JP7334965B2 - ポリカルボニル化合物、その誘導体及びそれらの製造方法 - Google Patents
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Description
複数のイソピラゾール環を含む鎖状化合物を、どのような方法で合成できるのか、その化合物はどのような性質を有するのか、学術的にも工業的にも興味深い。
従って、本発明は、明確な繰り返し単位として、複数のイソピラゾール環を含む鎖状(又は線形)化合物及びそれを含む金属錯体も提供し、更にそれらの性質を明らかにすることも目的とする。
1.
下記式(1n)で示される化学構造を含む、ポリカルボニル化合物。
R1及びR2は、各々独立して、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アザアルキル基、アザアリール基、チオアルキル基、チオアリール基及びハロゲノ基からなる群から選択され、又は
そのR1とR2は結合して、二価の基を形成してよく(例えば、-R1-R2-で示され、二つのカルボニル基の間の炭素と一緒に環状構造を形成してよく)、
そのR1、R2、及びR1とR2が結合して形成される二価の基は、各々、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アザアルキル基、アザアリール基、チオアルキル基、チオアリール基及びハロゲノ基から選択される少なくとも1種の置換基を有してよく、
R1=R2=メチル基の場合、n=5~7及び9以上であり、
R1とR2の少なくとも片方がメチル基以外の基である場合、及びR1とR2が結合して形成される二価の基である場合、nは2以上。]。
2.
1100~10000の数平均分子量を有する、上記1に記載のポリカルボニル化合物。
3.
エノラートの合成等価体(シントン)を1価の銀と非プロトン性高極性媒体中で反応させることを含む、ポリカルボニル化合物の製造方法であって、
非プロトン性高極性媒体は、5%(モル分率)以上のジメチルスルホンを含み、
30℃以上の温度で反応させることを含む、ポリカルボニル化合物の製造方法。
下記式(2m)で示される化学構造を含む、ポリフラン化合物。
R1及びR2は、各々独立して、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アザアルキル基、アザアリール基、チオアルキル基、チオアリール基及びハロゲノ基からなる群から選択され、又は
そのR1とR2は結合して、二価の基を形成してよく(例えば、-R1-R2-で示され、二つのカルボニル基の間の炭素と一緒に環状構造を形成してよく)、
そのR1、R2、及びR1とR2が結合して形成される二価の基は、各々、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アザアルキル基、アザアリール基、チオアルキル基、チオアリール基及びハロゲノ基から選択される少なくとも1種の置換基を有してよく、
R1=R2=メチル基の場合、m=4~6及び8以上であり、
R1とR2の少なくとも片方がメチル基以外の基である場合、及びR1とR2が結合して形成される二価の基である場合、mは1以上。]。
5.
上述の1に記載のポリカルボニル化合物に、酸を作用させることを含む、
m=n-1である上述のポリフラン化合物の製造方法。
6.
架橋材、熱硬化性樹脂及び有機半導体を含む群から選択される、上記4に記載のポリフラン化合物を含む有機材料。
7.
下記(3p)の化学構造を有するイソピラゾール化合物。
R1及びR2は、各々独立して、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アザアルキル基、アザアリール基、チオアルキル基、チオアリール基及びハロゲノ基からなる群から選択され、又は
そのR1とR2は結合して、二価の基を形成してよく(例えば、-R1-R2-で示され、二つのカルボニル基の間の炭素と一緒に環状構造を形成してよく)、
そのR1、R2、及びR1とR2が結合して形成される二価の基は、各々、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アザアルキル基、アザアリール基、チオアルキル基、チオアリール基及びハロゲノ基から選択される少なくとも1種の置換基を有してよく、
pは2以上]。
7-2.
下記(3p)の化学構造を有するイソピラゾール化合物。
R1及びR2は、各々独立して、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アザアルキル基、アザアリール基、チオアルキル基、チオアリール基及びハロゲノ基からなる群から選択され、又は
そのR1とR2は結合して、二価の基を形成してよく(例えば、-R1-R2-で示され、二つのカルボニル基の間の炭素と一緒に環状構造を形成してよく)、
そのR1、R2、及びR1とR2が結合して形成される二価の基は、各々、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アザアルキル基、アザアリール基、チオアルキル基、チオアリール基及びハロゲノ基から選択される少なくとも1種の置換基を有してよく、
R1=R2=メチル基の場合、p=5~7及び9以上であり、
R1とR2の少なくとも片方がメチル基以外の基である場合、及びR1とR2が結合して形成される二価の基である場合、pは2以上。]。
8.
数平均分子量が、100,000以下である、上記7又は7-2に記載のイソピラゾール化合物。
9.
ポリカルボニル化合物をヒドラジン化合物と反応させることを含む、上記7、7-2又は8に記載のイソピラゾール化合物の製造方法。
10.
上記7~9のいずれかに記載のイソピラゾール化合物と金属を含む錯体であって、
少なくともイソピラゾール化合物のN原子と金属との配位結合を有する錯体。
11.
直線形配座、三角形配座、平面四配座、三角錐配座、四面体形配座、八面体配座、T字形配座から選択される少なくとも1つの配座を有する上記10に記載の錯体。
12.
配位子交換反応を含む、上記10又は11に記載の錯体の製造方法。
13.
