JP3415328B2 - Ｘ線分析装置 - Google Patents
Ｘ線分析装置Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、試料に１次Ｘ線を照
射して、発生する２次Ｘ線を分析するために用いるＸ線
分析装置に関するものである。
射して、発生する２次Ｘ線を分析するために用いるＸ線
分析装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来のＸ線分析装置において、試料の任
意の微小箇所を分析できる装置として、例えば、特開平
６−３０８０６０号公報掲載の蛍光Ｘ線分析装置があ
る。この装置は、図６に示すように、試料２からの蛍光
Ｘ線を、視野制限用絞り３を介して一次ソーラスリット
４に通して平行ビームとして取り出す蛍光Ｘ線分析装置
において、入力部１２で試料２の分析しようとする箇所
を指定入力することにより、制御部１３が、試料容器８
を回転させるパルスモータ１０および視野制限用絞り３
の移動機構１１を制御し、指定された分析箇所に、視野
制限用絞り３が臨むように構成したものである。
意の微小箇所を分析できる装置として、例えば、特開平
６−３０８０６０号公報掲載の蛍光Ｘ線分析装置があ
る。この装置は、図６に示すように、試料２からの蛍光
Ｘ線を、視野制限用絞り３を介して一次ソーラスリット
４に通して平行ビームとして取り出す蛍光Ｘ線分析装置
において、入力部１２で試料２の分析しようとする箇所
を指定入力することにより、制御部１３が、試料容器８
を回転させるパルスモータ１０および視野制限用絞り３
の移動機構１１を制御し、指定された分析箇所に、視野
制限用絞り３が臨むように構成したものである。
【０００３】これによって、試料２を任意の角度回転さ
せることができるとともに、視野制限用絞り３を所定の
範囲内で任意の距離移動させることができるので、例え
ば、試料の分析しようとする微小箇所が、試料中心から
ずれている場合には、試料２を回転させるとともに、視
野制限用絞り３を移動させて、前記微小箇所を、視野制
限用絞り３に臨ませることが可能となり、試料２をセッ
トし直す必要がなく、さらに、試料２に含まれる各元素
について存在確率を示すマッピングデータも得ることが
できる。
せることができるとともに、視野制限用絞り３を所定の
範囲内で任意の距離移動させることができるので、例え
ば、試料の分析しようとする微小箇所が、試料中心から
ずれている場合には、試料２を回転させるとともに、視
野制限用絞り３を移動させて、前記微小箇所を、視野制
限用絞り３に臨ませることが可能となり、試料２をセッ
トし直す必要がなく、さらに、試料２に含まれる各元素
について存在確率を示すマッピングデータも得ることが
できる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところが、例えば、試
料２が単結晶である場合に、試料２の任意の微小箇所に
おいて、試料２から発生する特定元素の蛍光Ｘ線につい
て分析しようとすると、この装置では、試料２を、一次
ソーラスリット４から検出器７に至る測定系に対して回
転させるので、測定系に対する試料２の結晶方位が変化
し、これにより、試料２から出射され一次ソーラスリッ
ト４に入射する回折Ｘ線の強度が変化し、この変化が分
析すべき前記蛍光Ｘ線についてのバックグラウンドの変
化となって、正確な分析ができない場合がある。この問
題は、他に、試料２の表面が一定方向に粗く研磨されて
いるような場合にも起こる。
料２が単結晶である場合に、試料２の任意の微小箇所に
おいて、試料２から発生する特定元素の蛍光Ｘ線につい
て分析しようとすると、この装置では、試料２を、一次
ソーラスリット４から検出器７に至る測定系に対して回
転させるので、測定系に対する試料２の結晶方位が変化
し、これにより、試料２から出射され一次ソーラスリッ
ト４に入射する回折Ｘ線の強度が変化し、この変化が分
析すべき前記蛍光Ｘ線についてのバックグラウンドの変
化となって、正確な分析ができない場合がある。この問
題は、他に、試料２の表面が一定方向に粗く研磨されて
いるような場合にも起こる。
【０００５】そこで本発明は、測定系に対する試料の方
位を固定したまま、試料の任意の微小箇所を正確に分析
できるＸ線分析装置を提供することを目的とするもので
ある。
位を固定したまま、試料の任意の微小箇所を正確に分析
できるＸ線分析装置を提供することを目的とするもので
ある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項１のＸ線分析装置は、１次Ｘ線を発生するＸ
