JP7189482B2 - フルオロポリエーテル基含有シラン化合物 - Google Patents

Description

本開示は、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物に関する。

ある種の含フッ素シラン化合物は、基材の表面処理に用いると、優れた撥水性、撥油性、防汚性などを提供し得ることが知られている。含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層（以下、「表面処理層」とも言う）は、いわゆる機能性薄膜として、例えばガラス、プラスチック、繊維、建築資材など種々多様な基材に施されている。

そのような含フッ素化合物として、フルオロポリエーテル基を分子主鎖に有し、Ｓｉ原子に結合した加水分解可能な基を分子末端又は末端部に有するフルオロポリエーテル基含有シラン化合物が知られている（特許文献１）。

特開２０００－３２７７７２号公報

上記のような表面処理層は、さらに高い摩擦耐久性が求められる。

本開示は、下記の態様を含む。
［１］ 下記式（Ａ１）又は（Ａ２）：

［式中：
Ｒ^Ｆ１は、Ｒｆ^１－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－で表され；
Ｒ^Ｆ２は、－Ｒｆ^２ _ｐ－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－で表され；
Ｒｆ^１は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基であり；
Ｒｆ^２は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基であり；
Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｒ^Ｆａ _６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－
で表される基であり；
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
Ｒ^Ｆａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は塩素原子であり；
ｐは、０又は１であり；
ｑは、独立して、０又は１であり；
Ｘ^１は、それぞれ独立して、－Ｘ^１ａ _ｒ１－Ｚ^１－Ｘ^１ｂ _ｒ２－で表される基であり；
Ｘ^１ａは、２価の有機基であり；
Ｚ^１は、ヘテロアリーレン基であり；
Ｘ^１ｂは、２価の有機基であり；
ｒ１は、０又は１であり；
ｒ２は、０又は１であり；
Ｒ^Ｓｉは、それぞれ独立して、下記式（Ｓ１）：

（式中：
Ｘ^３は、単結合、酸素原子、又は２価の有機基であり；
Ｒ^ｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解可能な基であり；
Ｒ^ｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
ｎは、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ただし、式（Ａ１）及び（Ａ２）のそれぞれにおいて、少なくとも１つのｎは１である。）
で表される基であり；
Ｒ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、ベンジル基、メトキシフェニルベンジル基、ベンゾイル基、トリチル基、－ＳｉＲ^７１ _３、又は－（Ｒ^７２－Ｏ）_ｎ７－Ｒ^７３であり、
Ｒ^７１は、それぞれ独立して、Ｃ_１－４アルキル基であり、
Ｒ^７２は、それぞれ独立して、Ｃ_１－４アルキレン基であり、
ｎ７は、それぞれ独立して、１～１０の整数であり；
Ｒ^７３は、それぞれ独立して、水素原子、又は環構造を含んでいてもよい１価の炭化水素基である。]
で表される、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［２］ Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、式：
－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－
［式中：
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である、上記［１］に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［３］ Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、下記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）又は（ｆ５）：
－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－ （ｆ１）
［式中、ｄは、１～２００の整数であり、ｅは、０又は１である。］
－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－ （ｆ２）
［式中、ｃ及びｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅ及びｆは、それぞれ独立して１以上２００以下の整数であり、
ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は２以上であり、
添字ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
－（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－ （ｆ３）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり、
Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
ｇは、２～１００の整数である。］
－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－ （ｆ４）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－ （ｆ５）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される、上記［１］又は［２］に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［４］ Ｚ^１は、Ｎ原子を含む５員のヘテロ環である、上記［１］～［３］のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［５］ Ｚ^１は、２つ以上のヘテロ原子を有する５員のヘテロ環である、上記［１］～［４］のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［６］ 前記ヘテロ原子は、２つ以上のＮ原子を含む、上記［１］～［５］のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［７］ 前記ヘテロ原子は、少なくとも１つのＮ原子及び少なくとも１つのＮ原子以外のヘテロ原子である、上記［５］又は［６］に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［８］ 前記Ｎ原子以外のヘテロ原子は、Ｏ原子である、上記［７］に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［９］ Ｘ^１ａ及びＸ^１ｂは、それぞれ独立して、－（Ｒ^５１）_ｐ５－（Ｘ^５１）_ｑ５－
［式中：
Ｒ^５１は、－（ＣＨ_２）_ｓ５－を表し；
ｓ５は、１～２０の整数であり；
Ｘ^５１は、－（Ｘ^５２）_ｌ５－を表し；
Ｘ^５２は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＣＯＮＲ^５４－、－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－、及び－ＮＲ^５４－からなる群から選択される基を表し；
Ｒ^５４は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基又はＣ_１－６アルキル基を表し；
ｌ５は、１～１０の整数であり；
ｐ５は、０又は１であり；
ｑ５は、０又は１であり；
ただし、ｐ５又はｑ５を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である。］
で表される２価の有機基である、上記［１］～［８］のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［１０］ Ｘ^１ａ及びＸ^２ｂは、それぞれ独立して、Ｃ_１－２０アルキレン基である、上記［１］～［９］のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［１１］ ｒ１は０であり、ｒ２は１である、上記［１］～［１０］のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［１２］ ｒ１は０であり、ｒ２は１であり、Ｘ^１ｂは－（ＣＨ_２）_ｓ５－であり、ｓ５は１～３の整数である、上記［１］～［１１］のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［１３］ 上記［１］～［１２］のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物、及び、該フルオロポリエーテル基含有シラン化合物の少なくとも一部が縮合した縮合物からなる群から選択される少なくとも１つを含有する、表面処理剤。
［１４］ 上記［１］～［１２］のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含有する、表面処理剤。
［１５］ 基材と、該基材の表面に、上記［１］～［１２］のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物、又は上記［１３］又は［１４］に記載の表面処理剤から形成された層とを含む物品。

本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、優れた摩擦耐久性を有する表面処理層を形成することができる。

本明細書において用いられる場合、「１価の有機基」とは、炭素を含有する１価の基を意味する。１価の有機基としては、特に限定されないが、炭化水素基又はその誘導体であり得る。炭化水素基の誘導体とは、炭化水素基の末端又は分子鎖中に、１つ又はそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有している基を意味する。

本明細書において用いられる場合、「２価の有機基」としては、特に限定されるものではないが、炭化水素基からさらに１個の水素原子を脱離させた２価の基が挙げられる。

本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」とは、炭素及び水素を含む基であって、分子から１個の水素原子を脱離させた基を意味する。かかる炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、１つ又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい、炭素原子数１～２０の炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。上記「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分枝鎖状又は環状のいずれであってもよく、飽和又は不飽和のいずれであってもよい。また、炭化水素基は、１つ又はそれ以上の環構造を含んでいてもよい。尚、かかる炭化水素基は、その末端又は分子鎖中に、１つ又はそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有していてもよい。

本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子；１個又はそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、Ｃ_２－６アルキニル基、Ｃ_３－１０シクロアルキル基、Ｃ_３－１０不飽和シクロアルキル基、５～１０員のヘテロシクリル基、５～１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ_６－１０アリール基及び５～１０員のヘテロアリール基から選択される１個又はそれ以上の基が挙げられる。

本明細書において、アルキル基及びフェニル基は、特記しない限り、非置換であっても、置換されていてもよい。かかる基の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基及びＣ_２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の基が挙げられる。

本明細書において、「加水分解可能な基」とは、本明細書において用いられる場合、加水分解反応を受け得る基を意味し、すなわち、加水分解反応により、化合物の主骨格から脱離し得る基を意味する。加水分解可能な基の例としては、－ＯＲ^ｈ、－ＯＣＯＲ^ｈ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、－ＮＲ^ｈ _２、－ＮＨＲ^ｈ、－ＮＣＯ、ハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈは、置換又は非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）などが挙げられる。

（フルオロポリエーテル基含有シラン化合物）
本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、下記式（Ａ１）又は（Ａ２）：

で表される化合物である。

式（Ａ１）において、Ｒ^Ｆ１は、Ｒｆ^１－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－で表される。

式（Ａ２）において、Ｒ^Ｆ２は、－Ｒｆ^２ _ｐ－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－で表される。

Ｒｆ^１は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基である。

上記１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基における「Ｃ_１－１６アルキル基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖又は分枝鎖のＣ_１－６アルキル基、特にＣ_１－３アルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１－６アルキル基、特にＣ_１－３アルキル基である。

上記Ｒｆ^１は、好ましくは、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されているＣ_１－１６アルキル基であり、より好ましくはＣＦ_２Ｈ－Ｃ_１－１５パーフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ_１－１６パーフルオロアルキル基である。

上記Ｃ_１－１６パーフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖又は分枝鎖のＣ_１－６パーフルオロアルキル基、特にＣ_１－３パーフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１－６パーフルオロアルキル基、特にＣ_１－３パーフルオロアルキル基、具体的には－ＣＦ_３、－ＣＦ_２ＣＦ_３、又は－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３である。

Ｒｆ^２は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基である。

上記１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基における「Ｃ_１－６アルキレン基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖又は分枝鎖のＣ_１－３アルキレン基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１－３アルキレン基である。

上記Ｒｆ^２は、好ましくは、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されているＣ_１－６アルキレン基であり、より好ましくはＣ_１－６パーフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ_１－３パーフルオロアルキレン基である。

上記Ｃ_１－６パーフルオロアルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖又は分枝鎖のＣ_１－３パーフルオロアルキレン基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１－３パーフルオロアルキレン基、具体的には－ＣＦ_２－、－ＣＦ_２ＣＦ_２－、又は－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－である。

上記式において、ｐは、０又は１である。一の態様において、ｐは０である。別の態様においてｐは１である。

上記式において、ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０又は１である。一の態様において、ｑは０である。別の態様においてｑは１である。

上記式（Ａ１）及び（Ａ２）において、Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、以下の式：
－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｒ^Ｆａ _６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－
［式中：
Ｒ^Ｆａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は塩素原子であり、
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は１以上である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表されるフルオロポリエーテル基である。尚、Ｒ^Ｆとして記載される構造は、式（Ａ１）においては左側がＲｆ^１で表される構造に結合し、式（Ａ２）においては左側がＲｆ^２で表される構造に結合する。

Ｒ^Ｆａは、好ましくは、水素原子又はフッ素原子であり、より好ましくは、フッ素原子である。

ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆは、好ましくは、それぞれ独立して、０～１００の整数であってもよい。

ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上であり、例えば１５以上又は２０以上であってもよい。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、好ましくは２００以下、より好ましくは１００以下、さらに好ましくは６０以下であり、例えば５０以下又は３０以下であってもよい。

これら繰り返し単位は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよいが、好ましくは直鎖状である。例えば、－（ＯＣ_６Ｆ_１２）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－等であってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－である。－（ＯＣ_５Ｆ_１０）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－等であってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－である。－（ＯＣ_４Ｆ_８）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－、－（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））－、－（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）－及び－（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－である。－（ＯＣ_３Ｆ_６）－（即ち、上記式中、Ｒ^Ｆａはフッ素原子である）は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－及び－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－である。また、－（ＯＣ_２Ｆ_４）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）－及び－（ＯＣＦ（ＣＦ_３））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）－である。

一の態様において、Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）又は（ｆ５）：
－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－ （ｆ１）
［式中、ｄは、１～２００の整数であり、ｅは０又は１、好ましくは１である。］
－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－ （ｆ２）
［式中、ｃ及びｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅ及びｆは、それぞれ独立して１以上２００以下の整数であり、
ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は２以上であり、
添字ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
－（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－ （ｆ３）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり、
Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
ｇは、２～１００の整数である。］
－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－ （ｆ４）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－ （ｆ５）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である。

上記式（ｆ１）において、ｄは、好ましくは５～２００、より好ましくは１０～１００、さらに好ましくは１５～５０、例えば２５～３５の整数である。一の態様において、ｅは、１である。別の態様において、ｅは０である。上記式（ｆ１）において－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－は、好ましくは、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ－又は－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）_ｄ－で表される基であり、より好ましくは、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ－で表される基である。

上記式（ｆ２）において、ｅ及びｆは、それぞれ独立して、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０～２００の整数である。また、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上であり、例えば１５以上又は２０以上であってもよい。一の態様において、上記式（ｆ２）は、好ましくは、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－で表される基である。別の態様において、式（ｆ２）は、－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－で表される基であってもよい。

上記式（ｆ３）において、Ｒ^６は、好ましくは、ＯＣ_２Ｆ_４である。上記（ｆ３）において、Ｒ^７は、好ましくは、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６及びＯＣ_４Ｆ_８から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、より好ましくは、ＯＣ_３Ｆ_６及びＯＣ_４Ｆ_８から選択される基である。ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６及びＯＣ_４Ｆ_８から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４－、及び－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４－等が挙げられる。上記式（ｆ３）において、ｇは、好ましくは３以上、より好ましくは５以上の整数である。上記ｇは、好ましくは５０以下の整数である。上記式（ｆ３）において、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２は、直鎖又は分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、上記式（ｆ３）は、好ましくは、－（ＯＣ_２Ｆ_４－ＯＣ_３Ｆ_６）_ｇ－又は－（ＯＣ_２Ｆ_４－ＯＣ_４Ｆ_８）_ｇ－である。

上記式（ｆ４）において、ｅは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。

上記式（ｆ５）において、ｆは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。

一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ１）で表される基である。

一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ２）で表される基である。

一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ３）で表される基である。

一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ４）で表される基である。

一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ５）で表される基である。

好ましい態様において、Ｒ^Ｆは、式（ｆ２）：
－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－
で表される基である。式中、ｃ及びｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅ及びｆは、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数であり、添字ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。Ｒ^Ｆは、より具体的には、－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－で表される基であり得る。

