JP7011204B2 - フルオロポリエーテル基含有化合物 - Google Patents

Description

本開示は、フルオロポリエーテル基含有化合物に関する。

フルオロポリエーテル基を有する化合物は、様々な用途に使用されている。例えば、分子主鎖にフルオロポリエーテル基を有し、さらに、Ｓｉ原子に結合した加水分解可能な基を有する化合物は、基材の表面処理に用いる化合物として使用される（例えば、特許文献１等）。

特許文献１に記載されているような化合物は、通常、フルオロポリエーテル基を有する中間体に、さらに、官能基（特許文献１では、Ｓｉ原子に結合した加水分解可能な基）を導入することによって形成される。すなわち、上記のような中間体には、他の官能基の導入が可能な部位が存在する必要がある。

例えば、特許文献２には、フルオロポリエーテル基含有化合物が記載されている。特許文献２に記載されている化合物は、末端に存在する－ＣＨ_２ＯＨ、－ＣＨ_２ＮＨ_２、または－ＣＨＯを有している。具体的には、特許文献２の実施例１では、末端に－ＣＨ_２ＮＨ_２基を有する化合物が形成されており、実施例９では、末端に－ＣＨＯ基を有する化合物が形成されている。特許文献２の化合物の末端に存在する上記アルデヒド基等の部位には、他の官能基の導入が可能である。

特開２０１４－２１８６３９号公報 特開２００４－６８００７号公報

特許文献２に記載されている製造方法では、末端にアルデヒド基等を有する化合物を得るために、原料物質をＰｄ等の金属触媒の存在下で加熱還流させる必要がある（請求項１、実施例等）。

本開示は、末端にアルデヒド基を有する化合物を合成するための反応原料となり得る化合物であって、より温和な条件、具体的には、加熱還流の不要な条件で提供することのできる化合物を提供することを目的とする。

本開示は、以下の［１］～［１４］を提供するものである。
［１］ 式（１ａ）または式（１ｂ）：

［式中：
Ｒ^Ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｆ^１－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり；
Ｒ^Ｆ２は、－Ｒｆ^２ _ｐ－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり；
Ｒｆ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基であり；
Ｒｆ^２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基であり；
Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基であり；
ｐは、０または１であり；
ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり；
Ｒ^１およびＲ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、置換されていてもよい１価の有機基であるか、または、互いに結合して形成された、置換されていてもよいヘテロ環構造を有する基である。］
で表される、フルオロポリエーテル基含有化合物。
［２］ Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－
［式中、
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である、［１］に記載のフルオロポリエーテル基含有化合物。
［３］ Ｒ^１およびＲ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、置換または非置換の炭素原子数１～１０の１価の有機基、または、互いに結合して形成されたヘテロ環構造を有する基であって、炭素原子を該環構造に２～１０含む基である、［１］または［２］に記載のフルオロポリエーテル基含有化合物。
［４］ Ｒ^１およびＲ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、炭素原子数１～１０のアルキル基、もしくは、アルコキシ基、または、互いに結合して形成された環構造を有する基であって、該環構造として５～１０員のヘテロ環を有する基、もしくは、互いに結合して形成された環構造を有する基であって、該環構造として５～１０員のヘテロ環を縮合環として含む基であり、これらのアルキル基、アルコキシ基、および環構造を有する基は置換されていてもよい、［１］～［３］のいずれか１つに記載のフルオロポリエーテル基含有化合物。
［５］ Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立して、Ｃ_１－１０アルキル基、もしくはＣ_１－１０アルコキシ基、または、互いに結合して形成された環構造を有する基であって、該環構造として５～１０員のヘテロ環を有する基、もしくは、互いに結合して形成された縮合環を有する基であって、該縮合環として５～１０員のヘテロ環、および、該ヘテロ環以外の３～１０員環を含む基である、［１］～［４］のいずれか１つに記載のフルオロポリエーテル基含有化合物。
［６］ Ｒ^１およびＲ^２が、それぞれ独立して、Ｃ_１－１０アルコキシ基、Ｃ_１－１０アルキル基である、または、Ｒ^１およびＲ^２が互いに結合して、該Ｒ^１およびＲ^２が結合する窒素原子と共に、以下の構造式：

で表される基を形成する（各構造式中、＊は結合手である）、［１］～［５］のいずれか１つに記載のフルオロポリエーテル基含有化合物。
［７］ Ｒ^１およびＲ^２が、いずれか一方がメチル基、他方がメトキシ基である、または、Ｒ^１およびＲ^２が互いに結合して、該Ｒ^１およびＲ^２が結合する窒素原子と共に、以下の構造式：

で表される基を形成する（構造式中、＊は結合手である）、［１］～［６］のいずれか１つに記載のフルオロポリエーテル基含有化合物。
［８］ ［１］に記載の式（１ａ）または（１ｂ）で表される化合物に、以下の式（２ｃ）：

［式中：
Ｘ^２は、２価の有機基であり；
Ａ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、ＣまたはＳｉであり；
Ｒ^２１は、それぞれ独立して、炭素－炭素二重結合を少なくとも１つ有する炭化水素基である。］
で表される化合物を有機リチウムとともに加え、
式（２ａ）または式（２ｂ）：

［式中：
Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２は、［１］の記載とそれぞれ同意義であり；
Ｘ^２、Ａ^２、およびＲ^２１は、それぞれ、式（２ｃ）のＸ^２、Ａ^２、およびＲ^２１と同じである。］
で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物を得る工程、
を含むフルオロポリエーテル基含有化合物の製造方法。
［９］ 式（２ａ）または式（２ｂ）：

［式中：
Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２は、［１］の記載とそれぞれ同意義であり；
Ｘ^２は、２価の有機基であり；
Ａ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、ＣまたはＳｉであり；
Ｒ^２１は、炭素－炭素不飽和結合を少なくとも１つ有する炭化水素基である。］
で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物。
［１０］ ［１］に記載の式（１ａ）または（１ｂ）で表される化合物を、アルキルリチウム存在下で還元し、式（４ａ）または式（４ｂ）：

［式中、Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２は、［１］の記載とそれぞれ同意義である。］
で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物を得る工程、
を含むフルオロポリエーテル基含有化合物の製造方法。
［１１］ 式（４ａ）または式（４ｂ）：

［式中、Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２は、［１］の記載とそれぞれ同意義である。］
で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物。
［１２］ 式（４ａ）または（４ｂ）：

で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物を、（１－ジアゾ－２－オキソプロピル）ホスホン酸ジメチルと反応させ、式（３ａ）または式（３ｂ）：

［式中、Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２は、［１］の記載とそれぞれ同意義である。］
で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物を得る工程、
を含むフルオロポリエーテル基含有化合物の製造方法。
［１３］ 式（３ａ）または式（３ｂ）：

［式中、Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２は、［１］の記載とそれぞれ同意義である。］
で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物。
［１４］ 式（５ａ）または式（５ｂ）：

［式中：
Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２は、［１］の記載とそれぞれ同意義であり；
Ｘ^３は、２価の有機基であり；
Ａ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、ＣまたはＳｉであり；
Ｙ^３１は、２価の有機基である。］
で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物。

本開示によれば、新たなフルオロポリエーテル基含有化合物を提供することができる。本開示の化合物を反応原料とすることによって、他の官能基の導入が容易な部位であるアルデヒド基を末端に有する化合物を、より温和な条件、具体的には、加熱還流の不要な条件で提供することができる。

本明細書において用いられる場合、「１価の有機基」とは、炭素を含有する１価の基を意味する。１価の有機基としては、特に限定されないが、炭化水素基またはその誘導体であり得る。炭化水素基の誘導体とは、炭化水素基の末端または分子鎖中に、１つまたはそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有している基を意味する。尚、単に「有機基」と示す場合、１価の有機基を意味する。

また、「２価の有機基」とは、炭素を含有する２価の基を意味する。かかる２価の有機基としては、特に限定されないが、有機基からさらに１個の水素原子を脱離させた２価の基が挙げられる。

本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」とは、炭素および水素を含む基であって、炭化水素から１個の水素原子を脱離させた基を意味する。かかる炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、１つまたはそれ以上の置換基により置換されていてもよい、Ｃ_１－２０炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。上記「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分枝鎖状または環状のいずれであってもよく、飽和または不飽和のいずれであってもよい。また、炭化水素基は、１つまたはそれ以上の環構造を含んでいてもよい。

本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子、１個またはそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、Ｃ_２－６アルキニル基、Ｃ_３－１０シクロアルキル基、Ｃ_３－１０不飽和シクロアルキル基、５～１０員のヘテロシクリル基、５～１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ_６－１０アリール基および５～１０員のヘテロアリール基から選択される１個またはそれ以上の基が挙げられる。

本明細書において、「加水分解可能な基」とは、本明細書において用いられる場合、加水分解反応を受け得る基を意味し、すなわち、加水分解反応により、化合物の主骨格から脱離し得る基を意味する。加水分解可能な基の例としては、－ＯＲ^ｈ、－ＯＣＯＲ^ｈ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、－ＮＲ^ｈ _２、－ＮＨＲ^ｈ、ハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈは、置換または非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）などが挙げられる。

（第１の実施態様）
本実施態様は、以下の式（１ａ）または式（１ｂ）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物に関する。
本態様の化合物を反応原料として用いることにより、アルデヒド基を有する化合物をより温和な条件、具体的には加熱還流の不要な条件で提供することができる。アルデヒド基を有する化合物を、他の化合物と反応させることにより、さらに置換基を導入することが可能となる。

式（１ａ）または式（１ｂ）：

式（１ａ）において、Ｒ^Ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｆ^１－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－である。

式（１ｂ）において、Ｒ^Ｆ２は、－Ｒｆ^２ _ｐ－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－である。

上記式において、Ｒｆ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基である。

上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基における「Ｃ_１－１６アルキル基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ_１－６アルキル基、特にＣ_１－３アルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１－６アルキル基、特にＣ_１－３アルキル基である。

