JP6990460B2 - 蛍光x線分析装置、判定方法及び判定プログラム - Google Patents
蛍光x線分析装置、判定方法及び判定プログラム Download PDFInfo
- Publication number
- JP6990460B2 JP6990460B2 JP2020105825A JP2020105825A JP6990460B2 JP 6990460 B2 JP6990460 B2 JP 6990460B2 JP 2020105825 A JP2020105825 A JP 2020105825A JP 2020105825 A JP2020105825 A JP 2020105825A JP 6990460 B2 JP6990460 B2 JP 6990460B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fluorescent
- rays
- sample
- intensity
- determination
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
- G01N23/2209—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using wavelength dispersive spectroscopy [WDS]
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
- G01N23/223—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material by irradiating the sample with X-rays or gamma-rays and by measuring X-ray fluorescence
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
〔変形例〕
Claims (7)
- 試料に1次X線を照射するX線源と、
試料から生じる蛍光X線を平行線束として通過させるソーラスリットと、
前記ソーラスリットを通過した蛍光X線を分光する分光素子と、
前記分光素子で分光された蛍光X線の強度を測定する検出器と、を備えた蛍光X線分析装置であって、
試料に対する1次X線の照射を遮るように試料と前記X線源の間に配置されるとともに、1次X線が照射された際に所定のエネルギーの蛍光X線を生じる元素を含む判定用部品と、
着脱可能な構成であって、試料及び前記判定用部品から生じる蛍光X線のうち前記検出器に入射する蛍光X線を制限する視野制限部と、
前記視野制限部が正常に取り付けられている場合に、前記判定用部品から生じる前記所定のエネルギーの蛍光X線の強度を予め記憶する記憶部と、
前記記憶部に記憶された強度と、前記検出器が測定する強度と、に基づいて、前記視野制限部が正常に取り付けられているか否か判定する判定部と、
を有することを特徴とする蛍光X線分析装置。 - 前記視野制限部は、大きさが異なる複数の開口を設定でき、
前記記憶部は、前記開口の大きさごとに、前記判定用部品から生じる前記所定のエネルギーの蛍光X線の強度を予め記憶し、
前記判定部は、前記記憶部に記憶された強度と、前記検出器が測定する強度と、に基づいて、前記視野制限部の開口の大きさを判定する、
ことを特徴とする請求項1に記載の蛍光X線分析装置。 - 前記判定部は、前記X線源が1次X線の照射を開始するごとに、または分析対象である試料の測定を開始する前に、前記判定を行うことを特徴とする請求項1または2に記載の蛍光X線分析装置。
- 前記判定用部品は、1次X線が照射される面に、前記視野制限部の開口に応じた形状で前記元素が定着されている、ことを特徴とする請求項1乃至3に記載の蛍光X線分析装置。
- 前記判定用部品は、開閉可能なシャッターであることを特徴とする請求項1乃至4に記載の蛍光X線分析装置。
- 1次X線が照射された際に所定のエネルギーの蛍光X線を生じる元素を含む判定用部品を、分析対象である試料の測定を開始する前に、試料に対する1次X線の照射を遮るように試料とX線源の間に配置するステップと、
試料及び前記判定用部品から生じる蛍光X線のうち検出器に入射する蛍光X線を制限する視野制限部を取り付けるステップと、
前記視野制限部が正常に取り付けられている場合に、前記判定用部品から生じる前記所定のエネルギーの蛍光X線の強度を記憶部に予め記憶するステップと、
前記記憶部に記憶された強度と、前記検出器が測定する強度と、に基づいて、前記視野制限部が正常に取り付けられているか否か判定するステップと、
を有することを特徴とする判定方法。 - 試料に対する1次X線の照射を遮るように試料とX線源の間に配置されるとともに、1次X線が照射された際に所定のエネルギーの蛍光X線を生じる元素を含む判定用部品と、
試料及び前記判定用部品から生じる蛍光X線のうち検出器に入射する蛍光X線を制限する視野制限部と、
を含む蛍光X線分析装置に用いられる情報処理装置で実行される判定プログラムであって、
前記視野制限部が正常に取り付けられている場合に、前記判定用部品から生じる前記所定のエネルギーの蛍光X線の強度を記憶部に予め記憶するステップと、
前記記憶部に記憶された強度と、前記検出器が測定する強度と、に基づいて、前記視野制限部が正常に取り付けられているか否か判定するステップと、
を前記情報処理装置に実行させることを特徴とする判定プログラム。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020105825A JP6990460B2 (ja) | 2020-06-19 | 2020-06-19 | 蛍光x線分析装置、判定方法及び判定プログラム |
CN202180007827.3A CN115038959B (zh) | 2020-06-19 | 2021-04-05 | 荧光x射线分析装置、判断方法和判断程序 |
PCT/JP2021/014468 WO2021256054A1 (ja) | 2020-06-19 | 2021-04-05 | 蛍光x線分析装置、判定方法及び判定プログラム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020105825A JP6990460B2 (ja) | 2020-06-19 | 2020-06-19 | 蛍光x線分析装置、判定方法及び判定プログラム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022000616A JP2022000616A (ja) | 2022-01-04 |
JP6990460B2 true JP6990460B2 (ja) | 2022-01-12 |
Family
ID=79241981
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020105825A Active JP6990460B2 (ja) | 2020-06-19 | 2020-06-19 | 蛍光x線分析装置、判定方法及び判定プログラム |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6990460B2 (ja) |
CN (1) | CN115038959B (ja) |
WO (1) | WO2021256054A1 (ja) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000121583A (ja) | 1998-10-15 | 2000-04-28 | Rigaku Industrial Co | 蛍光x線分析における試料マスク径の判別方法および蛍光x線分析装置 |
JP2000346816A (ja) | 1999-06-08 | 2000-12-15 | Shimadzu Corp | X線分析装置 |
JP2008203245A (ja) | 2007-01-23 | 2008-09-04 | Sii Nanotechnology Inc | X線分析装置及びx線分析方法 |