線源と、１次Ｘ線が照射された試料から発生する２次Ｘ
線が入射される検出器とを備えたＸ線分析装置におい
て、まず、前記２次Ｘ線の通路における前記試料と前記
検出器との間に、孔径の異なる複数の絞り孔を有するコ
リメータ装置と、軸方向に延びる多数の細長い筒状の通
路を束ねたキャピラリー型ソーラスリットとが配置され
ている。そして、前記試料から発生する２次Ｘ線を通過
させる絞り孔を選択する選択機構と、前記コリメータ装
置を前記キャピラリー型ソーラスリットの通路の軸方向
に垂直な平面上で移動させる移動機構とを備えている。
に、請求項１のＸ線分析装置は、１次Ｘ線を発生するＸ
線源と、１次Ｘ線が照射された試料から発生する２次Ｘ
線が入射される検出器とを備えたＸ線分析装置におい
て、まず、前記２次Ｘ線の通路における前記試料と前記
検出器との間に、孔径の異なる複数の絞り孔を有するコ
リメータ装置と、軸方向に延びる多数の細長い筒状の通
路を束ねたキャピラリー型ソーラスリットとが配置され
ている。そして、前記試料から発生する２次Ｘ線を通過
させる絞り孔を選択する選択機構と、前記コリメータ装
置を前記キャピラリー型ソーラスリットの通路の軸方向
に垂直な平面上で移動させる移動機構とを備えている。
【０００７】上記目的を達成するために、請求項２のＸ
線分析装置は、１次Ｘ線を発生するＸ線源と、１次Ｘ線
が照射された試料から発生する２次Ｘ線が入射される検
出器とを備えたＸ線分析装置において、まず、前記２次
Ｘ線の通路における前記試料と前記検出器との間に、多
数の平板を平行に並べてこの間に２次Ｘ線を通過させる
平板型ソーラスリットが配置されている。
線分析装置は、１次Ｘ線を発生するＸ線源と、１次Ｘ線
が照射された試料から発生する２次Ｘ線が入射される検
出器とを備えたＸ線分析装置において、まず、前記２次
Ｘ線の通路における前記試料と前記検出器との間に、多
数の平板を平行に並べてこの間に２次Ｘ線を通過させる
平板型ソーラスリットが配置されている。
【０００８】そして、軸方向に延びる多数の細長い筒状
の通路を束ねてなり、前記２次Ｘ線の通路において前記
平板型ソーラスリットと直列に配置されるキャピラリー
型ソーラスリットと、孔径の異なる複数の絞り孔を有
し、前記２次Ｘ線の通路における前記試料と前記検出器
との間に配置されるコリメータ装置と、前記キャピラリ
ー型ソーラスリットおよびコリメータ装置を、前記平行
板型ソーラスリットと直列に配置される進出位置と、前
記平行板型ソーラスリットを通過する２次Ｘ線の通路外
に退避した退避位置とに選択的に移動させる進退機構と
を備えている。さらに、前記試料から発生する２次Ｘ線
を通過させる絞り孔を選択する選択機構と、前記コリメ
ータ装置を前記キャピラリー型ソーラスリットの通路の
軸方向に垂直な平面上で移動させる移動機構とを備えて
いる。
の通路を束ねてなり、前記２次Ｘ線の通路において前記
平板型ソーラスリットと直列に配置されるキャピラリー
型ソーラスリットと、孔径の異なる複数の絞り孔を有
し、前記２次Ｘ線の通路における前記試料と前記検出器
との間に配置されるコリメータ装置と、前記キャピラリ
ー型ソーラスリットおよびコリメータ装置を、前記平行
板型ソーラスリットと直列に配置される進出位置と、前
記平行板型ソーラスリットを通過する２次Ｘ線の通路外
に退避した退避位置とに選択的に移動させる進退機構と
を備えている。さらに、前記試料から発生する２次Ｘ線
を通過させる絞り孔を選択する選択機構と、前記コリメ
ータ装置を前記キャピラリー型ソーラスリットの通路の
軸方向に垂直な平面上で移動させる移動機構とを備えて
いる。
【０００９】上記目的を達成するために、請求項３のＸ
線分析装置は、請求項２のＸ線分析装置において、キャ
ピラリー型ソーラスリットが前記平板型ソーラスリット
の前後に配置されている。
線分析装置は、請求項２のＸ線分析装置において、キャ
ピラリー型ソーラスリットが前記平板型ソーラスリット
の前後に配置されている。
【００１０】
【作用および効果】請求項１のＸ線分析装置によれば、
２次Ｘ線を通過させる絞り孔を有するコリメータ装置
を、キャピラリー型ソーラスリットの通路の軸方向に垂
直な平面上で移動させるので、測定系に対する試料の方
位は固定されたままであり、また、軸方向に延びる多数
の細長い筒状の通路を束ねたキャピラリー型ソーラスリ
ットを用いるので、２次Ｘ線に対する絞りの効果が大き
く、試料の任意の微小箇所を正確に分析できる。
２次Ｘ線を通過させる絞り孔を有するコリメータ装置
を、キャピラリー型ソーラスリットの通路の軸方向に垂
