報を検出し、前記回転マニピュレーターは前記微調整部材と協働して前記フォークによってピックアップされた前記レチクルに対してX方向、Y方向、Rz方向の位置偏差を補償して、前記フォークによってピックアップされた前記レチクルのプリアライメント工程を完成するステップS3、
前記フォークによってピックアップされた前記レチクルのX方向、Y方向、Rz方向を調整した後、前記回転マニピュレーターは前記フォークが前記レチクルをマスクステージに移送するようにするステップS4、
を通じてレチクルを搬送する。
前記レチクルを前記キャリアステージに置き、前記キャリアステージは前記ガイドレールによってレチクルの引き渡し位置に移動するステップ1、
前記回転マニピュレーターと前記微調整部材によってフォークの位置を調整し、また、フォークが前記キャリアステージ上のレチクルをピックアップするようにするステップ2、
前記回転マニピュレーターは前記フォークが前記フォークによってピックアップされた前記レチクルを前記内部レチクル保管庫に移動させるようにするステップ3、
を通じてレチクルを搬送する。
前記回転マニピュレーターは前記フォークが前記レチクルをピックアップするようにして前記レチクルを前記キャリアステージから移出するステップ31と、
前記回転マニピュレーターは前記フォークによってピックアップされた前記レチクルをコードスキャン位置に移動させて前記コードスキャンアセンブリによってスキャンした後、前記レチクルの情報をアップロードまたはスキャンして記録するステップ32と、
前記回転マニピュレーターが前記フォークによってピックアップされた前記レチクルを前記内部レチクル保管庫に移送するステップ33と、
を含むように設置される。
前記回転マニピュレーターを移動させ、前記フォーク3が内部レチクル保管庫1のレチクルをピックアップするようにするステップS1と、
前記回転マニピュレーターが前記フォーク3をプリアライメントユニット11に移動させるステップS2と、
前記プリアライメントユニットは前記フォーク3によってピックアップされた前記レチクルの位置情報を検出し、前記回転マニピュレーターは前記微調整部材4と協働して前記フォーク3によってピックアップされた前記レチクルに対してX方向、Y方向、Rz方向の位置偏差を補償して、レチクルのプリアライメント工程を完了するステップS3と、
前記フォーク3によってピックアップされた前記レチクルのX方向、Y方向、Rz方向を調整した後、前記回転マニピュレーターは前記フォーク3が前記レチクルを前記マスクステージ2に移送するようにするステップS4と、を含む。
前記レチクルを前記キャリアステージ9に置き、前記キャリアステージ9は前記ガイドレール8によってレチクルの引き渡し位置に移動するステップ1と、
前記回転マニピュレーターと前記微調整部材4によってフォーク3の位置を調整し、また、フォーク3が前記キャリアステージ9上のレチクルをピックアップするようにするステップ2と、
前記回転マニピュレーターは前記フォーク3が前記フォーク3によってピックアップされた前記レチクルを前記内部レチクル保管庫1に移動させるようにするステップ3と、
前記回転マニピュレーターは前記フォーク3が前記キャリアステージ上の前記レチクルをピックアップするようにした後、前記キャリアステージ9を前記供給口に移動させるステップ4と、
を通じてレチクルを外部から内部レチクル保管庫1に搬送する。
前記回転マニピュレーターは前記フォーク3が前記レチクルをピックアップするようにして前記レチクルを前記キャリアステージ9から移出するステップ31と、
前記回転マニピュレーターは前記フォーク3によってピックアップされた前記レチクルをコードスキャン位置に移動させて前記コードスキャンアセンブリ10によってスキャンした後、前記レチクルの情報をアップロードまたはスキャンして記録するステップ32と、
前記回転マニピュレーターは前記フォーク3によってピックアップされた前記レチクルを前記内部レチクル保管庫1に移送するステップ33と、を含む。
2.マスクステージ
3.フォーク
4.微調整部材
5.サブマニピュレーター
6.マニピュレーター本体
7.昇降アーム
8.ガイドレール
9.キャリアステージ
10.コードスキャンアセンブリ
11.プリアライメントユニット
Claims (18)
- レチクルを格納するための内部レチクル保管庫と、
レチクルを移送するための回転マニピュレーターと、
前記回転マニピュレーターに連結されて、レチクルをピックアップするためのフォークと、
微調整部材と、
を含み、
前記微調整部材は前記回転マニピュレーターと協働して前記フォークによってピックアップされた前記レチクルの位置偏差を補償して、レチクルのプリアライメントを実現し、
前記回転マニピュレーターはマニピュレーター本体及び前記マニピュレーター本体に回転可能に連結された昇降可能な昇降アームを含み、
前記昇降アームは伸縮構造により水平移動可能であり、
前記微調整部材は前記伸縮構造の末端に設けられた精密回転軸であり、前記フォークをX方向、Y方向、及びRz方向へ高精度に移動させるように構成されている、
ことを特徴とするレチクルの搬送システム。 - 前記伸縮構造は順次連結された複数のサブマニピュレーターを含み、
前記微調整部材は、互いに連結されたいずれの2つの前記サブマニピュレーターの間または前記回転マニピュレーターと前記フォークとの間に位置される、
ことを特徴とする請求項1に記載のレチクルの搬送システム。 - 前記回転マニピュレーターの一側に外部からレチクルを移送するための搬送構造が設けられており、
前記回転マニピュレーターは前記搬送構造上の前記レチクルを前記内部レチクル保管庫に移送するために用いられる、
ことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のレチクルの搬送システム。 - 前記レチクルはレチクルケースに載置され、