上記Ｒ^Ｆにおいて、ｆに対するｅの比（以下、「ｅ／ｆ比」という）は、０．１～１０であり、好ましくは０．２～５であり、より好ましくは０．２～２であり、さらに好ましくは０．２～１．５であり、さらにより好ましくは０．２～０．８５である。ｅ／ｆ比を１０以下にすることにより、この化合物から得られる硬化層（例えば表面処理層）の滑り性、摩擦耐久性及び耐ケミカル性（例えば、人工汗に対する耐久性）がより向上する。ｅ／ｆ比がより小さいほど、表面処理層の滑り性及び摩擦耐久性はより向上する。一方、ｅ／ｆ比を０．１以上にすることにより、化合物の安定性をより高めることができる。ｅ／ｆ比がより大きいほど、化合物の安定性はより向上する。この場合、ｆの値は１以上である。

一の態様において、上記ｅ／ｆ比は、好ましくは０．２～０．９５であり、より好ましくは０．２～０．９である。

一の態様において、上記ｅ／ｆ比は、好ましくは、０．２０以上１．０未満であり、より好ましくは０．２０～０．９５であり、より好ましくは０．２０～０．９０、さらに好ましくは、０．４０～０．８０、特に好ましくは０．５０～０．７０である。

一の態様において、上記ｅ／ｆ比は、好ましくは０．２０～０．８０であり、より好ましくは０．３０～０．７０である。別の態様において、ｅ／ｆ比は０．５０～０．８０である。

一の態様において、耐熱性の観点から、上記ｅ／ｆ比は、好ましくは１．０以上であり、より好ましくは１．０～２．０である。

一の態様において、ｅ／ｆ比は、０．２～１．５であり、好ましくは０．５～１．１である。

上記Ｒ^Ｆにおいて、ｅ／ｆ比は、１．０未満であってもよく、０．９５以下であってもよく、０．９０以下であってもよく、０．９０未満であってもよく、例えば０．８以下、０．７０以下であってもよい。ｅ／ｆ比は、好ましくは０．２０以上、より好ましくは０．３０以上、さらに好ましくは０．４０以上、特に好ましくは０．５０以上である。ｅ／ｆ比は、例えば、０．２０以上１．０未満、例えば、０．２０以上０．９５以下、０．２０以上０．９０未満、具体的には０．４０以上０．８０以下、より具体的には０．５０以上０．７０以下を挙げることができる。ｅ／ｆ比が低くなり過ぎると、本開示の化合物を用いて形成される硬化層（あるいは硬化膜。以下においても同様）の加水分解性が高くなり、該硬化層の耐久性が低くなることがある。ｅ／ｆ比が高くなりすぎると、本開示の化合物を用いて形成される硬化層の動摩擦係数が高くなり、十分な摩擦耐久性を有する硬化層が得られないことがある。

好ましい態様において、Ｒ^Ｆは、
－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－ （ｆ２）
で表される基であり（式中、ｃ及びｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅ及びｆは、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数であり、添字ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）、ｅ／ｆ比は、０．２０以上１．０未満であり、より好ましくは０．２０～０．９５であり、より好ましくは０．２０～０．９０、さらに好ましくは、０．４０～０．８０、特に好ましくは０．５０～０．７０である。Ｒ^Ｆは、より具体的には、－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－で表される基であり得る。かかるＲ^Ｆを有する化合物を用いることにより、該化合物を用いて形成される硬化層の化学的な耐久性（耐ケミカル性）、摩擦耐久性、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、防水性（電子部品等への水の浸入を防止する）、又は表面滑り性（又は潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）等が良好になる。これは、上記のようなＲ^Ｆを有する化合物を用いることによって、該化合物から形成される硬化層の表面の動摩擦係数が小さくなるためと考えられる。

一の態様において、Ｒ^Ｆは、
－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－ （ｆ２）
［式中：
ｃ及びｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅ及びｆは、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数であり、添字ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意であり、
ｅ／ｆ比は、０．２０～０．８０であり、より好ましくは０．３０～０．７０である。］
で表される基である。

一の態様において、ｅは、１０以上１００以下の整数、かつ、ｆは、１１以上１００以下の整数であってもよく、ｅは、１５以上７０以下の整数、かつ、ｆは、２１以上９５以下の整数であってもよい。

一の態様において、ｅ及びｆの和は、好ましくは２０以上、より好ましくは３０以上、特に好ましくは４０以上である。

別の態様において、ｅ及びｆの和は、好ましくは１００以上、より好ましくは１２０以上、さらに好ましくは１３０以上、特に好ましくは１４０以上である。

一の態様において、ｅ及びｆの和は、ｅ及びｆの和は、好ましくは２００以下、より好ましくは１８０以下、さらに好ましくは１６０以下、特に好ましくは１５０以下である。

Ｒ^Ｆ１及びＲ^Ｆ２部分の数平均分子量は、特に限定されるものではないが、例えば５００～３０，０００、好ましくは１，５００～３０，０００、より好ましくは２，５００～３０，０００、さらに好ましくは４，０００～３０，０００である。Ｒ^Ｆ１及びＲ^Ｆ２部分の数平均分子量は、例えば、２，５００～２０，０００、２，５００～１５，０００、３，０００～１５，０００、２，０００～１０，０００であってもよい。本明細書において、Ｒ^Ｆ１及びＲ^Ｆ２の数平均分子量は、^１９Ｆ－ＮＭＲにより測定される値とする。

別の態様において、Ｒ^Ｆ１及びＲ^Ｆ２部分の数平均分子量は、５００～３０，０００、好ましくは１，０００～２０，０００、より好ましくは２，０００～１５，０００、さらにより好ましくは２，０００～１０，０００、例えば３，０００～６，０００であり得る。

別の態様において、Ｒ^Ｆ１及びＲ^Ｆ２部分の数平均分子量は、６，０００～３０，０００、好ましくは６，０００～２０，０００、より好ましくは７，０００～２０，０００、さらに好ましく８，０００～１５，０００、特に好ましくは９，０００～１５，０００、より好ましくは１０，０００～１５，０００であり得る。Ｒ^Ｆ１及びＲ^Ｆ２部分の数平均分子量は、例えば、６，０００～１５，０００の範囲にあってもよい。

一の態様において、本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物において、
Ｒ^Ｆ１及びＲ^Ｆ２部分の数平均分子量が６，０００～２０，０００、及びｅ／ｆ比が０．５０～０．８０の範囲にあり；
好ましくは、Ｒ^Ｆ１及びＲ^Ｆ２部分の数平均分子量が６，０００～１５，０００、及びｅ／ｆ比が０．５０～０．７０の範囲にあり；
より好ましくは、Ｒ^Ｆ１及びＲ^Ｆ２部分の数平均分子量が１０，０００～１５，０００、及びｅ／ｆ比が０．５０～０．７０の範囲にある。

上記の態様において、好ましくは、Ｒ^Ｆは、－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－で表される基である。ここで、例えば、ｃ及びｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅは、２０～７０範囲にある整数であり、ｆは、４５～１２０の範囲にある整数である。このようなフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、極めて高い潤滑性と低い動摩擦係数による滑り性を示す硬化層（例えば表面処理層）の形成に寄与し得る。

本開示において、Ｒ^Ｆ１又はＲ^Ｆ２で表される基とＣＲ^Ｓｉ _２（ＯＲ^１１）で表される基とが、－Ｘ^１－で表される基で結合される。ここで、Ｒ^Ｆ１又はＲ^Ｆ２で表される基は、主に撥水性及び表面滑り性等を提供するフルオロポリエーテル基を含有する基であり、ＣＲ^Ｓｉ _２（ＯＲ^１１）で表される基は、基材との結合能を提供するシラン部を含む。

Ｘ^１は、それぞれ独立して、－Ｘ^１ａ _ｒ１－Ｚ^１－Ｘ^１ｂ _ｒ２－：
［式中：
Ｘ^１ａは、２価の有機基であり；
Ｚ^１は、ヘテロアリーレン基であり；
Ｘ^１ｂは、２価の有機基であり；
ｒ１は、０又は１であり；
ｒ２は、０又は１である。］
で表される基である。このようなＸ^１を有することにより、式（Ａ１）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物及び／又は式（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を用いて形成される硬化層の柔軟性、耐摩耗性、基材へのぬれ広がり性、及び、基材との密着性などが良好になり得る。
なお、本明細書において、Ｘ^１として記載する構造の左側がＲ^Ｆ１又はＲ^Ｆ２で表される基と、右側がＣＲ^Ｓｉ _２（ＯＲ^１１）で表される基と、それぞれ結合する。

Ｘ^１ａは、２価の有機基である。

一の態様において、Ｘ^１ａとしては、例えば、下記式：
－（Ｒ^５１）_ｐ５－（Ｘ^５１）_ｑ５－
［式中：
Ｒ^５１は、－（ＣＨ_２）_ｓ５－であり、
ｓ５は、１～２０の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～３の整数、さらにより好ましくは１又は２であり、
Ｘ^５１は、－（Ｘ^５２）_ｓ５－を表し、
Ｘ^５２は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＣＯＮＲ^５４－、－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－、及び－ＮＲ^５４－からなる群から選択される基を表し、好ましくは、－ＯＣ（Ｏ）－、－ＮＲ^５４ＣＯ－、及び－ＮＲ^５４ＣＯ－Ｏ－からなる群から選択される基を表し、
Ｒ^５４は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基又はＣ_１－６アルキル基（好ましくはメチル基）を表し、好ましくは水素原子であり、
ｓ５は、１～１０の整数、好ましくは１～５の整数、より好ましくは１～３の整数であり、
ｐ５は、０又は１であり、
ｑ５は、０又は１であり、
ここに、ｐ５又はｑ５を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意であり、ｐ５及びｑ５の少なくとも一方は１であってもよい。］
で表される２価の有機基が挙げられる。なお、Ｘ^１ａは、右側がＺ^１に、左側がＲ^Ｆ１又はＲ^Ｆ２に結合する。

上記Ｘ^１ａ（典型的にはＸ^１ａの水素原子）は、フッ素原子、Ｃ_１－３アルキル基及びＣ_１－３フルオロアルキル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。好ましい態様において、Ｘ^１ａは、これらの基により置換されていない。

一の態様において、上記Ｘ^１ａは、それぞれ独立して、下記式：
－（Ｒ^５１）_ｐ５－（Ｘ^５１）_ｑ５－Ｒ^５２－
［式中：
Ｒ^５１、Ｘ^５１、ｐ５、及びｑ５は、上記と同意義であり、
Ｒ^５２は、単結合、又は－（ＣＨ_２）_ｔ５－であり、好ましくは－（ＣＨ_２）_ｔ５－であり、
ｔ５は、１～２０の整数、好ましくは２～６の整数、より好ましくは２～３の整数である。］
で表される基であってもよい。

好ましくは、上記Ｘ^１ａは、それぞれ独立して、
Ｃ_１－２０アルキレン基、
－Ｒ^５１－Ｘ^５２－Ｒ^５２－、
－Ｘ^５２－Ｒ^５２－、又は
－Ｘ^５２－
であり得る。式中、Ｒ^５１、Ｒ^５２、及びＸ^５２は、それぞれ上記と同意義である。

好ましい態様において、上記Ｘ^１ａは、それぞれ独立して、
Ｃ_１－２０アルキレン基、
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｘ^５２－、又は
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｘ^５２－（ＣＨ_２）_ｔ５－
［式中、
Ｘ^５２は、－Ｏ－、－ＣＯＮＲ^５４－、又は－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－であり、好ましくは－ＣＯＮＲ^５４－、又は－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－であり、
Ｒ^５４は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基又はＣ_１－６アルキル基を表し、好ましくは、水素原子又はメチル基を表し、
ｓ５は、１～２０の整数であり、
ｔ５は、１～２０の整数である。］
であり得る。

上記の中では、好ましくは、Ｘ^１ａは、－（ＣＨ_２）_ｓ５－で表され、
ｓ５は、１～２０の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～３の整数、さらにより好ましくは１又は２であり、例えば１であってもよい。

上記Ｘ^１ａは、それぞれ独立して、フッ素原子、Ｃ_１－３アルキル基及びＣ_１－３フルオロアルキル基（好ましくは、Ｃ_１－３パーフルオロアルキル基）から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。一の態様において、Ｘ^１ａは、非置換である。

一の態様において、Ｘ^１ａは、それぞれ独立して、－Ｏ－Ｃ_１－６アルキレン基以外であり得る。

上記Ｘ^１ａの具体的な例としては、例えば：
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２－、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_４－、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_５－、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_６－、
－ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－Ｃ（Ｏ）ＮＨ－ＣＨ_２－、
－ＣＨ_２－、
－（ＣＨ_２）_２－、
－（ＣＨ_２）_３－、
－（ＣＨ_２）_４－、
－（ＣＨ_２）_５－、
－（ＣＨ_２）_６－、
－ＣＯ－、
－ＣＯＮＨ－、
－ＣＯＮＨ－ＣＨ_２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_４－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_５－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_６－、
－ＣＯＮ（ＣＨ_３）－（ＣＨ_２）－、
－ＣＯＮ（ＣＨ_３）－（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＯＮ（ＣＨ_３）－（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＯＮ（ＣＨ_３）－（ＣＨ_２）_４－、
－ＣＯＮ（ＣＨ_３）－（ＣＨ_２）_５－、
－ＣＯＮ（ＣＨ_３）－（ＣＨ_２）_６－、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ_２）－、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ_２）_４－、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ_２）_５－、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ_２）_６－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）ＮＨ（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_３ＮＨ（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_４ＮＨ（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_５ＮＨ（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_６ＮＨ（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＨ_２Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）－、
－ＣＨ_２Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＨ_２Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＨ_２Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_４－、
－ＣＨ_２Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_５－、
－ＣＨ_２Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_６－、
－Ｓ－（ＣＨ_２）_３－、
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－（ＣＨ_２）－、
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－（ＣＨ_２）_２－、
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－（ＣＨ_２）_３－、
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－（ＣＨ_２）_４－、
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－（ＣＨ_２）_５－、
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－（ＣＨ_２）_６－、
－ＯＣＨ_２－、
－Ｏ（ＣＨ_２）_２－、
－Ｏ（ＣＨ_２）_３－、
－ＯＣＦＨＣＦ_２－
などが挙げられる。