上記10又は11に記載の錯体を含む材料であって、触媒、発光材料、吸蔵材料、分離材料、磁性材料、導電材料、半導体材料及びイオン輸送材料から選択される少なくとも1種の材料。
14.下記(4q)の化学構造を含む、共役ポリイミン化合物(又は共役イソピラゾール化合物)。
R1及びR2は、各々独立して、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アザアルキル基、アザアリール基、チオアルキル基、チオアリール基及びハロゲノ基からなる群から選択され、又は
そのR1とR2は結合して、二価の基を形成してよく(例えば、-R1-R2-で示され、二つのカルボニル基の間の炭素と一緒に環状構造を形成してよく)、
そのR1、R2、及びR1とR2が結合して形成される二価の基は、各々、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アザアルキル基、アザアリール基、チオアルキル基、チオアリール基及びハロゲノ基から選択される少なくとも1種の置換基を有してよく、
qは1以上]。
14-2.下記(4q)の化学構造を含む、共役ポリイミン化合物(又は共役イソピラゾール化合物)。
R1及びR2は、各々独立して、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アザアルキル基、アザアリール基、チオアルキル基、チオアリール基及びハロゲノ基からなる群から選択され、又は
そのR1とR2は結合して、二価の基を形成してよく(例えば、-R1-R2-で示され、二つのカルボニル基の間の炭素と一緒に環状構造を形成してよく)、
そのR1、R2、及びR1とR2が結合して形成される二価の基は、各々、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アザアルキル基、アザアリール基、チオアルキル基、チオアリール基及びハロゲノ基から選択される少なくとも1種の置換基を有してよく、
R1=R2=メチル基の場合、q=4~6及び8以上であり、
R1とR2の少なくとも片方がメチル基以外の基である場合、及びR1とR2が結合して形成される二価の基である場合、qは1以上。]。
R1及びR2は、各々独立して、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アザアルキル基、アザアリール基、チオアルキル基、チオアリール基及びハロゲノ基からなる群から選択され、又は
そのR1とR2は結合して、二価の基を形成してよく(例えば、-R1-R2-で示され、二つのカルボニル基の間の炭素と一緒に環状構造を形成してよく)、
そのR1、R2、及びR1とR2が結合して形成される二価の基は、各々、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アザアルキル基、アザアリール基、チオアルキル基、チオアリール基及びハロゲノ基から選択される少なくとも1種の置換基を有してよく、
R1=R2=メチル基の場合、n=5~7及び9以上であり、
R1とR2の少なくとも片方がメチル基以外の基である場合、及びR1とR2が結合して形成される二価の基である場合、nは2以上]。
シクロアルキル基は、炭素原子数3~50であることが好ましく、炭素原子数3~30であることがより好ましく、炭素原子数3~20であることが更に好ましく、炭素原子数3~7であることが特に好ましい。
アルコキシ基は、炭素原子数1~50であることが好ましく、炭素原子数1~30であることがより好ましく、炭素原子数1~20であることが更に好ましく、炭素原子数1~10であることが特に好ましい。
アリールオキシ基は、炭素原子数6~50であることが好ましく、炭素原子数6~30であることがより好ましく、炭素原子数6~20であることが更に好ましく、炭素原子数6~10であることが特に好ましい。
アルキル基とアルキル基、アルキル基とシクロアルキル基、アルキル基とアリール基、シクロアルキル基とシクロアルキル基、シクロアルキル基とアリール基、アリール基とアリール基、アザアルキル基とアザアルキル基、チオアルキル基とチオアルキル基、の組み合わせから選択することがより好ましく、
アルキル基とアルキル基、シクロアルキル基とシクロアルキル基の組み合わせから選択することが特に好ましい。
本発明の実施形態のポリカルボニル化合物は、1,3-ジカルボニル構造と、1,4-ジカルボニル構造を、交互に含むことが、誘導体を製造するために、好ましい。
ポリカルボニル化合物の分子量は、1H-NMRスペクトルのHの積分に基づいて、計算によって求めることができる。
R1及びR2について、式(1n)で記載したR1及びR2の記載を参照することができる。
nについて、式(1n)で記載したnの記載を参照することができる。]
エノラートの合成等価体(シントン)を1価の銀と非プロトン性高極性媒体中で反応させることを含む、ポリカルボニル化合物の製造方法であって、
非プロトン性高極性媒体は、5%(モル分率)以上のジメチルスルホンを含み、
30℃以上の温度で反応させることを含む。
「1価の銀」とは、式(1n)で示す化学構造を含む目的とするポリカルボニル化合物を得ることができる限り特に制限されることはないが、例えば、酸化銀(Ag2O)、炭酸銀(Ag2CO3)、酢酸銀(AgOAc)、過塩素酸銀(AgClO4)、ヘキサフルオロリン酸銀(AgPF6)等を含むことが好ましく、酸化銀(Ag2O)を含むことがより好ましい。
シントンと、1価の銀との反応は、30℃以上の温度で行うが、30~200℃の温度で行うことが好ましく、40~150℃の温度で行うことがより好ましく、80~120℃の温度で行うことが更に好ましい。
kは、0以上でありえ、目的とする式(1n)で示される化学構造を含むポリカルボニル化合物に応じて、適宜選択することができる。
下記式(2m)で示される化学構造を含む、ポリフラン化合物を提供する。
R1及びR2は、各々独立して、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アザアルキル基、アザアリール基、チオアルキル基、チオアリール基及びハロゲノ基からなる群から選択され、又は
そのR1とR2は結合して、二価の基を形成してよく(例えば、-R1-R2-で示され、二つのカルボニル基の間の炭素と一緒に環状構造を形成してよく)、
そのR1、R2、及びR1とR2が結合して形成される二価の基は、各々、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アザアルキル基、アザアリール基、チオアルキル基、チオアリール基及びハロゲノ基から選択される少なくとも1種の置換基を有してよく、
R1=R2=メチル基の場合、m=4~6及び8以上であり、
R1とR2の少なくとも片方がメチル基以外の基である場合、及びR1とR2が結合して形成される二価の基である場合、mは1以上。]。
シクロアルキル基は、炭素原子数3~50であることが好ましく、炭素原子数3~30であることがより好ましく、炭素原子数3~20であることが更に好ましく、炭素原子数3~7であることが特に好ましい。
アルコキシ基は、炭素原子数1~50であることが好ましく、炭素原子数1~30であることがより好ましく、炭素原子数1~20であることが更に好ましく、炭素原子数1~10であることが特に好ましい。
アリールオキシ基は、炭素原子数6~50であることが好ましく、炭素原子数6~30であることがより好ましく、炭素原子数6~20であることが更に好ましく、炭素原子数6~10であることが特に好ましい。
アルキル基とアルキル基、アルキル基とシクロアルキル基、アルキル基とアリール基、シクロアルキル基とシクロアルキル基、シクロアルキル基とアリール基、アリール基とアリール基、アザアルキル基とアザアルキル基、チオアルキル基とチオアルキル基、の組み合わせから選択することがより好ましく、
アルキル基とアルキル基、シクロアルキル基とシクロアルキル基の組み合わせから選択することが特に好ましい。