上記Ｒｆ^１は、好ましくは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されているＣ_１－１６アルキル基であり、より好ましくはＣＦ_２Ｈ－Ｃ_１－１５パーフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ_１－１６パーフルオロアルキル基である。

上記Ｃ_１－１６パーフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ_１－６パーフルオロアルキル基、特にＣ_１－３パーフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１－６パーフルオロアルキル基、特にＣ_１－３パーフルオロアルキル基、具体的には－ＣＦ_３、－ＣＦ_２ＣＦ_３、または－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３である。

上記式において、Ｒｆ^２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基である。

上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基における「Ｃ_１－６アルキレン基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ_１－３アルキレン基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１－３アルキレン基である。

上記Ｒｆ^２は、好ましくは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されているＣ_１－６アルキレン基であり、より好ましくはＣ_１－６パーフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ_１－３パーフルオロアルキレン基である。

上記Ｃ_１－６パーフルオロアルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ_１－３パーフルオロアルキレン基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１－３パーフルオロアルキレン基、具体的には－ＣＦ_２－、－ＣＦ_２ＣＦ_２－、または－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－である。

上記式において、ｐは、０または１である。一の態様において、ｐは０である。別の態様においてｐは１である。

上記式において、ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０または１である。一の態様において、ｑは０である。別の態様においてｑは１である。

上記式（１ａ）および（１ｂ）において、Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基である。

Ｒ^Ｆは、好ましくは、式：
－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－
で表されるフルオロポリエーテル基である。
上記式中：
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。

ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、好ましくは、それぞれ独立して、０～１００の整数であってもよい。

ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上であり、例えば１５以上または２０以上であってもよい。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは２００以下、より好ましくは１００以下、さらに好ましくは６０以下であり、例えば５０以下または３０以下であってもよい。

これら繰り返し単位は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよいが、好ましくは直鎖状である。例えば、－（ＯＣ_６Ｆ_１２）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－等であってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－である。－（ＯＣ_５Ｆ_１０）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－等であってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－である。－（ＯＣ_４Ｆ_８）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－、－（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））－、－（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）－および－（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－である。－（ＯＣ_３Ｆ_６）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－および－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－である。また、－（ＯＣ_２Ｆ_４）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）－および－（ＯＣＦ（ＣＦ_３））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）－である。

一の態様において、Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）または（ｆ５）で表される。
－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－ （ｆ１）
［式中、ｄは、１～２００の整数であり、ｅは、１である。］
－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－ （ｆ２）
［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下の整数であり、
ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は２以上であり、
添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
－（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－ （ｆ３）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２またはＯＣ_２Ｆ_４であり、
Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせであり、
ｇは、２～１００の整数である。］
－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－ （ｆ４）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－ （ｆ５）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］

上記式（ｆ１）において、ｄは、好ましくは５～２００、より好ましくは１０～１００、さらに好ましくは１５～５０、例えば２５～３５の整数である。上記式（ｆ１）は、好ましくは、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－または－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－で表される基であり、より好ましくは、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－で表される基である。

上記式（ｆ２）において、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０～２００の整数である。また、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上であり、例えば１５以上または２０以上であってもよい。一の態様において、上記式（ｆ２）は、好ましくは、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－で表される基である。別の態様において、式（ｆ２）は、－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－で表される基であってもよい。

上記式（ｆ３）において、Ｒ^６は、好ましくは、ＯＣ_２Ｆ_４である。上記（ｆ３）において、Ｒ^７は、好ましくは、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせであり、より好ましくは、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から選択される基である。ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から独立して選択される２または３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４－、および－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４－等が挙げられる。上記式（ｆ３）において、ｇは、好ましくは３以上、より好ましくは５以上の整数である。上記ｇは、好ましくは５０以下の整数である。上記式（ｆ３）において、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２は、直鎖または分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、上記式（ｆ３）は、好ましくは、－（ＯＣ_２Ｆ_４－ＯＣ_３Ｆ_６）_ｇ－または－（ＯＣ_２Ｆ_４－ＯＣ_４Ｆ_８）_ｇ－である。

上記式（ｆ４）において、ｅは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。

上記式（ｆ５）において、ｆは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。

一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ１）で表される基である。

一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ２）で表される基である。

一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ３）で表される基である。

一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ４）で表される基である。

一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ５）で表される基である。

上記Ｒ^Ｆにおいて、ｆに対するｅの比（以下、「ｅ／ｆ比」という）は、０．１～１０であり、好ましくは０．２～５であり、より好ましくは０．２～２であり、さらに好ましくは０．２～１．５である。本態様において、ｆは１以上の整数である。

例えば、本実施態様のフルオロポリエーテル基含有化合物の末端に、Ｓｉ原子に結合した加水分解可能な基を導入し最終生成物を形成する場合、該最終生成物は基材の表面処理剤として用いることができる。ｅ／ｆ比を上記の範囲とすることにより、最終生成物から得られる表面処理層の滑り性、摩擦耐久性および耐ケミカル性（例えば、（人の）汗に対する耐久性）は、より向上する。ｅ／ｆ比がより小さいほど、表面処理層の滑り性および摩擦耐久性はより向上する。一方、ｅ／ｆ比を０．１以上にすることにより、最終生成物の安定性をより高めることができる。ｅ／ｆ比がより大きいほど、最終生成物の安定性はより向上する。

一の態様において、ｅ／ｆ比は、好ましくは０．２～０．９であり、より好ましくは０．２～０．８５であり、さらに好ましくは０．２～０．８である。

一の態様において、耐熱性の観点から、上記ｅ／ｆ比は、好ましくは０．４以上であり、より好ましくは０．４～１．５である。

一の態様において、耐熱性の観点から、上記ｅ／ｆ比は、例えば０．９～５．０であり、０．９～２．０であってもよく、０．９～１．５であってもよい。上記ｅ／ｆ比の下限値は、好ましくは、１．０以上であり、例えば１．１以上、１．３以上であってもよい。

上記Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２部分の数平均分子量は、特に限定されるものではないが、例えば５００～３０，０００、好ましくは１，５００～３０，０００、より好ましくは２，０００～１０，０００である。本明細書において、Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２の数平均分子量は、^１９Ｆ－ＮＭＲにより測定される値とする。

別の態様において、Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２部分の数平均分子量は、５００～３０，０００、好ましくは１，０００～２０，０００、より好ましくは２，０００～１５，０００、さらにより好ましくは２，０００～１０，０００、例えば３，０００～８，０００であり得る。

本態様の式（１ａ）または（１ｂ）で表される化合物は、Ｒ^Ｆ１またはＲ^Ｆ２に、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎで表される基が直接結合している。このような構造を有することにより、本態様の化合物の反応性は良好になり、本態様の化合物を反応原料として用いて、アルデヒド基を有する化合物をより温和な条件で提供することができる。上記構造を有することにより、本態様の化合物を反応原料として用いた場合に、該反応を容易に制御し得る。

Ｒ^１およびＲ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、置換されていてもよい１価の有機基であるか、または、互いに結合して形成された、置換されていてもよいヘテロ環構造を有する基である。

一の態様において、Ｒ^１およびＲ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、置換されていてもよい１価の有機基である。

一の態様において、Ｒ^１およびＲ^２は、互いに結合して形成された、置換されていてもよいヘテロ環構造を有する基である。

Ｒ^１およびＲ^２において、１価の有機基とは、例えば、炭素原子を１～１０含有する１価の基である。

Ｒ^１、Ｒ^２における１価の有機基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、ベンゾトリアゾール基、ピロール基、モルホリノ基、ベンジル基、フェニル基、フェノキシ基等を挙げることができ、これらの基（具体的には水素原子）は置換基により置換されていてもよい。Ｒ^１およびＲ^２が１価の有機基である場合、Ｒ^１およびＲ^２は好ましくは非置換の１価の有機基である。

Ｒ^１およびＲ^２が１価の有機基である場合、Ｒ^１およびＲ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、好ましくは、アルキル基またはアルコキシ基であり、より好ましくはＣ_１－１０アルキル基（好ましくは、Ｃ_１－４アルキル基、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基）、Ｃ_１－１０アルコキシ基（好ましくは、Ｃ_１－４アルコキシ基、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基）であり、さらに好ましくは、メチル基、メトキシ基である。

一の態様において、Ｒ^１およびＲ^２が１価の有機基である場合、Ｒ^１およびＲ^２は、いずれか一方がアルキル基、他方がアルコキシ基である。具体的には、Ｒ^１およびＲ^２は、いずれか一方が、Ｃ_１－１０アルキル基、他方がＣ_１－１０アルコキシ基であり、好ましくは、いずれか一方が、Ｃ_１－４アルキル基（具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基）、他方がＣ_１－４アルコキシ基（具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基）であり、より好ましくは、いずれか一方がメチル基、他方がメトキシ基である。
本態様の構造の式（１ａ）および（１ｂ）で表される化合物には、アミド基（すなわち－Ｃ（＝Ｏ）Ｎで表される基）の酸素原子と、アミド基の窒素原子の近隣に（例えば、アミド基の窒素原子に隣接して）存在する酸素原子とが存在する。このような構造を有することにより、本態様の化合物を用いた反応の制御が特に容易になり得る。これは、このような構造を有することにより、本態様の化合物の反応性が特に良好になり得るためと考えられる。
また、本態様の化合物を反応原料として用い、金属触媒、具体的には、グリニャー試薬または有機リチウム化合物（例えばアルキルリチウム）を併せて用いた場合、金属原子、例えばＭｇまたはＬｉと、上記の２つの酸素原子とが配位すると考えられる。その結果、上記反応の制御はより容易になり得る。
さらに、本態様の構造の化合物は、化合物の安定性の面から有利である。

