KR20200040846A - 마스크 이송 시스템 및 이송 방법 - Google Patents

마스크 이송 시스템 및 이송 방법 Download PDF

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Abstract

마스크 이송 시스템 및 이송 방법은 마스크를 저장하기 위해 사용되는 내부 마스크 저장부(1), 마스크를 이동시키기 위해 사용되는 회전식 기계 암, 및 회전하는 기계식 암에 연결되어 마스크를 픽업하기 위해 사용되는 마스크 포크(3)를 포함한다. 회전식 기계 암은, 마스크를 사전 정렬하기 위해, 마스크 포크에 의해 픽업된 마스크의 위치 편차를 보상하도록 회전식 기계 암과 협력하는 미세 조정편(4)을 구비한다. 상기 마스크 이송 시스템 및 이송 방법은 저비용 효과를 달성한다.

Description

마스크 이송 시스템 및 이송 방법
본 출원은 포토리소그래피 기술 분야에 속하며, 마스크 이송 시스템 및 마스크 이송 방법에 관한 것이다.
포토리소그래피 장치에서, 마스크는 마스크 전사 시스템에 의해 마스크 카세트로부터 마스크 스테이지로 이송된다.
마스크의 로딩 정확도가 높아야 하고 마스크 이송 시스템이 작업자와 직접 상호 작용하기 때문에, 높은 수준의 인체 공학이 필요하다. 마스크의 로딩 또는 언 로딩 과정 동안, 이송 시스템은 많은 이동 위치를 포함하며, 이는 높은 이송 신뢰성을 요구한다. 특히, 마스크가 포토리소그래피 장치의 내부 마스크 저장 부로부터 마스크 스테이지로 이송되는 경우, 마스크는 이송 기구에 의해 조정 스테이지 상에 배치 된 다음, 조정 스테이지는 마스크의 위치에 따라 자신의 동작을 제어하여 마스크의 X 방향, Y 방향 및 Rz 방향(즉, Z 축에 대한 회전 방향)을 조정하여 마스크를 마스크 스테이지 상에 원하는 위치 및 각도로 배치시킨다. 상기 모두가 마스크 전송 시스템의 비용을 상당히 증가시킨다.
본 출원의 목적은 고비용의 마스크 이송 시스템 문제를 해결하기 위한 마스크 이송 시스템 및 이송 방법을 제공하는 것이다.
상기 기술적 과제를 해결하기 위해, 본 출원은 마스크를 저장하기 위한 내부 마스크 저장부, 마스크를 이송하기 위한 회전식 조작기, 상기 회전식 조작기에 연결되어 마스크를 픽업하도록 구성된 마스크 포크, 및 미세 조정 부재를 포함하는 마스크 이송 시스템을 제공한다. 상기 마스크를 사전 정렬하기 위해, 상기 미세 조정 부재는 상기 회전식 조작기와 협력하여 상기 마스크 포크에 의해 픽업된 상기 마스크의 위치 오프셋을 보상하도록 구성된다.
본 출원은, 상기 회전식 조작기가 연속적으로 연결된 복수의 조작기 세그먼트를 포함하고, 상기 미세 조정 부재는 상기 연결된 조작기 세그먼트 중 2 개 사이 또는 상기 회전식 조작기와 상기 마스크 포크 사이에 위치되도록 추가 구성된다.
본 출원은, 상기 회전식 조작기가 조작기 본체 및 상기 조작기 본체에 회전 가능하게 연결된 승강식 리프팅 암을 포함하고, 상기 리프팅 암은 신축 부재(telescopic member)를 구비하도록 추가 구성된다.
본 출원은, 상기 신축 부재가 연속적으로 연결된 복수의 조작기 세그먼트를 포함하도록 추가 구성된다.
본 출원은, 이송 기구가 상기 회전식 조작기의 일측에 배치되고 외부 소스로부터 마스크를 이송하도록 구성되며, 상기 회전식 조작기는 상기 이송 기구상의 상기 마스크를 상기 내부 마스크 저장부로 이송하게 구성되도록 추가 구성된다.
본 출원은, 상기 마스크가 마스크 카세트에 유지되고, 상기 이송 기구는 상기 마스크 카세트를 이송하게 구성되도록 추가 구성된다.
본 출원은, 상기 이송 기구가 수평면에 대해 경사진 가이드 레일 및 상기 가이드 레일과 이동 가능하게 연결된 캐리어 스테이지를 포함하고, 상기 캐리어 스테이지는 상기 마스크를 이송하게 구성되도록 추가 구성된다.
본 출원은, 복수의 내부 마스크 저장부가 제공되도록 추가 구성된다.
본 출원은, 상기 복수의 내부 마스크 저장부 각각으로부터 상기 조작기 본체까지의 거리는 동일하도록 추가 구성된다.
본 출원은, 상기 회전식 조작기가 일측에 상기 마스크의 코드 정보를 스캐닝하기 위한 코드 스캐닝 요소를 구비하도록 추가 구성된다.