R1及びR2について、式(2m)で記載したR1及びR2の記載を参照することができる。
mについて、式(2m)で記載したmの記載を参照することができる。]
m=n-1である上述のポリフラン化合物の製造方法を提供する。
溶媒、加熱温度等は、適宜選択することができる。
従って、本発明の実施形態のポリカルボニル化合物は、そのような有用なポリフラン化合物の原料として有用である。
R1及びR2は、各々独立して、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アザアルキル基、アザアリール基、チオアルキル基、チオアリール基及びハロゲノ基からなる群から選択され、又は
そのR1とR2は結合して、二価の基を形成してよく(例えば、-R1-R2-で示され、二つのカルボニル基の間の炭素と一緒に環状構造を形成してよく)、
そのR1、R2、及びR1とR2が結合して形成される二価の基は、各々、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アザアルキル基、アザアリール基、チオアルキル基、チオアリール基及びハロゲノ基から選択される少なくとも1種の置換基を有してよく、
pは2以上]。
R1=R2=メチル基の場合、p=5~7及び9以上であり、
R1とR2の少なくとも片方がメチル基以外の基である場合、及びR1とR2が結合して形成される二価の基である場合、pは2以上
であってよい。
シクロアルキル基は、炭素原子数3~50であることが好ましく、炭素原子数3~30であることがより好ましく、炭素原子数3~20であることが更に好ましく、炭素原子数3~7であることが特に好ましい。
アルコキシ基は、炭素原子数1~50であることが好ましく、炭素原子数1~30であることがより好ましく、炭素原子数1~20であることが更に好ましく、炭素原子数1~10であることが特に好ましい。
アリールオキシ基は、炭素原子数6~50であることが好ましく、炭素原子数6~30であることがより好ましく、炭素原子数6~20であることが更に好ましく、炭素原子数6~10であることが特に好ましい。
アルキル基とアルキル基、アルキル基とシクロアルキル基、アルキル基とアリール基、シクロアルキル基とシクロアルキル基、シクロアルキル基とアリール基、アリール基とアリール基、アザアルキル基とアザアルキル基、チオアルキル基とチオアルキル基、の組み合わせから選択することがより好ましく、
アルキル基とアルキル基、シクロアルキル基とシクロアルキル基の組み合わせから選択することが特に好ましい。
R1及びR2について、式(3p)で記載したR1及びR2の記載を参照することができる。
pについて、式(3p)で記載したpの記載を参照することができる。]
本発明が目的とする式(3p)で示される化学構造を含むイソピラゾール化合物を得ることができる限り、反応温度、反応時間及びヒドラジンの量等の反応条件は、適宜選択することができ、特に制限されることはない。
エノラートの合成等価体(シントン)を1価の銀と非プロトン性高極性媒体中で反応させることを含む、ポリカルボニル化合物の製造方法であって、
非プロトン性高極性媒体は、5%(モル分率)以上のジメチルスルホンを含み、
30℃以上の温度で反応させることを含む、上述した製造方法を用いて、ポリカルボニル化合物を製造することが好ましい。
従って、本発明は、式(3p)で示される化学構造を含むイソピラゾール化合物と金属を含む錯体であって、
少なくともイソピラゾール化合物のN原子と金属との配位結合を有する錯体を提供する。
金属は、パラジウムイオン、白金イオン、ニッケルイオン、亜鉛イオン、カドミウムイオン、銅イオン、銀イオン、コバルトイオン、鉄イオン、ユーロピウムイオンから選択されることが好ましく、パラジウムイオン、白金イオン、ニッケルイオン、亜鉛イオン、カドミウムイオン、銅イオン、銀イオン、コバルトイオンから選択されることがより好ましく、パラジウムイオン、白金イオン、ニッケルイオン、亜鉛イオン、カドミウムイオンから選択されることが特に好ましい。
錯体は、複数のイソピラゾール化合物のN原子と金属が配位結合で結合して、連なること、即ち、複数のイソピラゾール化合物が金属を介して連なって、いわば、巨大分子を形成し得る。そのような錯体として、例えば、下記式の錯体を例示できる。
本発明は、錯体を含む材料であって、触媒、発光材料、吸蔵材料、分離材料、磁性材料、導電材料、半導体材料及びイオン輸送材料から選択される少なくとも1種の材料を提供することができる。
R1及びR2は、各々独立して、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アザアルキル基、アザアリール基、チオアルキル基、チオアリール基及びハロゲノ基からなる群から選択され、又は
そのR1とR2は結合して、二価の基を形成してよく(例えば、-R1-R2-で示され、二つのカルボニル基の間の炭素と一緒に環状構造を形成してよく)、
そのR1、R2、及びR1とR2が結合して形成される二価の基は、各々、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アザアルキル基、アザアリール基、チオアルキル基、チオアリール基及びハロゲノ基から選択される少なくとも1種の置換基を有してよく、
qは1以上]。
R1=R2=メチル基の場合、q=4~6及び8以上であってよく、
R1とR2の少なくとも片方がメチル基以外の基である場合、及びR1とR2が結合して形成される二価の基である場合、qは1以上であってよい。
更に、式(4q)のqは、式(3p)のp-1と対応しえる。式(4q)のqについて、式(3p)でのpの記載を、q=p-1として参照することができる。
上述した式(3p)の化学構造を含むイゾピラゾール化合物を酸化すること;を含む製造方法を用いて製造することができる。酸化は、目的とする共役ポリイミン化合物を得られる限り適宜選択することができるが、加熱、酸化剤を用いる酸化等の方法を用いることができる。
3,3-ジメチル-2,4-ペンタンジオン(11)のジシリル化物の合成
3,3-ジメチル-2,4-ペンタンジオン(11,R1=R2=Me)30g、トリエチルアミン124mL及びヨウ化ナトリウム105gをアセトニトリル200mLに加えて、懸濁液を得た。この懸濁液に、クロロトリメチルシラン89mLを滴下して加えた後、1晩室温で撹拌した。反応混合物に、ヘキサン150mL及び水50mLを加えて振とう後、水層と有機層を分離した。水層からヘキサン50mLを用いて3回抽出し、先ほどの有機層と合わせた後、有機層を、無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥した。ロータリーエバポレーターを用いて、有機層を濃縮後、減圧蒸留によって6mmHg、80℃の留分として2,2,5,5,8,8-ヘキサメチル-4,6-ジメチレン-3,7-ジオキサ-2,8-ジシラノナン(12,R1=R2=Me)60gを収率94%で得た。
2,2,5,5,8,8-ヘキサメチル-4,6-ジメチレン-3,7-ジオキサ-2,8-ジシラノナン(12,R1=R2=Me)10g、ジメチルスルホン20.7g及びジメチルスルホキシド1mLをフラスコに加え、100℃で2時間加熱撹拌して反応混合物を得た。混合物を室温まで放冷した後、混合物にジクロロメタン100mLを加え、セライトを用いてろ過することで固体を除いた。セライト上の固体をジクロロメタン120mLで洗浄した後、ろ液を合した。ろ液を、エバポレーターで濃縮して固体を得た。ジクロロメタン:メタノール=9:1の混合溶媒を展開溶媒としたシリカゲルカラムによって固体を精製したのち、減圧下(1Torr)で140℃に加熱してジメチルスルホンを留去することで、式(1n=7,R1=R2=Me)で示される化学構造を含む、3.6gのポリカルボニル化合物を得た(収率78%)。
1H-NMR(400MHz,CDCl3,298K):δ 2.70-2.76, 2.15(s), 1.35-1.40.