直な平面上で移動させるので、測定系に対する試料の方
位は固定されたままであり、また、軸方向に延びる多数
の細長い筒状の通路を束ねたキャピラリー型ソーラスリ
ットを用いるので、２次Ｘ線に対する絞りの効果が大き
く、試料の任意の微小箇所を正確に分析できる。
【００１１】請求項２のＸ線分析装置によれば、請求項
１の装置による作用および効果に加え、２次Ｘ線の通路
において、前記キャピラリー型ソーラスリットとそれよ
りも安価で減衰の少ない平板型ソーラスリットとを直列
に配置して用いるので、キャピラリー型ソーラスリット
のみを用いる場合よりもキャピラリー型ソーラスリット
の長さが短くてすみ、装置全体がより安価で減衰の少な
い２次Ｘ線が得られるものとなる。また、２次Ｘ線の通
路において、平板型ソーラスリットが固定され、キャピ
ラリー型ソーラスリットおよびコリメータ装置が進退機
構により進退させられるので、平板型ソーラスリットの
みを用いて試料表面の全体または広範囲から減衰の少な
い２次Ｘ線を得ることにより、試料表面の全体または広
範囲について一括して正確に分析することもできる。
１の装置による作用および効果に加え、２次Ｘ線の通路
において、前記キャピラリー型ソーラスリットとそれよ
りも安価で減衰の少ない平板型ソーラスリットとを直列
に配置して用いるので、キャピラリー型ソーラスリット
のみを用いる場合よりもキャピラリー型ソーラスリット
の長さが短くてすみ、装置全体がより安価で減衰の少な
い２次Ｘ線が得られるものとなる。また、２次Ｘ線の通
路において、平板型ソーラスリットが固定され、キャピ
ラリー型ソーラスリットおよびコリメータ装置が進退機
構により進退させられるので、平板型ソーラスリットの
みを用いて試料表面の全体または広範囲から減衰の少な
い２次Ｘ線を得ることにより、試料表面の全体または広
範囲について一括して正確に分析することもできる。
【００１２】請求項３のＸ線分析装置によれば、請求項
２の装置による作用および効果に加え、キャピラリー型
ソーラスリットが平板型ソーラスリットの前後に分けて
配置されているので、分けられたものを合わせたのと同
じ長さの単一のキャピラリー型ソーラスリットが平板型
ソーラスリットの前後いずれか一方のみに配置される場
合よりも、２次Ｘ線に対する絞りの効果が大きく、試料
の任意の微小箇所をいっそう正確に分析できる。
２の装置による作用および効果に加え、キャピラリー型
ソーラスリットが平板型ソーラスリットの前後に分けて
配置されているので、分けられたものを合わせたのと同
じ長さの単一のキャピラリー型ソーラスリットが平板型
ソーラスリットの前後いずれか一方のみに配置される場
合よりも、２次Ｘ線に対する絞りの効果が大きく、試料
の任意の微小箇所をいっそう正確に分析できる。
【００１３】
【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
ながら説明する。本発明の第１の実施例のＸ線分析装置
は、図１に示すように、まず、１次Ｘ線２０を発生する
Ｘ線源１と、試料２が固定される試料台２１と、１次Ｘ
線２０が照射された試料２から発生する２次Ｘ線２２の
通路に配置された分光素子５と、その分光素子５で回折
されたＸ線が入射される検出器７とを備えている。そし
て、第１実施例の装置は、前記２次Ｘ線２２の通路にお
ける前記試料２と前記分光素子５との間に、試料２側か
ら順に、コリメータ装置２３、軸方向に延びる多数の細
長い筒状の通路を束ねたキャピラリー型ソーラスリット
２８ａ、多数の平板を平行に並べてこの間に２次Ｘ線を
通過させる平板型ソーラスリット２９、およびもうひと
つのキャピラリー型ソーラスリット２８ｂを備えてい
る。ここで、キャピラリー型ソーラスリット２８ａ，２
８ｂの前記束ねられた筒状の各通路は、図２または図３
の正面図に示すように、端面が円形（３４）または矩形
（３５）であり、他に三角形、六角形等でもよい。
ながら説明する。本発明の第１の実施例のＸ線分析装置
は、図１に示すように、まず、１次Ｘ線２０を発生する
Ｘ線源１と、試料２が固定される試料台２１と、１次Ｘ
線２０が照射された試料２から発生する２次Ｘ線２２の
通路に配置された分光素子５と、その分光素子５で回折
されたＸ線が入射される検出器７とを備えている。そし
て、第１実施例の装置は、前記２次Ｘ線２２の通路にお
ける前記試料２と前記分光素子５との間に、試料２側か
ら順に、コリメータ装置２３、軸方向に延びる多数の細
長い筒状の通路を束ねたキャピラリー型ソーラスリット
２８ａ、多数の平板を平行に並べてこの間に２次Ｘ線を
通過させる平板型ソーラスリット２９、およびもうひと