上記互いに結合して形成されたヘテロ環構造は、言い換えると、Ｒ^１およびＲ^２が結合したＮ原子、Ｒ^１、およびＲ^２により形成された環構造である。例えば、Ｒ^１およびＲ^２で表される基が、上記の互いに結合して形成されたヘテロ環構造を有する場合、式（１ａ）および（１ｂ）は、以下のように表される。以下の式において、「Ｗ」が互いに結合して形成されたヘテロ環構造であり、該ヘテロ環構造（具体的には、水素原子）は置換されていてもよい。上記ヘテロ環構造は、環構造内に不飽和結合を有していてもよい。不飽和結合としては、例えば、炭素－炭素不飽和結合、炭素－窒素不飽和結合、窒素－窒素不飽和結合等を挙げることができる。

なお、以下の記載は、式（１ｂ）において、２個存在するＲ^１およびＲ^２において、一方のみが環構造を有し、他方が１価の有機基である場合を除くものではない。

Ｗは、環構造に炭素原子を２～１０含む基であってもよい。

Ｗは、５～１０員のヘテロ環、または、環構造内にヘテロ原子を含む縮合環であってもよい。

本実施態様において、上記５～１０員のヘテロ環におけるヘテロ環は、単環から形成される化合物である。すなわち、上記ヘテロ環は、縮合環でない。

一の態様において、Ｗは、環構造にヘテロ原子を１～４含む基であってもよい。該１～４のヘテロ原子には、カルボニル基に直接結合したＮ原子も含まれる。

好ましくは、Ｗは、環構造に炭素原子を２～１０含む基であり、かつ、環構造にヘテロ原子を１～４含む基である。

上記ヘテロ原子としては、Ｎ原子、Ｏ原子、およびＳ原子、好ましくはＮ原子、およびＯ原子を挙げることができる。

一の態様において、Ｗが、カルボニル基に直接結合したＮ原子以外に、さらにヘテロ原子を含む場合、該ヘテロ原子はＯ原子、または１またはそれ以上のＮ原子である。

上記縮合環としては、Ｒ^１とＲ^２とが互いに結合して形成された環構造を有する基であって、該環構造として５～１０員のヘテロ環、好ましくは、５～７員のヘテロ環を縮合環として含む基を挙げることができる。これらの環構造は、環構造内に不飽和結合を有していてもよい。

縮合環は、２個以上の環構造が２個またはそれ以上の原子を共有して結合し形成されたものであり、具体的には、上記５～１０員のヘテロ環と、該ヘテロ環以外の環構造とが、隣り合った２個の原子を共有して結合し形成されたものであり得る。上記ヘテロ環以外の環構造としては、５～１０員の環構造を挙げることができ、好ましくは、５～７員の環構造、より好ましくは５員または６員の環構造を挙げることができ、詳細には、ベンゼン環、含窒素六員環等を挙げることができ、好ましくはベンゼン環である。なお、含窒素六員環とは、例えば、以下のような構造を挙げることができる。以下において、「＃」を付した原子は、５～１０員のヘテロ環と共有する原子である。

一の態様において、Ｒ^１およびＲ^２が、互いに結合して形成された環構造を有する基である場合、該環構造として、５～１０員のヘテロ環（好ましくは５～７員のヘテロ環）、または、環構造内にヘテロ原子を含む縮合環を挙げることができる。該縮合環は、５～１０員のヘテロ環（好ましくは５～７員のヘテロ環）を含むことが好ましく、さらに、該５～１０員のヘテロ環と、ベンゼン環または含窒素六員環とが縮合した環構造であることが好ましい。これらの環構造は、環構造内に不飽和結合を有していてもよい。

上記５～１０員のヘテロ環としては、例えば、以下の構造を挙げることができる。なお、以下の構造においては、「＊」は結合手であり、式（１ａ）または（１ｂ）のＣ＝Ｏ基と結合する。

上記縮合環としては、例えば、以下の構造を挙げることができる。なお、以下の構造においては、「＊」は結合手であり、式（１ａ）または（１ｂ）のＣ＝Ｏ基と結合する。

好ましい態様において、Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立して、Ｃ_１－１０のアルコキシ基またはＣ_１－１０のアルキル基から選ばれる少なくとも１つであるか、または、Ｒ^１およびＲ^２が互いに結合して、該Ｒ^１およびＲ^２が結合する窒素原子と共に、以下の構造式：

で表される基を形成する（各構造式中、＊は結合手である）。

別の好ましい態様において、Ｒ^１およびＲ^２は、いずれか一方がメチル基、他方がメトキシ基であるか、Ｒ^１およびＲ^２が互いに結合して、該Ｒ^１およびＲ^２が結合する窒素原子と共に、以下の構造式：

で表される基を形成する（各構造式中、＊は結合手である）。

一の態様において、式（１ｂ）で表される化合物は、Ｒ^１およびＲ^２をそれぞれ２つ有し、その双方が１価の有機基である。

一の態様において、式（１ｂ）で表される化合物は、Ｒ^１およびＲ^２をそれぞれ２つ有し、その双方が互いに結合して環構造を形成する。

一の態様において、式（１ｂ）で表される化合物は、Ｒ^１およびＲ^２をそれぞれ２つ有し、一方が１価の有機基であり、他方が互いに結合して環構造を形成する。

一の態様において、本実施態様のフルオロポリエーテル基含有化合物は、式（１ａ）で表される。

一の態様において、本実施態様のフルオロポリエーテル基含有化合物は、式（１ｂ）で表される。

一の態様において、式（１ａ）で表される化合物および式（１ｂ）で表される化合物の合計１００質量部に対して、式（１ａ）で表される化合物は、０～４０質量部含まれていてもよい。

式（１ａ）または（１ｂ）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物は、公知の方法を組み合わせることにより製造することができる。以下に、本実施態様の、式（１ａ）または（１ｂ）で表される化合物の合成に適した方法の一例を、１つの実施態様として記載する。

本実施態様の式（１ａ）または（１ｂ）で表される化合物の製造方法は、以下の式（１ａ’）または（１ｂ’）：

のカルボキシル基と、アミン化合物とを反応させ、式（１ａ）または（１ｂ）：

で表される化合物を合成する工程（１）、
を含む。

式（１ａ’）および（１ｂ’）において、Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２は、式（１ａ）および（１ｂ）におけるＲ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２とそれぞれ同じである。

工程（１）におけるアミン化合物は、式（１ａ’）または（１ｂ’）と反応することにより、式（１ａ）または（１ｂ）における－ＮＲ^１Ｒ^２で表される基となり得る化合物である。Ｒ^１、Ｒ^２は、式（１ａ）および（１ｂ）における記載と同意義である。

上記アミン化合物としては、より具体的には、Ｎ，Ｏ－ジメチルヒドロキシアミン、ピロール、モルホリン、もしくはベンゾトリアゾール、またはその塩（例えば、塩酸塩、硫酸塩、炭酸塩、銀塩、各種カルボン酸塩）を挙げることができる。

工程（１）は、適当な触媒の存在下、適当な溶媒中で行われ得る。適当な溶媒としては、特に限定されるものではないが、例えば、ハイドロフルオロカーボン、ハイドロクロロフルオロカーボン（例えば、ＡＫ－２２５：ＡＧＣ株式会社製）、クロロホルム、ジクロロメタン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）等の各種有機溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独で、または２種以上を組み合わせて用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いることが好ましい。２種以上を組み合わせて用いる場合には、例えば、ＤＭＳＯ、またはＤＭＦ等の高極性溶媒を少なくとも１種類、並びに、ＡＫ－２２５、ＨＦＥ７２００、ＨＦＥ７３００等の上記高極性溶媒以外の溶媒であって、適度な有機化合物の溶解性を有する溶媒を少なくとも１種類を用いることが好ましい。

適当な触媒としては、特に限定されるものではないが、例えば、ピリジン、コリジン、Ｎ，Ｎ－ジメチル－４－アミノピリジン（ＤＭＡＰ）、トリエチルアミン、ヒューニッヒ塩基等のアミン系塩基等を挙げることができる。

工程（１）における反応は、特に限定されないが、例えば、－７８～２００℃で行い得る。工程（１）における反応時間は、特に限定されないが、例えば、０．１～１６８時間であってもよい。工程（１）における反応圧力は、特に限定されないが、例えば、０～１００ＭＰａ（ゲージ圧）であり、簡便には常圧である。

工程（１）において、さらに、塩化チオニル、三塩化リン、五塩化リン、塩化スルフリル、塩化オキサリル等のハロゲン化剤；トルエンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、無水トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸、メタンスルホン酸等の脱水剤またはその塩（例えば、ハロゲン化塩、好ましくは、トシルクロリド、トリフルオロメタンスルホン酸クロリド、メシルクロリド等）；および、１－［ビス（ジメチルアミノ）メチレン］－１Ｈ－１，２，３－トリアゾロ［４，５－ｂ］ピリジニウム３－オキシドヘキサフルオロフォスファート（ＨＡＴＵ）、１，１’－カルボニルジイミダゾール（ＣＤＩ）、Ｎ，Ｎ’－ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）、ベンゾトリアゾール－１－イルオキシ－トリスジメチルアミノホスホニウム塩等のＢＯＰ試薬、１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３－エチルカルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣＩ）、（１－シアノ－２－エトキシ－２－オキソエチリデンアミノオキシ）ジメチルアミノモルホリノカルベニウムヘキサフルオロホスファート（ＣＯＭＵ）等の縮合剤等の化合物を用いることができる。

上記工程（１）は、例えば、以下のような反応であってもよい。

以下の式（１ａ’）または（１ｂ’）：

で表される化合物から、以下の式（１ａ”）または（１ｂ”）：

で表される化合物を形成し（工程１－１）、
上記式（１ａ”）または（１ｂ”）で表される化合物から、以下の式（１ａ）または（１ｂ）：

で表される化合物を合成する（工程１－２）。

式（１ａ”）および（１ｂ”）において、Ｚ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、ハロゲン原子、またはアルコキシド基を表し、好ましくは、－Ｆ、－Ｃｌ、－Ｂｒ、または－Ｉであり、より好ましくは、－Ｃｌである。

式（１ａ”）および（１ｂ”）において、Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２は、式（１ａ）および（１ｂ）におけるＲ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２とそれぞれ同じである。