その1H-NMRスペクトルを図2に示した。
重合度n=1+X/4
式(1n=4,R 1 -R 2 =-C 5 H 10 -)で示される化学構造を含むポリカルボニル化合物の製造
1,1′-(シクロヘキサン-1,1-ジイル)ビス(エタン-1-オン)(11,R1-R2=-C5H10-)10.9g、トリエチルアミン27.1mL及びヨウ化ナトリウム24.4gをアセトニトリル150mLに加えた以外は、実施例1に記載の方法と同様の方法を用いて、((シクロヘキサン-1,1-ジイルビス(エタン-1,1-ジイル))ビス(オキシ))ビス(トリメチルシラン))(12,R1-R2=-C5H10-)18.9gを収率93%で得た。
その1H-NMRスペクトルから、nは約4であった。
式(2m=7,R 1 =R 2 =Me)で示される化学構造を含むポリフラン化合物の製造
ディーンスターク装置および還流管を装着したナス型フラスコに、実施例1に記載した方法と同様の方法を用いて製造した、式(1n=8,R1=R2=Me)で示される化学構造を含むポリカルボニル化合物500mg、p-トルエンスルホン酸一水和物266mg及びトルエン8mLを加えた。混合物を2時間加熱還流した。室温に冷却後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液55mLを加えトルエン55mLを用いて2回抽出した。有機層を合して、水90mLで1回洗浄した。有機層を、無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、濃縮して、油状生成物を得た。ヘキサン:酢酸エチル=9:1の混合溶媒を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーを用いて、油状生成物を精製することで、式(2m=7,R1=R2=Me)で示される化学構造を含むポリフラン化合物399mgを得た。
3,3-ジメチルペンタン-2,4-ジオン(11)のモノシリル化物の合成
3,3-ジメチルペンタン-2,4-ジオン(11,R1=R2=Me)(100g、0.78mmol)とジクロロメタン(500mL)の溶液を、フラスコに加えて、氷水浴で約0℃に冷却した。トリメチルクロロシラン(119mL、0.94mmol)を溶液に加えた後、溶液の温度を約0℃に保ちながら、溶液に1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ-7-エン(DBU)(151mL、1.01mmol)を加えた。反応混合物を加熱して、1時間還流した。反応混合物を室温に冷却後、ヘキサン(250mL)を加えて、2相溶液を得た。上相(ヘキサン相)を分離後、ジクロロメタン相からヘキサン(200mL×3)を用いて生成物を抽出した。ヘキサン相を合し、ブライン(200mL)と水(200mL)で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を蒸留で除去し、10torrの圧力で減圧蒸留して、約73℃の留分として、3,3-ジメチル-4-(トリメチルシロキシ)-ペンタ-4-エン-2-オン(12-1,R1=R2=Me)(146g、0.73mol、93%)を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3, 298 K): δ 4.28 (d, J = 2.2 Hz, 1H, vinyl), 4.16 (d, J = 2.2 Hz, 1H, vinyl), 2.12 (s, 3H, acetyl), 1.21 (s, 6H, -C(CH3)2-), 0.20 (s, 9H, trimethylsilyl); 13C NMR (100 MHz, CDCl3, 298 K): δ 210.9, 162.4, 88.4, 54.1, 25.0, 22.8, 0.0; IR (ATR, neat): 2972, 1717, 1622, 1286, 1253, 1169, 1119, 1013, 843, 759 cm-1; HR-ESI-TOF MS: m/z = 223.1128 (calcd. for C10H20O2SiNa, 223.1125 [M + Na]+); Elemental analysis (%): C, 59.57; H, 9.92; N 0.05. (calcd. for C10H20O2Si (%): C, 59.95; H, 10.06; N 0.00); Rf = 0.22 (eluent: hexane/ethyl acetate = 20:1).
