JPH11171891A - けい素化合物の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 加水分解性置換基含有けい素化合物の効率的
な、再現性の良い製造方法を提供すること。 【解決手段】 塩基性不純物を含有する加水分解性置換
基含有けい素化合物を固体酸性物質と接触させることに
より、塩基性不純物を除去することを特徴とする、前記
けい素化合物の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はけい素化合物の新規
な製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】一般的に、セラミックス等の無機物は機
械的強度、耐熱性、耐酸化性などに優れており、有機物
は所望の機能、特性を持たせるための分子設計がしやす
いという点で優れている。上記のような、無機物、有機
物の両方の特性を生かすために、無機物のマトリックス
中に、機能性の有機分子をドーピングする方法が知られ
ているが、そのような方法では、無機材料と有機材料の
性質は本質的に異なり、相分離しやすいためドーピング
量が限られてしまったり、本来無機物のマトリックスが
持つ機械的強度を低下させてしまうという欠点がある。
上記の欠点を解決するために、無機物と有機物を化学結
合を介して、複合化させる方法が多く試みられている。
例えば、『染料と薬品』第41巻第12号(1996)にはエトキ
シシリル基を有するスピロピランとエトキシシランとの
縮合反応を用いることにより、スピロピランが均一に分
散されたシロキサン樹脂の塗膜が得られることが紹介さ
れている。無機／有機複合化のための材料として、アル
コキシシラン等のカップリング部位を有する機能性化合
物は無機材料と有機材料を化学結合によりネットワーク
を形成させるため、相溶性がよく、強固な膜が形成でき
るため有用な化合物として注目されており、研究が盛ん
にされている。有機化合物にけい素原子含有加水分解性
置換基を導入する方法としては一般的には以下に挙げる
ような方法が知られている。 １）アルケンやアルキンのヒドロシリル化反応を用いた
合成法 ヒドロシリル化 (hydrosilylation)とは、水素化ケイ素
を種々の条件下で、炭素−炭素不飽和結合に付加し、有
機ケイ素化合物を生成する合成法である。中でも、「有
機金属化学」p.322 (1982)裳華房等に示されるような、
Speier試薬（Ｈ ₂ ＰｔＣｌ₆ ／ＩＰＡ）を用いたアルケ
ンやアルキンのヒドロシリル化反応は、触媒添加量も１
×１０^-7ｍｏｌ程度で効力があるため、様々なＳｉ−Ｃ
結合を持ったシラン化合物を合成する非常に有用な方法
である。この方法を利用し、電荷輸送性の硬化性有機け
い素化合物を合成することについては、例えば特開平9-
190004号公報、特開平9-124665号公報などにすでに記載
されているが、本方法で合成したものはこれらの公報に
記載されたＮＭＲスペクトルより明らかな様に異性体や
還元生成物等の不純物の混入が著しく、電子デバイス用
の高純度材料の合成には適さない。 ２）Ｇｒｉｇｎａｒｄ反応を用いた合成法 「The Chemistry of Organic Silicon Compounds」S. P
atai編、p. 655 (1989) 等に示されるように、Grignard
試薬を用いることにより、シラン化合物の合成が可能で
ある。しかし、Grignard反応は酸素や水分等に非常に敏
感であり、かつ多量の無機塩を生じるため処理が困難に
なり、工業化するためには大幅なコストアップにつなが
ってしまう。 ３）脱塩酸反応を用いたアミン系シラン化合物の合成法 「The Chemistry of Organic Silicon Compounds」 S.
Patai編、p. 655 (1989) 等に示されるように、ハロゲ
ン置換基の付いたシランとアミンの脱塩酸反応により、
シラン化合物の合成が可能である。しかし、得られる化
合物は特殊なものに限られ、かつ必然的にアミノ基を有
するため、有機電子デバイスとして用いる場合は電荷ト
ラップとなりやすく、特性に悪影響を与えやすいという
欠点がある。 ４）ウレタン結合形成反応を用いた合成法 特開平3-191358号公報にはウレタン結合を用いて電荷輸
送部位を有するシラン化合物の電子写真感光体への応用
例が提案されている。しかしながらこの方法で合成され
た化合物は、ヘテロ原子に直接結合した水素原子を有す
るため、大気中の水分を吸着しやすく、電子写真感光体
等の有機電子デバイスとして用いる際に、湿度等の影響
を受けやすく、環境安定性にかけるという欠点がある。
本発明者らはこれらの方法に対し、wittig反応による方
法が反応の選択性が高く副反応もほとんど起こらないこ
とを見いだし、特願平8-187931に提案した。しかしなが
ら、この方法は、反応に塩基を使用することが必須であ
り、反応処理中に塩基の除去が不十分であると、残留す
る塩基により加水分解性置換基の縮合反応が促進されて
しまい、効率的かつ、再現性よく目的のけい素化合物を
得ることが困難になってしまうという欠点があった。特
にこのような問題はアルコキシシリル基の数が多い化合
物において顕著に見られる。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、加水
分解性置換基含有けい素化合物の、効率的かつ再現性の
良い製造方法を提供することにある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、Wittig反
応を用いた加水分解性置換基含有けい素化合物の製造方
法について鋭意検討した結果、反応の処理に固体酸性物
質を用いることにより塩基性不純物を容易に除去するこ
とができ、工業化する際にも有利であることを見いだし
本発明を完成するに至った。すなわち、上記目的は、塩
基性不純物を含有する加水分解性置換基含有けい素化合
物を固体酸性物質と接触させることにより塩基性不純物
を除去する加水分解性置換基含有けい素化合物の製造方
法を提供することにより達成される。また、本発明の製
造方法においては、固体酸性物質と接触させた後に、さ
らに洗浄、特に水による洗浄を行うことが好ましい。ま
た、本発明の製造方法は、光機能性部位を含有する加水
分解性置換基含有けい素化合物の製造方法にも適用され
る。さらに、本発明の製造方法は、下記一般式（Ｉ）で
表される加水分解性置換基含有けい素化合物の製造方法
にも適用される。