본 출원은, 상기 코드 스캐닝 요소는 또한 상기 내부 마스크 저장부의 일측에 위치되고 상기 내부 마스크 저장부에서 마스크의 코드 정보를 스캔하게 구성되도록 추가 구성된다.
본 출원은, 상기 마스크 이송 시스템이 상기 마스크 포크에 의해 픽업된 상기 마스크의 X 방향, Y 방향 및 Rz 방향 정보를 검출하고 상기 검출된 정보를 상기 미세 조정 부재에 직접 또는 간접적으로 전송하도록 구성된 사전 정렬부를 더 포함하도록 추가 구성된다.
본 출원은, 상기 미세 조정 부재는 정밀 회전축이고 상기 마스크 포크를 구동하여 회전하게 구성되도록 추가 구성된다.
본 출원은, 상기 미세 조정 부재가 상기 마스크 포크에 의해 픽업된 상기 마스크를 구동하여 소규모 회전 운동을 수행하게 구성되도록 추가 구성된다.
본 출원은 또한, 내부 마스크 저장부, 회전식 조작기, 미세 조정 부재 및 마스크 포크를 사용하는 마스크 이송 방법에 있어서, 상기 회전식 조작기는 연속적으로 연결된 복수의 조작기 세그먼트를 포함하고, 상기 마스크 포크는 상기 미세 조정 부재를 통해 상기 회전식 조작기에 연결되며, 상기 마스크 이송 방법은,
S1) 상기 회전식 조작기의 구동 하에서 상기 마스크 포크에 의해 상기 내부 마스크 저장부로부터 마스크를 픽업하는 단계;
S2) 상기 회전식 조작기의 구동하에 상기 마스크 포크를 사전 정렬부로 이동시키는 단계;
S3) 상기 사전 정렬부에 의해, 상기 마스크 포크에 의해 픽업된 상기 마스크의 위치 정보를 검출하고, 상기 미세 조정 부재와 협력하여 상기 회전식 조작기에 의해 상기 마스크 포크에 의해 픽업된 마스크의 X 방향, Y 방향 및 Rz 방향에서의 위치 오프셋을 보상하여 상기 마스크 포크에 의해 픽업된 상기 마스크를 사전 정렬하는 단계; 및
(S4) 상기 마스크 포크에 의해 픽업된 상기 마스크가 X 방향, Y 방향 및 Rz 방향으로 조정된 후, 상기 회전식 조작기의 구동하에 상기 마스크 포크에 의해 상기 마스크를 마스크 스테이지로 이송하는 단계를 통해 마스크를 이송하는, 마스크 이송 방법을 제공한다.
본 출원은, 상기 미세 조정 부재가 정밀 회전축이고 상기 마스크 포크를 구동하여 회전하게 구성되도록 추가 구성된다.
본 출원은, 상기 미세 조정 부재가 상기 마스크 포크에 의해 픽업된 상기 마스크를 구동하여 소규모의 회전 운동을 수행하게 구성되도록 추가 구성된다.
본 출원은, 상기 회전식 조작기가 조작기 본체 및 상기 조작기 본체에 회전 가능하게 연결된 승강식 리프팅 암을 포함하고, 상기 리프팅 암은 신축 부재를 구비하도록 추가 구성된다.
본 출원은, 마스크를 이송하기 위한 이송 기구, 회전식 조작기, 상기 회전식 조작기에 연결된 마스크 포크, 및 내부 마스크 저장부를 사용하는 마스크 이송 방법에 있어서, 상기 이송 기구는 가이드 레일 및 상기 가이드 레일에 이동 가능하게 연결된 캐리어 스테이지를 포함하며 상기 캐리어 스테이지는 마스크를 이송하기 위한 공급 포트를 통해 외부 소스로부터 상기 회전식 조작기로 마스크를 운반하도록 구성되고, 상기 회전식 조작기는 조작기 세그먼트 및 미세 조정 부재를 포함하며, 상기 마스크 이송 방법은,
1) 상기 캐리어 스테이지 상에 상기 마스크를 배치하고, 상기 가이드 레일의 구동하에 상기 캐리어 스테이지를 마스크 이송 위치로 이동시키는 단계;
2) 상기 회전식 조작기와 상기 미세 조정 부재의 구동하에, 상기 마스크 포크의 위치를 조정하고 상기 마스크 포크에 의해 상기 캐리어 스테이지 상의 상기 마스크를 픽업하는 단계; 및
3) 상기 회전식 조작기에 의해, 상기 마스크 포크에 의해 픽업된 상기 마스크를 상기 내부 마스크 저장부 내로 이동시키기 위해 상기 마스크 포크를 구동하는 단계를 통해 마스크를 이송하는 마스크 이송 방법을 제공한다.
본 출원은, 상기 마스크 이송 방법이 4) 상기 회전식 조작기의 구동하에 상기 마스크 포크에 의해 상기 캐리어 스테이지 상의 상기 마스크를 픽업한 다음, 상기 캐리어 스테이지를 상기 공급 포트로 이동하는 단계를 더 포함하도록 추가 구성된다.