3,3-ジメチル-4-(トリメチルシロキシ)-ペンタ-4-エン-2-オン(12-1,R1=R2=Me)(40.3g、201mmol)、ジメチルスルホン(56.7g、601mmol)、ジメチルスルホキシド(2.9mL、40mmol)及び酸化銀(I)(27.9g、120mmol)をフラスコに加えた。混合物を100℃で2時間撹拌した。反応混合物を室温に冷却後、ジクロロメタン(150mL)を用いて、セライトを介して反応混合物をろ過した。ろ液から溶媒を蒸留で除去して、茶色固体として、粗生成物を得た。粗生成物をジエチルエーテル(200mL)に溶かし、水(200mL)で洗浄した。水相からジエチルエーテル(150mL×3)で抽出し、ジエチルエーテル相を合し、水(200mL)で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。無水硫酸ナトリウムを除去し、溶媒を蒸留で除去して、粗生成物を得た。粗生成物を、ヘキサン/酢酸エチル/ジクロロメタン=5:1:1を留出液とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離し、得られた固体を、ヘキサン(25mL)で洗浄し、ろ過後、更にヘキサンで洗浄して、無色結晶として、3,3,8,8-テトラメチルデカン-2,4,7,9-テトラオン(10n=2,R1=R2=Me)(17.8g、収率70%)を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3, 298 K): δ 2.70 (s, 4H, ethylene), 2.16 (s, 6H, acetyl), 1.38 (s, 12H, -C(CH3)2-); 13C NMR (100 MHz, CDCl3, 298 K): δ 208.3, 207.7, 62.1, 32.0, 26.2, 21.5; IR (ATR, neat): 1692, 1462, 1388, 1364, 1202, 1131, 1083, 1049, 1029, 996, 791, 617 cm-1; mp 75-78 ℃; HR-ESI-TOF MS: m/z = 277.1409 (calcd. for C14H22O4Na, 277.1410 [M + Na]+) ; Elemental analysis (%): C, 66.15; H, 8.80; N 0.04. (calcd. for C14H22O4 (%): C, 66.12; H, 8.72; N 0.00). Rf = 0.22 (eluent: hexane/ethyl acetate/dichloromethane = 5:1:1).
3,3,8,8-テトラメチルデカン-2,4,7,9-テトラオン(10n=2,R1=R2=Me)(1.00g、3.93mmol)を、テトラヒドロフラン(25mL)に溶かした。その溶液に、ヒドラジン一水和物(458μL、11.8mmol)を加えた後、反応溶液を40℃で30分間攪拌した。室温に冷却後、溶媒をロータリーエバポレーターで除去して、白色結晶の粗生成物を得た。その結晶をクロロホルム(50mL)に溶解し、その溶液を水(50mL)で洗浄した。水相からクロロホルム(50mL×2)で抽出し、クロロホルム相を合し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒をロータリーエバポレーターで除去して白色結晶として、式(3p=2)で示される化学構造を含むイソピラゾール化合物(30p=2,R1=R2=Me)(861mg、3.50mmol、収率89%)を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3, 298 K): δ 2.98 (s, 4H, ethylene), 2.15 (s, 6H, terminal methyl), 1.18 (s, 12H, dimethyl); 13C NMR (100 MHz, CDCl3, 298 K): δ 181.9, 180.3, 60.0, 22.6, 20.4, 12.3; IR (ATR, neat): 2968, 2937, 2917, 2876, 1571, 1470, 1426, 1387 cm-1; mp 118-119 ℃; HR-ESI-TOF MS: observed m/z = 269.1740 (calcd. for C14H22N4Na, 269.1742 [M + Na]+); Elemental analysis (%): C, 68.32; H, 9.04; N, 22.62 (calcd. for C14H22N4 (%): C, 68.26; H, 9.00; N, 22.74); Rf = 0.39 (eluent: dichloromethane/methanol = 95:5).
3,3,8,8-テトラメチルデカン-2,4,7,9-テトラオン(10n=2,R 1 =R 2 =Me)のモノシリル化物(及びビスシリル化物)の合成
3,3,8,8-テトラメチルデカン-2,4,7,9-テトラオン(10n=2,R1=R2=Me)(10.01g、39.3mmol)、トリエチルアミン(8.77g、86.5mmol)、ヨウ化ナトリウム(11.82g、78.6mmol)及びアセトニトリル(40mL)をフラスコに加えて懸濁液を得た。懸濁液を氷/水浴で約0℃に冷却し、5分間攪拌した。トリメチルクロロシラン(10.0mL、78.6mmol)を、液温を約0℃に保ちながら、ゆっくり懸濁液に加えた。0℃で20分間更に攪拌後、水(50mL)を加えて反応を止めた。反応混合物からヘキサン(50mL)を用いて、生成物を抽出した。水相から更にヘキサン(100mL×3)を用いて抽出した。有機相を合し、水(100mL)で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。無水硫酸ナトリウムをろかで除き、溶媒を蒸留で除いて粗生成物を得た。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(直径:4.0cm、高さ:14.0cm、移動相:酢酸エチル/ヘキサン=1/20)で分離して、モノ-シリル化生成物(14-1,R1=R2=Me)(5.45g、16.7mmol、収率42%)及びビス-シリル化生成物(14)(4.08g、10.2mmol、収率26%)を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3, 323 K): δ 4.29 (d, J = 2.4 Hz, 1H, vinyl), 4.17 (d, J = 2.4 Hz, 1H,vinyl), 2.82-2.79 (t, 2H, methylene), 2.64-2.60 (t, 2H, methylene), 2.15 (s, 3H, acetyl), 1.37 (s, 6H, -C(CH3)2-), 1.23 (s, 6H, -C(CH3)2-), and 0.20 (s, 9H, trimethylsilyl); 13C NMR (100 MHz, CDCl3, 298 K): δ 211.2, 208.7, 208.0, 162.1, 89.0, 62.3, 53.6, 32.4, 31.0, 26.4, 23.1, 21.7, 0.1; IR (ATR, neat): 2976, 2937, 1701, 1254, 1010, 844, 759 cm-1; HR-ESI-TOF MS: m/z = 349.1802 (calcd. for C17H30O4SiNa, 349.1806 [M + Na]+); Elemental analysis (%): C, 62.25; H 9.29; N 0.00 (calcd. for C17H30O4Si (%): C, 62.54; H, 9.26; N 0.00); Rf = 0.21 (eluent: hexane/ethyl acetate = 20:1).
1H NMR (400 MHz, CDCl3, 298 K): δ 4.30 (d, J = 2.0 Hz, 2H, vinyl), 4.17 (d, J = 2.0 Hz, 2H, vinyl), 2.75 (s, 4H, ethylene), 1.22 (s, 12H, -C(CH3)2-), 0.19 (s, 18H, trimethylsilyl); 13C NMR (100 MHz, CDCl3, 298 K): δ 211.6, 162.3, 88.9, 53.7, 31.3, 23.1, 0.1; IR (ATR, neat): 2979, 2965, 1709, 1624, 1252, 1176, 1008, 841, 756, 736, 699 cm-1; HR-ESI-TOF MS: m/z = 421.2200 (calcd. for C20H38O4Si2Na, 421.2201 [M + Na]+); Elemental analysis (%): C, 60.22; H, 9.68; N 0.00 (calcd. for C20H38O4Si2 (%): C, 60.25; H, 9.61; N, 0.00); Rf = 0.37 (eluent: hexane/ethyl acetate = 20:1).