工程（１－１）は、適当な触媒の存在下、適当な溶媒中で行われ得る。適当な溶媒としては、特に限定されるものではないが、例えば、メタキシレンヘキサフロライド（ｍＸＨＦ）、ＡＫ２２５、ＨＦＥ７２００、ＨＦＥ７３００、パーフルオロヘキサン等のフッ素系溶媒を挙げることができる。これらの溶媒は、単独で、または、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。
適当な触媒としては、特に限定されるものではないが、例えば、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、ＤＭＡＰ等を挙げることができる。

工程（１－１）における反応は、特に限定されないが、例えば、－７８～２００℃で行い得る。工程（１－１）における反応時間は、特に限定されないが、例えば、０．１～１６８時間であってもよい。工程（１－１）における反応圧力は、特に限定されないが、例えば、０～１００ＭＰａ（ゲージ圧）であり、簡便には常圧である。

工程（１－１）において、式（１ａ’）または（１ｂ’）の末端のカルボン酸と反応させる化合物としては、例えば、塩化チオニル、三塩化リン、五塩化リン、塩化スルフリル、塩化オキサリル等のハロゲン化剤を用いることができる。

工程（１－２）は、適当な触媒の存在下、適当な溶媒中で行われ得る。適当な溶媒としては、特に限定されるものではないが、例えば、ハイドロクロロフルオロカーボン（例えば、ＡＫ－２２５：ＡＧＣ株式会社製）、クロロホルム、ジクロロメタン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）等の各種有機溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独で、または、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。
適当な触媒としては、特に限定されるものではないが、例えば、ピリジン、コリジン、Ｎ，Ｎ－ジメチル－４－アミノピリジン（ＤＭＡＰ）、トリエチルアミン、ヒューニッヒ塩基等のアミン系塩基等を挙げることができる。

工程（１－２）における反応は、特に限定されないが、例えば、－７８～２００℃で行い得る。工程（１－２）における反応時間は、特に限定されないが、例えば、０．１～１６８時間であってもよい。工程（１－２）における反応圧力は、特に限定されないが、例えば、０～１００ＭＰａ（ゲージ圧）であり、簡便には常圧である。

本実施態様の式（１ａ）または式（１ｂ）で表される化合物からは、比較的温和な条件下で、具体的には加熱還流を行う必要がなく、アルデヒド基を有する化合物を形成することができる。さらに、本実施態様の式（１ａ）または式（１ｂ）で表される化合物からは、他の官能基（例えば、ケトン基、アルキン基、ビニル基等）を有する化合物を形成し得る。式（１ａ）または式（１ｂ）で表される化合物を用いることにより、温和な条件、例えば０℃～室温の環境下で、上記のような他の官能基を有する化合物を形成し得る。
これは、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎで表される基を有することにより、本実施態様の化合物の反応性は良好になり、本態様の化合物を反応原料として用いた場合に、該反応を容易に制御し得るためと考えられる。

以下、第２～５の実施態様として、フルオロポリエーテル基含有化合物について、それぞれ説明するが、これらのフルオロポリエーテル基含有化合物は、第１の実施態様の式（１ａ）または（１ｂ）で表される化合物を中間体として用いて形成され得る化合物である。

（第２の実施態様）
本実施態様は、以下の式（２ａ）または（２ｂ）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物に関する。
本態様によれば、分子構造中に、炭素－炭素不飽和結合を複数有する新たなフルオロポリエーテル基含有化合物を提供することができる。本態様の化合物を用いると、様々な官能基を有する化合物の形成が可能になる。したがって、式（２ａ）または（２ｂ）で表される化合物は、合成反応における中間体として特に有用である。

式（２ａ）または（２ｂ）：

Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２は、第１の実施態様のＲ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２とそれぞれ同意義である。

Ｘ^２は、２価の有機基である。

好ましくは、Ｘ^２は、Ｃ_１－３アルキレン基である。Ｘ^２において、上記アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよい。

Ｘ^２において、Ｃ_１－３アルキレン基としては、－ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ（ＣＨ_３）－、－ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）－を挙げることができ、好ましくは、－ＣＨ_２－である。

一の態様において、上記Ｘ^２は、それぞれ独立して、フッ素原子、Ｃ_１－３アルキル基およびＣ_１－３フルオロアルキル基（好ましくは、Ｃ_１－３パーフルオロアルキル基）から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

なお、上記Ｘ^２として記載する構造は、右側がＡ^２に結合する。

Ａ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、ＣまたはＳｉである。

一の態様において、Ａ^２は、Ｃ原子である。

一の態様において、Ａ^２は、Ｓｉ原子である。

Ｒ^２１は、それぞれ独立して、炭素－炭素不飽和結合を少なくとも１つ有する炭化水素基である。炭素－炭素不飽和結合は、すなわち、炭素－炭素二重結合または炭素－炭素三重結合である。

Ｒ^２１は、例えば、－Ｙ^２１－ＣＨ＝ＣＨ－Ｙ^２２、－Ｙ^２１－ＣＣ－Ｙ^２２（ここで、－ＣＣ－は、炭素－炭素三重結合を表す）で表される基であり、好ましくは－Ｙ^２１－ＣＨ＝ＣＨ－Ｙ^２２で表される基である。

Ｙ^２１は、２価の有機基である。

好ましくは、Ｙ^２１は、Ｃ_１－３アルキレン基である。Ｙ^２１において、上記アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよい。

Ｙ^２１において、Ｃ_１－３アルキレン基としては、例えば、－ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ（ＣＨ_３）－、－ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）－を挙げることができ、好ましくは、－ＣＨ_２－である。

Ｙ^２２は、水素原子または１価の有機基であり、好ましくは水素原子である。

一の態様において、本実施態様のフルオロポリエーテル基含有化合物は、式（２ａ）で表される。

一の態様において、本実施態様のフルオロポリエーテル基含有化合物は、式（２ｂ）で表される。

本実施態様の、式（２ａ）または（２ｂ）で表される化合物は、上記のように分子鎖中に炭素－炭素不飽和結合を複数有する。
このような構造を有することにより、式（２ａ）または（２ｂ）で表される化合物は、合成反応における中間体としても有用に使用し得る。具体的には、炭素－炭素不飽和結合に他の官能基を導入し得るため、本態様の化合物を用いると、様々な官能基を有する化合物の形成が可能になる。

一の態様において、式（２ａ）または（２ｂ）で表される化合物には、炭素－炭素不飽和結合に、具体的には、Ｒ^２１の炭素－炭素不飽和結合に、加水分解可能な基に結合したＳｉ原子を含む基を導入し得る。このようなＳｉ原子を含む基を有する化合物は、例えば、基材の表面処理に用い得る表面処理剤として有用に使用し得る。

式（２ａ）または（２ｂ）で表される化合物の合成方法としては、特に限定されないが、例えば以下の方法を挙げることができる。

式（２ａ）または（２ｂ）で表される化合物の合成方法としては、式（１ａ）または（１ｂ）：

で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物に、以下の式（２ｃ）：

で表される化合物を有機リチウムとともに加え、
式（２ａ）または式（２ｂ）：

で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物を得る工程（２－１）、
を含む方法を挙げることができる。

工程（２－１）は、有機リチウムを用いて行われる。有機リチウムとしては、アルキルリチウムを挙げることができる。アルキルリチウムとしては、特に限定されないが、例えば、ｎ－ブチルリチウム、ｓｅｃ－ブチルリチウム、ｔｅｒｔ－ブチルリチウム等を挙げることができる。
本態様では、このように有機リチウムと、式（２ｃ）で表される化合物とを用いており、式（２ｃ）で表される化合物の炭素－炭素三重結合側の末端にリチウムの導入された化合物が形成される。このリチウムの導入された化合物は、求核性が高い化合物であり、この化合物を、式（１ａ）または（１ｂ）で表されるアミド基を有する化合物に反応させることによって、式（２ａ）または（２ｂ）で表される化合物を容易に合成し得る。

式（２ｃ）で表される化合物と有機リチウムとの混合比は、通常用い得る比とすることができ、特に限定されないが、例えば、モル比で１：１～１：２で用いることができる。

工程（２－１）は、適当な溶媒中で行われ得る。適当な溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ＨＦＥ７２００、ＨＦＥ７３００等を挙げることができる。これらの溶媒は、単一で、または、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

工程（２－１）は、特に限定されないが、例えば、－７８～２００℃で行うことができる。工程（２－１）の反応時間は、特に限定されないが、例えば、０．１～１６８時間であってもよい。工程（２－１）の反応圧力は、特に限定されないが、例えば、０～１００ＭＰａ（ゲージ圧）であり、簡便には常圧である。

上記のように、式（１ａ）および（１ｂ）で表される化合物を用いることにより、フルオロポリエーテル基含有化合物に、複数の炭素－炭素不飽和結合を有する基を容易に導入することができる。本方法では、炭素－炭素不飽和結合を有する基を、温和な条件下で、具体的には、加熱を行うことなく、導入し得る。

式（２ａ）および（２ｂ）において、Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２は、第１の実施態様のＲ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２とそれぞれ同意義である。

式（２ａ）および（２ｂ）のＸ^２、Ａ^２、およびＲ^２１は、それぞれ、式（２ｃ）のＸ^２、Ａ^２、およびＲ^２１に対応する。

式（２ｃ）で表される化合物は、例えば、以下の式（２ｄ）で表される化合物から合成することができる。すなわち、上記方法は、さらに、以下の工程（２－２）である、式（２ｃ）で表される化合物を合成することを含み得る。
式（２ｄ）：