つのキャピラリー型ソーラスリット２８ｂを備えてい
る。ここで、キャピラリー型ソーラスリット２８ａ，２
８ｂの前記束ねられた筒状の各通路は、図２または図３
の正面図に示すように、端面が円形（３４）または矩形
（３５）であり、他に三角形、六角形等でもよい。
【００１４】図１のコリメータ装置２３は、孔径の異な
る複数の絞り孔２５ａ，２５ｂ，……を有するコリメー
タ板２４、およびそのコリメータ板２４を回転させて前
記２次Ｘ線２２を通過させる絞り孔２５ａを選択するパ
ルスモータ等の選択機構２６からなり、移動機構２７に
より、前記キャピラリー型ソーラスリット２８ａ，２８
ｂの通路の軸方向に垂直な平面上で移動させられる。こ
こで、コリメータ板２４は、図４の正面図に示すよう
に、孔径の異なる複数の絞り孔２５ａ，２５ｂ，……、
および選択機構２６たるパルスモータ等の軸が固定され
る孔３６を有する円板である。また、図１に示すよう
に、第１実施例の装置は、前記キャピラリー型ソーラス
リット２８ａ，２８ｂおよび前記コリメータ装置２３
を、前記平行板型ソーラスリット２９と直列に配置され
る進出位置と、前記平行板型ソーラスリット２９を通過
する２次Ｘ線２２の通路外に退避した退避位置とに選択
的に移動させる進退機構３０とを備えている。
る複数の絞り孔２５ａ，２５ｂ，……を有するコリメー
タ板２４、およびそのコリメータ板２４を回転させて前
記２次Ｘ線２２を通過させる絞り孔２５ａを選択するパ
ルスモータ等の選択機構２６からなり、移動機構２７に
より、前記キャピラリー型ソーラスリット２８ａ，２８
ｂの通路の軸方向に垂直な平面上で移動させられる。こ
こで、コリメータ板２４は、図４の正面図に示すよう
に、孔径の異なる複数の絞り孔２５ａ，２５ｂ，……、
および選択機構２６たるパルスモータ等の軸が固定され
る孔３６を有する円板である。また、図１に示すよう
に、第１実施例の装置は、前記キャピラリー型ソーラス
リット２８ａ，２８ｂおよび前記コリメータ装置２３
を、前記平行板型ソーラスリット２９と直列に配置され
る進出位置と、前記平行板型ソーラスリット２９を通過
する２次Ｘ線２２の通路外に退避した退避位置とに選択
的に移動させる進退機構３０とを備えている。
【００１５】さらに、第１実施例の装置は、試料２にお
ける分析すべき箇所の位置および範囲が入力される入力
手段３１と、その入力手段３１からの入力信号ａを受け
て、選択機構２６、移動機構２７、および進退機構３０
へ、それぞれ、選択制御信号ｂ、移動制御信号ｃ、およ
び進退制御信号ｄを出力する制御手段３２とを備えてい
る。
ける分析すべき箇所の位置および範囲が入力される入力
手段３１と、その入力手段３１からの入力信号ａを受け
て、選択機構２６、移動機構２７、および進退機構３０
へ、それぞれ、選択制御信号ｂ、移動制御信号ｃ、およ
び進退制御信号ｄを出力する制御手段３２とを備えてい
る。
【００１６】次に、試料２の任意の微小箇所を分析する
際の第１実施例の動作について説明する。今、入力手段
３１に、試料２における分析すべき箇所の位置および範
囲が入力されると、その旨の入力信号ａが制御手段３２
へ出力され、それを受けた制御手段３２は、選択機構２
６、移動機構２７、および進退機構３０へ、それぞれ、
選択制御信号ｂ、移動制御信号ｃ、および進退制御信号
ｄを出力する。進退制御信号ｄを受けた進退機構３０
は、キャピラリー型ソーラスリット２８ａ，２８ｂおよ
びコリメータ装置２３を、平行板型ソーラスリット２９
と直列に配置される進出位置（図１に示す位置）に移動
させる。選択制御信号ｂを受けた選択機構２６は、コリ
メータ板２４を回転させることにより、分析すべき箇所
の範囲（面積）に応じた絞り孔２５ａを選択する。移動
制御信号ｃを受けた移動機構２７は、コリメータ装置２
３を、キャピラリー型ソーラスリット２８ａ，２８ｂの
通路の軸方向に垂直な平面上で、分析すべき箇所の位置
に応じて移動させる。
際の第１実施例の動作について説明する。今、入力手段
３１に、試料２における分析すべき箇所の位置および範
囲が入力されると、その旨の入力信号ａが制御手段３２
へ出力され、それを受けた制御手段３２は、選択機構２
６、移動機構２７、および進退機構３０へ、それぞれ、
選択制御信号ｂ、移動制御信号ｃ、および進退制御信号
ｄを出力する。進退制御信号ｄを受けた進退機構３０
は、キャピラリー型ソーラスリット２８ａ，２８ｂおよ
びコリメータ装置２３を、平行板型ソーラスリット２９
と直列に配置される進出位置（図１に示す位置）に移動
させる。選択制御信号ｂを受けた選択機構２６は、コリ
メータ板２４を回転させることにより、分析すべき箇所