モノ-シリル化合物(14-1,R1=R2=Me)(1.88g、5.76mmol)、ジメチルスルホキシド(81.8μL、1.15mmol)、ジメチルスルホン(1.63g、17.3mmol)及び酸化銀(I)(0.82g、3.45mmol)をフラスコに入れた。混合物を100℃で2時間加熱した。室温に冷却後、ジメチルエーテル(200mL)を反応混合物に加え、不溶物をろ過で除去した。エーテル溶液を水(100mL×3)で洗浄した。水相を合して、ジエチルエーテル(100mL×3)で抽出して、有機相を合した。有機相をブライン(200mL)で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を蒸留で除いて、粗生成物を得た。粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー(直径:3.0cm、高さ:15.0cm、移動相:酢酸エチル/ジクロロメタン/ヘキサン=1/4/4)で分離して、3,3,8,8,13,13,18,18-オクタメチル-イコサン-2,4,7,9,12,14,17,19-オクタノン(10n=4,R1=R2=Me)(685mg、1.35mmol、収率47%)を、白色結晶として得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3, 298 K ): δ 2.73 (s, 4H, methylene at C10 and C11), 2.72 (broad t × 2, 8H, overlapping methylene protons at C5, C6, C15, and C16), 2.15 (s, 6H, acetyl), 1.40 (s, 12H, -C(CH3)2-), 1.37 (s, 12H, -C(CH3)2-); 13C NMR (100 MHz, CDCl3, 298 K): δ 208.5, 208.3, 208.1, 207.7, 62.1, 61.7, 32.2, 26.3, 21.7, 21.5; IR (ATR, neat): 1692, 1396, 1347, 1130, 1062, 1035, 1009, 958, 784 cm-1; mp 91-94 ℃; HR-ESI-TOF MS: m/z = 529.2772 (calcd. for C28H42O8Na, 529.2772 [M + Na]+); Elemental analysis (%): C, 66.17; H, 8.36; N, 0.00 (calcd. for C28H42O8 (%): C, 66.38; H, 8.36; N, 0.00); Rf = 0.15 (eluent: dichloromethane/hexane/ethyl acetate = 4:4:1).
3,3,8,8,13,13,18,18-オクタメチルイコサン-2,4,7,9,12,14,17,19-オクタオン(10n=4,R1=R2=CH3)200mgのテトラヒドロフラン溶液5mLに対してヒドラジン一水和物96μLを加え50℃で加熱撹拌した。室温に冷却後、ロータリーエバポレーターで溶媒を除き得られた固体にクロロホルム20mLを加えた。この溶液を水20mLで洗浄したのち、有機層を集めた。水層からクロロホルム20mLで2回抽出し、全ての有機層を合わせ、無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥した。溶媒をロータリーエバポレーターで除き得られた固体にジエチルエーテル1mLを加え、超音波洗浄機を用いて1分間固体を洗浄した。固体をろ取し、ジエチルエーテル4mLで洗浄し、1mmHgで3日間乾燥することで、式(3p=4)で示される化学構造を含むイソピラゾール化合物である1,2-ビス(4,4-ジメチル-5-(2-(4,4,5-トリメチル-4H-3-ピラゾリル)エチル)-4H-3-ピラゾリル)エタン(30p=4,R1=R2=Me)を0.5水和物として157mg、収率80%で得た。
1H-NMRの値 (400MHz, CDCl3, 298K )
δ 2.97-2.99 (overrapping (t × 2) + s, 12H, ethylene), 2.15 (s, 6H, terminal methyl), 1.23 (s, 12H, dimethyl), 1.18 (s, 12H, dimethyl)
13C-NMRの値 (100MHz, CDCl3, 298K)
δ 182.2, 181.8, 180.3, 60.3, 60.0, 22.6, 22.4, 22.4, 20.6, 20.4, 12.3
元素分析
測定値:C:67.28 H:8.51 N:22.10
計算値:C:67.30 H:8.67 N:22.42
C28H42N8・0.5(H2O)
高分解能質量分析
測定値:491.3604
計算値:491.3605
[C28H42N8+H]+
式(3p=2)で示される化学構造を含むイソピラゾール化合物の亜鉛錯体の合成
1,2-ビス(4,4,5-トリメチル-4H-3-ピラゾリル)エタン(10n=2,R1=R2=Me)300mgのメタノール溶液1.5mLをテトラフルオロホウ酸亜鉛六水和物211mgのメタノール溶液4.6mLに加え、50℃で30分撹拌した。溶液を0℃に冷却し16時間静置することで無色の結晶が生成した。結晶をろ取し、メタノール3mLで洗浄したのち、0.1mmHgで3分間乾燥することで亜鉛錯体[Zn(C14H22N4)2・(BF4)2・(MeOH)2・H2O]を389mg、収率74%で得た。
元素分析
測定値:C:44.35 H:6.79 N:13.62
計算値:C:44.28 H:6.69 N:13.77
[Zn(C14H22N4)2・(BF4)2・(MeOH)2・H2O]
X線構造解析の値
[Zn(C14H22N4)2・(BF4)2・(MeOH)2.28・0.86O]n
式(3p=2)で示される化学構造を含むイソピラゾール化合物のパラジウム錯体(配位子:金属イオン=3:2錯体)の合成
1,2-ビス(4,4,5-トリメチル-4H-3-ピラゾリル)エタン(30p=2,R1=R2=Me)10mg、テトラキスアセトニトリルパラジウムビステトラフルオロホウ酸塩8.8mgをアセトニトリル溶液700μLに溶かし、60℃で1時間撹拌したのち、室温に冷却し1日静置した。この溶液にジクロロメタンを気相拡散させることでパラジウム錯体の結晶を得た。
X線構造解析の値
[Pd2(C14H22N4)3・(BF4)4]
式(3p=4)で示される化学構造を含むイソピラゾール化合物のニッケル錯体の合成
1,2-ビス(4,4-ジメチル-5-(2-(4,4,5-トリメチル-4H-3-ピラゾリル)エチル)-4H-3-ピラゾリル)エタン・0.5水和物100mgのクロロホルム溶液2mLに硝酸ニッケル(II)6水和物119mgのエタノール溶液2mLを加え、室温で1時間撹拌した。この溶液を室温で1日静置することで紫色の結晶が生成した。結晶をろ取したのち、エタノール3mLで洗浄することで錯体の結晶を95.4mg、収率55%で得た。
元素分析
測定値:C:38.72 H:5.42 N:17.71
計算値:C:38.47 H:5.77 N:17.63
[Ni4(C28H42N8)2・(OH)2・(NO3)6・(H2O)4]3(H2O)
X線構造解析の値
[Ni4(C28H42N8)2・(OH)2・(NO3)6・(H2O)4]
実施例1に記載の方法に基づいて、(11、R1=R2=Me)のジシリル化合物(12、R1=R2=Me)を合成した。(12、R1=R2=Me)ジシリル化合物から、(1n=7、R1=R2=Me)で示される化学構造を含むポリカルボニル化合物を合成した。
上記ポリカルボニル化合物(10n=ca.7、R1=R2=Me)1.0gのTHF溶液25mLに対してヒドラジン一水和物480μLを加え50度で30分撹拌した。室温に放冷後、エバポレータで溶媒を除きクロロホルム100mLに溶かした後、水100mLで洗浄した。水層をクロロホルム100mLを用いて2回抽出した後、全ての有機層を合わせ無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒をエバポレーターで除くことで、式(3p=7)で示される化学構造を含むイソピラゾール化合物(30p=ca.7、R1=R2=Me1.3gを得た。
ポリイソピラゾール化合物(30p=ca.7、R1=R2=Me)の分析結果
1H-NMRの値(400MHz,CDCl3,298K)
δ 2.97, 2.15, 1.23, 1.18.