で表される化合物を、大平－Ｂｅｓｔｍａｎｎ試薬と反応させ、式（２ｃ）：

で表される化合物を合成する工程（２－２）。

工程（２－２）における大平－Ｂｅｓｔｍａｎｎ試薬は、すなわち（１－ジアゾ－２－オキソプロピル）ホスホン酸ジメチルを意味する。

上記工程（２－２）は、適当な触媒の存在下、適当な溶媒中で行われ得る。適当な溶媒としては、特に限定されるものではないが、例えば、メタノール、ＴＨＦ、ジオキサンなどの各種有機溶媒等を挙げることができる。これらの溶媒は、単独で、または、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。
適当な触媒としては、特に限定されるものではないが、例えば、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、カリウム ｔｅｒｔ－ブトキシド（ｔ－ＢｕＯＫ）、ブチルリチウム（ＢｕＬｉ）等の強塩基、およびジアザビシクロウンデセン、ジアザビシクロノネン（ＤＢＮ）、トリエチルアミン、ヒューニッヒ塩基などのアミン系塩基等を挙げることができる。

式（２ａ）または（２ｂ）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物において、例えば、Ｒ^２１が－Ｙ^２１－ＣＨ＝ＣＨ－Ｙ^２２で表され、かつ、Ｙ^２２が水素原子である場合、式（２ａ）または（２ｂ）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物をヒドロシリル化することにより、分子末端にＳｉＲ^ｈｘ（Ｒ^ｈｘは加水分解可能な基）を有する化合物が形成され得る。このような化合物は、例えば、基材の表面処理に用い得る表面処理剤として使用し得る。

別の態様において、式（２ａ）または（２ｂ）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物において、環化反応を行うことによって、例えば式（２ｅ）または（２ｆ）で表される化合物を形成し得る。
具体的には、式（２ａ）または（２ｂ）のカルボニル基Ｃ＝Ｏに、ヒドロキシルアミン塩酸塩等を反応させ、Ｃ＝Ｎ－ＯＨで表される基を形成し、その後、縮合反応させて、式（２ｅ）または（２ｆ）で表される化合物を形成し得る。

上記式（２ｅ）または（２ｆ）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物において、例えば、Ｒ^２１が－Ｙ^２１－ＣＨ＝ＣＨ－Ｙ^２２で表され、かつ、Ｙ^２２が水素原子である場合、ヒドロシリル化することにより、分子末端にＳｉＲ^ｈｘ（Ｒ^ｈｘは加水分解可能な基）を有する化合物が形成され得る。このような化合物は、例えば、基材の表面処理に用い得る表面処理剤として使用し得る。

（第３の実施態様）
本実施態様は、以下の式（４ａ）または（４ｂ）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物に関する。
本態様によれば、分子構造中にアルデヒド末端を有するフルオロポリエーテル基含有化合物を提供することができる。本態様の化合物を用いると、様々な官能基を有する化合物の形成が可能になる。

式（４ａ）または（４ｂ）：

式中、Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２は、第１の実施態様のＲ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２とそれぞれ同意義である。

本実施態様の、式（４ａ）または（４ｂ）で表される化合物は、上記のようにアルデヒド基を有している。アルデヒド基を有することにより、本態様の化合物を用いると、様々な官能基を有する化合物の形成が可能になる。したがって、このような構造を有することにより、式（４ａ）または（４ｂ）で表される化合物は、合成反応における中間体として特に有用である。

一の態様において、本実施態様のフルオロポリエーテル基含有化合物は、式（４ａ）で表される。

一の態様において、本実施態様のフルオロポリエーテル基含有化合物は、式（４ｂ）で表される。

一の態様において、式（４ａ）または（４ｂ）で表される化合物は、例えば、第４の実施態様で示す式（３ａ）または（３ｂ）で表される化合物の前駆体であり得る。

一の態様において、式（４ａ）または（４ｂ）で表される化合物は、以下の式（４ｃ）または（４ｄ）で表される化合物の前駆体であり得る。式（４ｃ）および（４ｄ）におけるＲ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２は、それぞれ、式（４ａ）および（４ｂ）のＲ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２と同じである。

式（４ａ）または（４ｂ）で表される化合物の合成方法としては、特に限定されないが、例えば以下の方法を挙げることができる。

具体的には、式（４ａ）または式（４ｂ）で表される化合物は、第１の実施態様の式（１ａ）または（１ｂ）：

で表される化合物を、触媒存在下で還元し、式（４ａ）または式（４ｂ）：

で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物を得る工程、
を含む方法で合成し得る。

式（４ａ）および（４ｂ）において、Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２は、第１の実施態様のＲ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２とそれぞれ同意義である。

上記工程は、適当な触媒の存在下、適当な溶媒中で行われ得る。適当な触媒としては、特に限定されないが、例えば、水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化アルミニウムリチウム（ＬＡＨ）等を挙げることができる。適当な溶媒としては、特に限定されないが、例えば、ＨＦＥ７２００、ＨＦＥ７３００等のフッ素系溶媒；ＴＨＦ、ジエチルエーテル等の非フッ素系溶媒等；または、これらのうち２種類以上を含む混合溶媒を挙げることができる。上記溶媒は、２種類以上を組み合わせて用いることが好ましい。

上記工程は、特に限定されないが、例えば、－７８～２００℃で行い得る。上記工程における反応時間は、特に限定されないが、例えば、０．１～１６８時間であってもよい。上記工程における反応圧力は、特に限定されないが、例えば、０～１００ＭＰａ（ゲージ圧）であり、簡便には常圧である。

上記のように、式（１ａ）および（１ｂ）で表される化合物を用いることにより、フルオロポリエーテル基含有化合物に、アルデヒド基を容易に導入することができる。本方法では、アルデヒド基を、温和な条件下で、具体的には、加熱を行うことなく、導入し得る。

（第４の実施態様）
本実施態様は、以下の式（３ａ）または（３ｂ）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物に関する。
本態様によれば、分子末端に炭素－炭素三重結合を有する新たなフルオロポリエーテル基含有化合物を提供することができる。本態様の化合物を用いると、様々な官能基を有する化合物の形成が可能になる。

式（３ａ）または（３ｂ）：

式中、Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２は、第１の実施態様のＲ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２とそれぞれ同意義である。

本実施態様の、式（３ａ）または（３ｂ）で表される化合物は、上記のように化合物の末端部分にアルキンを有する。このような構造を有することにより、式（３ａ）または（３ｂ）で表される化合物を用いると、様々な官能基を有する化合物の形成が可能になる。式（３ａ）または（３ｂ）で表される化合物は、合成反応における中間体として特に有用であり得る。

一の態様において、本実施態様のフルオロポリエーテル基含有化合物は、式（３ａ）で表される。

一の態様において、本実施態様のフルオロポリエーテル基含有化合物は、式（３ｂ）で表される。

一の態様において、式（３ａ）または（３ｂ）で表される化合物は、以下の式（３ｃ）または（３ｄ）で表される化合物の前駆体であり得る。具体的には、式（３ａ）または（３ｂ）で表される化合物と、Ｎ_３Ｘ^２Ａ^２Ｒ^２１ _３で表される化合物とを反応させることによって、以下の式（３ｃ）または（３ｄ）で表される化合物を合成することができる。

式（３ｃ）および（３ｄ）におけるＲ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２は、式（３ａ）および（３ｂ）におけるＲ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２と同じである。式（３ｃ）および（３ｄ）におけるＸ^２、Ａ^２、およびＲ^２１は、式（２ａ）および（２ｂ）におけるＸ^２、Ａ^２、およびＲ^２１と同意義である。

さらに、上記の式（３ｃ）または（３ｄ）で表される化合物において、例えばＲ^２１が－Ｙ^２１－ＣＨ＝ＣＨ－Ｙ^２２で表され、かつ、Ｙ^２２が水素原子である場合、式（３ｃ）または（３ｄ）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物をヒドロシリル化することにより、分子末端にＳｉＲ^ｈｘ（Ｒ^ｈｘは加水分解可能な基）を有する化合物が形成され得る。このような化合物は、例えば、基材の表面処理に用い得る表面処理剤として有用に使用し得る。

本実施態様の式（３ａ）または（３ｂ）で表される化合物の合成方法としては、特に限定されないが、例えば以下の方法を挙げることができる。

具体的には、式（３ａ）または式（３ｂ）で表される化合物は、式（４ａ）または（４ｂ）で表される化合物：

を、大平－Ｂｅｓｔｍａｎｎ試薬と反応させ、式（３ａ）または式（３ｂ）：

で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物を得る工程、
を含む方法で合成し得る。

式（３ａ）および（３ｂ）において、Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２は、式（４ａ）および（４ｂ）におけるＲ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２とそれぞれ同じである。

上記工程は、適当な溶媒中で行われ得る。適当な溶媒としては、特に限定されないが、例えば、ＨＦＥ７２００、ＨＦＥ７３００等のフッ素系溶媒；ＴＨＦ、ジエチルエーテル等の非フッ素系溶媒等、または、これらのうち２種類以上を含む混合溶媒を挙げることができる。

上記工程は、特に限定されないが、例えば、－７８～２００℃で行い得る。上記工程における反応時間は、特に限定されないが、例えば、０．１～１６８時間であってもよい。上記工程における反応圧力は、特に限定されないが、例えば、０～１００ＭＰａ（ゲージ圧）であり、簡便には常圧である。

上記のように、式（１ａ）および（１ｂ）で表される化合物を用いることにより、フルオロポリエーテル基含有化合物の末端に、炭素－炭素三重結合を容易に導入することができる。本方法では、炭素－炭素三重結合を、温和な条件下で、具体的には、加熱を行うことなく、導入し得る。

（第５の実施態様）
本実施態様は、以下の式（５ａ）または（５ｂ）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物に関する。
本態様によれば、分子構造中に炭素－炭素二重結合を有するフルオロポリエーテル基含有化合物を提供することができる。本態様の化合物を用いると、様々な官能基を有する化合物の形成が可能になる。

式（５ａ）または（５ｂ）：

式中、Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２は、第１の実施態様のＲ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２とそれぞれ同意義である。

式中、Ｘ^３は、２価の有機基である。

好ましくは、Ｘ^３は、Ｃ_１－３アルキレン基である。Ｘ^３において、上記Ｃ_１－３アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよい。

Ｘ^３において、Ｃ_１－３アルキレン基としては、－ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ（ＣＨ_３）－、－ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）－を挙げることができ、好ましくは、－ＣＨ_２ＣＨ_２－である。