본 출원은, 상기 회전식 조작기가 일측에 코드 스캐닝 요소를 구비하는 조작기를 포함하도록 추가 구성된다.
본 출원은, 단계 3)이
31) 상기 마스크를 상기 캐리어 스테이지로부터 이동시키기 위해, 상기 회전식 조작기의 구동하에 상기 마스크 포크에 의해 상기 마스크를 픽업하는 단계;
32) 상기 회전식 조작기의 구동하에 상기 마스크 포크에 의해 픽업된 상기 마스크를 스캐닝 위치로 이동시키되, 상기 마스크의 정보는 상기 코드 스캐닝 요소에 의해 스캔 및 업로드되거나 상기 코드 스캐닝 요소에 의해 스캔 및 기록되는 단계; 및
33) 상기 회전식 조작기에 의해, 상기 마스크 포크에 의해 픽업된 상기 마스크를 상기 내부 마스크 저장부 내로 운반하는 단계를 포함하도록 추가 구성된다.
본 출원은, 상기 마스크 이송 방법이 상기 코드 스캐닝 요소에 의해 상기 내부 마스크 저장부에서 상기 마스크의 코드를 스캐닝 및 업로드 또는 스캐닝 및 기록하는 단계를 더 포함하도록 더 구성된다.
종래 기술과 비교하여, 본 출원에서 제공되는 마스크 이송 시스템 및 마스크 이송 방법에서, 회전식 조작기는 마스크 포크를 구동하여 마스크를 사전 정렬부로 전달한다. 이 때, 마스크의 위치 및 각도가 배치 요건을 충족할 수 있도록, 회전식 조작기 및 미세 조정 부재는 마스크의 위치 정보를 수신하고 위치 정보에 기초하여 마스크를 X, Y 및 Rz 방향으로 마스크를 조정한다. 그리고 나서, 마스크는 회전식 조작기에 의해 마스크 스테이지로 푸시되어 마스크의 배치가 완료된다. 이 과정에서, 마스크를 X, Y 및 Rz 방향으로 조절하기 위해 특정 조정 스테이지를 구성할 필요가 없다. 따라서, 조정을 위해 마스크를 내려 놓고 조정 후에 마스크를 조정 스테이지로부터 이동시키는 별도의 단계가 필요하지 않으므로, 마스크의 이송 효율이 향상된다. 또한, 마스크 및 미세 조정 부재를 이송하도록 구성된 회전식 조작기가 마스크를 완전히 조정할 수 있기 때문에, 전체 비용을 절감할 수 있다. 더욱이, 마스크 이송 및 조정을 위한 전체 조립체의 크기가 감소될 수 있어서, 내부 마스크 저장소와 같은 구조를 더 많이 설정할 수 있어, 일측으로부터 포토리소그래피 장비의 효율을 향상시키고 더 높은 적용성을 제공할 수 있다.
도 1은 본 출원의 실시예에 따른 마스크 이송 시스템의 상면도이다.
도 2는 본 출원의 실시예에 따른 마스크 이송 시스템의 정면도이다.
본 출원에서 제공되는 마스크 이송 시스템 및 이송 방법은 특정 실시예 및 첨부 도면을 참조하여 아래에서 더 상세히 설명될 것이다. 본 출원의 특징 및 장점은 하기 상세한 설명 및 첨부된 청구 범위로부터 더욱 명백해질 것이다. 첨부 된 도면은 매우 단순화된 형태로 제공되고 반드시 정확한 축적으로 제시될 필요는 없으며, 이에 대한 유일한 의도는 본 발명의 목적을 설명함에 있어 편의성과 명확성을 용이하게 하기 위함이다. 도면 전체에서, 동일하거나 유사한 참조 번호는 동일하거나 유사한 구성 요소를 나타낸다.
도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 마스크 이송 시스템은 마스크를 저장하기 위한 내부 마스크 저장부(1), 마스크를 이송하기 위한 회전식 조작기, 회전식 조작기에 연결되고 마스크를 픽업하도록 구성된 마스크 포크(3) 및 미세 조정 부재(4)를 포함한다. 미세 조정 부재는, 마스크를 사전 정렬하기 위해 마스크 포크(3)에 의해 픽업된 마스크의 위치 오프셋을 보상하기 위해 회전식 조작기와 협력하도록 구성된다.
본 출원의 일 실시예에 따르면, 회전식 조작기는 연속적으로 연결된 복수의 조작기 세그먼트(5)를 포함하고, 미세 조정 부재(4)는 연결된 조작기 세그먼트 중 둘(5) 사이 또는 회전식 조작기와 마스크 포크(3) 사이에 위치된다.