式(3p=2)で示される化学構造を含むイソピラゾール化合物の亜鉛錯体(包接溶媒変換)の合成
実施例6で得られた亜鉛錯体[Zn(C14H22N4)2・(BF4)2・(MeOH)2・H2O]180mgをジクロロメタン2mL中に加え、3日間静置した。固体をろ過し、ジクロロメタン3mLで洗浄し、漏斗上で1分間乾燥することで、溶媒が変換された亜鉛錯体[Zn(C14H22N4)2・(BF4)2・(CH2Cl2)n・H2O]を179mg得た。
δ 5.70(s、 dicloromethane)、2.78(s、 12H, ethylene)、 2.01(s, 6H, terminal methyl)、 1.05(s, 12H, dimethyl)
得られた1H-NMRスペクトルを図2に示す。
式(3p=7)で示される化学構造を含むイソピラゾール化合物と酢酸パラジウム(II)の反応によるパラジウム錯体の合成(配位子交換反応)
実施例9で得られた式(3p=7,R1=R2=Me)で示される化学構造を含むイソピラゾール化合物20mgのクロロホルム1mL溶液を準備した。その溶液に、酢酸パラジウム(II)16mgのクロロホルム1mL溶液を加え、室温で3時間攪拌した。溶媒を除去した後、吸引濾過を行い、得られた固体を5mLの水で洗浄し、乾燥することで20mgの固体(実施例8のパラジウム錯体)を得た。
IRの値(ATR,neat):3357, 1559, 1465, 1369, 1324, 1049(cm-1)
イソピラゾール配位子を含むパラジウム錯体を触媒として用いるHeck反応
(ヨードベンゼン及びアクリル酸エチルからケイ皮酸エチルの合成)
実施例11で合成したポリイソピラゾール配位子を有するパラジウム錯体20mg、ヨードベンゼン111μL、アクリル酸エチル120μL、及びトリエチルアミン174μLを、N,N-ジメチルホルムアミド2mL及び水1mLの混合物中へ入れ、80℃で17時間攪拌した。水20mLを加え、ジエチルエーテル20mLを用いて3回抽出した。集めた有機層を水20mLで一回洗浄した後、無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、溶媒を除去することでケイ皮酸エチルを131mg、収率74%で得た。得られたケイ皮酸エチルは、1H-NMRスペクトルによって同定した。
1H-NMRの値(400MHz,CDCl3,298K)
δ 7.69(d,J=16Hz,1H),7.54-7.51(m,2H),7.40-7.37(m,3H),6.44(d,J=16Hz,1H),4.27(q,J=7.2Hz,2H),1.34(t,J=6.8Hz,3H).