一の態様において、上記Ｘ^３は、それぞれ独立して、フッ素原子、Ｃ_１－３アルキル基およびＣ_１－３フルオロアルキル基（好ましくは、Ｃ_１－３パーフルオロアルキル基）から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

なお、上記Ｘ^３として記載する構造は、右側がＡ^３に結合する。

Ａ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、ＣまたはＳｉである。

一の態様において、Ａ^３は、Ｃ原子である。

一の態様において、Ａ^３は、Ｓｉ原子である。

Ｙ^３１は、２価の有機基である。

好ましくは、Ｙ^３１は、Ｃ_１－３アルキレン基である。Ｙ^３１において、上記アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよい。

Ｙ^３１において、Ｃ_１－３アルキレン基としては、－ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ（ＣＨ_３）－、－ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）－を挙げることができ、好ましくは、－ＣＨ_２－である。

なお、上記Ｙ^３１として記載する構造は、左側がＡ^３に結合する。

一の態様において、本実施態様のフルオロポリエーテル基含有化合物は、式（５ａ）で表される。

一の態様において、本実施態様のフルオロポリエーテル基含有化合物は、式（５ｂ）で表される。

本実施態様の、式（５ａ）または（５ｂ）で表される化合物は、上記のように分子末端に炭素－炭素二重結合を有する。
このような構造を有することにより、式（５ａ）または（５ｂ）で表される化合物は、合成反応における中間体としても有用に使用し得る。具体的には、炭素－炭素二重結合に他の官能基を導入し得るため、本態様の化合物を用いると、様々な官能基を有する化合物の形成が可能になる。

一の態様において、式（５ａ）または（５ｂ）で表される化合物には、炭素－炭素二重結合に、加水分解可能な基に結合したＳｉ原子を含む基を導入し得る。このようなＳｉ原子を含む基を有する化合物は、例えば、基材の表面処理に用い得る表面処理剤として有用に使用し得る。

式（５ａ）または（５ｂ）で表される化合物の合成方法としては、特に限定されないが、例えば以下の方法を挙げることができる。

式（５ａ）または（５ｂ）で表される化合物の合成方法としては、式（１ａ）または（１ｂ）：

で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物に、以下の式（５ｃ）：

で表される化合物を反応させる工程（５－１）
を含む方法を挙げることができる。

工程（５－１）は、適当な溶媒中で行われ得る。適当な溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ＨＦＥ７２００、ＨＦＥ７３００等を挙げることができる。これらの溶媒は、単一で用いてもよく、複数の種類を組み合わせて用いてもよい。

工程（５－１）は、特に限定されないが、例えば、－７８～２００℃で行うことができる。工程（５－１）の反応時間は、特に限定されないが、例えば、０．１～１６８時間であってもよい。工程（５－１）の反応圧力は、特に限定されないが、例えば、０～１００ＭＰａ（ゲージ圧）であり、簡便には常圧である。

上記のように、式（１ａ）および（１ｂ）で表される化合物を用いることにより、フルオロポリエーテル基含有化合物の末端に炭素－炭素二重結合を容易に導入することができる。本方法では、炭素－炭素二重結合を、温和な条件下で、具体的には、加熱を行うことなく、導入し得る。

式（５ｃ）において、Ｘ^３、Ａ^３、およびＹ^３１は、それぞれ、式（５ａ）および（５ｂ）のＸ^３、Ａ^３、およびＹ^３１と同じである。

式（５ｃ）において、Ｈａｌはハロゲン原子を表す。ハロゲン原子とは、すなわち、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、およびＩであり、好ましくは、Ｂｒである。

以上、実施形態を説明したが、特許請求の範囲の趣旨及び範囲から逸脱することなく、形態や詳細の多様な変更が可能なことが理解されるであろう。

以下、本開示について、実施例において説明するが、本開示は以下の実施例に限定されるものではない。なお、本実施例において、以下に示される化学式はすべて平均組成を示し、「Ｍｅ」はＣＨ_３を、「Ｂｏｃ」はｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基を、それぞれ表す。

（実施例１）ワインレブアミドの合成
ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｎＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＯＯＨ（ｎは、２５）１０．９ｇ（２．７３ｍｍｏｌ）を、簡易脱水したメタキシレンヘキサフロライド（ｍＸＨＦ） １８ｍＬに溶かした後、該溶液にジメチルホルムアミド（ＤＭＦ） ４０μｌ（０．５１４ｍｍｏｌ）、および塩化チオニル １．４ｍＬ（１９．３ｍｍｏｌ）を順に添加し、その後、室温で１０分間撹拌した。その後、上記反応液の入った容器をオイルバスにつけ、１００℃で５時間撹拌した。５時間後、得られた反応溶液を濃縮乾固することで、酸クロライドであるＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｎＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＯＣｌを得た。

上記で得た酸クロライドを、簡易脱水したＡＫ２２５（ＡＧＣ製） １６ｍＬおよび脱水クロロホルム ６ｍＬの混合溶媒に溶解した後、該溶液に、Ｎ，Ｏ－ジメチルヒドロキシアミンの塩酸塩を添加した。続いて、室温下、ピリジン２．７ｍＬ（３３．５ｍｍｏｌ）を１０分かけて滴下した後、上記溶液を６０℃で２日間撹拌した。２日後、得られた反応溶液を１Ｎ ＨＣｌ １０ｍＬを用いて２回洗浄した後、水 １０ｍＬを用いて１回洗浄した。シリカゲルを２ｃｍ敷き詰めた桐山ロートで、洗浄後の反応溶液をろ過し、ろ液を濃縮乾固した。濃縮乾固によって得た生成物を、１０ｍＬのＡＫ２２５に溶解し、その後、該溶液をフィルターろ過した。ろ液を濃縮乾固することにより、以下の式で表される１０．１５ｇのワインレブアミドを得た（収率９３％）。

（ｎは２５）

^１Ｈ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 3.55 (s, 3H), 4.06 (s, 3H);
^１９Ｆ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -84.14 - -84.16, -85.60 - -85.89, -86.60, -120.44, -131.39 - -131.49, -132.40

（実施例２）モルホリンアミドの合成
ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｎＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＯＯＣＨ_３（ｎは、２５）で表されるメチルエステル ２．２ｇ（０．５５ｍｍｏｌ）に対してモルホリン ０．４７９ｇ（５．５ｍｍｏｌ）を添加し、３０分間、減圧しながら撹拌した後、簡易脱水したＡＫ２２５ ３ｍＬを入れ、室温で３日間撹拌した。３日後、３．５Ｎ ＨＣｌ １０ｍＬで洗浄した後、水 １０ｍＬで洗浄した。水洗浄後、硫酸ナトリウム ２０ｇを用いて乾燥した後、桐山ロートでろ過し、ろ液を濃縮乾固後することで、以下の式で表されるモルホリンアミドを２．２７４ｇ得た（収率１００％）。

（ｎは２５）

^１Ｈ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 3.95 (m, 4H), 3.99 (m, 4H);
^１９Ｆ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -84.13 - -84.17, -85.00 - -86.50, -86.93, -116.94, -131.39 - -131.50, -132.41.

（実施例３）
（合成例３－１）アルデヒドの合成
実施例１で得たワインレブアミド４．５４ｇ（１．１４ｍｍｏｌ）を、簡易脱水した１０ｍＬのハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ－７２００）に溶解した後、反応溶液を－７８℃まで冷却した。続いて、１ｍｏｌ／Ｌの水素化ジイソブチルアルミニウム（ＤＩＢＡＬ－Ｈ） ２．３８ｍＬ（２．３８ｍｍｏｌ）を３０分かけてゆっくり滴下した後、反応溶液を、－７８℃から室温まで自然昇温させながら、８．５時間撹拌した。８．５時間後、１０ｍＬの１Ｎ ＨＣｌを反応溶液に加え、３０分撹拌した後、分液により水相を除去した。
その後、ＨＦＥ７２００相を、水 １０ｍＬおよび飽和食塩水 １０ｍＬを用いて洗浄し、その後、硫酸ナトリウム３０ｇを用いて乾燥した。続いて、乾燥後のＨＦＥ７２００溶液を桐山ロートを用いてろ過した後、濃縮乾固した。濃縮乾固によって得た生成物４．９ｇを、パーフルオロヘキサン １０ｍＬに溶解した後、１Ｎ ＨＣｌ １０ｍＬ、水 １０ｍＬの順で洗浄した。続いて、パーフルオロヘキサン溶液をメタノール １０ｍＬ、クロロホルム １０ｍＬの順で洗浄した。洗浄後のパーフルオロヘキサン溶液を濃縮乾固することにより、以下の式で表されるアルデヒド ４．３９ｇを得た（収率９７％）。

（ｎは２５）

^１９Ｆ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -83.62 - -83.70, -84.12 - -84.26, -85.45 - -85.97, -86.58 - -86.73, -128.16 - -128.27, -128.51 - -128.61, -131.48 - -132.00, -132.40

（合成例３－２）アルキンの合成
合成例３－１で得たアルデヒド ２ｇ（０．５ｍｍｏｌ）を、簡易脱水したＨＦＥ７２００ ３ｍＬおよび脱水メタノール １．５ｍＬの混合溶媒に溶解した後、炭酸カリウム０．３０６ｇ（２．２２ｍｍｏｌ）を添加した。続いて、大平－Ｂｅｓｔｍａｎｎ試薬 ０．２ｍｌ（１．３３ｍｍｏｌ）を添加し、室温で一晩撹拌した。翌朝、反応溶液にパーフルオロヘキサンを２０ｍＬ加え、クロロホルム １０ｍＬを用いて２回洗浄した。シリカゲルを２ｃｍ敷き詰めた桐山ロートを用いて、洗浄後の反応溶液をろ過し、ろ液を濃縮乾固して、以下の式で表されるアルキン２ｇを得た（収率１００％）。