前記搬送構造は前記レチクルケースの移送に用いられる、
ことを特徴とする請求項3に記載のレチクルの搬送システム。 - 前記搬送構造は水平面に対して傾斜に設置されたガイドレール、及び前記ガイドレールに可動に連結されたキャリアステージを含み、
前記キャリアステージは前記レチクルの移送に用いられる、
ことを特徴とする請求項3に記載のレチクルの搬送システム。 - 前記内部レチクル保管庫が複数設けられている、
ことを特徴とする請求項1に記載のレチクルの搬送システム。 - 複数の前記内部レチクル保管庫と前記マニピュレーター本体との距離が異なる、
ことを特徴とする請求項6に記載のレチクルの搬送システム。 - 前記回転マニピュレーターの一側にコードスキャンアセンブリが設けられて前記レチクルのコード情報をスキャンする、
ことを特徴とする請求項1に記載のレチクルの搬送システム。 - 前記コードスキャンアセンブリは前記内部レチクル保管庫の一側に同時に位置されて、前記内部レチクル保管庫に位置する前記レチクルのコード情報をスキャンする、
ことを特徴とする請求項8に記載のレチクルの搬送システム。 - プリアライメントユニットをさらに含み、前記プリアライメントユニットは前記フォークによってピックアップされた前記レチクルのX方向、Y方向、及びRz方向の情報を検出し、また、検出した情報を直接または間接に前記微調整部材に伝達する、
ことを特徴とする請求項1に記載のレチクルの搬送システム。 - 前記回転マニピュレーターによる大範囲回転移動と比較して、
前記微調整部材は前記フォークによってピックアップされた前記レチクルを小範囲回転移動させる、
ことを特徴とする請求項1に記載のレチクルの搬送システム。 - レチクルの搬送方法において、
前記レチクルの搬送方法は内部レチクル保管庫、回転マニピュレーター、微調整部材及びフォークを用い、
前記回転マニピュレーターは、マニピュレーター本体及び前記マニピュレーター本体に回転可能に連結された昇降可能な昇降アームを含み、
前記昇降アームは伸縮構造により水平移動可能であり、前記フォークは前記微調整部材によって前記回転マニピュレーターに連結され、
前記微調整部材は前記伸縮構造の末端に設けられた精密回転軸であり、前記フォークをX方向、Y方向、及びRz方向へ高精度に移動させるように構成されており、
以下のステップ:
前記回転マニピュレーターを移動させ、前記フォークが内部レチクル保管庫のレチクルをピックアップするようにするステップS1、
前記回転マニピュレーターが前記フォークをプリアライメントユニットに移動させるステップS2、
前記プリアライメントユニットは前記フォークによってピックアップされた前記レチクルの位置情報を検出し、前記回転マニピュレーターは前記微調整部材と協働して前記フォークによってピックアップされた前記レチクルに対してX方向、Y方向、Rz方向の位置偏差を補償して、前記フォークによってピックアップされた前記レチクルのプリアライメント工程を完成するステップS3、
前記フォークによってピックアップされた前記レチクルのX方向、Y方向、Rz方向を調整した後、前記回転マニピュレーターは前記フォークが前記レチクルをマスクステージに移送するようにするステップS4、
を通じてレチクルを搬送するレチクルの搬送方法。 - 前記回転マニピュレーターによる大範囲回転移動と比較して、
前記微調整部材は前記フォークによってピックアップされた前記レチクルを小範囲回転移動させる、
ことを特徴とする請求項12に記載のレチクルの搬送方法。 - レチクルの搬送方法において、前記レチクルの搬送方法は、レチクルを搬送するための搬送構造、回転マニピュレーター、前記回転マニピュレーターと連結されたフォーク、内部レチクル保管庫、及び、微調整部材を用い、
前記搬送構造はガイドレール及び前記ガイドレールに可動に連結されたキャリアステージを含み、前記キャリアステージはレチクルを外部からレチクルを搬送するための供給口を通じて前記回転マニピュレーターの所まで移動させ、
前記回転マニピュレーターは、
マニピュレーター本体及び前記マニピュレーター本体に回転可能に連結された昇降可能な昇降アームを含み、
前記昇降アームは伸縮構造により水平移動可能であり、
前記微調整部材は前記伸縮構造の末端に設けられた精密回転軸であり、前記フォークをX方向、Y方向、及びRz方向へ高精度に移動させるように構成されており、
以下のステップ:
前記レチクルを前記キャリアステージに置き、前記キャリアステージは前記ガイドレールによってレチクルの引き渡し位置に移動するステップ1、
前記回転マニピュレーターと前記微調整部材によってフォークの位置を調整し、また、フォークが前記キャリアステージ上のレチクルをピックアップするようにするステップ2、
前記回転マニピュレーターは前記フォークが前記フォークによってピックアップされた前記レチクルを前記内部レチクル保管庫に移動させるようにするステップ3、
を通じて搬送するレチクルの搬送方法。 - 前記回転マニピュレーターは前記フォークが前記キャリアステージ上の前記レチクルをピックアップするようにした後、前記キャリアステージを前記供給口に移動させるステップ4をさらに含む、
ことを特徴とする請求項14に記載のレチクルの搬送方法。 - 前記回転マニピュレーターはマニピュレーター本体をさらに含み、前記マニピュレーター本体の一側にコードスキャンアセンブリが設けられている、
ことを特徴とする請求項14に記載のレチクルの搬送方法。 - 前記ステップ3は、
前記回転マニピュレーターは前記フォークが前記レチクルをピックアップするようにして前記レチクルを前記キャリアステージから移出するステップ31と、
前記回転マニピュレーターは前記フォークによってピックアップされた前記レチクルをコードスキャン位置に移動させて前記コードスキャンアセンブリによってスキャンした後、