実施例12の結果は、本発明の実施形態の錯体は、触媒作用を有することを示す。
長鎖ポリカルボニル化合物の合成
30 mLナスフラスコにビスエノールシリルエーテル(化合物14) 17.32 gとジメチルスルホキシド 721 mg、酸化銀(I) 6.05 g、ジメチルスルホン 12.33 gを加え油浴を用いて100 ℃で5時間加熱した。室温まで放冷後、ジクロロメタン300 mLを用いて生成物を溶解させ、固体成分はろ過した。生成物の含まれる溶液を飽和食塩水 200 mLで4回洗浄し、無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥した。この溶液を約3 cmのシリカゲルカラムに通し、さらに10%メタノールを含むジクロロメタン溶媒で生成物を抽出した。溶媒をロータリーエバポレーターで留去し、粗生成物 9.41 gを得た。粗生成物をメタノール 30 mLとジクロロメタン 40 mLの混合溶媒に溶解させ、そこに3 M塩酸 6 mLを加えて室温で20分攪拌した。飽和重曹水を用いて中和後、ジクロロメタン 100 mLで2回抽出操作を行い、有機層を更に飽和食塩水 200 mLで洗浄した。無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥させた後、ロータリーエバポレーターで溶媒を留去し、長鎖ポリカルボニル化合物(10n) 5.41 gを得た。
図4は、生成物の1H NMRスペクトルを示す。分析結果を図中に示す。
図5は、生成物の高速液体クロマトグラフィーを示す。分析結果を図中に示す。
図6は、生成物のMALDI TOF MSチャートを示す。分析結果を図中に示す。
以上より、最低でもn=40 以上の多量体の生成が確認できる。
共役ポリイミン化合物(共役イソピラゾール化合物)の合成
20 mLナスフラスコ中で前駆体イミン化合物(イソピラゾール化合物(3p))のジグリム溶液(67 mM, 3 mL) を150℃で4時間攪拌した。溶液を空冷後、ロータリーエバポレーターで溶媒を除去して得られた固体をジエチルエーテル5 mLで洗浄し、吸引ろ過することで共役化合物(共役イソピラゾール化合物)を収率13~27%で得た。
50 mLナスフラスコの中で 50 mgの前駆体イミン化合物(イソピラゾール化合物(3p))を1,4-ジオキサン 6.7 mLに溶解させ、p-クロラニル 73 mgを加えて室温で1.5時間攪拌した。ロータリーエバポレーターで溶媒を除去してから、残渣を150 mLのジクロロメタンに溶解させ、5% NaOH水溶液 (50 mL)で3回洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去し、残渣をカラムクロマトグラフィーで精製し、生成物(共役イソピラゾール化合物)35 mgを収率71%で得た。
1H-NMRスペクトルデータを以下に示す。
1H NMR (400 MHz, CDCl3, 298 K): δ 7.41 (d, J = 17 Hz, 2H, vinylene), 7.32 (d, J = 17 Hz, 2H, vinylene), 2.25 (s, 6H, terminal methyl), 1.53 (s, 6H, dimethylmethylene), 1.36 (s, 12H, dimethylmethylene); 13C NMR (100 MHz, CDCl3, 298 K): δ 182.6, 179.2, 177.4, 127.2, 125.0, 58.6, 57.4, 22.0, 21.1, 12.3; HR-ESI-TOF MS: observed m/z = 365.2446 (calcd. for C21H28N6, 365.2448 [M + H]+);
本発明は、そのような錯体を含む材料であって、触媒、発光材料、吸蔵材料、分離材料、磁性材料、導電材料、半導体材料及びイオン輸送材料から選択される少なくとも1種の材料を提供できる。
関連出願
尚、本出願は、2018年2月2日に日本国でされた出願番号2018-17419及び2018年2月2日に日本国でされた出願番号2018-17420に基づく、パリ条約第4条に基づく優先権を主張する。これらの基礎出願の内容は、参照することによって、本明細書に組み込まれる。
Claims (7)
- 下記式(1n)で示される化学構造を含む、ポリカルボニル化合物。
R1及びR2は、各々独立して、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アザアルキル基、アザアリール基、チオアルキル基、チオアリール基及びハロゲノ基からなる群から選択され、又は
そのR1とR2は結合して、二価の基を形成してよく、
そのR1、R2、及びR1とR2が結合して形成される二価の基は、各々、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アザアルキル基、アザアリール基、チオアルキル基、チオアリール基及びハロゲノ基から選択される少なくとも1種の置換基を有してよく、
R1=R2=メチル基の場合、n=5~7及び9以上であり、
R1とR2の少なくとも片方がメチル基以外の基である場合、及びR1とR2が結合して形成される二価の基である場合、nは2以上]。 - 1100~10000の数平均分子量を有する、請求項1に記載のポリカルボニル化合物。
- エノラートの合成等価体(シントン)を1価の銀と非プロトン性高極性媒体中で反応させることを含む、請求項1又は2に記載のポリカルボニル化合物の製造方法であって、
非プロトン性高極性媒体は、5%(モル分率)以上のジメチルスルホンを含み、
30℃以上の温度で反応させることを含む、ポリカルボニル化合物の製造方法。 - 請求項1に記載のポリカルボニル化合物に、酸を作用させることを含む、
下記式(2m)で示される化学構造を含み、m=n-1であるポリフラン化合物の製造方法。
R1及びR2は、各々独立して、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アザアルキル基、アザアリール基、チオアルキル基、チオアリール基及びハロゲノ基からなる群から選択され、又は
そのR1とR2は結合して、二価の基を形成してよく、
そのR1、R2、及びR1とR2が結合して形成される二価の基は、各々、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アザアルキル基、アザアリール基、チオアルキル基、チオアリール基及びハロゲノ基から選択される少なくとも1種の置換基を有してよく、
R1=R2=メチル基の場合、m=4~6及び8以上であり、
R1とR2の少なくとも片方がメチル基以外の基である場合、及びR1とR2が結合して形成される二価の基である場合、mは1以上]。 - 請求項1に記載のポリカルボニル化合物をヒドラジン化合物と反応させることを含む、下記式(3p)の化学構造を有するイソピラゾール化合物の製造方法。
R1及びR2は、各々独立して、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アザアルキル基、アザアリール基、チオアルキル基、チオアリール基及びハロゲノ基からなる群から選択され、又は
そのR1とR2は結合して、二価の基を形成してよく、
そのR1、R2、及びR1とR2が結合して形成される二価の基は、各々、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アザアルキル基、アザアリール基、チオアルキル基、チオアリール基及びハロゲノ基から選択される少なくとも1種の置換基を有してよく、
R1=R2=メチル基の場合、p=5~7及び9以上であり、
R1とR2の少なくとも片方がメチル基以外の基である場合、及びR1とR2が結合して形成される二価の基である場合、pは2以上]。 - イソピラゾール化合物の数平均分子量が、100,000以下である、請求項5に記載の製造方法。
- 請求項1に記載のポリカルボニル化合物をヒドラジン化合物と反応させて、請求項5に記載の上記式(3p)の化学構造を有するイソピラゾール化合物を得ること
前記イソピラゾール化合物を酸化することを含む、
下記式(4q)の化学構造を有する共役ポリイミン化合物の製造方法。
R1及びR2は、各々独立して、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アザアルキル基、アザアリール基、チオアルキル基、チオアリール基及びハロゲノ基からなる群から選択され、又は
そのR1とR2は結合して、二価の基を形成してよく、
そのR1、R2、及びR1とR2が結合して形成される二価の基は、各々、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アザアルキル基、アザアリール基、チオアルキル基、チオアリール基及びハロゲノ基から選択される少なくとも1種の置換基を有してよく、
R1=R2=メチル基の場合、q=4~6及び8以上であり、
R1とR2の少なくとも片方がメチル基以外の基である場合、及びR1とR2が結合して形成される二価の基である場合、qは1以上]。
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