（ｎは２５）

^１Ｈ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 3.16 (t, 1H);
^１９Ｆ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -84.12 - -84.16, -85.59 - -85.96, -86.90, -89.99, -105.58, -131.40 - -131.63, -132.39

（合成例３－３）
アジ化ナトリウム ３．９２ｇ（６０．３ｍｍｏｌ）を脱水アセトニトリル ６ｍＬに懸濁後、反応溶液を０℃まで冷却した。冷却後、該溶液に、トリフルオロメタンスルホニルクロリド １．４ｍＬ（１３．３ｍｍｏｌ）を１０分かけて滴下し、氷浴中で３時間撹拌した。３時間後、反応溶液に、ジクロロメタン ２０ｍＬ、および水 １０ｍＬを加えて５分撹拌した。５分後、ジクロロメタン相を抜出し、再度、水 １０ｍＬで洗浄することで、トリフルオロメタンスルホニルアジドのジクロロメタン溶液を得た。

Ｈ_２ＮＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３ １．１ｇ（６．６５ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム １．３８ｇ（９．９８ｍｍｏｌ）をメタノール ４０ｍＬ、および水 ２０ｍＬの混合溶媒に溶解した後、硫酸銅五水和物 ０．１６６ｇ（０．６６５ｍｍｏｌ）を添加した。続いて、該溶液に上記で合成したトリフルオロメタンスルホニルアジドのジクロロメタン溶液を１０分かけて滴下した後、室温で２時間撹拌した。２時間後、反応溶液を飽和塩化アンモニウム水溶液 １０ｍＬ、水 １０ｍＬで洗浄し、濃縮乾固した。濃縮乾固によって得た生成物を酢酸エチル １ｍＬ、およびヘキサン １０ｍＬの混合溶媒に溶解した後、シリカゲルを２ｃｍ敷き詰めた桐山ロートでこの溶液をろ過し、ろ液を濃縮乾固することで、以下の式で表される化合物を１．０６ｇ得た（収率８４％）。

^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ） δ: 2.00-2.05 (m, 6H), 3.16 (s, 2H), 4.90-5.15 (m, 6H), 5.73-5.90 (m, 3H)

（合成例３－４）トリアゾールの合成
合成例３－２で得たアルキン１．３８２７ｇ（０．３４６ｍｍｏｌ）を、ＡＫ２２５ ３ｍＬ、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ） １．５ｍＬ、および水 ０．５ｍＬからなる混合溶媒に溶解した。得られた溶液に、合成例３－３で得た化合物 ０．１３２ｇ（０．６９１ｍｍｏｌ）、Ｌ－アスコルビン酸ナトリウム ０．０１３７ｇ（０．０６９１ｍｍｏｌ）、および硫酸銅五水和物 ０．００８６ｇ（０．０３４６ｍｍｏｌ）を、順に添加し、室温で一晩撹拌した。翌朝、反応液に、ＡＫ２２５を１０ｍＬ添加した後、水 １０ｍＬで洗浄し、濃縮乾固した。濃縮乾固により得た生成物をパーフルオロヘキサン ２０ｍＬに溶解後、クロロホルム １０ｍＬで２回洗浄し、硫酸ナトリウム１０ｇを用いて乾燥した。続いて、この溶液を桐山ロートでろ過し、ろ液を濃縮乾固後、シリカゲルを用いたフラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製することで、以下の式で表されるトリアゾール０．８８３ｇを得た（収率６４％）。

（ｎは２５）

^１Ｈ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 2.35-2.40 (m, 6H), 4.57 (s, 2H), 5.42-5.54 (m, 6H), 6.16-6.27 (m, 3H)
^１９Ｆ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -84.12 - -84.16, -85.50 - -86.00, -86.58, - -86.59, -89.04 - -89.11, -114.53, -131.39 - -131.96, -132.39

（合成例３－５）トリアゾールのヒドロシリル化
合成例３－４で得たトリアゾール ０．８８３ｇ（０．２２１ｍｍｏｌ）を、簡易脱水したｍＸＨＦ １．２ｍＬに溶解後、カールシュテット触媒 ６０μｌ（０．２７７×１０^－２ｍｍｏｌ）、アニリン １０μｌ（０．１１ｍｍｏｌ）を順に添加した。室温で３０分撹拌後、反応溶液にトリメトキシシラン ０．２ｍＬ（１．５７ｍｍｏｌ）を添加し、室温で２時間撹拌した。２時間後、簡易脱水したＨＦＥ７２００を１．５ｍＬ添加した。この反応溶液に活性炭を０．０４ｇ添加し、室温で３０分撹拌した。３０分後、フィルター濾過した後、ろ液を濃縮乾固することにより、以下の式で示すトリアゾールのヒドロシリル体を０．９３ｇ得た（収率１００％）。

（ｎは２５）

^１Ｈ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 0.96-1.00 (m, 6H), 1.55-1.65 (m, 6H), 1.90-1.98 (m, 6H), 4.57 (s, 2H)
^１９Ｆ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -84.14 - -84.16, -85.50 - -86.00, -86.58, - -86.59, -88.59 - -88.64, -114.50 - -114.30, -131.39 - -131.96, -132.39

（合成例４）
（合成例４－１）ビニルの合成
メチルトリフェニスホスホニウムアイオダイド ０．２６３ｇ（０．６５ｍｍｏｌ）を脱水テトラヒドロフラン（ＴＨＦ） ３ｍＬに溶解した後、カリウム ｔｅｒｔ－ブトキシド（ｔ－ＢｕＯＫ）０．０７３ｇ（０．６５ｍｍｏｌ）を入れ、室温で１時間撹拌した。１時間後、合成例３－１で得たアルデヒド １．３ｇ（０．３２５ｍｍｏｌ）を添加し、室温で一晩撹拌した。翌朝、反応溶液にパーフルオロヘキサンを２０ ｍＬ加え、水 １０ｍＬで２回洗浄した後、メタノール １０ｍＬで洗浄した。続いて、クロロホルム １０ｍＬで２回洗浄した後、シリカゲルを２ｃｍ敷き詰めた桐山ロートでこの反応溶液をろ過し、パーフルオロヘキサン６０ｍＬで抽出した。最後に、この溶液を濃縮乾固することにより下式で表されるビニル０．８５１ｇを得た（収率６６％）。

（ｎは２５）

^１Ｈ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 6.00-6.03 (m, 1H), 6.28 (d, 2H);
^１９Ｆ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -84.13, -85.60 ～-86.00, -86.50, -120.26, -131.40 - -131.89, -132.40.

（実施例５）
（合成例５－１）
ＨＯＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３ ３．６ｇ（２１．７ｍｍｏｌ）および活性化したモレキュラーシーブス４Å ３６ｇを、ジクロロメタン ５０ｍＬ中に懸濁した後、ニクロム酸ピリジニウム（ＰＤＣ） １２．２１ｇ（３２．５ｍｍｏｌ）を３回に分けて添加した。室温で５時間撹拌後、シリカゲルを２ｃｍ敷き詰めた桐山ロートを用いて、この溶液をろ過し、ろ液を濃縮乾固することにより、以下の式で表される化合物を３．４７ｇ得た（収率９８％）。

^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ） δ: 2.26-2.29 (m, 6H), 5.00-5.11 (m, 6H), 5.66-5.80 (m, 3H), 9.52 (s, 1H).

（合成例５－２）メトキシ化合物の合成
メトキシメチルトリフェニルホスホニウムクロライド １７．５ｇ（５１．１ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ） ６０ｍＬに溶解した。その後、カリウム ｔｅｒｔ－ブトキシド（ｔ－ＢｕＯＫ） ６．５ｇ（５８．０ｍｍｏｌ）を加え、該溶液を室温で１時間撹拌した。１時間後、合成例５－１で得た化合物 ５．６ｇ（３４．１ｍｍｏｌ）を添加し、該溶液を室温で４時間撹拌した。４時間後、反応溶液に酢酸エチル １２０ｍＬを加え、水 ４０ｍＬで２回洗浄した後、硫酸ナトリウム ３０ｇを用いて乾燥した。続いて、乾燥後の溶液を桐山ロートでろ過し、ろ液を濃縮乾固した。その後、シリカゲルを用いたフラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製することで、Ｅ体とＺ体との混合物であるメトキシ化合物（Ｅ体が以下の式で表される）６．２６ｇを得た（収率９５％）。

^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ） δ: 2.05-2.09 (m, 6H), 2.20-2.25 (m, 6H), 3.50-3.54 (m, 6H), 3.99-4.02 (m, 1H), 4.60-4.67 (m, 1H), 5.00-5.10 (m, 12H), 5.75-5.80 (m, 6H), 6.15-6.19 (m, 1H)

（合成例５－３）アルデヒドの合成
合成例５－２で得たメトキシ化合物 １．２６ｇ（６．５５ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ６ｍＬに溶解した後、該溶液に６Ｎ ＨＣｌ ３ｍＬを加え、室温で７時間撹拌した。７時間後、反応溶液に、酢酸エチルおよびヘキサンの混合溶液（酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）２０ｍＬを加え、水 １００ｍＬで２回洗浄した後、硫酸ナトリウム ２０ｇを用いて乾燥した。続いて、乾燥後の溶液を桐山ロートでろ過し、ろ液を濃縮乾固することにより、以下の式で表される一炭素増炭した化合物１．０４ｇを得た（収率９７％）。

^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ） δ: 2.15-2.17 (m, 6H), 2.30 (s, 2H), 5.00-5.13 (m, 6H), 5.76-5.90 (m, 3H), 9.84 (s, 1H)