【化３】 Ｘ［−ＣＨ＝ＣＨ−Ｙ−ＳｉＲ_1(3-a)（ＯＲ₂ ）_a ］_n 一般式（Ｉ） 式中、Ｘは光機能性基、Ｙは２価の基を示し、Ｒ₁ は水
素原子、アルキル基、または置換もしくは未置換のアリ
ール基を示し、Ｒ₂ は水素原子、アルキル基、またはト
リアルキルシリル基を示し、ａは１〜３の整数を示し、
ｎは１〜４の整数を示す。さらに、本発明の製造方法
は、下記一般式（II）で表される加水分解性置換基含有
化合物の製造方法に適用される。 一般式（II）

【化４】 式中、Ａｒ₁ 〜Ａｒ₄ はそれぞれ独立に置換または未置
換のアリール基を示し、Ａｒ₅ は置換もしくは未置換の
アリール基またはアリーレン基を示し、かつＡｒ₁ 〜Ａ
ｒ₅ のうち１〜４個は−ＣＨ＝ＣＨ−Ｙ−ＳｉＲ_1(3-a)
（ＯＲ₂ ）_a で表される置換基を有し、Ｒ₁ は水素、ア
ルキル基、または置換もしくは未置換のアリール基を示
し、Ｒ₂ は水素、アルキル基、またはトリアルキルシリ
ル基を示し、ａは１〜３の整数を示し、ｋは０または１
を示し、Ｙは２価の基を示す。さらに、本発明の製造方
法は 塩基性触媒を用いて合成された上記一般式（Ｉ）
または一般式（II）で示される加水分解性置換基含有け
い素化合物の製造方法に適用される。特に、本発明の塩
基性不純物の除去の効果は、縮合反応を生じる加水分解
性置換基であるアルコキシシリル基等を数多く含む化合
物の場合に、より顕著に現れる。

【０００５】

【発明の実施の形態】本発明は上記のように加水分解性
置換基含有けい素化合物の製造法において、塩基性不純
物を含有する加水分解性置換基含有けい素化合物と固体
酸性物質とを接触させることにより塩基性不純物を除去
することを特徴とする。前記加水分解性置換基含有けい
素化合物の加水分解性置換基とは、メトキシ基、エトキ
シ基、イソプロポキシ基等のアルコキシ基のほか、メチ
ルエチルケトオキシム基等のオキシム基、水酸基、アセ
トキシ基等を意味し、この基が存在することにより、縮
合反応を起こすことが可能である。本発明の加水分解性
置換基含有けい素化合物は光機能性部位を有する前記け
い素化合物を含む。本発明における「光機能性部位」と
は、光により電荷輸送性、電荷発生、非線形光学効果、
メモリー効果等の機能を発現する部位を意味する。さら
に、本発明の加水分解性置換基含有けい素化合物は、下
記一般式で表される化合物を含む。

【化５】 Ｘ［−ＣＨ＝ＣＨ−Ｙ−ＳｉＲ_1(3-a)（ＯＲ₂ ）_a ］_n 一般式（Ｉ） 式中、Ｘは光機能性基を、Ｙは２価の基を、Ｒ₁ は水素
原子、アルキル基、または置換もしくは未置換のアリー
ル基を、Ｒ₂ は水素原子、アルキル基、またはトリアル
キルシリル基を、ａは１〜３の整数を、ｎは１〜４の整
数を示す。Ｘは光機能性を有する化合物のｎ価の残基を
示し、光機能性を有する化合物としては、トリアリール
アミン系化合物、トリアリールメタン系化合物、ヒドラ
ゾン系化合物、イミダゾール系化合物、等の電荷輸送性
有機化合物、フタロシアニン、ペリレン等の電荷発生顔
料、スクアリウム、シアニン、メロシアニン等の電荷発
生染料、アゾベンゼン等の光異性化材料、３−ニトロア
ニリン等の非線形光学材料等が挙げられる。Ｙで示され
る２価の基としては炭素数１〜２０のアルキレン基、炭
素数１〜２０のアルケニレン基、−Ｃ₆ Ｈ₄ −Ｒ（Ｒは
炭素数１〜１０のアルキレン基又はアルケニレン基）−
Ｒ’−Ｃ₆ Ｈ₄ −（Ｒ’は炭素数１〜１０のアルキレン
基又はアルケニレン基）、等が挙げられ、具体的には、
直接結合（−ＣＨ＝ＣＨ−とＳｉが直接結合する）、−
ＣＨ₂ −、−（ＣＨ₂ ）₂ −、−Ｃ₆ Ｈ₄ −、−Ｃ₆Ｈ
₄ −（ＣＨ₂ ）₂ −等が挙げられる。Ｒ₁ としては炭素
数１〜５の直鎖のアルキル基、炭素数３〜５の分枝アル
キル基、置換又は未置換のアリール基等が挙げられる。
Ｒ₂ としては水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、
例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ｔ−ブチル基等、トリアルキルシリル基（アルキル
基の炭素数１〜３）、が挙げられる。

【０００６】さらに、本発明の光機能性部位を有する加
水分解性置換基含有けい素化合物として、下記一般式
（II）で示される電荷輸送性を有する加水分解性置換基
含有けい素化合物が挙げられる。一般式（II）

【化６】 式中、Ａｒ₁ 〜Ａｒ₄ はそれぞれ独立に置換または未置
換のアリール基を示し、Ａｒ₅ は置換もしくは未置換の
アリール基またはアリーレン基を示し、かつＡｒ₁ 〜Ａ
ｒ₅ のうち１〜４個は−ＣＨ＝ＣＨ−Ｙ−ＳｉＲ_1(3-a)
（ＯＲ₂ ）_a で表される置換基を有し、Ｒ₁ は水素、ア
ルキル基、または置換もしくは未置換のアリール基を示
し、Ｒ₂ は水素、アルキル基、またはトリアルキルシリ
ル基を示し、ａは１〜３の整数を示し、ｋは０または１
を示し、Ｙは２価の基を示す。上記一般式（II）のＡｒ
₁ 〜Ａｒ₄ としては、炭素数１〜１０のアルキル基、炭
素数１〜１０のアルコキシ基、ハロゲン原子、置換アミ
ノ基、もしくはフェニル基等で置換された、または置換
されていないフェニル基、ナフチル基、ビフェニル基が
挙げられる。また、Ａｒ₅ としては、炭素数１〜１０の
アルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、もしくは
ハロゲン原子等で置換された、または置換されていない
フェニル基、フェニレン基、ビフェニレン基、トリフェ
ニレン基等が挙げられる。−ＣＨ＝ＣＨ−Ｙ−ＳｉＲ
_1(3-a)（ＯＲ₂ ）_a は、上記の一般式（Ｉ）におけると
同じ意味を有する。

【０００７】本発明の製造方法によって製造される上記
一般式（II）の具体例を以下の表１〜７に示す。

【０００８】表１

【表１】

【０００９】表２

【表２】

【００１０】表３

【表３】

【００１１】表４

【表４】

【００１２】表５

【表５】

【００１３】表６

【表６】

【００１４】表７

【表７】

【００１５】次に本発明の製造方法について説明する。
上記一般式（Ｉ）の化合物は下記一般式（Ａ）で表され
るホルミル基を有する化合物と、下記一般式（Ｂ）のリ
ン化合物とを、不活性ガス雰囲気下、塩基を用いて反応
させるＷｉｔｔｉｇ反応により合成することができる。

【化７】 Ｘ（ＣＨＯ）_n （ｎ＝１〜４） 一般式（Ａ） ここで、Ｘは前記一般式（Ｉ）におけると同じ光機能性
基を意味する。

【化８】 Ｌ−ＣＨ₂ −Ｙ−ＳｉＲ_1(3-a)（ＯＲ₂ ）_a 一般式（Ｂ） ここで、Ｙは一般式（Ｉ）におけると同じ２価の基を示
す。ＬはＰＭ（Ｒ₃ ） ₂ またはｈａｌ^- Ｐ（Ｒ₃ ）₃ ⁺
を示す。ｈａｌはハロゲン原子を示す。ＭはＯ原子また
はＳ原子を示す。Ｒ₃ はアルキル基、フェニル基、アル
コキシ基、アミノ基を少なくとも１種以上含有する。

【００１６】上記一般式（Ｂ）で表されるリン化合物を
製造するには、例えばトリフェニルホスフィン、トリエ
トキシホスフィン、クロロジフェニルホスフィン、クロ
ロジエトキシホスフィン、亜リン酸トリエチル等の前駆
体と次式のハロゲン化物を反応させることにより得られ
る。

【化９】 ｈａｌ−ＣＨ₂ −Ｙ−ＳｉＲ_1(3-a)（ＯＲ₂ ）_a ここで、ｈａｌはハロゲン原子を意味し、Ｙは前記と同
じ２価の基を意味する。

【００１７】（Ｂ）で表される化合物は、（Ａ）で表さ
れる化合物が有するホルミル基に対して１〜３当量好ま
しくは１〜１．５当量を用い、塩基を加えカップリング
を行う。塩基としては水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウ
ム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ピ
リジン、トリエチルアミン、n-ブチルリチウム、フェニ
ルリチウム、水素化ナトリウム等から任意に選択するこ
とができる。中でも、加水分解性置換基を有するけい素
化合物の塩基に対する安定性を考慮すると水素化ナトリ
ウムが特に好ましい。また、塩基性物質の使用量はホス
ホニウム塩の種類や反応速度に応じて任意に設定できる
が、使用量が多くなると処理、分離等が困難になるた
め、ホスホニウム塩１モルに対して、１から１０モル、
好ましくは１から１．５モルで用いられる。また、反応
溶媒としては水、エタノール、クロロホルム、ジクロロ
メタン、ニトロメタン、ジメチルスルホキシド、ジエチ
ルエーテル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラヒ
ドロフラン、ペンタン、ベンゼン、キシレン等から任意
に選択することができ、（Ａ）で表される化合物１重量
部に対し、１〜１００、好ましくは２〜５０重量部用い
る。更に、それらの混合溶媒を用いることもできる。な
お、溶媒は脱水して用いることが好ましい。中でも反応
溶媒としては選択性の高さ、反応後の分離の容易さ等を
考慮するとＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシド等の非水性極性溶媒が特に好ましい。カップ
リング反応の際の温度は−３０〜１００度、好ましくは
０〜５０度に設定する。

【００１８】また上記一般式（II）で表される化合物
は、上記一般式（Ｉ）の化合物と同様に、下記一般式
（Ｃ）で表されるホルミル基を持った化合物と、上記一
般式（Ｂ）で表されるリン化合物とを不活性ガス雰囲気
下、塩基を用いて反応させるＷｉｔｔｉｇ反応により合
成することができる。

【００１９】一般式（Ｃ）

【化１０】

【００２０】式中、Ａｒ₆ 〜Ａｒ₉ は置換または未置換
のアリール基を示し、Ａｒ₁₀は置換もしくは未置換のア
リール基またはアリーレン基を示し、Ａｒ₆ 〜Ａｒ₁₀の
うち１〜４個は−ＣＨＯ基を有する。ｋは０または１を
示す。上記一般式（Ｃ）のＡｒ₆ 〜Ａｒ₉ としては、炭
素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキ
シ基、ハロゲン原子、置換アミノ基、もしくはフェニル
基等で置換された、または置換されていないフェニル
基、ナフチル基、ビフェニル基が挙げられる。また、Ａ
ｒ₁₀としては、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１
〜１０のアルコキシ基、もしくはハロゲン原子等で置換
された、または置換されていないフェニル基、フェニレ
ン基、ビフェニレン基、トリフェニレン基等が挙げられ
る。

【化１１】 Ｌ−ＣＨ₂ −Ｙ−ＳｉＲ_1(3-a)（ＯＲ₂ ）_a 一般式（Ｂ） ここで、Ｙは２価の基を示し、ＬはＰＭ（Ｒ₃ ）₂ また
はｈａｌ^- Ｐ（Ｒ₃ ） ₃ ⁺ を示す。ｈａｌはハロゲン原
子を示す。ＭはＯ原子またはＳ原子を示す。Ｒ ₃ はアル
キル基、フェニル基、アルコキシ基、アミノ基を少なく
とも１種以上含有する。

【００２１】次に本発明において、塩基性不純物を除去
する方法について説明する。本発明の加水分解性置換基
含有けい素化合物は、上記の反応により製造された塩基
性不純物を含むけい素化合物を固体酸性物質と接触させ
て塩基性不純物を取り除くことにより効率良く製造する
ことができる。固体酸性物質との接触は桐山ロート、ヌ
ッチェ、ガラスロート、ガラスフィルター、カラムクロ
マトグラフィー用のガラス管等に固体酸性物質を敷きそ
の上から塩基性不純物を含むけい素化合物を適当な溶剤
に溶解させた状態で流し接触させる他、反応溶液中で機
械的に撹拌して接触させる等の方法により行うこともで
きる。また用いる固体酸性物質としてはシリカゲル、酸
性アルミナ、活性白土、ＳｉＯ₂ ／Ａｌ₂ Ｏ₃ 、ＳｉＯ
₂ ／ＭｇＯ、ＳｉＯ₂ ／ＺｒＯ₂ 、ＳｉＯ₂ ／Ｂ₂ Ｏ ₃
Ａｌ₂ Ｏ₃ 、各種ゼオライト、各種ヘテロポリ酸、各種
リン酸塩、各種硫酸塩、Ｈ₃ ＰＯ₄ ／ケイソウ土（固体
リン酸）、陽イオン交換樹脂等を主なものとして挙げる
ことができる。コストや取扱いの容易さを考慮するとシ
リカゲル、酸性アルミナ、活性白土等が好ましい。反応
溶液中で接触させる場合の接触時間は１秒〜９０分であ
り、３０秒〜９０分が好ましく、更に好ましくは１〜２
０分である。温度は−３０〜１００度が好ましく、さら
に−５〜４０度がより好ましい。なお、この操作は不活
性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。

【００２２】

【実施例】以下実施例により本発明を詳しく説明する。 ［実施例１〜６］（化合物（２３）の合成） 実施例１ 窒素置換した二口フラスコに３−ヨードプロピルトリメ
トキシシラン２５ｇを入れ、トルエン２００ｍｌに溶解
させた。次いで、トリフェニルホスフィン２７ｇを加え
た。その後、撹拌しながら、７時間加熱還流した後、析
出した結晶をトルエンでよく洗い減圧下溶媒を除去し、
ホスホニウム塩３６．５グラムを得た。 （融点１０２．０〜１０２．５℃、白色結晶）窒素置換
した二口フラスコに上記で合成した、ホスホニウム塩５
ｇを入れ、無水ジメチルホルムアミド５０ｍｌに溶解さ
せた。次いで、反応系を−５℃に冷却し、油性水素化ナ
トリウム０．４ｇを加え、１５分撹拌した。その後、撹
拌しながら、３，３’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ビス（４
−ホルミルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ビス（３，４−ジメ
チルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジ
アミン２．４ｇを加え、徐々に室温まで温度を上げ、２
時間撹拌した。反応終了後メタノール３０ｍｌを加え、
塩基性不純物を含む化合物（２３）を得た。その後、直
径６０ｍｍの桐山ロートにシリカゲル（和光純薬社製；
商品名Ｗａｋｏｇｅｌ Ｃ−２００）を２ｃｍの高さま
で敷き吸引ろ過を行った。（操作１） 更に反応混合物を３ｌの氷水中に注ぎトルエンで抽出し
減圧下溶媒を除去した後、シリカゲルでカラム精製（溶
剤：トルエン）し、化合物（２３）１．８ｇを得た。
（淡黄色油状物質、ＩＲを図１に示す。）

【００２３】実施例２ 実施例１と同様に塩基性不純物を含む化合物（２３）を
得た後、シリカゲル５ｇを加え１０分撹拌した後シリカ
ゲルをろ過により取り除いた。（操作２） その後、実施例１と同様な作業を行い化合物（２３）
２．２ｇを得た。

【００２４】実施例３ 実施例１と同様に塩基性不純物を含む化合物（２３）を
得た後、活性白土（和光純薬社製；商品名Ｃｌａｙ Ａ
ｃｔｉｖａｔｅｄ）を直径６０ｍｍの桐山ロートに２ｃ
ｍの高さまで敷き吸引ろ過を行った。（操作３） その後、実施例１と同様な作業を行い化合物（２３）
２．０ｇを得た。

【００２５】実施例４ 実施例１と同様に塩基性不純物を含む化合物（２３）を
得た後、活性白土５ｇを加え１０分撹拌した後活性白土
をろ過により取り除いた。（操作４） その後、実施例１と同様な作業を行い化合物（２３）
１．８ｇを得た。

【００２６】実施例５ 実施例１と同様に塩基性不純物を含む化合物（２３）を
得た後、酸性活性アルミナ（Ｍｅｒｋ社製；商品名Ａｌ
ｕｍｉｎａ ９０ Ａｃｔｉｖａｔｅｄ、Ａｃｉｄｉ
ｃ、Ａｃｔｉｖｉｔｙ Ｉ）を直径６０ｍｍの桐山ロー
トに２ｃｍの高さまで敷き吸引ろ過を行った。（操作
５） その後、実施例１と同様な作業を行い化合物（２３）
２．０ｇを得た。

【００２７】実施例６ 実施例１と同様に塩基性不純物を含む化合物（２３）を
得た後、酸性活性アルミナ５ｇを加え１０分撹拌した後
酸性活性アルミナをろ過により取り除いた。（操作６） その後、実施例１と同様な作業を行い化合物（２３）
１．９ｇを得た。実施例１〜６について、同様な合成法
により数回合成を行ったが、いずれの場合もほぼ同じよ
うな収率で化合物（２３）を得ることができた。

【００２８】［実施例７〜１２］（化合物（３）の合
成） 実施例７ 窒素置換した二口フラスコに実施例１で用いたホスホニ
ウム塩１５ｇを入れ、無水ジメチルホルムアミド１００
ｍｌに溶解させた。次いで、反応系を−５℃に冷却し、
油性水素化ナトリウム１．０５ｇを加え、１５分撹拌し
た。その後、撹拌しながら、Ｎ−（４−ホルミルフェニ
ル）−Ｎ−（３，４−ジメチルフェニル）ビフェニル−
４−アミン８．５ｇを加え、徐々に室温まで温度を上
げ、２時間撹拌した。反応終了後、メタノール１０ｍｌ
を加え、塩基性不純物を含む化合物（３）を得た。その
後、直径６０ｍｍの桐山ロートにシリカゲルを２ｃｍの
高さまで敷き吸引ろ過を行った。（操作１） 更に反応混合物を３ｌの氷水中に注ぎトルエンで抽出し
減圧下溶媒を除去した後、シリカゲルでカラム精製（溶
剤：トルエン）し、化合物（３）８．３ｇを得た。（淡
黄色油状物質、ＩＲを図２に示す。）

【００２９】実施例８〜１２ 製造する化合物を（３）に変更した以外は実施例２〜６
と同様な操作を行った。実施例７〜１２について、同様
な合成法により数回合成を行ったが、いずれの場合もほ
ぼ同じような収率で化合物（３）を得ることができた。

【００３０】比較例１ 実施例１と同様に原料である３，３’−ジメチル−Ｎ，
Ｎ’−ビス（４−ホルミルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ビス
（３，４−ジメチルフェニル）−１，１’−ビフェニル
−４，４’−ジアミン（２．０ｇ）より塩基性不純物を
含む化合物を得た後、反応混合物を３ｌの氷水中に注ぎ
トルエンで抽出した。その後、減圧下溶媒を除去し、シ
リカゲルでカラム精製（溶剤：トルエン）し、化合物
（２３）１．ｇグラムを得た。

【００３１】比較例２ 実施例１及び比較例１と同様に塩基性不純物を含む化合
物を得た後、反応混合物を３ｌの氷水中に注ぎトルエン
で抽出した。その後、減圧下溶媒を除去したところ、生
成物はゲル状になってしまい目的の化合物は得られなか
った。

【００３２】比較例３ 実施例７と同様に原料であるＮ−（４−ホルミルフェニ
ル）−Ｎ−（３，４−ジメチルフェニル）ビフェニル−
４−アミン（５ｇ）から塩基性不純物を含む化合物を得
た後、反応混合物を３ｌの氷水中に注ぎトルエンで抽出
し減圧下溶媒を除去した後、シリカゲルでカラム精製
（溶剤：トルエン）し、化合物（３）２．５ｇを得た。

【００３３】比較例４ 実施例７及び比較例３と同様に原料であるＮ−（４−ホ
ルミルフェニル）−Ｎ−（３，４−ジメチルフェニル）
ビフェニル−４−アミン（５ｇ）から塩基性不純物を含
む化合物を得た後、反応混合物を３ｌの氷水中に注ぎト
ルエンで抽出し減圧下溶媒を除去した後、シリカゲルで
カラム精製（溶剤：トルエン）し、化合物（３）３．５
ｇを得た。

【００３４】実施例及び比較例の結果を表８に示す。

【００３５】表８

【表８】

【００３６】比較例１〜４に示すように、固体酸性物質
による処理を行わない場合、反応処理中にゲル化を生じ
やすく、再現性が得られにくかった。それに対し、実施
例１〜１２に示される様に、固体酸性物質による処理を
行った場合、加水分解性置換基含有けい素化合物を再現
性よく製造することができる。特に、表中のアルコキシ
シリル基の数の多い化合物（化合物Ｎｏ．２３）を、効
率的かつ再現性よく製造するために有効である。

【００３７】

【発明の効果】本発明の製造方法により種々の有機電子
デバイスに応用可能な加水分解性置換基含有けい素化合
物を、効率的かつ再現性よく製造することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】化合物（２３）のＩＲ吸収曲線を表す図であ
る。

【図２】化合物（３）のＩＲ吸収曲線を表す図である。

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 塩基性不純物を含有する加水分解性置換
   基含有けい素化合物を固体酸性物質と接触させることに
   より、塩基性不純物を除去することを特徴とする、前記
   けい素化合物の製造方法。
2. 【請求項２】 塩基性不純物を含有する加水分解性置換
   基含有けい素化合物を固体酸性物質と接触させた後、さ
   らに洗浄することを特徴とする、前記けい素化合物の製
   造方法。
3. 【請求項３】 前記洗浄が水による洗浄であることを特
   徴とする、請求項２に記載の前記けい素化合物の製造方
   法。
4. 【請求項４】 加水分解性置換基含有けい素化合物が光
   機能性部位を含有することを特徴とする、請求項１記載
   の前記けい素化合物の製造方法。
5. 【請求項５】 加水分解性置換基含有けい素化合物が下
   記一般式（Ｉ）で表される化合物であることを特徴とす
   る、請求項１に記載の前記けい素化合物の製造方法。 【化１】 Ｘ［−ＣＨ＝ＣＨ−Ｙ−ＳｉＲ_1(3-a)（ＯＲ₂ ）_a ］_n 一般式（Ｉ） 式中、Ｘは光機能性基、Ｙは２価の基を示し、Ｒ₁ は水
   素原子、アルキル基、または置換もしくは未置換のアリ
   ール基を示し、Ｒ₂ は水素原子、アルキル基、またはト
   リアルキルシリル基を示し、ａは１〜３の整数を示し、
   ｎは１〜４の整数を示す。
6. 【請求項６】 加水分解性置換基含有けい素化合物が下
   記一般式（II）で表される化合物であることを特徴とす
   る、請求項５に記載の前記けい素化合物の製造方法。 一般式（II） 【化２】 式中、Ａｒ₁ 〜Ａｒ₄ はそれぞれ独立に置換または未置
   換のアリール基を示し、Ａｒ₅ は置換もしくは未置換の
   アリール基またはアリーレン基を示し、かつＡｒ₁ 〜Ａ
   ｒ₅ のうち１〜４個は−ＣＨ＝ＣＨ−Ｙ−ＳｉＲ_1(3-a)
   （ＯＲ₂ ）_a で表される置換基を有し、Ｒ₁ は水素、ア
   ルキル基、または置換もしくは未置換のアリール基を示
   し、Ｒ₂ は水素、アルキル基、またはトリアルキルシリ
   ル基を示し、ａは１〜３の整数を示し、ｋは０または１
   を示し、Ｙは２価の基を示す。
7. 【請求項７】 一般式（Ｉ）で示される化合物が塩基性
   触媒を用いて合成された化合物であることを特徴とす
   る、請求項５に記載の前記けい素化合物の製造方法。
8. 【請求項８】 一般式（II）で示される化合物が塩基性
   触媒を用いて合成された化合物であることを特徴とす
   る、請求項６に記載の前記けい素化合物の製造方法。