본 출원의 다른 실시예에 따르면, 회전식 조작기는 조작기 본체(6) 및 조작기 본체(6)에 회전 가능하게 연결된 승강식 리프팅 암(7)을 포함하고, 리프팅 암(7)에는 신축 부재(telescopic member)가 제공된다. 조작기 본체(6) 내부에는 리프팅 암(7)과 마스크 포크(3)를 들어 올릴 수 있는 리프팅 축이 제공된다. 회전축은 리프팅 축 상측에 배치되고 신축 부재와 마스크 포크(3)의 회전을 위해 구성된다. 회전축 상측의 신축 부재는 마스크 포크(3)의 신축성(telescopicity)을 위해 구성된다. 신축 부재의 단부에는 마스크 포크(3)의 소규모 정밀 회전을 위해 사용되는 미세 조정 부재(4)가 제공된다. 소규모 정밀 회전은 회전식 조작기(보다 구체적으로는 회전축)에 의해 구동되는 마스크 포크(3)의 대규모 회전에 상대적이다. 구체적으로, 신축 부재는 연속적으로 연결된 복수의 조작기 세그먼트(5)를 포함한다. 본 실시예에 따르면, 2 개의 조작기 세그먼트(5)가 사용되며, 이들 각각은 수직 및 수평으로 이동 가능하거나 또는 수평으로만 이동 가능하다. 본 실시예에 따르면, 리프팅 암(7)은 수직으로 이동 가능하고 조작기 세그먼트(5)는 수평으로 이동 가능하다. 이러한 방식으로, 이동 정확도가 개선될 수 있다.
또한, 이송 기구는 회전식 조작기의 일측에 배치되고 외부 소스로부터 마스크를 이송하도록 구성되고, 회전식 조작기는 이송 기구상의 마스크를 내부 마스크 저장 부(1)로 이송하도록 구성된다. 마스크는 마스크 카세트에 유지되고 이송 기구는 마스크 카세트를 이송하도록 구성된다. 이송 기구는 수평면, 지면 또는 내부 마스크 저장부의 마스크 운반면과 같은 기준면에 대해 경사진 가이드 레일(8)과 가이드 레일(8)과 함께 이동 가능하게 연결된 캐리어 스테이지(9)를 포함한다. 캐리어 스테이지(9)는 마스크를 이송하도록 구성되고, 가이드 레일(8)은 공통 실린더 슬라이드(common cylinder slide)일 수 있다.
또한, 복수의 내부 마스크 저장부(1)가 제공된다. 복수의 내부 마스크 저장 부(1) 각각으로부터 조작기 본체(6)까지의 거리는 동일하거나 동일하지 않을 수 있다. 후자의 경우, 마스크가 정상적으로 이송될 수 있도록 조작기 세그먼트(5)의 이동으로 상이한 거리를 보상할 수도 있다.
또한, 회전식 조작기의 일측에는 마스크의 코드 정보를 스캐닝하기 위한 코드 스캐닝 요소(10)가 제공될 수 있다. 또한, 코드 스캐닝 요소(10)는 마스크의 코드 정보를 내부 마스크 저장부로 스캐닝하도록 구성된다. 마스크를 이송할 때, 마스크의 코드 정보를 스캐닝하고 기록하도록, 마스크 포크(3)는 마스크를 픽업하고 코드 스캐닝 요소(10)의 코드 스캐닝 위치로 이동한다.
또한, 사전 정렬부가 포함된다. 사전 정렬부는 마스크의 X 방향, Y 방향 및 Rz 방향 정보를 검출하고 검출된 정보를 미세 조정 부재(4)에 직접 또는 간접적으로 전송한다. 미세 조정 부재(4)는 정밀 회전축이거나 그 외 다른 정밀 부재일 수 있고, 마스크 포크(3)를 구동시켜 X 방향, Y 방향 및 Rz 방향으로 고정밀 이동을 수행하도록 구성된다.
마스크 이송 방법은 상기 구조에 기초하고, 다음 단계들을 통해 내부 마스크 저장부(1)상의 마스크를 마스크 스테이지(2)로 이송한다:
(S1) 회전식 조작기의 구동하에 마스크 포크(3)에 의해 내부 마스크 저장부(1)로부터 마스크를 픽업하는 단계;
(S2) 회전식 조작기의 구동에 따라 마스크 포크(3)를 사전 정렬부(11)로 이동시키는 단계;
(S3) 사전 정렬부(11)에 의해, 마스크 포크(3)에 의해 픽업된 마스크의 위치 정보를 검출하고, 미세 조정 부재(4)와 협력하여 회전식 조작기에 의해 마스크 포크(3)에 의해 픽업 된 마스크의 X 방향, Y 방향 및 Rz 방향에서의 위치 오프셋을 보상하여 마스크 포크(3)에 의해 픽업된 마스크의 사전 정렬 절차를 달성하는 단계; 및
(S4) 마스크 포크(3)에 의해 픽업된 마스크가 X 방향, Y 방향 및 Rz 방향으로 조정된 후, 회전식 조작기의 구동하에 마스크 포크(3)에 의해 마스크를 마스크 스테이지(2)로 이송하는 단계.