（合成例５－４）カルボン酸の合成
合成例５－３で得た化合物 ０．５９ｇ（３．３１ｍｍｏｌ）を脱水メタノール １０ｍＬに溶解した後、炭酸カリウム ２．０２ｇ（１４．６ｍｍｏｌ）、大平－Ｂｅｓｔｍａｎｎ試薬 １．０９ｍＬ（７．２９ｍｍｏｌ）を順に入れ、室温で３時間撹拌した。３時間後、反応溶液にジエチルエーテル ２０ｍＬを加え、水 １００ｍＬで２回洗浄した後、飽和食塩水 １０ｍＬで洗浄し、硫酸ナトリウム ２０ｇにより乾燥した。続いて、この溶液を桐山ロートでろ過し、濃縮乾固した。残渣をヘキサン ４０ｍＬに溶かした後、シリカゲルを３ｃｍ敷き詰めた桐山ロートでこの溶液をろ過し、ろ液を濃縮乾固することで、以下の式で表される化合物を０．６ｇ得た（収率１００％）。

^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ） δ: 1.99 (s, 1H), 2.00-2.15 (m, 8H), 5.00-5.20 (m, 6H), 5.75-5.85 (m, 3H)

（合成例５－５）アルキノンの合成
合成例５－４で得た化合物 ０．２ｇ（１．１５ｍｍｏｌ）を、脱水ＴＨＦ ３ｍＬに溶解した後、該溶液をドライアイスおよびアセトンの入った氷浴に浸け、内温を－７８℃まで冷却した。冷却後、該溶液にｎ－ＢｕＬｉ（１．６６ｍｏｌ／Ｌ） ０．７９５ｍＬ（１．３２ｍｍｏｌ）を１０分かけて滴下し、自然昇温しながら１時間撹拌した。１時間後、再度内温を－７８℃まで冷却した後、実施例１で得たワインレブアミド ２．３ｇ（０．５７４ｍｍｏｌ）を簡易脱水したＨＦＥ ７２００ ２ｍＬに溶かした溶液を５分かけて滴下した。滴下後、自然昇温しながら一晩撹拌した。翌朝、反応溶液にパーフルオロヘキサン ２０ｍＬ、および１Ｎ ＨＣｌ ２０ｍＬを加え、３０分間撹拌した後、分液により水相を除去した。続いて、パーフルオロヘキサン相を、水 １０ｍＬで洗浄後、メタノール １０ｍＬで洗浄した後、クロロホルム １０ｍＬで２回洗浄し、濃縮乾固した。濃縮凝固で得た生成物を、パーフルオロヘキサン：ｍＸＨＦ＝１０：１の混合溶媒１６０ｍＬに溶かした。シリカゲルを３ｃｍ敷き詰めた桐山ロートでこの溶液をろ過し、ろ液を濃縮乾固することにより、以下の式で表されるアルキノンを０．９９７ｇ得た（収率４３％）。

（ｎは２５）

^１Ｈ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 2.40-2.50 (m, 6 H), 2.67 (s, 2 H), 5.40-5.47 (m, 6 H), 6.07-6.20 (m, 3 H);
^１９Ｆ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -83.98 - -84.25, -85.40 - -85.60, -86.58, -87.22, -123.66, -131.35 - -131.66, -132.39

（合成例５－６）オキシムの合成
合成例５－５で得たアルキノン ０．５ｇ（０．１２５ｍｍｏｌ）をＡＫ２２５ ３ｍＬ、およびＤＭＳＯ ２ｍＬに溶解した後、ヒドロキシルアミン塩酸塩 ０．０８７ｇ，（１．２５ｍｍｏｌ）、酢酸ナトリウム ０．１０３ｇ（１．２５ｍｍｏｌ）をこの順に添加し、バス温度４３℃で一晩撹拌した。翌朝、水 １０ｍＬで２回洗浄後、硫酸ナトリウム ２０ｇを用いて乾燥した。続いて、この溶液を桐山ロートでろ過後、濃縮乾固することで、Ｅ体とＺ体との混合物であるオキシムの粗体（Ｚ体が以下の式で表される化合物）０．５１ｇを得た（収率１００％）。
得られたオキシムの粗体は精製することなく、次の反応に用いた。

（ｎは２５）

^１Ｈ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 2.40-2.50 (m, 6H), 2.65 (s, 2H), 5.40-5.50 (m, 6H), 6.10-6.25 (m, 3H), 7.00 (s, 1H).

（合成例５－７）環化体の合成
合成例５－６で得たオキシムの粗体 ０．６８ｇ（０．１７ｍｍｏｌ）を簡易脱水したＡＫ２２５ ３ｍＬ、および超脱水クロロホルム ０．５ｍＬに溶解した後、ＡｕＣｌ_３ ０．００５２ｇ（０．０１７ｍｍｏｌ）を添加し、室温で一晩撹拌した。翌朝、水 １０ｍＬで洗浄後、硫酸ナトリウム ２０ｇを用いて乾燥した。続いて、ｍＸＨＦ ５ｍＬに溶かし、シリカゲルを３ｃｍ敷き詰めた桐山ロートでこの溶液をろ過し、ｍＸＨＦ ６０ｍＬで抽出後、濃縮乾固することで、以下の式で表される環化体０．４１ｇを得た（収率６０％）。

（ｎは２５）

^１Ｈ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 2.37-2.50 (m, 6H), 3.00 (s, 2H), 5.40-5.46 (m, 6H), 6.10-6.30 (m, 3H), 7.00 (s, 1H);
^１９Ｆ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -84.15 - -84.17, -85.00 - -86.00, -87.00, -88.55, -117.50 - -117.70, -131.27 - -131.98, -132.42.

（合成例５－８）環化体のヒドロシリル化
合成例５－７で得た環化体 ０．４ｇ（０．１ｍｍｏｌ）を簡易脱水したｍＸＨＦ ０．６ｍＬに溶解後、カールシュテット触媒 １１μｌ（０．５×１０^－３ｍｍｏｌ）、アニリン ３．６μｌ（０．０４ｍｍｏｌ）を順に添加した。室温で３０分撹拌後、トリメトキシシラン ０．１０２ｍＬ（０．８ｍｍｏｌ）を添加し、室温で３時間撹拌した。３時間後、簡易脱水したＨＦＥ７２００を０．６ｍＬ添加した。この反応溶液に活性炭を０．０７６ｇ添加し、室温で３０分撹拌した。３０分後、フィルター濾過した後、濃縮乾固することで、以下の式で表されるイソオキサゾールのヒドロシリル体０．３８ｇを得た（収率９５％）。

（ｎは２５）

^１Ｈ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 0.98-1.08 (m, 6H), 1.60-1.77 (m, 6H), 1.91-1.95 (m, 6H), 2.96 (s, 2H), 3.90-4.10 (m, 27H), 7.21 (s, 1H);
^１９Ｆ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -84.00, -85.00 - -86.00, -88.52, -117.36, -131.40 - -131.69, -132.42.

上記のように、実施例１で得た化合物は、上記実施例３、５および合成例４に示すように様々な化合物の反応原料として用いることができた。実施例２で得た化合物についても、実施例１と同様に様々な化合物の反応原料として用いることができる。

本開示の式（１ａ）または（１ｂ）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物は、様々な反応の中間体として有用である。

Claims (3)

1. 式（２ａ）または式（２ｂ）：
   

   

   ［式中：
   Ｒ^Ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｆ^１－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり；
   Ｒ^Ｆ２は、－Ｒｆ^２ _ｐ－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり；
   Ｒｆ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基であり；
   Ｒｆ^２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基であり；
   Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基であり；
   ｐは、０または１であり；
   ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり；
   Ｘ^２は、２価の有機基であり；
   Ａ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、ＣまたはＳｉであり；
   Ｒ^２１は、炭素－炭素不飽和結合を少なくとも１つ有する炭化水素基である。］
   で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物。
2. Ｒ ^Ｆ は、式：
   －（ＯＣ _６ Ｆ _１２ ） _ａ －（ＯＣ _５ Ｆ _１０ ） _ｂ －（ＯＣ _４ Ｆ _８ ） _ｃ －（ＯＣ _３ Ｆ _６ ） _ｄ －（ＯＣ _２ Ｆ _４ ） _ｅ －（ＯＣＦ _２ ） _ｆ －
   ［式中：
   ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
   で表されるフルオロポリエーテル基である、請求項１に記載のフルオロポリエーテル基含有化合物。
3. Ｒ ^Ｆ は、式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）または（ｆ５）で表される、請求項１または２に記載のフルオロポリエーテル基含有化合物。
   －（ＯＣ _３ Ｆ _６ ） _ｄ －（ＯＣ _２ Ｆ _４ ） _ｅ － （ｆ１）
   ［式中、ｄは、１～２００の整数であり、ｅは、１である。］
   －（ＯＣ _４ Ｆ _８ ） _ｃ －（ＯＣ _３ Ｆ _６ ） _ｄ －（ＯＣ _２ Ｆ _４ ） _ｅ －（ＯＣＦ _２ ） _ｆ － （ｆ２）
   ［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下の整数であり、
   ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は２以上であり、
   添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
   －（Ｒ ^６ －Ｒ ^７ ） _ｇ － （ｆ３）
   ［式中、Ｒ ^６ は、ＯＣＦ _２ またはＯＣ _２ Ｆ _４ であり、
   Ｒ ^７ は、ＯＣ _２ Ｆ _４ 、ＯＣ _３ Ｆ _６ 、ＯＣ _４ Ｆ _８ 、ＯＣ _５ Ｆ _１０ およびＯＣ _６ Ｆ _１２ から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせであり、
   ｇは、２～１００の整数である。］
   －（ＯＣ _６ Ｆ _１２ ） _ａ －（ＯＣ _５ Ｆ _１０ ） _ｂ －（ＯＣ _４ Ｆ _８ ） _ｃ －（ＯＣ _３ Ｆ _６ ） _ｄ －（ＯＣ _２ Ｆ _４ ） _ｅ －（ＯＣＦ _２ ） _ｆ － （ｆ４）
   ［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
   －（ＯＣ _６ Ｆ _１２ ） _ａ －（ＯＣ _５ Ｆ _１０ ） _ｂ －（ＯＣ _４ Ｆ _８ ） _ｃ －（ＯＣ _３ Ｆ _６ ） _ｄ －（ＯＣ _２ Ｆ _４ ） _ｅ －（ＯＣＦ _２ ） _ｆ － （ｆ５）
   ［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］