の範囲（面積）に応じた絞り孔２５ａを選択する。移動
制御信号ｃを受けた移動機構２７は、コリメータ装置２
３を、キャピラリー型ソーラスリット２８ａ，２８ｂの
通路の軸方向に垂直な平面上で、分析すべき箇所の位置
に応じて移動させる。
【００１７】これによって、１次Ｘ線２０が照射された
試料２から発生する２次Ｘ線２２のうち、分析すべき箇
所から発生する２次Ｘ線２２のみが、絞り孔２５ａおよ
び３つのソーラスリット２８ａ，２９，２８ｂを通過し
て平行ビームとなり、分光素子５により回折すなわち分
光され、検出器７に入射する。
試料２から発生する２次Ｘ線２２のうち、分析すべき箇
所から発生する２次Ｘ線２２のみが、絞り孔２５ａおよ
び３つのソーラスリット２８ａ，２９，２８ｂを通過し
て平行ビームとなり、分光素子５により回折すなわち分
光され、検出器７に入射する。
【００１８】試料２における分析すべき箇所が、１箇所
でなく一定の範囲にわたる場合、すなわち、試料２にお
いていわゆるマッピング測定を行う場合には、マッピン
グ測定において分析すべき複数箇所の位置および１箇所
の範囲（面積）が入力手段３１に入力されて、入力信号
ａが制御手段３２へ出力され、それを受けた制御手段３
２は、選択機構２６、移動機構２７、および進退機構３
０へ、それぞれ、選択制御信号ｂ、移動制御信号ｃ、お
よび進退制御信号ｄを出力する。進退機構３０および選
択機構２６の動作は、前述した１箇所の微小箇所を分析
する場合と同様である。移動制御信号ｃを受けた移動機
構２７は、コリメータ装置２３を、キャピラリー型ソー
ラスリット２８ａ，２８ｂの通路の軸方向に垂直な平面
上で、分析すべき複数箇所の位置に応じて連続的に移動
させる。
でなく一定の範囲にわたる場合、すなわち、試料２にお
いていわゆるマッピング測定を行う場合には、マッピン
グ測定において分析すべき複数箇所の位置および１箇所
の範囲（面積）が入力手段３１に入力されて、入力信号
ａが制御手段３２へ出力され、それを受けた制御手段３
２は、選択機構２６、移動機構２７、および進退機構３
０へ、それぞれ、選択制御信号ｂ、移動制御信号ｃ、お
よび進退制御信号ｄを出力する。進退機構３０および選
択機構２６の動作は、前述した１箇所の微小箇所を分析
する場合と同様である。移動制御信号ｃを受けた移動機
構２７は、コリメータ装置２３を、キャピラリー型ソー
ラスリット２８ａ，２８ｂの通路の軸方向に垂直な平面
上で、分析すべき複数箇所の位置に応じて連続的に移動
させる。
【００１９】これによって、１次Ｘ線２０が照射された
試料２から発生する２次Ｘ線２２のうち、分析すべき複
数箇所から発生する２次Ｘ線２２のみが、連続的に、絞
り孔２５ａおよび３つのソーラスリット２８ａ，２９，
２８ｂを通過して平行ビームとなり、分光素子５により
回折すなわち分光され、検出器７に入射する。
試料２から発生する２次Ｘ線２２のうち、分析すべき複
数箇所から発生する２次Ｘ線２２のみが、連続的に、絞
り孔２５ａおよび３つのソーラスリット２８ａ，２９，
２８ｂを通過して平行ビームとなり、分光素子５により
回折すなわち分光され、検出器７に入射する。
【００２０】以上のように、第１実施例の装置によって
試料２の任意の微小箇所を分析する際には、測定系に対
する試料２の方位は固定されたままであり、また、キャ
ピラリー型ソーラスリット２８ａ，２８ｂを用いるの
で、２次Ｘ線２２に対する絞りの効果が大きく、試料２
の任意の微小箇所を正確に分析できる。また、キャピラ
リー型ソーラスリット２８ａ，２８ｂとそれよりも安価
で減衰の少ない平板型ソーラスリット２９とを直列に配
置して用いるので、キャピラリー型ソーラスリットのみ
を用いる場合よりもキャピラリー型ソーラスリットの長
さが短くてすみ、装置全体がより安価で減衰の少ない２
次Ｘ線２２が得られるものとなる。
試料２の任意の微小箇所を分析する際には、測定系に対
する試料２の方位は固定されたままであり、また、キャ
ピラリー型ソーラスリット２８ａ，２８ｂを用いるの
で、２次Ｘ線２２に対する絞りの効果が大きく、試料２
の任意の微小箇所を正確に分析できる。また、キャピラ
リー型ソーラスリット２８ａ，２８ｂとそれよりも安価
で減衰の少ない平板型ソーラスリット２９とを直列に配
置して用いるので、キャピラリー型ソーラスリットのみ
を用いる場合よりもキャピラリー型ソーラスリットの長
さが短くてすみ、装置全体がより安価で減衰の少ない２
次Ｘ線２２が得られるものとなる。
【００２１】さらに、キャピラリー型ソーラスリット２
８ａ，２８ｂが平板型ソーラスリット２９の前後に分け
て配置されているので、前側のキャピラリー型ソーラス