前記レチクルの情報をアップロードまたはスキャンして記録するステップ32と、
前記回転マニピュレーターが前記フォークによってピックアップされた前記レチクルを前記内部レチクル保管庫に移送するステップ33と、
を含むことを特徴とする請求項16に記載のレチクルの搬送方法。 - 前記コードスキャンアセンブリが前記内部レチクル保管庫の中のレチクルに対してコードをスキャンした後アップロードまたは記録するステップをさらに含む、
ことを特徴とする請求項16に記載のレチクルの搬送方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201710719532.4 | 2017-08-21 | ||
CN201710719532.4A CN109426082A (zh) | 2017-08-21 | 2017-08-21 | 一种掩模版的传输系统以及传输方法 |
PCT/CN2018/101173 WO2019037672A1 (zh) | 2017-08-21 | 2018-08-17 | 一种掩模版的传输系统以及传输方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020532119A JP2020532119A (ja) | 2020-11-05 |
JP7012143B2 true JP7012143B2 (ja) | 2022-01-27 |
Family
ID=65439808
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020510090A Active JP7012143B2 (ja) | 2017-08-21 | 2018-08-17 | レチクルの搬送システム及び搬送方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20200356014A1 (ja) |
JP (1) | JP7012143B2 (ja) |
KR (1) | KR102379581B1 (ja) |
CN (1) | CN109426082A (ja) |
SG (1) | SG11202001474UA (ja) |
TW (1) | TWI720332B (ja) |
WO (1) | WO2019037672A1 (ja) |
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---|---|---|---|---|
CN110255156A (zh) * | 2019-06-29 | 2019-09-20 | 苏州精濑光电有限公司 | 一种中转装置 |
CN115298792A (zh) * | 2019-10-28 | 2022-11-04 | Asml荷兰有限公司 | 用于在带电粒子系统中对掩模进行检查和接地的系统 |
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US11774866B2 (en) | 2020-09-03 | 2023-10-03 | Kla Corporation | Active reticle carrier for in situ stage correction |
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-
2017
- 2017-08-21 CN CN201710719532.4A patent/CN109426082A/zh active Pending
-
2018
- 2018-08-17 JP JP2020510090A patent/JP7012143B2/ja active Active
- 2018-08-17 SG SG11202001474UA patent/SG11202001474UA/en unknown
- 2018-08-17 KR KR1020207007835A patent/KR102379581B1/ko active IP Right Grant
- 2018-08-17 US US16/640,540 patent/US20200356014A1/en not_active Abandoned
- 2018-08-17 WO PCT/CN2018/101173 patent/WO2019037672A1/zh active Application Filing
- 2018-08-20 TW TW107128997A patent/TWI720332B/zh active
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SG11202001474UA (en) | 2020-03-30 |
US20200356014A1 (en) | 2020-11-12 |
CN109426082A (zh) | 2019-03-05 |
TWI720332B (zh) | 2021-03-01 |
WO2019037672A1 (zh) | 2019-02-28 |
KR102379581B1 (ko) | 2022-03-28 |
TW201912342A (zh) | 2019-04-01 |
KR20200040846A (ko) | 2020-04-20 |
JP2020532119A (ja) | 2020-11-05 |
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A977 | Report on retrieval |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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