US20160341677A1 (en) | 2015-05-20 | 2016-11-24 | Tribogenics, Inc. | X-ray fluorescence device calibration |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS537394A (en) * | 1976-07-09 | 1978-01-23 | Nippon X Ray Kk | Xxray fluorescence analyzer |
JP3234731B2 (ja) * | 1994-12-27 | 2001-12-04 | 理学電機工業株式会社 | X線分析におけるマスク径の判別方法 |
JP3415328B2 (ja) * | 1995-04-17 | 2003-06-09 | 理学電機工業株式会社 | X線分析装置 |
JPH1048161A (ja) * | 1996-07-31 | 1998-02-20 | Shimadzu Corp | X線分析装置 |
JP3270829B2 (ja) * | 1997-10-06 | 2002-04-02 | 理学電機工業株式会社 | 蛍光x線分析装置 |
CN101520422A (zh) * | 2003-03-27 | 2009-09-02 | 株式会社理学 | 荧光x射线分析装置 |
JP5251330B2 (ja) * | 2008-07-23 | 2013-07-31 | 株式会社島津製作所 | X線分析装置 |
JP2014035334A (ja) * | 2012-08-10 | 2014-02-24 | Hitachi High-Tech Science Corp | 蛍光x線分析方法及び蛍光x線分析装置 |
JP6191408B2 (ja) * | 2013-11-12 | 2017-09-06 | 株式会社島津製作所 | 蛍光x線分析装置 |
JP2016017823A (ja) * | 2014-07-08 | 2016-02-01 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | X線分析用試料板及び蛍光x線分析装置 |
JP6435577B2 (ja) * | 2016-12-01 | 2018-12-12 | 株式会社リガク | 蛍光x線分析装置 |
-
2020
- 2020-06-19 JP JP2020105825A patent/JP6990460B2/ja active Active
-
2021
- 2021-04-05 CN CN202180007827.3A patent/CN115038959B/zh active Active
- 2021-04-05 WO PCT/JP2021/014468 patent/WO2021256054A1/ja active Application Filing
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000121583A (ja) | 1998-10-15 | 2000-04-28 | Rigaku Industrial Co | 蛍光x線分析における試料マスク径の判別方法および蛍光x線分析装置 |
JP2000346816A (ja) | 1999-06-08 | 2000-12-15 | Shimadzu Corp | X線分析装置 |
JP2008203245A (ja) | 2007-01-23 | 2008-09-04 | Sii Nanotechnology Inc | X線分析装置及びx線分析方法 |
US20160341677A1 (en) | 2015-05-20 | 2016-11-24 | Tribogenics, Inc. | X-ray fluorescence device calibration |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN115038959B (zh) | 2023-09-26 |
JP2022000616A (ja) | 2022-01-04 |
CN115038959A (zh) | 2022-09-09 |
WO2021256054A1 (ja) | 2021-12-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN110088603B (zh) | 荧光x射线分析装置 | |
JP5574575B2 (ja) | 蛍光x線分析装置 | |
US7587025B2 (en) | X-ray analysis apparatus and X-ray analysis method | |
JP2008203245A (ja) | X線分析装置及びx線分析方法 | |
EP2839498B1 (en) | Apparatus for protecting a radiation window | |
US10082475B2 (en) | X-ray fluorescence spectrometer | |
JP3820049B2 (ja) | 薄膜の蛍光x線分析方法及び装置 | |
US20130294577A1 (en) | Wavelength dispersive x-ray fluorescence spectrometer | |
CN115343321A (zh) | 用于x射线荧光分析的设备和方法 | |
JP6990460B2 (ja) | 蛍光x線分析装置、判定方法及び判定プログラム | |
JP2002189004A (ja) | X線分析装置 | |
JPH1048161A (ja) | X線分析装置 | |
EP0766083A2 (en) | X-ray fluorescence inspection apparatus and method | |
JP5245299B2 (ja) | 蛍光x線分析装置 | |
KR101669220B1 (ko) | 다 원소 분석이 가능한 x선 형광분석기 | |
WO2018100873A1 (ja) | 蛍光x線分析装置 | |
US20010028698A1 (en) | Open chamber-type X-ray analysis apparatus | |
US20210262954A1 (en) | X-ray fluorescence spectrometer | |
JP2014196925A (ja) | 蛍光x線分析装置及びそれに用いられる深さ方向分析方法 | |
WO2021171691A1 (ja) | X線分析装置およびx線分析方法 | |
JP2019090652A (ja) | 分析装置 | |
JP6387647B2 (ja) | 感度補正係数算出システム及びx線分析装置 | |
WO2023210137A1 (ja) | 蛍光x線分析方法および蛍光x線分析装置 | |
JP2005233670A (ja) | X線分析装置 | |
KR101769709B1 (ko) | 파장분산형 엑스선 형광분석장치의 분광 모듈의 정렬 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210917 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20210917 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20210917 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20211124 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20211129 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6990460 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
SG99 | Written request for registration of restore |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R316G99 |
|
R371 | Transfer withdrawn |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371 |