リット２８ａの前端と後側のキャピラリー型ソーラスリ
ット２８ｂの後端との距離が長くなるから、分けられた
ものを合わせたのと同じ長さの単一のキャピラリー型ソ
ーラスリットが平板型ソーラスリット２９の前後いずれ
か一方のみに配置される場合よりも、２次Ｘ線２２に対
する絞りの効果が大きく、試料２の任意の微小箇所をい
っそう正確に分析できる。
８ａ，２８ｂが平板型ソーラスリット２９の前後に分け
て配置されているので、前側のキャピラリー型ソーラス
リット２８ａの前端と後側のキャピラリー型ソーラスリ
ット２８ｂの後端との距離が長くなるから、分けられた
ものを合わせたのと同じ長さの単一のキャピラリー型ソ
ーラスリットが平板型ソーラスリット２９の前後いずれ
か一方のみに配置される場合よりも、２次Ｘ線２２に対
する絞りの効果が大きく、試料２の任意の微小箇所をい
っそう正確に分析できる。
【００２２】次に、試料２表面の全体または広範囲を一
括して分析する際の第１実施例の動作について説明す
る。今、入力手段３１に、試料２表面の全体または広範
囲を一括して分析すべき旨が入力されると、その旨の入
力信号ａが制御手段３２へ出力され、それを受けた制御
手段３２は、進退機構３０へ進退制御信号ｄを出力す
る。進退制御信号ｄを受けた進退機構３０は、キャピラ
リー型ソーラスリット２８ａ，２８ｂおよびコリメータ
装置２３を、平行板型ソーラスリット２９を通過する２
次Ｘ線２２の通路外に退避した退避位置（図１に示す位
置より右斜め下方に退避した位置）に移動させる。
括して分析する際の第１実施例の動作について説明す
る。今、入力手段３１に、試料２表面の全体または広範
囲を一括して分析すべき旨が入力されると、その旨の入
力信号ａが制御手段３２へ出力され、それを受けた制御
手段３２は、進退機構３０へ進退制御信号ｄを出力す
る。進退制御信号ｄを受けた進退機構３０は、キャピラ
リー型ソーラスリット２８ａ，２８ｂおよびコリメータ
装置２３を、平行板型ソーラスリット２９を通過する２
次Ｘ線２２の通路外に退避した退避位置（図１に示す位
置より右斜め下方に退避した位置）に移動させる。
【００２３】これによって、１次Ｘ線２０が照射された
試料２表面の全体または広範囲から発生する２次Ｘ線２
２が、一括して平行板型ソーラスリット２９のみを通過
して平行ビームとなり、分光素子５により回折すなわち
分光され、検出器７に入射する。したがって、試料２表
面の全体または広範囲から一括して減衰の少ない２次Ｘ
線を得ることにより、試料２表面の全体または広範囲に
ついて一括して正確に分析することもできる。なお、第
１実施例では、２つのキャピラリー型ソーラスリット２
８ａ，２８ｂを平板型ソーラスリット２９の前後に配置
したが、必ずしもそうする必要はなく、単一のキャピラ
リー型ソーラスリットを平板型ソーラスリット２９の前
後いずれか一方のみに配置してもよい。
試料２表面の全体または広範囲から発生する２次Ｘ線２
２が、一括して平行板型ソーラスリット２９のみを通過
して平行ビームとなり、分光素子５により回折すなわち
分光され、検出器７に入射する。したがって、試料２表
面の全体または広範囲から一括して減衰の少ない２次Ｘ
線を得ることにより、試料２表面の全体または広範囲に
ついて一括して正確に分析することもできる。なお、第
１実施例では、２つのキャピラリー型ソーラスリット２
８ａ，２８ｂを平板型ソーラスリット２９の前後に配置
したが、必ずしもそうする必要はなく、単一のキャピラ
リー型ソーラスリットを平板型ソーラスリット２９の前
後いずれか一方のみに配置してもよい。
【００２４】次に、本発明の第２実施例について説明す
る。図５に示すように、第２実施例のＸ線分析装置は、
構成において、試料２から分光素子５までの間で用いら
れるソーラスリットが単一のキャピラリー型ソーラスリ
ット３３のみである点、および前記進退機構３０（図
１）を備えていない点で、第１実施例のＸ線分析装置と
異なるが、他の構成は同じである。第２実施例のＸ線分
析装置の動作については、前記進退機構３０（図１）を
備えていないので、キャピラリー型ソーラスリット３３
およびコリメータ装置２３が、試料２から発生して分光
素子５に向かう２次Ｘ線２２の通路に配置されたままで
あり、第１実施例のように試料２表面の全体または広範
囲を一括して分析することはできない。しかし、マッピ
ング測定を含め、試料２の任意の微小箇所の分析につい
ては、第１実施例の装置と同様に動作し、その際測定系
に対する試料２の方位は固定されたままであり、また、
キャピラリー型ソーラスリット３３を用いるので２次Ｘ