마스크는 다음 단계를 통해 외부 소스에서 내부 마스크 저장부(1)로 이송된다:
1) 캐리어 스테이지(9) 상에 마스크를 배치하고, 가이드 레일(8)의 구동하에 캐리어 스테이지(9)를 마스크 이송 위치로 이동시키는 단계;
2) 회전식 조작기와 미세 조정 부재(4)의 구동하에, 마스크 포크(3)의 위치를 조정하고 마스크 포크(3)에 의해 캐리어 스테이지(9)상의 마스크를 픽업하는 단계;
3) 회전식 조작기에 의해, 마스크 포크(3)에 의해 픽업된 마스크를 내부 마스크 저장부(1) 내로 이동시키기 위해 마스크 포크(3)를 구동하는 단계; 및
4) 회전식 조작기의 구동하에 마스크 포크(3)에 의해 캐리어 스테이지(9)상의 마스크를 픽업한 다음, 캐리어 스테이지(9)를 공급 포트로 이동시키는 단계.
또한, 조작기 본체(6)의 일측에는 코드 스캐닝 요소(10)가 제공된다.
또한 단계 3은 다음을 포함한다.
31) 마스크를 캐리어 스테이지(9)로부터 이동시키기 위해, 회전식 조작기의 구동하에 마스크 포크(3)에 의해 마스크를 픽업하는 단계;
32) 회전식 조작기의 구동하에 마스크 포크(3)에 의해 픽업된 마스크를 스캐닝 위치로 이동시키되, 마스크의 정보는 코드 스캐닝 요소(10)에 의해 스캔 및 업로드되거나 코드 스캐닝 요소(10)에 의해 스캔 및 기록되는 단계; 및
33) 회전식 조작기에 의해, 마스크 포크(3)에 의해 픽업된 마스크를 내부 마스크 저장부(1) 내로 운반하는 단계.
또한, 상기 방법은 코드 스캐닝 요소(10)에 의해 내부 마스크 저장부(1)에서 마스크의 코드를 스캐닝 및 업로드 또는 기록하는 단계 5)를 포함한다.
요약하면, 본 출원에서 제공되는 마스크 이송 시스템 및 마스크 이송 방법에서, 마스크의 이송시, 경사진 가이드 레일(8) 및 캐리어 스테이지(9)는 마스크를 회전식 조작기로 직접 운반할 수 있어, 실제 운영 과정에서 SEMI 반도체 제조 장비의 인체 공학적 요구 사항을 충족시킬 수 있다. 마스크를 회전식 조작기로 전달한 후, 회전식 조작기는 마스크 포크(3)를 구동하여 마스크를 픽업하고 마스크를 내부 마스크 저장부(1)에 배치하는 한편, 캐리어 스테이지(9)는 모든 마스크가 내부 마스크 저장부에 배치될 때까지 마스크의 다음 픽업 동작을 수행하기 위해 아래로 미끄러진다. 이러한 마스크 이송 과정 동안, 코드 스캐닝 요소(10)는 마스크의 코드를 스캐닝하고 기록하여, 이후 사용시 마스크의 관리를 용이하게 한다. 또는, 코드 스캐닝 요소(10)는 모든 마스크가 내부 마스크 저장부(1)에 배치 된 후에 마스크의 코드를 균일하게 스캐닝하고 기록하며, 이는 또한 스캐닝 시간을 절약하기 위해 노광 과정과 동시에 수행될 수 있다.
마스크의 포토리소그래피 과정이 수행될 때, 마스크 포크(3)의 구동하에, 마스크는 내부 마스크 저장부(1)로부터 이동하여 마스크 스테이지(2)의 사전 정렬부(11)로 운반된다. 사전 정렬부(11)는 마스크의 위치를 감지하고 위치 정보를 회전식 조작기로 전송한다. 그리고 나서, 마스크의 X 방향, Y 방향 및 Rz 방향이 마스크 스테이지(2) 상의 배치 요건을 충족 시키도록, 회전식 조작기 및 미세 조정 부재(4)는 마스크의 특정 위치 정보에 기초하여 조정을 수행한다. 조정이 완료된 후 마스크는 마스크 스테이지(2)로 이송되어, 마스크의 이송이 완료된다. 바람직하게, 각각의 마스크 스테이지(2) 및 복수의 내부 마스크 저장부(1)로부터 조작기 본체(6)까지의 거리는 동일하여, 마스크의 픽업 및 배치가 보다 쉽고 정밀하게 수행될 수 있다. 더욱이, 복수의 마스크가 내부 마스크 저장부(1)에 저장되기 때문에, 이는 또한 마스크의 픽업에서 보다 신속한 작동을 가능하게 하여 더 높은 적용성을 제공한다. 마스크의 픽업, 저장 및 이송은 회전식 조작기 및 가이드 레일(8)을 통해서만 달성될 수 있기 때문에, 입력 비용이 감소될 수 있다. 또한, 마스크 이송 과정에는 상이한 구성 요소들 사이의 이송 동작이 거의 포함되지 않기 때문에, 마스크의 이송 안정성이 높아지고 점유 공간이 감소된다. 그러므로 안정성이 높다.
마스크를 픽업할 때, 마스크 포크(3)가 마스크에 접근할 때까지 조작기 세그먼트(5)의 일단에 고정된 마스크 포크(3)의 위치가 조정되도록, 리프팅 암(7)이 회전하거나 상하로 이동하고 조작기 세그먼트(5)는 서로에 대해 회전한다. 한다. 이때, 마스크 포크(3)와 마스크 간의 적응과 결합의 향상을 위해, 미세 조정 부재(4)는 특정 상황에 따라 마스크 포크(3)의 각도를 조정한다. 회전식 조작기는 마스크 포크(3)을 계속 작동시켜 마스크를 픽업한다. 그리고 나서, 회전식 조작기는 유사한 방식으로 마스크를 내부 마스크 저장부(1)에 배치하도록 동작하여, 마스크의 이송이 완료된다. 리프팅 암(7), 조작기 세그먼트(5) 및 미세 조정 부재(4) 각각은 마스크의 위치를 조정할 수 있으며, 이로 인해 마스크 포크(3)의 위치 각도가 다양한 방향으로 보상될 수 있고, X 방향, Y 방향 및 Rz 방향 각각에서 마스크의 배치가 요구 조건을 충족시킨다. 이러한 방식으로, 마스크 포크(3)와 마스크 사이의 결합이 향상될 수 있고, 마스크 이송 과정에서 마스크의 위치 안정성도 증가될 수 있다.
본 명세서에 개시된 실시예는 진행 방식으로 설명되며, 각 실시예의 설명은 다른 실시예와의 차이점에 초점을 둔다. 동일하거나 유사한 부분에 대해 실시예들 간을 참조할 수 있다. 실시예에 개시된 테스트 방법에 관해서는, 실시예에 채택된 테스트 장치가 실시예에 개시된 장치에 대응하므로, 관련된 테스트 장치의 설명은 간략하게 기재되고 관련 부분은 장치 설명을 참조할 수 있다.
상기에서는 단지 본 발명의 몇몇 바람직한 실시예를 설명하였을 뿐이며 본 발명의 보호 범위를 제한하려는 것은 아니다. 당업자가 상기 개시에 기초하여 실시한 임의의 변경 및 수정은 첨부된 청구 범위의 보호 범위 내에 속한다.
1: 내부 마스크 저장부 2: 마스크 스테이지
3: 마스크 포크 4: 미세 조정 부재(fine tuning member)
5: 조작기 세그먼트(manipulator segment)
6: 조작기 본체 7: 리프팅 암
8: 가이드 레일 9: 캐리어 스테이지
10: 코드 스캐닝 요소 11: 사전 정렬부

Claims (23)

  1. 마스크 이송 시스템에 있어서,
    마스크를 저장하기 위한 내부 마스크 저장부;
    마스크를 이송하기 위한 회전식 조작기;
    상기 회전식 조작기에 연결되어 마스크를 픽업하도록 구성된 마스크 포크; 및
    미세 조정 부재를 포함하되,
    상기 마스크를 사전 정렬하기 위해, 상기 미세 조정 부재는 상기 회전식 조작기와 협력하여 상기 마스크 포크에 의해 픽업된 상기 마스크의 위치 오프셋을 보상하도록 구성되는, 마스크 이송 시스템.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 회전식 조작기는 연속적으로 연결된 복수의 조작기 세그먼트를 포함하고, 상기 미세 조정 부재는 상기 연결된 조작기 세그먼트 중 2 개 사이 또는 상기 회전식 조작기와 상기 마스크 포크 사이에 위치되는, 마스크 이송 시스템.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 회전식 조작기는 조작기 본체 및 상기 조작기 본체에 회전 가능하게 연결된 승강식 리프팅 암을 포함하고, 상기 리프팅 암은 신축 부재(telescopic member)를 구비하는, 마스크 이송 시스템.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 신축 부재는 연속적으로 연결된 복수의 조작기 세그먼트를 포함하는, 마스크 이송 시스템.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
    이송 기구가 상기 회전식 조작기의 일측에 배치되고 외부 소스로부터 마스크를 이송하도록 구성되며,
    상기 회전식 조작기는 상기 이송 기구상의 상기 마스크를 상기 내부 마스크 저장부로 이송하도록 구성되는, 마스크 이송 시스템.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 마스크는 마스크 카세트에 유지되고, 상기 이송 기구는 상기 마스크 카세트를 이송하도록 구성되는, 마스크 이송 시스템.
  7. 제 5 항에 있어서,
    상기 이송 기구는 수평면에 대해 경사진 가이드 레일 및 상기 가이드 레일과 이동 가능하게 연결된 캐리어 스테이지를 포함하고, 상기 캐리어 스테이지는 상기 마스크를 이송하도록 구성되는, 마스크 이송 시스템.
  8. 제 3 항에 있어서,
    복수의 내부 마스크 저장부가 제공되는, 마스크 이송 시스템.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 복수의 내부 마스크 저장부 각각으로부터 상기 조작기 본체까지의 거리는 동일한, 마스크 이송 시스템.
  10. 제 1 항에 있어서,
    상기 회전식 조작기는 일측에 상기 마스크의 코드 정보를 스캐닝하기 위한 코드 스캐닝 요소를 구비하는, 마스크 이송 시스템.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 코드 스캐닝 요소는 또한 상기 내부 마스크 저장부의 일측에 위치되고 상기 내부 마스크 저장부에서 마스크의 코드 정보를 스캐닝하도록 구성되는, 마스크 이송 시스템.
  12. 제 1 항에 있어서,
    상기 마스크 포크에 의해 픽업된 상기 마스크의 X 방향, Y 방향 및 Rz 방향 정보를 검출하고 상기 검출된 정보를 상기 미세 조정 부재에 직접 또는 간접적으로 전송하도록 구성된 사전 정렬부를 더 포함하는, 마스크 이송 시스템.
  13. 제 1 항에 있어서,
    상기 미세 조정 부재는 정밀 회전축이고 상기 마스크 포크를 구동하여 회전 시키도록 구성되는, 마스크 이송 시스템.
  14. 제 1 항에 있어서,
    상기 미세 조정 부재는 상기 마스크 포크에 의해 픽업된 상기 마스크를 구동하여 소규모 회전 운동을 수행하도록 구성되는, 마스크 이송 시스템.
  15. 내부 마스크 저장부, 회전식 조작기, 미세 조정 부재 및 마스크 포크를 사용하는 마스크 이송 방법에 있어서, 상기 회전식 조작기는 연속적으로 연결된 복수의 조작기 세그먼트를 포함하고, 상기 마스크 포크는 상기 미세 조정 부재를 통해 상기 회전식 조작기에 연결되며, 상기 마스크 이송 방법은,
    S1) 상기 회전식 조작기의 구동 하에서 상기 마스크 포크에 의해 상기 내부 마스크 저장부로부터 마스크를 픽업하는 단계;
    S2) 상기 회전식 조작기의 구동하에 상기 마스크 포크를 사전 정렬부로 이동시키는 단계;
    S3) 상기 사전 정렬부에 의해, 상기 마스크 포크에 의해 픽업된 상기 마스크의 위치 정보를 검출하고, 상기 미세 조정 부재와 협력하여 상기 회전식 조작기에 의해 상기 마스크 포크에 의해 픽업된 마스크의 X 방향, Y 방향 및 Rz 방향에서의 위치 오프셋을 보상하여 상기 마스크 포크에 의해 픽업된 상기 마스크를 사전 정렬하는 단계; 및
    (S4) 상기 마스크 포크에 의해 픽업된 상기 마스크가 X 방향, Y 방향 및 Rz 방향으로 조정된 후, 상기 회전식 조작기의 구동하에 상기 마스크 포크에 의해 상기 마스크를 마스크 스테이지로 이송하는 단계를 통해 마스크를 이송하는, 마스크 이송 방법.
  16. 제 15항에 있어서,
    상기 미세 조정 부재는 정밀 회전축이며, 상기 마스크 포크를 구동하여 회전시키도록 구성되는, 마스크 이송 방법.
  17. 제 15 항에 있어서,
    상기 미세 조정 부재는 상기 마스크 포크에 의해 픽업된 상기 마스크를 구동하여 소규모의 회전 운동을 수행하도록 구성되는, 마스크 이송 방법.
  18. 제 15 항에 있어서,
    상기 회전식 조작기는 조작기 본체 및 상기 조작기 본체에 회전 가능하게 연결된 승강식 리프팅 암을 포함하고, 상기 리프팅 암은 신축 부재를 구비하는, 마스크 이송 방법.
  19. 마스크를 이송하기 위한 이송 기구, 회전식 조작기, 상기 회전식 조작기에 연결된 마스크 포크, 및 내부 마스크 저장부를 사용하는 마스크 이송 방법에 있어서, 상기 이송 기구는 가이드 레일 및 상기 가이드 레일에 이동 가능하게 연결된 캐리어 스테이지를 포함하며 상기 캐리어 스테이지는 마스크를 이송하기 위한 공급 포트를 통해 외부 소스로부터 상기 회전식 조작기로 마스크를 운반하도록 구성되고, 상기 회전식 조작기는 조작기 세그먼트 및 미세 조정 부재를 포함하며, 상기 마스크 이송 방법은,
    1) 상기 캐리어 스테이지 상에 상기 마스크를 배치하고, 상기 가이드 레일의 구동하에 상기 캐리어 스테이지를 마스크 이송 위치로 이동시키는 단계;
    2) 상기 회전식 조작기와 상기 미세 조정 부재의 구동하에, 상기 마스크 포크의 위치를 조정하고 상기 마스크 포크에 의해 상기 캐리어 스테이지 상의 상기 마스크를 픽업하는 단계; 및
    3) 상기 회전식 조작기에 의해, 상기 마스크 포크에 의해 픽업된 상기 마스크를 상기 내부 마스크 저장부 내로 이동시키기 위해 상기 마스크 포크를 구동하는 단계를 통해 마스크를 이송하는, 마스크 이송 방법.
  20. 제 19 항에 있어서,
    4) 상기 회전식 조작기의 구동하에 상기 마스크 포크에 의해 상기 캐리어 스테이지 상의 상기 마스크를 픽업한 다음, 상기 캐리어 스테이지를 상기 공급 포트로 이동하는 단계를 더 포함하는, 마스크 이송 방법.
  21. 제 19 항에 있어서,
    상기 회전식 조작기는, 일측에 코드 스캐닝 요소를 구비하는 조작기를 포함하는, 마스크 이송 방법.
  22. 제 21 항에 있어서,
    단계 3)은
    31) 상기 마스크를 상기 캐리어 스테이지로부터 이동시키기 위해, 상기 회전식 조작기의 구동하에 상기 마스크 포크에 의해 상기 마스크를 픽업하는 단계;
    32) 상기 회전식 조작기의 구동하에 상기 마스크 포크에 의해 픽업된 상기 마스크를 스캐닝 위치로 이동시키되, 상기 마스크의 정보는 상기 코드 스캐닝 요소에 의해 스캔 및 업로드되거나 상기 코드 스캐닝 요소에 의해 스캔 및 기록되는 단계; 및
    33) 상기 회전식 조작기에 의해, 상기 마스크 포크에 의해 픽업된 상기 마스크를 상기 내부 마스크 저장부 내로 운반하는 단계를 포함하는, 마스크 이송 방법.
  23. 제 21 항에 있어서,
    상기 코드 스캐닝 요소에 의해 상기 내부 마스크 저장부에서 상기 마스크의 코드를 스캐닝 및 업로드 또는 스캐닝 및 기록하는 단계를 더 포함하는, 마스크 이송 방법.
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110255156A (zh) * 2019-06-29 2019-09-20 苏州精濑光电有限公司 一种中转装置
EP4052277A1 (en) * 2019-10-28 2022-09-07 ASML Netherlands B.V. System for inspecting and grounding a mask in a charged particle system
KR102481920B1 (ko) * 2019-12-19 2022-12-26 캐논 톡키 가부시키가이샤 처리체 수납 장치와, 이를 포함하는 성막 장치
US11774866B2 (en) 2020-09-03 2023-10-03 Kla Corporation Active reticle carrier for in situ stage correction
CN114408518B (zh) * 2022-04-01 2022-08-19 深圳市龙图光电有限公司 半导体芯片用掩模版传送装置及其传送方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030077162A1 (en) * 2000-07-05 2003-04-24 Integrated Dynamics Engineering, Inc., A Massachusetts Corporation Edge gripping prealigner
US20040027552A1 (en) * 2002-08-05 2004-02-12 Nikon Corporation Reticle manipulators and related methods for conveying thin, circular reticles as used in charged-particle-beam microlithography
JP2006351863A (ja) * 2005-06-16 2006-12-28 Nikon Corp 物体搬送装置及び露光装置
US20100316467A1 (en) * 2006-10-18 2010-12-16 Mareto Ishibashi Substrate storage facility

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1055944A (ja) * 1996-08-08 1998-02-24 Toshiba Corp パターン転写装置
TW446858B (en) 1999-04-21 2001-07-21 Asm Lithography Bv Lithographic projection apparatus, method of manufacturing a device using such a lithographic projection apparatus, and device made by such a method of manufacturing
JP2001168008A (ja) 1999-12-09 2001-06-22 Canon Inc 基板ステージ装置および該基板ステージ装置を用いた半導体露光装置
US7397539B2 (en) * 2003-03-31 2008-07-08 Asml Netherlands, B.V. Transfer apparatus for transferring an object, lithographic apparatus employing such a transfer apparatus, and method of use thereof
JP2009099854A (ja) 2007-10-18 2009-05-07 Elpida Memory Inc 縦型相変化メモリ装置の製造方法
CN102109768B (zh) * 2009-12-29 2013-07-17 上海微电子装备有限公司 旋转式硅片承片台及利用其进行硅片精对准的方法
JP5532110B2 (ja) 2012-11-16 2014-06-25 株式会社安川電機 基板搬送ロボットおよび基板搬送方法
CN103972135B (zh) 2013-01-25 2017-02-22 上海微电子装备有限公司 一种硅片精确定位传输装置及定位方法
CN105988303B (zh) * 2015-02-26 2018-03-30 上海微电子装备（集团）股份有限公司 一种掩模版传输装置及传输方法
CN206209287U (zh) * 2016-09-30 2017-05-31 上海微电子装备有限公司 掩模版传输系统

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030077162A1 (en) * 2000-07-05 2003-04-24 Integrated Dynamics Engineering, Inc., A Massachusetts Corporation Edge gripping prealigner
US20040027552A1 (en) * 2002-08-05 2004-02-12 Nikon Corporation Reticle manipulators and related methods for conveying thin, circular reticles as used in charged-particle-beam microlithography
JP2006351863A (ja) * 2005-06-16 2006-12-28 Nikon Corp 物体搬送装置及び露光装置
US20100316467A1 (en) * 2006-10-18 2010-12-16 Mareto Ishibashi Substrate storage facility

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Publication number Publication date
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