Ｘ^１ｂは、２価の有機基である。

Ｘ^１ｂは、Ｘ^１ａとして上記した基であり得る。なお、Ｘ^１ｂは、左側がＺ^１に、右側がＣＲ^Ｓｉ（ＯＲ^１１）に結合する。

上記の中では、好ましくは、Ｘ^１ｂは、－（ＣＨ_２）_ｓ５－で表され、
ｓ５は、１～２０の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～３の整数、さらにより好ましくは１又は２であり、例えば１であってもよい。

ｒ１は、０又は１である。一の態様において、ｒ１は０である。別の態様において、ｒ１は１である。

ｒ２は、０又は１である。一の態様において、ｒ２は０である。別の態様において、ｒ２は１である。

一の態様において、ｒ１及びｒ２のいずれか一方は１である。

好ましい態様において、ｒ１は０であり、かつｒ２は１である。

好ましい態様において、ｒ１は０、ｒ２は１、かつＸ^１ｂは－（ＣＨ_２）_ｓ５－である。ここで、ｓ５は１～３の整数であり、好ましくは１である。

Ｚ^１は、ヘテロアリーレン基である。

好まし態様において、Ｚ^１は、Ｎ原子を含む５員のヘテロ環である。該環構造は、置換基により置換されていてもよい。すなわち、Ｚ^１は、Ｎ原子を含む５つの原子によって構成された環構造（５員環）である。上記のような構造を有することにより、Ｚ^１を構成する原子間の結合距離、結合角度等が適切な範囲になり、その結果、Ｚ^１の構造が安定に存在し得ると考えられる。さらに、上記のような構造を有するＺ^１は、加水分解の影響を受けにくい点からも、安定性の面で有利であると考えられる。

上記置換基としては、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－３アルキル基及びＣ_１－３フルオロアルキル基（好ましくは、Ｃ_１－３パーフルオロアルキル基）を挙げることができる。

一の態様において、Ｚ^１は、非置換である。

好ましくは、Ｚ^１は、２つ以上のヘテロ原子を有する５員のヘテロ環である。換言すれば、Ｚ^１は、５つの原子によって構成された環構造（５員環）であり、該５つの原子のうち、２つ以上がヘテロ原子であり、該ヘテロ原子のうち少なくとも１つがＮ原子である。

一の態様において、上記ヘテロ原子は、２つ以上のＮ原子を含む。

一の好ましい態様において、ヘテロ原子はすべてＮ原子である。

一の態様において、上記ヘテロ原子は、少なくとも１つのＮ原子、及び少なくとも１つのＮ原子以外のヘテロ原子である。Ｎ原子以外のヘテロ原子としては、例えば、Ｏ原子、Ｓ原子等を挙げることができ、好ましくは、Ｎ原子以外のヘテロ原子は、Ｏ原子である。

Ｚ^１の環構造に含まれるヘテロ原子は、好ましくは１～４つであり、より好ましくは１～３つである。

一の態様において、Ｚ^１の環構造に含まれるヘテロ原子は、３つである。

好ましい態様において、Ｚ^１の環構造に含まれるヘテロ原子は、３つであり、２つのＮ原子及び１つのＯ原子であるか、あるいは、３つのＮ原子であり得る。

Ｚ^１は、不飽和結合を有していてもよい。換言すると、Ｚ^１は、Ｎ原子を含む５員のヘテロ環であり、該ヘテロ環は不飽和結合を有していてもよい。

一の態様において、Ｚ^１は、環構造内に２つの二重結合を有し得る。ここで、二重結合としては、例えば、炭素－炭素二重結合、炭素－窒素二重結合を挙げることができる。

一の態様において、Ｚ^１は、以下のＢ^１～Ｂ^５の５つの原子からなる５員環構造である。Ｂ^１～Ｂ^５は、それぞれ独立して、Ｃ、Ｎ、及びＯから選ばれる原子であり、Ｂ^１～Ｂ^５のうち１～３つ、好ましくは２～３つが、それぞれ独立してＮ又はＯである。なお、Ｂ^１～Ｂ^５のいずれか１つがＸ^１ａと結合し（ｒ１＝０の場合には、Ｒ^Ｆ１又はＲ^Ｆ２と結合する）、別の１つがＸ^１ｂと結合する（ｒ２＝０の場合にはＣＲ^Ｓｉ _２（ＯＲ^１１）と結合する）。

好ましい態様において、Ｂ^１～Ｂ^５のいずれか１つはＮである。

好ましい態様において、Ｂ^１原子がＸ^１ａと結合し（ｒ１＝０の場合には、Ｒ^Ｆ１又はＲ^Ｆ２と結合する）、Ｂ^３原子は、Ｘ^１ｂと結合する（ｒ２＝０の場合にはＣＲ^Ｓｉ _２（ＯＲ^１１）と結合する）。かかる態様において、好ましくは、Ｂ^１及びＢ^３は、両方がＣ原子であるか、あるいは、一方がＣ原子であり、他方がＮ原子である。好ましくは、Ｂ^１及びＢ^３は、両方がＣ原子である。

好ましい態様において、Ｂ^２及びＢ^５の少なくとも一方は、Ｎ又はＯである。好ましくは、Ｚ^１中に、１～２個、より好ましくは２個の不飽和結合が存在する。

本態様において、Ｂ^１～Ｂ^５の各原子に結合している水素原子は、置換されていてもよい。

Ｚ^１としては、具体的には、以下の構造を挙げることができる。なお、以下において、「*１」を付した原子は、Ｘ^１ａ（又は、Ｒ^Ｆ１又はＲ^Ｆ２）と結合し、「*２」を付した原子は、Ｘ^１ｂ（又は、ＣＲ^Ｓｉ _２（ＯＲ^１１））と結合する。

上記の中では、以下の構造が好ましい。

一の態様において、Ｘ^１は、以下の構造で表される。なお、以下において、「*１’」及び「*２’」は結合手であり、「*１’」はＲ^Ｆ１又はＲ^Ｆ２に結合し、「*２’」はＣＲ^Ｓｉ _２（ＯＲ^１１）に結合する。

好ましくは、Ｘ^１は、以下の構造で表される。なお、以下において、「*１’」及び「*２’」は結合手であり、「*１’」はＲ^Ｆ１又はＲ^Ｆ２に結合し、「*２’」はＣＲ^Ｓｉ _２（ＯＲ^１１）に結合する。

上記式中、ｓ５１及びｓ５２は、それぞれ独立して、１～３の整数、好ましくは１又は２であり；ｒ１は０又は１、好ましくは０であり；ｒ２は０又は１、好ましくは１であり；ただし、ｒ１及びｒ２のいずれか一方は１であることが好ましい。

一の態様において、ｒ１は０又は１であり、ｒ２は１であり、好ましくは、ｒ１は０であり、ｒ２は１である。

Ｒ^Ｓｉは、それぞれ独立して、水酸基、加水分解性基、水素原子又は１価の有機基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり、以下の式（Ｓ１）：

［式中：
Ｘ^３は、単結合、酸素原子、又は２価の有機基であり；
Ｒ^ｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解可能な基であり；
Ｒ^ｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
ｎは、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ただし、式（Ａ１）及び（Ａ２）のそれぞれにおいて、少なくとも１つのｎは１である。］
で表される。

式（Ｓ１）において、Ｘ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、又は２価の有機基である。

好ましい態様において、Ｘ^３は、２価の有機基である。

Ｘ^３は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ１１－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ１２－又は、－（ＣＨ_２）_ｚ１３－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ１４－である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、及びＣ_２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

上記ｚ１１は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、上記ｚ１２は、０～６の整数、例えば１～６の整数である。好ましくは、ｚ１１とｚ１２との合計は１以上である。

上記ｚ１３は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、上記ｚ１４は、０～６の整数、例えば１～６の整数である。好ましくは、ｚ１３とｚ１４との合計は１以上である。

Ｘ^３は、より好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基であり、例えば、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｘ^３は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

Ｒ^ｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解可能な基である。

Ｒ^ｂ１は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、－ＯＲ^ｈ、－ＯＣＯＲ^ｈ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、－ＮＲ^ｈ _２、－ＮＨＲ^ｈ、－ＮＣＯ、又はハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈは、置換又は非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲ^ｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｈは、エチル基である。

Ｒ^ｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解可能な基を除く１価の有機基である。

Ｒ^ｃ１において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

ｎは、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。ただし、式（Ａ１）及び（Ａ２）のそれぞれにおいて、少なくとも１つのｎは１である。換言すれば、式（Ａ１）及び（Ａ２）のそれぞれにおいて、少なくとも１つのＲ^ｂ１が存在する。

ｎは、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、１～３の整数であり、より好ましくは、２又は３、さらに好ましくは３である。

好ましくは、式（Ｓ１）で表される基毎に、少なくとも１つのＲ^ｂ１が存在する。換言すれば、式（Ａ１）及び式（Ａ２）の末端の末端部分において、水酸基又は加水分解可能な基が結合したＳｉ原子が存在する。

好ましくは、式（Ａ１）の末端部分及び式（Ａ２）の末端部分において、Ｒ^ｂ１が結合したＳｉ原子が少なくとも２つ存在する。

Ｒ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、ベンジル基、メトキシフェニルベンジル基、ベンゾイル基、トリチル基、－ＳｉＲ^７１ _３、又は－（Ｒ^７２－Ｏ）_ｎ７－Ｒ^７３である。

－ＣＲＳｉ_２（ＯＲ^１１）で表される基を有することにより、本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含む組成物の基材に対する濡れ広がり性が良好になり得る。該組成物を用いて形成された層（例えば表面処理層）の耐摩耗性が良好になり得る。

Ｒ^７１は、それぞれ独立して、Ｃ_１－４アルキル基であり、例えばメチル基である。－ＳｉＲ^７１ _３で表される基は、例えば、トリメチルシリル基である。

Ｒ^７２は、それぞれ独立して、Ｃ_１－４アルキレン基であり、好ましくはＣ_１－２アルキレン基であり、例えば、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、又は－ＣＨ_２－である。

ｎ７は、それぞれ独立して、１～１０の整数であり、好ましくは１～６の整数である。

Ｒ^７３は、それぞれ独立して、水素原子、又は環構造を含んでいてもよい１価の炭化水素基である。

環構造を含む１価の炭化水素基としては、芳香環、シクロアルキル基、又はヘテロシクロアルキル基を含む１価の炭化水素基を挙げることができる。

芳香環としては、例えば、フェニル基を挙げることができる。

シクロアルキル基としては、例えば、Ｃ_３－１０シクロアルキル基、具体的には、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基を挙げることができる。

ヘテロシクロアルキル基としては、例えば、酸素原子を含んだシクロアルキル基を挙げることができる。

環構造を含む１価の炭化水素基としては、例えば以下のような構造を挙げることができる。なお、以下において＊を付した箇所において－（Ｒ^７２－Ｏ）_ｎ７－の右側と結合する。

Ｒ^７３は、好ましくは、Ｃ_１－４アルキル基であり、より好ましくは、Ｃ_１－２アルキル基である。

より好ましくは、Ｒ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、－ＣＨ_２Ｏ－Ｒ^１１’で表される。Ｒ^１１’は、水素原子、又は１価の有機基である。

好ましくは、Ｒ^１１’は、水素原子、又は－（Ｒ^７２－Ｏ）_ｎ７’－Ｒ^７３で表される。Ｒ^７２、及びＲ^７３は、それぞれ上記と同意義である。ｎ７’は、０～９の整数であり、好ましくは、０～５の整数である。

一の態様において、Ｒ^１１’は水素原子である。一の態様において、Ｒ^１１’は－（Ｒ^７２－Ｏ）_ｎ７’－Ｒ^７３で表される基である。一の態様において、Ｒ^１１’はＲ^７３である（即ち、ｎ７’は０である）。

（フルオロポリエーテル基含有シラン化合物の製造方法）
本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、公知の方法を組み合わせることにより製造することができる。

本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の製造方法の一例を以下に説明する。

一の態様において、式（Ａ１）又は（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の製造方法は、
工程（Ｉ）：
式（ａ１）又は（ａ２）：

で表される化合物をシリル化し、式（Ａ１）又は（Ａ２）で表される化合物を形成することを含み得る。Ｚ^２は、Ｚ^１よりも炭素原子数が２つ少ない基であり、換言すれば、Ｚ^２－ＣＨ_２ＣＨ_２がＸ^３に対応する。

式（ａ１）及び（ａ２）において、Ｒ^Ｆ１、Ｒ^Ｆ２、Ｒ^１１、及びＸ^１は、式（Ａ１）及び（Ａ２）におけるＲ^Ｆ１、Ｒ^Ｆ２、Ｒ^１１、及びＸ^１とそれぞれ同意義である。

シリル化反応は、公知の方法を用いて行うことができる。公知の方法としては、例えば、特開２０１４－２１８６３９号公報、又は特開２０１７－８２１９４号公報に記載の方法を挙げることができる。

さらに、本態様の製造方法は、
工程（ＩＩ）：
付加反応及び縮合反応の少なくとも一方を行うことによって、Ｎ原子を含む５員のヘテロ環Ｚ^１を形成し、式（ａ１）又は（ａ２）で表される化合物を形成すること
を含み得る。

上記工程（ＩＩ）の付加反応及び縮合反応としては、具体的には、付加反応、２つの化合物間の縮合反応、１つの化合物の分子内での縮合反応等が挙げられ、より具体的には、以下の工程（ＩＩ－１）～（ＩＩ－４）に示すような反応を挙げることができる。

工程（ＩＩ－１）：
式（ｂ１）又は（ｂ２）で表される化合物と、式（ｂ３）で表される化合物とを反応させ、環構造を形成する。

上記反応では、環Ｚ^１として、以下の構造が形成される。「*１」を付した原子は、Ｘ^１ａと結合し（ｒ１＝０の場合には、Ｒ^Ｆ１又はＲ^Ｆ２と結合する）、「*２」を付した原子は、Ｘ^１ｂと結合する（ｒ２＝０の場合にはＣと結合する）。

上記反応は、適当な触媒の存在下、適当な溶媒中で行われ得る。適当な触媒としては、特に限定されないが、例えば、ヨウ化銅、臭化銅、塩化銅、硫酸銅等の銅触媒、及びＬ－アスコルビン酸ナトリウム等の還元剤等を挙げることができる。適当な溶媒としては、特に限定されないが、例えば、フッ素非含有溶媒（ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、メタノール、エタノール等）、含フッ素溶媒（例えば、メタキシレンヘキサフロライド、ハイドロフルオロカーボン、ハイドロクロロフルオロカーボン（例えば、ＡＫ－２２５：ＡＧＣ株式会社製）、パーフルオロポリエーテル）等を挙げることができる。これらの溶媒は、単独で、又は、２種以上を組み合わせて用いてもよい。２種以上を組み合わせて用いる場合には、フッ素非含有溶媒と、含フッ素溶媒とを組み合わせて用いることが好ましい。

上記工程は、特に限定されないが、例えば、－７８～２００℃で行い得る。上記工程における反応時間は、特に限定されないが、例えば、０．１～１６８時間であってもよい。上記工程における反応圧力は、特に限定されないが、例えば、０～１００ＭＰａ（ゲージ圧）であり、簡便には常圧である。

式（ｂ３）で表される化合物は、例えば、Ｈ_２Ｎ－ＣＨ_２Ｘ^３０Ｃ（Ｚ^２ＣＨ＝ＣＨ_２）_２（ＯＲ^１１）をジアゾ化することによって合成し得る。ＣＨ_２Ｘ^３０は、式（ｂ３）におけるＸ^１ｂに対応する。ジアゾ化反応は、通常行い得る方法を用いることができ、例えば、トリフルオロメタンスルホニルアジドと反応させる方法を用いることができる。

上記のように、式（ｂ３）で表される化合物は、本開示の式（Ａ１）又は（Ａ２）で表される化合物の合成において有用な中間体であり得る。

本開示は、一の態様として、式（ｂ３）で表される化合物を提供する。

工程（ＩＩ－２）：
式（３ａ－２）又は（３ｂ－２）で表される化合物と、式（３ｃ－２）で表される化合物とを反応させ、環構造を形成する。

上記反応では、環Ｚ^１として、以下の構造が形成される。「*１」を付した原子は、Ｘ^１ａと結合し（ｒ１＝０の場合には、Ｒ^Ｆ１又はＲ^Ｆ２と結合する）、「*２」を付した原子は、Ｘ^１ｂと結合する（ｒ２＝０の場合にはＣと結合する）。

上記反応は、適当な触媒の存在下、適当な溶媒中で行われ得る。適当な触媒としては、特に限定されないが、例えば、無水トリフルオロメタンスルホン酸、無水トリフルオロ酢酸、メシルクロライド、五酸化二リン、オキシ塩化リン、塩化チオニル等の脱水剤等を挙げることができる。適当な溶媒としては、特に限定されないが、例えば、含フッ素溶媒（例えば、メタキシレンヘキサフロライド、ハイドロフルオロカーボン、ハイドロクロロフルオロカーボン（例えば、ＡＫ－２２５：ＡＧＣ株式会社製）、パーフルオロポリエーテル）等を挙げることができる。

上記工程は、特に限定されないが、例えば、－７８～２００℃で行い得る。上記工程における反応時間は、特に限定されないが、例えば、０．１～１６８時間であってもよい。上記工程における反応圧力は、特に限定されないが、例えば、０～１００ＭＰａ（ゲージ圧）であり、簡便には常圧である。

工程（ＩＩ－３）：
式（ｄ１）又は（ｄ２）で表される化合物を分子内で縮合させ、環構造を形成する。

上記反応は、適当な触媒の存在下、適当な溶媒中で行われ得る。適当な触媒としては、特に限定されないが、例えば、無水トリフルオロ酢酸、五酸化二リン、オキシ塩化リン、塩化チオニル等の脱水剤等を挙げることができる。適当な溶媒としては、特に限定されないが、例えば、含フッ素溶媒（例えば、メタキシレンヘキサフロライド、ハイドロフルオロカーボン、ハイドロクロロフルオロカーボン（例えば、ＡＫ－２２５：ＡＧＣ株式会社製）、パーフルオロポリエーテル）等を挙げることができる。

上記工程は、特に限定されないが、例えば、－７８～２００℃で行い得る。上記工程における反応時間は、特に限定されないが、例えば、０．１～１６８時間であってもよい。上記工程における反応圧力は、特に限定されないが、例えば、０～１００ＭＰａ（ゲージ圧）であり、簡便には常圧である。

上記反応では、環Ｚ^１として、以下の構造が形成される。「*１」を付した原子は、Ｘ^１ａと結合し（ｒ１＝０の場合には、Ｒ^Ｆ１又はＲ^Ｆ２と結合する）、「*２」を付した原子は、Ｘ^１ｂと結合する（ｒ２＝０の場合にはＣと結合する）。

式（ｂ１）～（ｂ３）、（ｃ１）～（ｃ３）及び（ｄ１）～（ｄ２）において、Ｒ^Ｆ１、Ｒ^Ｆ２、Ｘ^１ａ、Ｘ^１ｂ、ｒ１、及びｒ２は、それぞれ式（Ａ１）又は（Ａ２）のＲ^Ｆ１、Ｒ^Ｆ２、Ｘ^１ａ、Ｘ^１ｂ、ｒ１、及びｒ２と同意義である。

上記式（ｄ１）又は式（ｄ２）で表される化合物は、特に限定されないが、例えば、以下の反応を含む方法により合成し得る。

式（ｄ１－１）：
ＨＣ（＝Ｏ）ＣＨ_２Ｘ^３１Ｃ（Ｚ^２－ＣＨ＝ＣＨ_２）_２（ＯＲ^１１） （ｄ１－１）
で表される化合物を、酸化し、式（ｄ１－２）：
ＨＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ_２Ｘ^３１Ｃ（Ｚ^２－ＣＨ＝ＣＨ_２）_２（ＯＲ^１１） （ｄ１－２）
で表される化合物を合成し（工程１ｄ）；
式（ｄ１－２）で表される化合物を、ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニルヒドラジン（即ち、（ＣＨ_３）_３Ｃ－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨＮＨ_２）と反応させて、式（ｄ１－３）：
（ＣＨ_３）_３Ｃ－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨＮＨＣ（＝Ｏ）ＣＨ_２Ｘ^３１Ｃ（Ｚ^２－ＣＨ＝ＣＨ_２）_２（ＯＲ^１１） （ｄ１－３）
で表される化合物を合成し（工程２ｄ）；
式（ｄ１－３）で表される化合物から、式（ｄ１－４）：
ＮＨ_２ＮＨＣ（＝Ｏ）ＣＨ_２Ｘ^３１Ｃ（Ｚ^２－ＣＨ＝ＣＨ_２）_２（ＯＲ^１１） （ｄ１－４）
で表される化合物を合成し（工程３ｄ）；
式（ｄ１－４）で表される化合物に、Ｒ^Ｆで表される基を有する化合物を導入する（工程４ｄ）。

上記Ｘ^３１は、単結合又は２価の有機基である。Ｘ^３１は、一の態様において単結合である。Ｘ^３１は、一の態様において、２価の有機基である。

上記－ＣＨ_２－Ｘ^３１－で表される基は、式（Ａ１）又は（Ａ２）のＸ^１（即ち－Ｘ^１ａ _ｒ１－Ｚ^１－Ｘ^１ｂ _ｒ２－）に含まれるＸ^１ｂで表される基に対応する。

一の態様において、－ＣＨ_２－Ｘ^３１－で表される基は、－（Ｒ^５１）_ｐ５－（Ｘ^５１）_ｑ５－で表される２価の有機基であり得る。Ｒ^５１、ｐ５、Ｘ^５１、ｑ５は、それぞれ上記と同意義である。－ＣＨ_２－Ｘ^３１－で表される基は、好ましくは、－（ＣＨ_２）_ｓ５－で表される。ここで、ｓ５は、１～２０の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～３の整数、さらにより好ましくは１又は２であり、例えば１であってもよい。

上記（工程１ｄ）の反応は、特に限定されないが、例えば、室温で行うことが出来る。反応時間は、特に限定されないが、例えば、１～５時間であってもよい。反応圧力は、特に限定されないが、例えば、０～１００ＭＰａ（ゲージ圧）であり、簡便には常圧である。

（工程１ｄ）の反応は、例えば、水酸化ナトリウム等のアルカリ金属水酸化物、及び酸化銀等の酸化剤の存在下で行い得る。アルカリ金属水酸化物、及び酸化剤の添加量は適宜調整し得る。

上記（工程２ｄ）の反応は、特に限定されないが、例えば、室温で行うことが出来る。反応時間は、特に限定されないが、例えば、１～１０時間であってもよい。反応圧力は、特に限定されないが、例えば、０～１００ＭＰａ（ゲージ圧）であり、簡便には常圧である。

（工程２ｄ）の反応は、例えば、トリエチルアミン等のアミン化合物、及び１－［ビス（ジメチルアミノ）メチレン］－１Ｈ－１，２，３－トリアゾロ［４，５－ｂ］ピリジニウム３－オキシドヘキサフルオロホスファート（ＨＡＴＵ）等の縮合剤の存在下で行い得る。上記（工程２ｄ）の反応には、必要に応じて、Ｎ，Ｎ－ジメチル－４－アミノピリジン（ＤＭＡＰ）をさらに加えてもよい。これらの化合物の添加量は、適宜調整し得る。

上記（工程３ｄ）の反応は、特に限定されないが、例えば、氷浴中で行うことができる。反応時間は、特に限定されないが、例えば、１～１０時間であってもよい。反応圧力は、特に限定されないが、例えば、０～１００ＭＰａ（ゲージ圧）であり、簡便には常圧である。

（工程３ｄ）の反応は、式（ｄ１－３）で表される化合物から、保護基であるｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基を除去（即ち、脱保護）する反応である。上記（工程３ｄ）の反応は、例えば、ジクロロメタン及びトリフルオロ酢酸の存在下で行うことができる。これらの化合物の添加量は、適宜調整し得る。

上記（工程４ｄ）の反応は、特に限定されないが、例えば、氷浴中で行うことができる。反応時間は、特に限定されないが、例えば、１～５０時間であってもよい。反応圧力は、特に限定されないが、例えば、０～１００ＭＰａ（ゲージ圧）であり、簡便には常圧である。
（工程４ｄ）の反応におけるＲ^Ｆで表される基を有する化合物としては、Ｒ^Ｆ１ＣＯＯＨ、もしくはＨＯＣ（＝Ｏ）Ｒ^Ｆ２ＣＯＯＨ、又はこれらの化合物の酸クロライドを挙げることができる。Ｒ^Ｆ１、及びＲ^Ｆ２はそれぞれ上記と同意義である。これらの化合物の添加量は、適宜調整し得る。

上記式（ｄ１－１）：
ＨＣ（＝Ｏ）ＣＨ_２Ｘ^３１Ｃ（Ｚ^２－ＣＨ＝ＣＨ_２）_２（ＯＲ^１１） （ｄ１－１）
で表される化合物は、例えば、以下の（工程ｄ１－１）を含む方法により得ることができる。
式（ｄ１－１ａ）：
ＨＣ（＝Ｏ）Ｘ^３１Ｃ（Ｚ^２－ＣＨ＝ＣＨ_２）_２（ＯＲ^１１） （ｄ１－１ａ）
で表される化合物と一炭素増加剤とを反応させたのち、酸性雰囲気下で加水分解反応を行う（工程ｄ１－１）。

上記（工程ｄ１－１）は、例えば、以下のような工程であってもよい。
一炭素増加剤としてメトキシメチルトリフェニルホスホニウムクロライドを用い、式（ｄ１－１ａ）で表される化合物から、式（ｄ１－１ｂ）：
ＣＨ_３ＯＣＨ＝ＣＨ－Ｘ^３１Ｃ（Ｚ^２－ＣＨ＝ＣＨ_２）_２（ＯＲ^１１） （ｄ１－１ｂ）
で表される化合物を合成し、その後、式（ｄ１－１ｂ）で表される化合物を加水分解反応する。

式（ｄ１－１ａ）及び（ｄ１－１ｂ）において、Ｘ^３１は上記と同意義である。

上記（工程ｄ１－１）で表される反応は、通常行い得る条件で行うことができる。反応温度は、特に限定されないが、例えば、室温で行うことが出来る。反応時間は、特に限定されないが、例えば、１～１６８時間であってもよい。反応圧力は、特に限定されないが、例えば、０～１００ＭＰａ（ゲージ圧）であり、簡便には常圧である。

上記のように、式（ｄ１－１）～（ｄ１－４）で表される化合物は、本開示の式（Ａ１）又は（Ａ２）で表される化合物の合成において有用な中間体であり得る。従って、本開示は、式（ｄ１－１）、（ｄ１－２）、（ｄ１－３）又は（ｄ１－４）で表される化合物を提供する。

工程（ＩＩ－４）：
式（ｅ１）又は（ｅ２）で表される化合物を分子内で縮合させ、環構造を形成する。

上記反応は、適当な触媒の存在下、適当な溶媒中で行われ得る。適当な触媒としては、特に限定されないが、例えば、ＡｕＣｌ_３、ルイス酸触媒、塩酸等の酸触媒等を挙げることができる。適当な溶媒としては、特に限定されないが、例えば、含フッ素溶媒（例えば、メタキシレンヘキサフロライド、ハイドロフルオロカーボン、ハイドロクロロフルオロカーボン（例えば、ＡＫ－２２５、ＡＧＣ株式会社製）、パーフルオロポリエーテル）等を挙げることができる。

上記工程は、特に限定されないが、例えば、－７８～２００℃で行い得る。上記工程における反応時間は、特に限定されないが、例えば、０．１～１６８時間であってもよい。上記工程における反応圧力は、特に限定されないが、例えば、０～１００ＭＰａ（ゲージ圧）であり、簡便には常圧である。

上記反応では、環Ｚ^１として、以下の構造が形成される。「*１」を付した原子は、Ｘ^１ａと結合し（ｒ１＝０の場合には、Ｒ^Ｆ１又はＲ^Ｆ２と結合する）、「*２」を付した原子は、Ｘ^１ｂと結合する（ｒ２＝０の場合にはＣと結合する）。

上記式（ｅ１）又は（ｅ２）で表される化合物は、例えば、以下の反応を含む方法により得ることができる。

式（ｅ１－１）：
Ｈ－Ｃ≡Ｃ－ＣＨ_２Ｘ^３２Ｃ（Ｚ^２－ＣＨ＝ＣＨ_２）_２（ＯＲ^１１） （ｅ１－１）
で表される化合物に、Ｒ^Ｆで表される基を有する化合物を導入する。Ｘ^３２は、単結合又は２価の有機基であり、例えば、Ｘ^３１として記載した構造であり得る。

上記の反応は、例えば、式（ｅ１－１）で表される化合物に、Ｒ^Ｆで表される基を有する化合物として、Ｒ^Ｆ１ＣＯＯＨ、もしくはＨＯＣ（＝Ｏ）Ｒ^Ｆ２ＣＯＯＨ、又はこれらの化合物の酸クロライドを反応させ、その後、酸又は塩基性の条件でヒドロキシルアミンと反応させることによって行い得る。Ｒ^Ｆ１、及びＲ^Ｆ２はそれぞれ上記と同意義である。

上記式（ｅ１－１）：
Ｈ－Ｃ≡Ｃ－ＣＨ_２Ｘ^３２Ｃ（Ｚ^２－ＣＨ＝ＣＨ_２）_２（ＯＲ^１１） （ｅ１－１）
で表される化合物は、例えば、
ＯＨＣ－ＣＨ_２Ｘ^３２Ｃ（Ｚ^２－ＣＨ＝ＣＨ_２）_２（ＯＲ^１１）
で表される化合物を、大平－Ｂｅｓｔｍａｎｎ試薬と反応させることにより得ることができる。大平－Ｂｅｓｔｍａｎｎ試薬は、すなわち（１－ジアゾ－２－オキソプロピル）ホスホン酸ジメチルを意味する。上記反応は、例えば、炭酸カリウム及びメタノールの存在下で行うことができる。

上記のように、式（ｅ１－１）で表される化合物は、本開示の式（Ａ１）又は（Ａ２）で表される化合物の合成において有用な中間体であり得る。本開示は、一の態様において、式（ｅ１－１）で表される化合物を提供する。

一の態様において、本開示は、式（ｂ３’）、（ｄ１－１）、（ｄ１－２）、（ｄ１－３）、（ｄ１－４）又は（ｅ１－１）で表される化合物を提供する。式中、各記号はそれぞれ上記のとおりである。
Ｎ_３－ＣＨ_２Ｘ^３０Ｃ（Ｚ^２－ＣＨ＝ＣＨ_２）_２（ＯＲ^１１） （ｂ３’）
ＨＣ（＝Ｏ）ＣＨ_２Ｘ^３１Ｃ（Ｚ^２－ＣＨ＝ＣＨ_２）_２（ＯＲ^１１） （ｄ１－１）
ＨＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ_２Ｘ^３１Ｃ（Ｚ^２－ＣＨ＝ＣＨ_２）_２（ＯＲ^１１） （ｄ１－２）
（ＣＨ_３）_３Ｃ－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨＮＨＣ（＝Ｏ）ＣＨ_２Ｘ^３１Ｃ（Ｚ^２－ＣＨ＝ＣＨ_２）_２（ＯＲ^１１） （ｄ１－３）
ＮＨ_２ＮＨＣ（＝Ｏ）ＣＨ_２Ｘ^３１Ｃ（Ｚ^２－ＣＨ＝ＣＨ_２）_２（ＯＲ^１１） （ｄ１－４）
Ｈ－Ｃ≡Ｃ－ＣＨ_２Ｘ^３２Ｃ（Ｚ^２－ＣＨ＝ＣＨ_２）_２（ＯＲ^１１） （ｅ１－１）

本開示は、一の態様として、以下の式（ｆ）：
Ｒ^３－ＣＨ_２－Ｘ^３－Ｃ（Ｚ^２－ＣＨ＝ＣＨ_２）_２（ＯＲ^１１） （ｆ）
［式中：
Ｒ^３は、ホルミル基、カルボキシ基、アジド基（即ち、Ｎ_３－）、エチニル基、ＮＨ_２ＮＨＣ（＝Ｏ）－、又は（ＣＨ_３）_３ＣＯＣ（＝Ｏ）ＮＨＮＨＣ（＝Ｏ）－であり；
Ｘ^３は、単結合又は２価の有機基であり、具体的には（ｂ３’）、（ｄ１－１）、（ｄ１－２）、（ｄ１－３）、（ｄ１－４）又は（ｅ１－１）においてＸ^３０、Ｘ^３１又はＸ^３２で表した基であり；
Ｚ^２及びＲ^１１は、上記と同意義である。］
で表される化合物を提供する。

（表面処理剤）
上記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、表面処理剤として用いることができる。

本開示の表面処理剤は、良好な紫外線耐久性、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、耐ケミカル性、耐加水分解性、滑り性の抑制効果、高い摩擦耐久性、耐熱性、防湿性等を有する表面処理層の形成に寄与し得る。

一の態様において、表面処理剤は、式（Ａ１）又は式（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含有する。

一の態様において、表面処理剤は、式（Ａ１）又は式（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物、及び、該フルオロポリエーテル基含有シラン化合物の少なくとも一部が縮合した縮合物からなる群から選択される少なくとも１つを含有する。ここで、縮合物とは、式（Ａ１）又は式（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の水酸基、及び／又は、加水分解可能な基を予め公知の方法により部分的に加水分解した水酸基を縮合させて得られる部分（加水分解）縮合物である。

表面処理剤には、必要に応じて、加水分解縮合触媒、例えば、有機錫化合物（ジブチル錫ジメトキシド、ジラウリン酸ジブチル錫など）、有機チタン化合物（テトラｎ－ブチルチタネートなど）、有機酸（酢酸、メタンスルホン酸、フッ素変性カルボン酸など）、無機酸（塩酸、硫酸など）を添加してもよい。これらの中では、特に酢酸、テトラｎ－ブチルチタネート、ジラウリン酸ジブチル錫、フッ素変性カルボン酸などが望ましい。

加水分解縮合触媒の添加量は触媒量であり、通常、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物及び／又はその部分（加水分解）縮合物１００質量部に対して０．０１～５質量部、特に０．１～１質量部である。

別の態様において、本開示の表面処理剤は、式（Ａ１）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物及び式（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含む。本態様の組成物（例えば、表面処理剤）は、摩擦耐久性の良好な硬化層の形成に寄与し得る。本態様の組成物を用いて形成される硬化層の摩擦耐久性が良好になり、硬化層の表面における滑り性が良好になる。また、本態様の組成物では、Ｒ^Ｆ部分の二次構造がらせん構造をとりやすく、単位面積当たりのポリマー密度やシランカップリング剤の架橋密度が大きくなるため、硬化層の強度が高くなると考えられる。

一の態様において、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）に含まれる、式（Ａ１）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物及び式（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の合計に対する、式（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の比（モル比）の下限値は、好ましくは０．００１、より好ましくは０．００２、さらに好ましくは０．００５、さらにより好ましくは０．０１、特に好ましくは０．０２、特別には０．０５であり得る。式（Ａ１）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物及び式（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の合計に対する、式（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の比（モル比）の上限値は、好ましくは、０．７０、より好ましくは０．６０、より好ましくは０．５０、さらに好ましくは０．４０、さらにより好ましくは０．３０、例えば０．２０、具体的には０．１０であり得る。式（Ａ１）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物及び式（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の合計に対する、式（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の比（モル比）は、０．００１以上０．７０以下であってもよく、０．００１以上０．６０以下であってもよく、０．００１以上０．５０以下であってもよく、０．００２以上０．４０以下であってもよく、０．００５以上０．３０以下であってもよく、０．０１以上０．２０以下であってもよく、例えば０．０２以上０．２０以下（具体的には０．１５以下）又は０．０５以上０．２０以下（具体的には０．１５以下）である。

一の態様において、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）に含まれる、式（Ａ１）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物及び式（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の合計に対する、式（Ａ１）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の比（モル比）の下限値は、好ましくは０．００１、より好ましくは０．００２、さらに好ましくは０．００５、さらにより好ましくは０．０１、特に好ましくは０．０２、特別には０．０５であり得る。式（Ａ１）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物及び式（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の合計に対する、式（Ａ１）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の比（モル比）の上限値は、好ましくは、０．７０、より好ましくは０．６０、より好ましくは０．５０、さらに好ましくは０．４０、さらにより好ましくは０．３０、例えば、０．２０、具体的には０．１０であり得る。式（Ａ１）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物及び式（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の合計に対する、式（Ａ１）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の比（モル比）は、０．００１以上０．７０以下であってもよく、０．００１以上０．６０以下であってもよく、０．００１以上０．５０以下であってもよく、０．００２以上０．４０以下であってもよく、０．００５以上０．３０以下であってもよく、０．０１以上０．２０以下であってもよく、例えば０．０２以上０．２０以下（具体的には０．１５以下）又は０．０５以上０．２０以下（具体的には０．１５以下）である。

上記表面処理剤は、溶媒で希釈されていてもよい。このような溶媒としては、特に限定するものではないが、例えば：
パーフルオロヘキサン、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＨＣｌ_２、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＦ_２ＣＨ_３、ＣＦ_３ＣＨＦＣＨＦＣ_２Ｆ_５、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６－トリデカフルオロオクタン、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン（（ゼオローラＨ（商品名）等）、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５、ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦ_２、Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ＝ＣＨ_２、Ｃ_６Ｆ_１３ＯＣＨ_３、キシレンヘキサフルオリド、パーフルオロベンゼン、メチルペンタデカフルオロヘプチルケトン、トリフルオロエタノール、ペンタフルオロプロパノール、ヘキサフルオロイソプロパノール、ＨＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ、メチルトリフルオロメタンスルホネート、トリフルオロ酢酸及びＣＦ_３Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１（ＣＦ_２Ｏ）_ｎ１ＣＦ_２ＣＦ_３［式中、ｍ１及びｎ１は、それぞれ独立して０以上１０００以下の整数であり、ｍ１又はｎ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、但しｍ１及びｎ１の和は１以上である。］、１，1－ジクロロ－２，３，３，３－テトラフルオロ－１－プロペン、１，２－ジクロロ－１，３，３，３－テトラフルオロ－１－プロペン、１，２－ジクロロ－３，３，３－トリフルオロ－１－プロペン、１，１－ジクロロ－３，３，３－トリフルオロ－１－プロペン、１，１，２－トリクロロ―３，３，３－トリフルオロ－１－プロペン、１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテンからなる群から選択されるフッ素原子含有溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独で、又は、２種以上の混合物として用いることができる。

上記溶媒中に含まれる水分含有量は、２０質量ｐｐｍ以下であることが好ましい。上記水分含有量は、カールフィッシャー法を用いて測定することができる。このような水分含有量であることによって、表面処理剤の保存安定性が向上し得る。

上記表面処理剤は、式（Ａ１）又は式（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物に加え、他の成分を含んでいてもよい。かかる他の成分としては、特に限定されるものではないが、例えば、含フッ素オイルとして理解され得る（非反応性の）フルオロポリエーテル化合物、好ましくはパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物（以下、「含フッ素オイル」と言う）、シリコーンオイルとして理解され得る（非反応性の）シリコーン化合物（以下、「シリコーンオイル」と言う）、触媒、低級アルコール、遷移金属、ハロゲン化物イオン、分子構造内に非共有電子対を有する原子を含む化合物などが挙げられる。

上記含フッ素オイルとしては、特に限定されるものではないが、例えば、以下の一般式（１）で表される化合物（パーフルオロ（ポリ）エーテル化合物）が挙げられる。
Ｒｆ^５－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ’－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ’－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ’－（ＯＣＦ_２）_ｄ’－Ｒｆ^６ ・・・（１）
式中、Ｒｆ^５は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１６アルキル基（好ましくは、Ｃ_１―１６のパーフルオロアルキル基）を表し、Ｒｆ^６は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１６アルキル基（好ましくは、Ｃ_１－１６パーフルオロアルキル基）、フッ素原子又は水素原子を表し、Ｒｆ^５及びＲｆ^６は、より好ましくは、それぞれ独立して、Ｃ_１－３パーフルオロアルキル基である。
ａ’、ｂ’、ｃ’及びｄ’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ（ポリ）エーテルの４種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して０以上３００以下の整数であって、ａ’、ｂ’、ｃ’及びｄ’の和は少なくとも１、好ましくは１～３００、より好ましくは２０～３００である。添字ａ’、ｂ’、ｃ’又はｄ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。上記繰り返し単位中に少なくとも１の分岐構造を有する。すなわち、上記繰り返し単位は、少なくとも１のＣＦ_３末端（具体的には、－ＣＦ_３、－Ｃ_２Ｆ_５等、より具体的には－ＣＦ_３）を有する。分岐構造を有する繰り返し単位としては、－（ＯＣ_４Ｆ_８）－としては、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－、－（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））－、－（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）－及び－（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））－；－（ＯＣ_３Ｆ_６）－としては、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－及び－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－；－（ＯＣ_２Ｆ_４）－としては、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３））－を挙げることができる。

上記一般式（１）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物の例として、以下の一般式（１ａ）及び（１ｂ）のいずれかで示される化合物（１種又は２種以上の混合物であってよい）が挙げられる。
Ｒｆ^５－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）_ｂ’’－Ｒｆ^６ ・・・（１ａ）
Ｒｆ^５－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ’’－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ’’－（ＯＣＦ（ＣＦ_３））_ｃ’’－（ＯＣＦ_２）_ｄ’’－Ｒｆ^６ ・・・（１ｂ）
これら式中、Ｒｆ^５及びＲｆ^６は上記の通りであり；式（１ａ）において、ｂ’’は１以上１００以下の整数であり；式（１ｂ）において、ａ’’及びｂ’’は、それぞれ独立して１以上３０以下の整数であり、ｃ’’及びｄ’’はそれぞれ独立して１以上３００以下の整数である。添字ａ’’、ｂ’’、ｃ’’、ｄ’’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。－（ＯＣ_４Ｆ_８）－_、－（ＯＣ_３Ｆ_６）－は分岐構造を有する。

上記含フッ素オイルは、１，０００～３０，０００の数平均分子量を有していてよい。特に、式（１ａ）で表される化合物の数平均分子量は、２，０００～８，０００であることが好ましい。かかる数平均分子量を有することにより、良好な摩擦耐久性を得ることができる。一の態様において、式（１ｂ）で表される化合物の数平均分子量は、３，０００～８，０００である。別の態様において、式（１ｂ）で表される化合物の数平均分子量は、８，０００～３０，０００である。

上記表面処理剤中、含フッ素オイルは、上記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物１００質量部に対して、例えば０～５００質量部、好ましくは０～１００質量部、より好ましくは１～５０質量部、さらに好ましくは１～５質量部で含まれ得る。

上記表面処理剤中、含フッ素オイルは、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物及び含フッ素オイルの合計量に対して、例えば０～３０モル％、好ましくは０～２０モル％、より好ましくは０～１０モル％で含まれ得る。

また、別の観点から、含フッ素オイルは、一般式Ｒｆ’－Ｆ（式中、Ｒｆ’はＣ_５－１６パーフルオロアルキル基である。）で表される化合物であってよい。また、クロロトリフルオロエチレンオリゴマーであってもよい。Ｒｆ’－Ｆで表される化合物及びクロロトリフルオロエチレンオリゴマーは、ＲｆがＣ_１－１６パーフルオロアルキル基である上記パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物と高い親和性が得られる点で好ましい。

含フッ素オイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。

一の態様において、本開示の表面処理剤は、式（Ａ１）で表される化合物、及び含フッ素オイルを含む。

一の態様において、本開示の表面処理剤は、式（Ａ２）で表される化合物、及び含フッ素オイルを含む。

一の態様において、本開示の表面処理剤は、式（Ａ１）で表される化合物、式（Ａ２）で表される化合物、及び含フッ素オイルを含む。

一の態様において、式（Ａ１）で表される化合物、式（Ａ２）で表される化合物、及び含フッ素オイルの合計に対して、式（Ａ２）で表される化合物は０．００１～７０モル％、及び含フッ素オイルは０．００１～５０モル％含まれることが好ましく、式（Ａ２）で表される化合物は０．０１～６０モル％、及び含フッ素オイルは０．０１～４０モル％含まれることがより好ましく、式（Ａ２）で表される化合物は０．１～５０モル％、及び含フッ素オイルは０．１～３０モル％含まれることがさらに好ましい。

一の態様において、式（Ａ１）で表される化合物、式（Ａ２）で表される化合物、及び含フッ素オイルの合計に対して、式（Ａ１）で表される化合物が０．００１～７０モル％、及び含フッ素オイルが０．００１～５０モル％含まれることが好ましく、式（Ａ１）で表される化合物が０．０１～６０モル％、及び含フッ素オイルが０．０１～４０モル％含まれることがより好ましく、式（Ａ１）で表される化合物が０．１～５０モル％、及び含フッ素オイルが０．１～３０モル％含まれることがさらに好ましい。

上記シリコーンオイルとしては、例えばシロキサン結合が２，０００以下の直鎖状又は環状のシリコーンオイルを用い得る。直鎖状のシリコーンオイルは、いわゆるストレートシリコーンオイル及び変性シリコーンオイルであってよい。ストレートシリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルが挙げられる。変性シリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイルを、アルキル、アラルキル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル、フルオロアルキル、アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコールなどにより変性したものが挙げられる。環状のシリコーンオイルは、例えば環状ジメチルシロキサンオイルなどが挙げられる。

上記表面処理剤中、かかるシリコーンオイルは、上記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物１００質量部（２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０～５０質量部、好ましくは０～５質量部で含まれ得る。

シリコーンオイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。

上記触媒としては、酸（例えば酢酸、トリフルオロ酢酸等）、塩基（例えばアンモニア、トリエチルアミン、ジエチルアミン等）、遷移金属（例えばＴｉ、Ｎｉ、Ｓｎ等）等が挙げられる。

触媒は、上記含フッ素シラン化合物の加水分解及び脱水縮合を促進し、表面処理層の形成を促進する。

上記他の成分としての低級アルコールとしては、炭素数１～６のアルコール化合物が挙げられる。

上記遷移金属としては、白金、ルテニウム、ロジウム等が挙げられる。

上記ハロゲン化物イオンとしては、塩化物イオン等が挙げられる。

上記分子構造内に非共有電子対を有する原子を含む化合物しては、ジエチルアミン、トリエチルアミン、アニリン、ピリジン、ヘキサメチルホスホルアミド、Ｎ，Ｎ－ジエチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ－ジエチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ－メチルピロリドン、テトラメチル尿素、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、テトラメチレンスルホキシド、メチルフェニルスルホキシド、ジフェニルスルホキシド等を挙げられる。これらの化合物の中で、ジメチルスルホキシド、又はテトラメチレンスルホキシドを用いることが好ましい。

他の成分としては、上記以外に、例えば、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等も挙げられる。

一の態様において、上記表面処理剤は、上記他の成分である含フッ素オイル、シリコーンオイル、触媒、低級アルコール、遷移金属、ハロゲン化物イオン、分子構造内に非共有電子対を有する原子を含む化合物を含まない。

一の態様において、式（Ａ１）で表される化合物、式（Ａ２）で表される化合物、及び含フッ素オイルの合計に対して、式（Ａ２）で表される化合物は、例えば、７０モル％以下含まれていてもよく、６０モル％以下含まれていてもよく、５０モル％以下含まれていてもよく、０．００１モル％以上含まれていてもよく、０．０１モル％以上含まれていてもよく、０．１モル%以上含まれていてもよい。式（Ａ１）で表される化合物、式（Ａ２）で表される化合物、及び含フッ素オイルの合計に対して、式（Ａ２）で表される化合物は、例えば、１～７０モル％含まれていてもよく、５～５０モル％含まれていてもよい。

一の態様において、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）は、式（Ａ１）で表される化合物、式（Ａ２）で表される化合物、及び含フッ素オイルを含む。
本態様において、式（Ａ１）で表される化合物、式（Ａ２）で表される化合物、及び含フッ素オイルの合計に対して、含フッ素オイルは、例えば、０．００１モル％以上含まれていてもよく、０．０１モル％以上含まれていてもよく、１．０モル％以上含まれていてもよく、５０モル％以下含まれていてもよく、４０モル％以下含まれていてもよく、３０モル％以下含まれていてもよく、１０モル％以下含まれていてもよい。式（Ａ１）で表される化合物、式（Ａ２）で表される化合物、及び含フッ素オイルの合計に対して、含フッ素オイルは、例えば、０．００１～５０モル％含まれていてもよく、０．０１～４０モル％含まれていてもよい。

本態様において、式（Ａ１）で表される化合物、式（Ａ２）で表される化合物、及び含フッ素オイルの合計に対して、式（Ａ２）で表される化合物が０．００１～７０モル％、及び含フッ素オイルが０．００１～５０モル％含まれることが好ましく、式（Ａ２）で表される化合物が０．０１～６０モル％、及び含フッ素オイルが０．０１～４０モル％含まれることがより好ましく、式（Ａ２）で表される化合物が０．１～５０モル％、及び含フッ素オイルが０．１～３０モル％含まれることがさらに好ましい。

本態様の組成物（例えば、表面処理剤）は、摩擦耐久性の良好な硬化層の形成に寄与し得る。さらに、本態様の組成物を用いて形成される硬化層の摩擦耐久性が良好になり、硬化層の表面における滑り性が良好になる。また、本態様の組成物では、Ｒ^Ｆ部分の二次構造がらせん構造をとりやすく、単位面積当たりのポリマー密度やシランカップリング剤の架橋密度が大きくなるため、硬化層の強度が高くなると考えられる。

一の態様において、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）は、式（Ａ１）で表される化合物、式（Ａ２）で表される化合物、及び含フッ素オイルを含む。

本態様において、式（Ａ１）で表される化合物、及び式（Ａ２）で表される化合物の合計に対して、式（Ａ２）で表される化合物が、０．００１モル％以上５０モル％未満含まれていてもよく、０．１モル％以上５０モル％未満含まれていてもよく、１モル％以上５０モル％未満含まれていてもよく、例えば、１０モル％以上５０モル％未満含まれていてもよい。

一の態様において、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）は、式（Ａ１）で表される化合物、式（Ａ２）で表される化合物、及び含フッ素オイルを含む。
本態様において、式（Ａ１）で表される化合物、及び式（Ａ２）で表される化合物の合計に対して、式（Ａ１）で表される化合物が、０．００１モル％以上５０モル％未満含まれていてもよく、０．１モル％以上５０モル％未満含まれていてもよく、１０モル％以上５０モル％未満含まれていてもよく、例えば、２０モル％以上５０モル％未満、３０モル％以上５０モル％未満含まれていてもよい。

一の態様において、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）は、式（Ａ１）で表される化合物、式（Ａ２）で表される化合物、及び含フッ素オイルを含む。
本態様において、式（Ａ１）で表される化合物、及び式（Ａ２）で表される化合物の合計に対して、式（Ａ２）で表される化合物が、３５モル％以上６５モル％未満含まれていてもよく、４０モル％以上６０モル％未満含まれていてもよい。

一の態様において、本開示の表面処理剤は、式（Ａ１）又は式（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含み、上記他の成分である、含フッ素オイルを含まない（例えば、含フッ素オイルの含有量が、表面処理剤１００質量部に対して、１質量部以下であり、より具体的には、０質量部である）。

本開示の組成物は、基材の表面処理を行う表面処理剤として用いることができる。

本開示の表面処理剤は、多孔質物質、例えば多孔質のセラミック材料、金属繊維、例えばスチールウールを綿状に固めたものに含浸させて、ペレットとすることができる。当該ペレットは、例えば、真空蒸着に用いることができる。

（物品）
以下、本開示の物品について説明する。

本開示の物品は、基材と、該基材表面に本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物又はフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤（以下、これらを代表して単に「本開示の表面処理剤」という）から形成された層（表面処理層）とを含む。

本開示において使用可能な基材は、例えば、ガラス、樹脂（天然又は合成樹脂、例えば一般的なプラスチック材料であってよく、板状、フィルム、その他の形態であってよい）、金属、セラミックス、半導体（シリコン、ゲルマニウム等）、繊維（織物、不織布等）、毛皮、皮革、木材、陶磁器、石材等、建築部材等、任意の適切な材料で構成され得る。

例えば、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面を構成する材料は、光学部材用材料、例えばガラス又は透明プラスチックなどであってよい。また、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面（最外層）に何らかの層（又は膜）、例えばハードコート層や反射防止層などが形成されていてもよい。反射防止層には、単層反射防止層及び多層反射防止層のいずれを使用してもよい。反射防止層に使用可能な無機物の例としては、ＳｉＯ_２、ＳｉＯ、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、ＴｉＯ、Ｔｉ_２Ｏ_３、Ｔｉ_２Ｏ_５、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、ＣｅＯ_２、ＭｇＯ、Ｙ_２Ｏ_３、ＳｎＯ_２、ＭｇＦ_２、ＷＯ_３などが挙げられる。これらの無機物は、単独で、又はこれらの２種以上を組み合わせて（例えば混合物として）使用してもよい。多層反射防止層とする場合、その最外層にはＳｉＯ_２及び／又はＳｉＯを用いることが好ましい。製造すべき物品が、タッチパネル用の光学ガラス部品である場合、透明電極、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化インジウム亜鉛などを用いた薄膜を、基材（ガラス）の表面の一部に有していてもよい。また、基材は、その具体的仕様等に応じて、絶縁層、粘着層、保護層、装飾枠層（Ｉ－ＣＯＮ）、霧化膜層、ハードコーティング膜層、偏光フィルム、相位差フィルム、及び液晶表示モジュールなどを有していてもよい。

基材の形状は特に限定されない。また、本開示の表面処理剤によって形成された層を形成すべき基材の表面領域は、基材表面の少なくとも一部であればよく、製造すべき物品の用途及び具体的仕様等に応じて適宜決定され得る。

かかる基材としては、少なくともその表面部分が、水酸基を元々有する材料から成るものであってよい。かかる材料としては、ガラスが挙げられ、また、表面に自然酸化膜又は熱酸化膜が形成される金属（特に卑金属）、セラミックス、半導体等が挙げられる。あるいは、樹脂等のように、水酸基を有していても十分でない場合や、水酸基を元々有していない場合には、基材に何らかの前処理を施すことにより、基材の表面に水酸基を導入したり、増加させたりすることができる。かかる前処理の例としては、プラズマ処理（例えばコロナ放電）や、イオンビーム照射が挙げられる。プラズマ処理は、基材表面に水酸基を導入又は増加させ得ると共に、基材表面を清浄化する（異物等を除去する）ためにも好適に利用され得る。また、かかる前処理の別の例としては、炭素－炭素不飽和結合基を有する界面吸着剤をＬＢ法（ラングミュア－ブロジェット法）や化学吸着法等によって、基材表面に予め単分子膜の形態で形成し、その後、酸素や窒素等を含む雰囲気下にて不飽和結合を開裂する方法が挙げられる。

またあるいは、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、別の反応性基、例えばＳｉ－Ｈ基を１つ以上有するシリコーン化合物や、アルコキシシランを含む材料から成るものであってもよい。

次に、かかる基材の表面に、上記の本開示の表面処理剤の層を形成し、この層を必要に応じて後処理し、これにより、本開示の表面処理剤から層を形成する。

本開示の表面処理剤の層形成は、上記の表面処理剤を基材の表面に対して、該表面を被覆するように適用することによって実施できる。被覆方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法及び乾燥被覆法を使用できる。

湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング及び類似の方法が挙げられる。

乾燥被覆法の例としては、蒸着（通常、真空蒸着）、スパッタリング、ＣＶＤ及び類似の方法が挙げられる。蒸着法（通常、真空蒸着法）の具体例としては、抵抗加熱、電子ビーム、マイクロ波等を用いた高周波加熱、イオンビーム及び類似の方法が挙げられる。ＣＶＤ方法の具体例としては、プラズマ－ＣＶＤ、光学ＣＶＤ、熱ＣＶＤ及び類似の方法が挙げられる。

更に、常圧プラズマ法による被覆も可能である。

湿潤被覆法を使用する場合、本開示の表面処理剤は、溶媒で希釈されてから基材表面に適用され得る。本開示の表面処理剤の安定性及び溶媒の揮発性の観点から、次の溶媒が好ましく使用される：炭素数５～１２のパーフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサン及びパーフルオロ－１，３－ジメチルシクロヘキサン）；ポリフルオロ芳香族炭化水素（例えば、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン）；ポリフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_３（例えば、ＡＧＣ株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＣ－６０００）、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン（例えば、日本ゼオン株式会社製のゼオローラ（登録商標）Ｈ）；ヒドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）（例えば、パーフルオロプロピルメチルエーテル（Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７０００）、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７１００）、パーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７２００）、パーフルオロヘキシルメチルエーテル（Ｃ_２Ｆ_５ＣＦ（ＯＣＨ_３）Ｃ_３Ｆ_７）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７３００）などのアルキルパーフルオロアルキルエーテル（パーフルオロアルキル基及びアルキル基は直鎖又は分枝状であってよい）、あるいはＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦ_２（例えば、ＡＧＣ株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＥ－３０００））など。これらの溶媒は、単独で、又は、２種以上の混合物として用いることができる。なかでも、ヒドロフルオロエーテルが好ましく、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３）及び／又はパーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５）が特に好ましい。

乾燥被覆法を使用する場合、本開示の表面処理剤は、そのまま乾燥被覆法に付してもよく、又は、上記した溶媒で希釈してから乾燥被覆法に付してもよい。

表面処理剤の層形成は、層中で本開示の表面処理剤が、加水分解及び脱水縮合のための触媒と共に存在するように実施することが好ましい。簡便には、湿潤被覆法による場合、本開示の表面処理剤を溶媒で希釈した後、基材表面に適用する直前に、本開示の表面処理剤の希釈液に触媒を添加してよい。乾燥被覆法による場合には、触媒添加した本開示の表面処理剤をそのまま蒸着（通常、真空蒸着）処理するか、あるいは鉄や銅などの金属多孔体に、触媒添加した本開示の表面処理剤を含浸させたペレット状物質を用いて蒸着（通常、真空蒸着）処理をしてもよい。

触媒には、任意の適切な酸又は塩基を使用できる。酸触媒としては、例えば、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸などを使用できる。また、塩基触媒としては、例えばアンモニア、有機アミン類などを使用できる。

上記のようにして、基材の表面に、本開示の表面処理剤に由来する層が形成され、本開示の物品が製造される。これにより得られる上記層は、高い表面滑り性と高い摩擦耐久性の双方を有する。また、上記層は、高い摩擦耐久性に加えて、使用する表面処理剤の組成にもよるが、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、防水性（電子部品等への水の浸入を防止する）、表面滑り性（又は潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）などを有し得、機能性薄膜として好適に利用され得る。

すなわち本開示はさらに、本開示の表面処理剤に由来する層を最外層に有する光学材料にも関する。

光学材料としては、後記に例示するようなディスプレイ等に関する光学材料のほか、多種多様な光学材料が好ましく挙げられる：例えば、陰極線管（ＣＲＴ；例えば、パソコンモニター）、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機薄膜ＥＬドットマトリクスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管（ＶＦＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ；Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ）などのディスプレイ又はそれらのディスプレイの保護板、又はそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの。

本開示によって得られる層を有する物品は、特に限定されるものではないが、光学部材であり得る。光学部材の例には、次のものが挙げられる：眼鏡などのレンズ；ＰＤＰ、ＬＣＤなどのディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板；携帯電話、携帯情報端末などの機器のタッチパネルシート；ブルーレイ（Ｂｌｕ－ｒａｙ（登録商標））ディスク、ＤＶＤディスク、ＣＤ－Ｒ、ＭＯなどの光ディスクのディスク面；光ファイバー；時計の表示面など。

また、本開示によって得られる層を有する物品は、自動車内外装部材であってもよい。外装材の例には、次のものが挙げられる：ウィンドウ、ライトカバー、社外カメラカバー。内装材の例には、次のものが挙げられる：インパネカバー、ナビゲーションシステムタッチパネル、加飾内装材。

また、本開示によって得られる層を有する物品は、医療機器又は医療材料であってもよい。

上記層の厚さは、特に限定されない。光学部材の場合、上記層の厚さは、１～５０ｎｍ、１～３０ｎｍ、好ましくは１～１５ｎｍの範囲であることが、光学性能、表面滑り性、摩擦耐久性及び防汚性の点から好ましい。

以上、実施形態を説明したが、特許請求の範囲の趣旨及び範囲から逸脱することなく、形態や詳細の多様な変更が可能なことが理解されるであろう。

以下、本開示について、実施例において説明するが、本開示は以下の実施例に限定されるものではない。なお、本実施例において、以下に示される化学式はすべて平均組成を示す。

（実施例１）
（合成例１）
ＨＯ－ＣＨ_２－ＣＯＯＭｅ（３．５７ｇ）をＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）（３０．０ｍＬ）に溶解後、氷浴で冷却した。１０分後、イミダゾール（６．４８ｇ）、及びｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリルクロリド（７．１７ｇ）を、この順に添加し、翌朝まで撹拌した。反応溶液にジエチルエーテルと水とを加えた後、分液し、濃縮乾固後、カラム精製を行って、化合物Ａを７．７９ｇ得た。

化合物Ａ：

（式中、Ｍｅはメチル基である。）

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ: 0.10 (s, 6H), 0.89 (s, 9H), 3.73 (s, 3H), 4.24 (s, 2H)

（合成例２）
化合物Ａ（２．００ｇ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（１０．０ｍＬ）に溶解後、氷浴で冷やした。１０分後、アリルマグネシウムクロライド（２０．６ｍＬ）を添加し、翌朝まで撹拌した。反応溶液にジエチルエーテルと塩化アンモニウム水溶液とを加えた後、分液し、濃縮乾固後、カラム精製を行って、化合物Ｂを１．５１ｇ得た。

化合物Ｂ：

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ: 0.095 (s, 6H), 0.90 (s, 9H), 2.18-2.29 (m, 4H), 3.40 (s, 2H), 5.05-5.10 (m, 4H), 5.78-5.89 (m, 2H).

（合成例３）
化合物Ｂ（０．７７ｇ）をジクロロメタン（５．０ｍＬ）に溶解後、アリルジイソプロピルエチルアミン（１．５１ｍＬ）、ジメチルアミノピリジン（０．０１ｇ）、及びメトキシメチルクロリド（０．４５ｍＬ）を添加し、３日間、３７℃で撹拌した。反応溶液に水を加えた後、分液し、濃縮乾固後、カラム精製を行うことで化合物Ｃを０．７７ｇ得た。

化合物Ｃ：

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ: 0.067 (s, 6H), 0.89 (s, 9H), 2.29-2.39 (m, 4H), 3.37 (s, 3H), 3.54 (s, 2H), 4.79 (s, 2H), 5.05-5.10 (m, 4H), 5.78-5.89 (m, 2H).

（合成例４）
化合物Ｃ（０．７７ｇ）をＴＨＦ（５．０ｍＬ）に溶解後、テトラブチルアンモニウムフルオライドのＴＨＦ溶液（２．９４ｍＬ）を添加し、室温で一晩撹拌した。反応溶液に塩化アンモニウム水溶液及びクロロホルムを加えた後、分液し、濃縮乾固後、カラム精製を行って、化合物Ｄを０．３６ｇ得た。

化合物Ｄ：

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ:2.30-2.37 (m, 4H), 3.43 (s, 3H), 3.48 (m, 2H), 4.75 (s, 2H), 5.09-5.12 (m, 4H), 5.74-5.85 (m, 2H).

（合成例５）
化合物Ｄ（０．３６ｇ）をジクロロメタン（１０．０ｍＬ）に溶解後、モレキュラーシーブス４Å（３．６２ｇ）、及び二クロム酸ピリジニウム（ＰＤＣ，１．０２ｇ）の順に添加し、次いで、室温で一晩撹拌した。反応溶液をろ過し、濃縮乾固して、化合物Ｅを０．３９ｇ得た。

化合物Ｅ：

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ:2.45-2.50 (m, 4H), 3.43 (s, 3H), 4.74 (s, 2H), 5.10-5.15 (m, 4H), 5.68-5.77 (m, 2H), 9.54 (s, 1H).

（合成例６）
化合物Ｅ（０．３９ｇ）をエタノール（１０．０ｍＬ）に溶解後、酸化銀（１．１３ｇ）、及び１Ｎの水酸化ナトリウム水溶液（９．７５ｍＬ）を、この順に添加後、室温で一晩撹拌した。反応溶液に８％クエン酸水溶液及びクロロホルムを加えた後、分液し、ろ過後、濃縮乾固して、化合物Ｆを０．２２ｇ得た。

化合物Ｆ：

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ:2.57-2.68 (m, 4H), 3.45 (s, 3H), 4.84 (s, 2H), 5.13-5.17 (m, 4H), 5.69-5.80 (m, 2H).

（合成例７）
化合物Ｆ（０．２２ｇ）をアセトニトリル（３．０ｍＬ）に溶解後、カルボジイミダゾール（０．２ｇ）を添加し、２時間攪拌した。２時間後、ヒドラジン一水和物（０．１ｍＬ）を添加し、室温で一晩撹拌した。反応溶液に水とクロロホルムを加えた後、分液し、濃縮乾固後、カラム精製を行って、化合物Ｇを０．１２ｇ得た。

化合物Ｇ：

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ:2.56-2.67 (m, 4H), 3.42 (s, 3H), 4.82 (s, 2H), 5.07-5.12 (m, 4H), 5.68-5.75 (m, 2H).

（合成例８）
化合物Ｇ（０．１２ｇ）をアサヒクリンＡＫ２２５（５．０ｍＬ，登録商標、ＡＧＣ株式会社）に溶解後、ＣＦ－_３Ｏ－（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ－（ＣＦ_２Ｏ）_ｍ－ＣＦ_２ＣＯＯＣＨ－_３（ｎ＝２５，ｍ＝２５）で示されるメチルエステル（１．７２ｇ）、及びトリエチルアミン（０．３０ｍＬ）を、この順に添加し、室温で３日間撹拌した。反応溶液にパーフルオロヘキサンを加えた後、８％クエン酸水溶液、水、メタノールの順に洗浄後、濃縮乾固して、化合物Ｈを１．７２ｇ得た。

化合物Ｈ：

¹H NMR (mXHF, 400 MHz) δ:2.95-3.00 (m, 4H), 3.45 (s, 3H), 5.16 (s, 2H), 5.38-5.44 (m, 4H), 6.10-6.20 (m, 2H).

（合成例９）
化合物Ｈ（１．７２ｇ）をＡＫ２２５（１０．０ｍＬ）に溶解後、トリエチルアミン（０．１４４ｍＬ）、及びトシルクロライド（０．１３１ｇ）を、この順に添加し、室温で一晩撹拌した。反応溶液にパーフルオロヘキサンを加えた後、メタノール、アセトンの順に洗浄後、濃縮乾固し、カラム精製を行って、化合物Ｉを０．５９ｇ得た。

化合物Ｉ：

¹H NMR (mXHF, 400 MHz) δ:3.16-3.30 (m, 4H), 3.57 (s, 3H), 5.04 (s, 2H), 5.44-5.50 (m, 4H), 6.05-6.12 (m, 2H) ; ¹⁹F NMR (mXHF, 400 MHz) δ: -54.2, -55.8, -56.5, -57.5, -58.3, -60.0, -70.9, -72.6, -85.8, -87.5, -91.5, -92.8, -93.2.

（合成例１０）
化合物Ｉ（０．５９ｇ）をＨＦＥ７２００（１．１ｍＬ）に溶解後、カールシュテット触媒（２８．１μｌ）、アニリン（４．６μｌ）を添加した。室温で３０分撹拌後、トリメトキシシラン（０．０８μｌ）を添加し、室温で３時間撹拌した。濾過した後、濃縮乾固して、化合物Ｊを０．６ｇ得た。

化合物Ｊ：

¹H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 1.03-1.07 (m, 4H), 1.80-2.10 (m, 4H), 2.58-2.66 (m, 4H), 3.57 (s, 3H), 3.90-4.00 (m, 18 H), 5.02 (s, 2H); ¹⁹F NMR (mXHF, 400 MHz) δ: -54.2, -55.6, -56.4, -57.5, -58.3, -60.0, -70.6, -72.5, -85.8, -87.5, -91.2, -92.8, -93.2.

（実施例２）
（合成例１１）
化合物Ｋ（０．５６ｇ）をジクロロメタン（１０．０ｍＬ）に溶解後、アリルジイソプロピルエチルアミン（１．０９ｍＬ）、ジメチルアミノピリジン（０．０１ｇ）、及びメトキシエトキシメチルクロリド（０．４９ｍＬ）を添加し、３日間、３７℃で撹拌した。反応溶液に水を加えた後、分液し、濃縮乾固後、カラム精製を行って、化合物Ｌを０．７６ｇ得た。

化合物Ｋ

化合物Ｌ：

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ: 0.024 (s, 6H), 0.88 (s, 9H), 2.29-2.39 (m, 4H), 3.38 (s, 3H), 3.50-3.78 (m, 4H), 4.89 (s, 2H), 5.05-5.10 (m, 4H), 5.78-5.87 (m, 2H).

（合成例１２）
化合物Ｌ（０．７６ｇ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ，５．０ｍＬ）に溶解後、テトラブチルアンモニウムフルオライドのＴＨＦ溶液（２．５３ｍＬ）を添加し、室温で一晩撹拌した。反応溶液に塩化アンモニウム水溶液とクロロホルムとを加えた後、分液し、濃縮乾固後、カラム精製を行って、化合物Ｍを０．４７ｇ得た。

化合物Ｍ：

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ:2.17-2.36 (m, 4H), 3.39 (s, 3H), 3.50 (s, 2H), 3.56 (t, 2H), 3.78 (t, 2H), 4.81 (s, 2H), 5.08-5.12 (m, 4H), 5.74-5.85 (m, 2H).

（合成例１３）
化合物Ｍ（０．４７ｇ）をジクロロメタン（１０．０ｍＬ）に溶解後、モレキュラーシーブス４Å（４．６８ｇ）、及びＰＤＣ（１．０８ｇ）を、この順に添加後、室温で一晩撹拌した。反応溶液をろ過し、濃縮乾固して、化合物Ｎを０．４６ｇ得た。

化合物Ｎ：

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ:2.48-2.50 (m, 4H), 3.37 (s, 3H), 3.52 (t, 2H), 3.76 (t, 2H), 4.84 (s, 2H), 5.09-5.14 (m, 4H), 5.67-5.76 (m, 2H), 9.56 (s, 1H).

（合成例１４）
化合物Ｎ（０．４６ｇ）をエタノール（１０．０ｍＬ）に溶解後、酸化銀（１．１１ｇ）、１Ｎの水酸化ナトリウム水溶液（９．５４ｍＬ）を、この順に添加後、室温で一晩撹拌した。反応溶液に８％クエン酸水溶液とクロロホルムとを加えた後、セライトろ過した後分液し、濃縮乾固して、化合物Ｏを０．４５ｇ得た。

化合物Ｏ：

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ:2.56-2.67 (m, 4H), 3.38 (s, 3H), 3.55 (t, 2H), 3.80 (t, 2H), 4.91 (s, 2H), 5.12-5.16 (m, 4H), 5.69-5.80 (m, 2H).

（合成例１５）
化合物Ｏ（０．４５ｇ）をアセトニトリル（３．０ｍＬ）に溶解後、カルボジイミダゾール（０．３４ｇ）を添加し、１．５時間攪拌した。１．５時間後、ヒドラジン一水和物（０．１ｍＬ）を添加し、室温で一晩撹拌した。反応溶液に水とクロロホルムを加えた後、分液し、濃縮乾固後、カラム精製を行って、化合物Ｐを０．３０ｇ得た。

化合物Ｐ：

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ:2.59-2.67 (m, 4H), 3.35 (s, 3H), 3.50-3.86 (m, 4H), 4.81 and 4.93 (s×2, 2H), 5.09-5.18 (m, 4H), 5.68-5.79 (m, 2H).

（合成例１６）
化合物Ｐ（０．１３ｇ）をＡＫ２２５（５．０ｍＬ）に溶解後、ＣＦ_３Ｏ－（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ－（ＣＦ_２Ｏ）_ｍ－ＣＦ_２ＣＯＯＣＨ_３（ｎ＝２５，ｍ＝２５）で示されるメチルエステル（１．６４ｇ）、及びトリエチルアミン（０．２１ｍＬ）を、この順に添加し、室温で３日間撹拌した。反応溶液にパーフルオロヘキサンを加えた後、８％クエン酸水溶液、水、メタノールの順に洗浄後、濃縮乾固して、化合物Ｑを１．８ｇ得た。

化合物Ｑ：

¹H NMR (mXHF, 400 MHz) δ:2.96-2.99 (m, 4H), 3.45-3.50 (m, 2H), 3.69 (s, 3H), 3.89 (t, 2H), 4.13 (t, 2H), 5.25 (s, 2H), 5.38-5.46 (m, 4H), 6.10-6.20 (m, 2H).

（合成例１７）
化合物Ｑ（１．８ｇ）をＡＫ２２５（１０．０ｍＬ）に溶解後、トリエチルアミン（０．１５ｍＬ）、及びトシルクロライド（０．１３７ｇ）を、この順に添加し、室温で一晩撹拌した。反応溶液にパーフルオロヘキサンを加えた後、メタノール、アセトンの順に洗浄後、濃縮乾固し、カラム精製を行って、化合物Ｒを０．８ｇ得た。

化合物Ｒ：

¹H NMR (mXHF, 400 MHz) δ:3.17-3.35 (m, 4H), 3.57 (s, 3H), 3.69 (t, 2H), 3.95 (t, 2H), 5.19 (s, 2H), 5.43-5.50 (m, 4H), 6.05-6.12 (m, 2H) ; ¹⁹F NMR (mXHF, 400 MHz) δ: -54.2, -55.6, -56.4, -57.5, -58.3, -60.0, -70.6, -72.5, -85.8, -87.5, -91.5, -92.8, -93.2.

（合成例１８）
化合物Ｒ（０．８ｇ）をＨＦＥ７２００（１．６ｍＬ）に溶解後、カールシュテット触媒（３５．８μｌ）、アニリン（５．９μｌ）を添加した。室温で３０分撹拌後、トリメトキシシラン（０．１１μｌ）を添加し、室温で３時間撹拌した。濾過した後、濃縮乾固して、化合物Ｓを０．８１ｇ得た。

化合物Ｓ：

¹H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 1.03-1.07 (m, 4H), 1.80-2.20 (m, 4H), 2.58-2.66 (m, 4H), 3.57 (s, 3H), 3.70 (t, 2H), 3.90-4.00 (m, 20H), 5.17 (s, 2H); ¹⁹F NMR (mXHF, 400 MHz) δ: -54.2, -55.6, -56.4, -57.5, -58.3, -60.0, -70.6, -72.5, -85.8, -87.5, -91.2, -92.8, -93.2.

（比較例１）
ＷＯ２０１７／２１２８５０の実施例１に記載の方法に従って、化合物Ｃ－１を得た（ｎ：ｍ＝５３：４７、ｎ＋ｍ＝４３）。

（化合物Ｃ－１）

＜表面処理層の形成＞
実施例１～２、及び比較例１で得られたフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を、濃度２０質量％となるようにＮｏｖｅｃ ７２００（３Ｍ社製、エチルパーフルオロブチルエーテル）で希釈し、表面処理剤を調製し、それぞれ化学強化ガラス（コーニング社製 Ｇｏｒｉｌｌａ ３）上に真空蒸着した。真空蒸着の処理条件は、圧力３．０×１０^－３Ｐａとし、化学強化ガラス表面に５ｎｍの二酸化ケイ素膜を形成し、続いて、化学強化ガラス１枚（５５ｍｍ×１００ｍｍ）あたり、表面処理剤４ｍｇ（すなわちフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を０．８ｍｇ含有）を蒸着させた。次に、表面処理剤が処理された基材を大気圧下、１５０℃で３０分間加熱処理し、表面処理層を形成した。

＜水の静的接触角の測定方法＞
静的接触角の測定は、全自動接触角計ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ７００（協和界面科学社製）を用いた。具体的には、測定対象の表面処理層を有する基材を水平に静置し、その表面にマイクロシリンジから水を２μＬ滴下し、滴下１秒後の静止画をビデオマイクロスコープで撮影することにより静的接触角を測定した。水の静的接触角は、基材の表面処理層の異なる５点において測定し、その平均値を算出した値を用いた。

＜消しゴム耐久性評価＞
（初期評価）
初期評価（消しゴム摩擦回数０回）として、表面処理層の形成後、表面上の余剰分を拭き上げたのちに、水の静的接触角を測定した。
（消しゴム耐久性試験後の評価）
形成された表面処理層に対して、ラビングテスター（新東科学社製）を用いて、下記条件で往復回数２５００回毎に水の静的接触角を測定し、１０，０００回まで測定した。なお、水の静的接触角が１００度を切った時点で試験は完了とした。試験環境条件は２５℃、湿度４０％ＲＨであった。
消しゴム：Ｒａｂｅｒ Ｅｒａｓｅｒ（Ｍｉｎｏａｎ社製）
接地面積：６ｍｍφ
移動距離（片道）：４０ｍｍ
移動速度：３，６００ｍｍ／分
荷重：１ｋｇ／６ｍｍφ

結果を表１に示す。

上記の結果から、パーフルオロポリエーテル基とシラン基との間にヘテロアリーレン基を有する実施例の化合物は、優れた摩擦耐久性を有する表面処理層を形成することができることが確認された。

本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、種々多様な基材、特に摩擦耐久性が求められる光学部材の表面に、表面処理層を形成するために好適に利用され得る。

Claims (14)

1. 下記式（Ａ１）又は（Ａ２）：
   

   

   ［式中：
   Ｒ^Ｆ１は、Ｒｆ^１－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－で表され；
   Ｒ^Ｆ２は、－Ｒｆ^２ _ｐ－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－で表され；
   Ｒｆ^１は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基であり；
   Ｒｆ^２は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基であり；
   Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
   －（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｒ^Ｆａ _６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－
   で表される基であり；
   ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
   Ｒ^Ｆａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は塩素原子であり；
   ｐは、０又は１であり；
   ｑは、独立して、０又は１であり；
   Ｘ^１は、それぞれ独立して、－Ｘ^１ａ _ｒ１－Ｚ^１－Ｘ^１ｂ _ｒ２－で表される基であり；
   Ｘ^１ａは、Ｃ_１－２０アルキレン基であり；
   Ｚ^１は、下記Ｂ^１～Ｂ^５を含む五員環構造：
   

   

   ［式中：
   Ｂ^１～Ｂ^５は、それぞれ独立して、Ｃ、Ｎ、及びＯから選ばれる原子であり、
   Ｂ^１～Ｂ^５のうち１～３つは、それぞれ独立してＮ又はＯであり、
   Ｂ^１～Ｂ^５のいずれか１つがＸ^１ａと結合し、別の１つがＸ^１ｂと結合する。］
   であり；
   Ｘ^１ｂは、Ｃ_１－２０アルキレン基であり；
   ｒ１は、０又は１であり；
   ｒ２は、０又は１であり；
   Ｒ^Ｓｉは、それぞれ独立して、下記式（Ｓ１）：
   

   

   （式中：
   Ｘ^３は、単結合、酸素原子、又は２価の有機基であり；
   Ｒ^ｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解可能な基であり；
   Ｒ^ｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
   ｎは、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
   ただし、式（Ａ１）及び（Ａ２）のそれぞれにおいて、少なくとも１つのｎは１である。）
   で表される基であり；
   Ｒ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、ベンジル基、メトキシフェニルベンジル基、ベンゾイル基、トリチル基、－ＳｉＲ^７１ _３、又は－（Ｒ^７２－Ｏ）_ｎ７－Ｒ^７３であり、
   Ｒ^７１は、それぞれ独立して、Ｃ_１－４アルキル基であり、
   Ｒ^７２は、それぞれ独立して、Ｃ_１－４アルキレン基であり、
   ｎ７は、それぞれ独立して、１～１０の整数であり；
   Ｒ^７３は、それぞれ独立して、水素原子、又は環構造を含んでいてもよい１価の炭化水素基である。]
   で表される、フルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
2. Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、式：
   －（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－
   ［式中：
   ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
   で表される基である、請求項１に記載のフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
3. Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、下記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）又は（ｆ５）：
   －（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－ （ｆ１）
   ［式中、ｄは、１～２００の整数であり、ｅは、０又は１である。］
   －（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－ （ｆ２）
   ［式中、ｃ及びｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅ及びｆは、それぞれ独立して１以上２００以下の整数であり、
   ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は２以上であり、
   添字ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
   －（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－ （ｆ３）
   ［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり、
   Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
   ｇは、２～１００の整数である。］
   －（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－ （ｆ４）
   ［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
   －（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－ （ｆ５）
   ［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
   で表される、請求項１又は２に記載のフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
4. Ｚ^１は、Ｎ原子を含む５員のヘテロ環である、請求項１～３のいずれか１項に記載のフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
5. Ｚ^１は、２つ以上のヘテロ原子を有する５員のヘテロ環である、請求項１～４のいずれか１項に記載のフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
6. 前記ヘテロ原子は、２つ以上のＮ原子を含む、請求項５に記載のフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
7. 前記ヘテロ原子は、少なくとも１つのＮ原子及び少なくとも１つのＮ原子以外のヘテロ原子である、請求項５又は６に記載のフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
8. 前記Ｎ原子以外のヘテロ原子は、Ｏ原子である、請求項７に記載のフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
9. Ｚ^１は、下記の基：
   

   

   から選択される基である、請求項１～３のいずれか１項に記載のフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
10. ｒ１は０であり、ｒ２は１である、請求項１～９のいずれか１項に記載のフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
11. ｒ１は０であり、ｒ２は１であり、Ｘ^１ｂは－（ＣＨ_２）_ｓ５－であり、ｓ５は１～３の整数である、請求項１～１０のいずれか１項に記載のフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
12. 請求項１～１１のいずれか１項に記載のフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物、及び、該フルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物の少なくとも一部が縮合した縮合物からなる群から選択される少なくとも１つを含有する、表面処理剤。
13. 請求項１～１１のいずれか１項に記載のフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を含有する、表面処理剤。
14. 基材と、該基材の表面に、請求項１～１１のいずれか１項に記載のフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物、又は請求項１２又は１３に記載の表面処理剤から形成された層とを含む物品。