線２２に対する絞りの効果が大きく、試料２の任意の微
小箇所をやはり正確に分析できる。
る。図５に示すように、第２実施例のＸ線分析装置は、
構成において、試料２から分光素子５までの間で用いら
れるソーラスリットが単一のキャピラリー型ソーラスリ
ット３３のみである点、および前記進退機構３０（図
１）を備えていない点で、第１実施例のＸ線分析装置と
異なるが、他の構成は同じである。第２実施例のＸ線分
析装置の動作については、前記進退機構３０（図１）を
備えていないので、キャピラリー型ソーラスリット３３
およびコリメータ装置２３が、試料２から発生して分光
素子５に向かう２次Ｘ線２２の通路に配置されたままで
あり、第１実施例のように試料２表面の全体または広範
囲を一括して分析することはできない。しかし、マッピ
ング測定を含め、試料２の任意の微小箇所の分析につい
ては、第１実施例の装置と同様に動作し、その際測定系
に対する試料２の方位は固定されたままであり、また、
キャピラリー型ソーラスリット３３を用いるので２次Ｘ
線２２に対する絞りの効果が大きく、試料２の任意の微
小箇所をやはり正確に分析できる。
【００２５】なお、第１および第２実施例では、得られ
た２次Ｘ線２２を分光素子５で分光させてから、検出器
７に入射させたが、分光素子５を用いずに直接半導体検
出器等に入射させてもよい。
た２次Ｘ線２２を分光素子５で分光させてから、検出器
７に入射させたが、分光素子５を用いずに直接半導体検
出器等に入射させてもよい。
【図１】本発明の第１実施例のＸ線分析装置を示す概略
側面図である。
側面図である。
【図２】本発明に用いるキャピラリー型ソーラスリット
の一例を示す正面図である。
の一例を示す正面図である。
【図３】本発明に用いるキャピラリー型ソーラスリット
の他の例を示す正面図である。
の他の例を示す正面図である。
【図４】本発明に用いるコリメータ板の一例を示す正面
図である。
図である。
【図５】本発明の第２実施例のＸ線分析装置を示す概略
側面図である。
側面図である。
【図６】従来の蛍光Ｘ線分析装置を示す概略側面図であ
る。
る。
１…Ｘ線源、２…試料、５…分光素子、７…検出器、２
０…１次Ｘ線、２２…２次Ｘ線、２３…コリメータ装
置、２５ａ，２５ｂ…絞り孔、２６…選択機構、２７…
移動機構、２８ａ，２８ｂ，３３…キャピラリー型ソー
ラスリット、２９…平行板型ソーラスリット、３０…進
退機構。
０…１次Ｘ線、２２…２次Ｘ線、２３…コリメータ装
置、２５ａ，２５ｂ…絞り孔、２６…選択機構、２７…
移動機構、２８ａ，２８ｂ，３３…キャピラリー型ソー
ラスリット、２９…平行板型ソーラスリット、３０…進
退機構。
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(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G01N 23/223
Claims (3)
- 【請求項１】 １次Ｘ線を発生するＸ線源と、 １次Ｘ線が照射された試料から発生する２次Ｘ線が入射
される検出器とを備えたＸ線分析装置において、 前記２次Ｘ線の通路における前記試料と前記検出器との
間に、孔径の異なる複数の絞り孔を有するコリメータ装
置と、軸方向に延びる多数の細長い筒状の通路を束ねた
キャピラリー型ソーラスリットとが配置され、 前記試料から発生する２次Ｘ線を通過させる絞り孔を選
択する選択機構と、 前記コリメータ装置を前記キャピラリー型ソーラスリッ
トの通路の軸方向に垂直な平面上で移動させる移動機構
とを備えたことを特徴とするＸ線分析装置。 - 【請求項２】 １次Ｘ線を発生するＸ線源と、 １次Ｘ線が照射された試料から発生する２次Ｘ線が入射
される検出器とを備えたＸ線分析装置において、 前記２次Ｘ線の通路における前記試料と前記検出器との
間に、多数の平板を平行に並べてこの間に２次Ｘ線を通
過させる平板型ソーラスリットが配置され、 軸方向に延びる多数の細長い筒状の通路を束ねてなり、
前記２次Ｘ線の通路において前記平板型ソーラスリット
と直列に配置されるキャピラリー型ソーラスリットと、 孔径の異なる複数の絞り孔を有し、前記２次Ｘ線の通路
における前記試料と前記検出器との間に配置されるコリ
メータ装置と、 前記キャピラリー型ソーラスリットおよびコリメータ装
置を、前記平行板型ソーラスリットと直列に配置される
進出位置と、前記平行板型ソーラスリットを通過する２
次Ｘ線の通路外に退避した退避位置とに選択的に移動さ
せる進退機構と、 前記試料から発生する２次Ｘ線を通過させる絞り孔を選
択する選択機構と、 前記コリメータ装置を前記キャピラリー型ソーラスリッ
トの通路の軸方向に垂直な平面上で移動させる移動機構
とを備えたことを特徴とするＸ線分析装置。 - 【請求項３】 請求項２において、キャピラリー型ソー
ラスリットが前記平板型ソーラスリットの前後に配置さ
れるＸ線分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11647395A JP3415328B2 (ja) | 1995-04-17 | 1995-04-17 | Ｘ線分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11647395A JP3415328B2 (ja) | 1995-04-17 | 1995-04-17 | Ｘ線分析装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08285798A JPH08285798A (ja) | 1996-11-01 |
| JP3415328B2 true JP3415328B2 (ja) | 2003-06-09 |
Family
ID=14687979
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11647395A Expired - Fee Related JP3415328B2 (ja) | 1995-04-17 | 1995-04-17 | Ｘ線分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3415328B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP4040447A3 (de) * | 2021-02-09 | 2022-11-02 | Bruker AXS GmbH | Verstellbarer segmentierter kollimator |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102004052350B4 (de) | 2004-10-28 | 2008-01-10 | Bruker Axs B.V. | Röntgendiffraktometer mit Wechselapertur |
| JP4715345B2 (ja) * | 2005-07-08 | 2011-07-06 | 株式会社島津製作所 | Ｘ線分析装置 |
| JP5684032B2 (ja) * | 2011-04-08 | 2015-03-11 | 株式会社日立製作所 | 荷電粒子線分析装置および分析方法 |
| EP3534378A1 (en) | 2018-03-01 | 2019-09-04 | Hitachi High-Tech Analytical Science Finland Oy | A collimator assembly for an x-ray spectrometer device |
| JP6990460B2 (ja) * | 2020-06-19 | 2022-01-12 | 株式会社リガク | 蛍光ｘ線分析装置、判定方法及び判定プログラム |
| CN112150542B (zh) * | 2020-09-24 | 2023-02-24 | 上海联影医疗科技股份有限公司 | 一种射野测量方法、装置、电子设备及存储介质 |
-
1995
- 1995-04-17 JP JP11647395A patent/JP3415328B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP4040447A3 (de) * | 2021-02-09 | 2022-11-02 | Bruker AXS GmbH | Verstellbarer segmentierter kollimator |
| US11742104B2 (en) | 2021-02-09 | 2023-08-29 | Bruker Axs Gmbh | Adjusted segmented collimator comprising a Soller slit |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08285798A (ja) | 1996-11-01 |
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|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |