JP6987228B2 - 有機発光ダイオード表示装置及びその製造方法 - Google Patents

有機発光ダイオード表示装置及びその製造方法 Download PDF

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Description

本発明は表示技術分野に関し、特に有機発光ダイオード表示装置及びその製造方法に関する。
有機発光ダイオード(organic light emitting diode、OLED)表示装置は軽量薄型で、自己発光し、応答速度が速く、視野角が大きく、色域が広く、輝度が高く、消費電力が低い等の多くの利点を有し、よってOLED表示装置は近年、人々からの注目を受けている。
屋外の強光照射下でOLED表示装置のコントラストが低いという課題を解決するために、OLEDディスプレイパネル上に1層の偏光片を追加することで光反射を減少させ、それによりコントラストを向上させている。しかしながら、一方では、偏光片は直接パネルからの出射光を55%超えて損なってしまい、他方では、偏光片の材質は主にポリビニルアルコールであり、その厚さが大きく(約100μm)、質が脆く、曲げている最中に破断しやすく、動的屈曲型の表示製品に適用できない。従って、有機発光ダイオードディスプレイの各々のサブ画素ユニット(R、G、B sub−pixel)上に対応するカラーフィルム層又はフォトレジスト(R、G、B photoresist)を形成することによって、発光層の出力が60%より大きくなることを確実にすることができるとともに、非発光領域にブラックマトリクスを形成することによって、パネルの反射率を6%未満に効果的に低減させることができ、この技術は偏光片レス技術(polarizer−less、POL−less)と呼ばれている。
しかしながら、従来技術によれば、カラーフィルム層又はフォトレジスト(R、G、B photoresist)は薄膜封止層上に形成される。カラーフィルム層のパターニング過程では、アルカリ性現像液が薄膜封止層に侵入し、さらに有機発光ダイオード素子に悪影響を与え、製品の欠陥をもたらし、製品の歩留まりを低減させることがある。また、カラーフィルム層のパターニングは4つのフォトマスクを用いたフォトリソグラフィ技術によって実現される必要があり、その製造プロセスが複雑であるため、表示装置のプロセス時間が長くなり、製造コストが高くってしまう。
また、偏光片レス技術によって光反射を減少させることができるが、OLED表示装置のタッチセンサの電極(金属材質)が依然として光反射を引き起こすことがあり、従来技術では光反射の課題を徹底的に解決することができない。
そこで、有機発光ダイオード表示装置及びその製造方法を提供することにより、従来技術に存在する課題を解決する必要がある。
本発明の目的は有機発光ダイオード表示装置及びその製造方法を提供することであり、それにより、従来技術では表示装置の可撓性が低く、光透過率が低く、製造プロセスが複雑で、光反射が生じるという技術的課題を解決する。
上記技術的課題を解決するために、本発明は有機発光ダイオード表示装置を提供し、1つの基板、1つの画素定義層、1つの第1薄膜封止サブ層、1つのカラーフィルム層、1つの第2薄膜封止サブ層、1つの第3薄膜封止サブ層、及び1つのタッチセンサを含み、前記画素定義層は、前記基板上に設置され、前記画素定義層は1つの開口を定義し、前記第1薄膜封止サブ層は、前記画素定義層上及び前記開口内に設置され、前記カラーフィルム層は、前記開口内に設置され、前記第2薄膜封止サブ層は、前記第1薄膜封止サブ層及び前記カラーフィルム層を被覆し、前記第3薄膜封止サブ層は、前記第2薄膜封止サブ層上に設置され、前記タッチセンサは、前記第3薄膜封止サブ層上に設置され、前記タッチセンサは1つの第1金属層及び1つの第2金属層を含み、前記第1金属層及び前記第2金属層の上面上に1つの低反射膜が設置される。
本発明の有機発光ダイオード表示装置では、前記有機発光ダイオード表示装置はさらに1つのブラックバンク層を含み、前記ブラックバンク層は前記画素定義層と積層して設置され、前記ブラックバンク層は前記画素定義層とともに前記開口を定義し、前記ブラックバンク層及び前記画素定義層の材質はブラックマトリクスである。
本発明の有機発光ダイオード表示装置では、前記第1薄膜封止サブ層及び前記第3薄膜封止サブ層は無機膜であり、前記第2薄膜封止サブ層は有機膜である。
本発明の有機発光ダイオード表示装置では、前記低反射膜の材質はブラックマトリクス、酸化クロム又は酸化モリブデンである。
本発明の有機発光ダイオード表示装置では、前記カラーフィルム層はそれぞれ前記有機発光ダイオード表示装置の赤色画素領域、緑色画素領域及び青色画素領域内に位置する1つの赤色レジスト層、1つの緑色レジスト層及び1つの青色レジスト層を含む。
本発明はさらに有機発光ダイオード表示装置を提供し、1つの基板、1つの画素定義層、1つの第1薄膜封止サブ層、1つのカラーフィルム層、1つの第2薄膜封止サブ層、及び1つの第3薄膜封止サブ層を含み、前記画素定義層は、前記基板上に設置され、前記画素定義層は1つの開口を定義し、前記第1薄膜封止サブ層は、前記画素定義層上及び前記開口内に設置され、前記カラーフィルム層は、前記開口内に設置され、前記第2薄膜封止サブ層は、前記第1薄膜封止サブ層及び前記カラーフィルム層を被覆し、前記第3薄膜封止サブ層は、前記第2薄膜封止サブ層上に設置される。
本発明の有機発光ダイオード表示装置では、前記有機発光ダイオード表示装置はさらに、1つのブラックバンク層を含み、前記ブラックバンク層は前記画素定義層と積層して設置され、前記ブラックバンク層は前記画素定義層とともに前記開口を定義し、前記ブラックバンク層及び前記画素定義層の材質はブラックマトリクスである。
本発明の有機発光ダイオード表示装置では、前記第1薄膜封止サブ層及び前記第3薄膜封止サブ層は無機膜であり、前記第2薄膜封止サブ層は有機膜である。
本発明の有機発光ダイオード表示装置では、前記有機発光ダイオード表示装置はさらに、1つのタッチセンサを含み、タッチセンサは、前記第3薄膜封止サブ層上に設置され、前記タッチセンサは1つの第1金属層及び1つの第2金属層を含み、前記第1金属層及び前記第2金属層の上面上に1つの低反射膜が設置され、前記低反射膜の材質はブラックマトリクス、酸化クロム又は酸化モリブデンである。
本発明の有機発光ダイオード表示装置では、前記カラーフィルム層はそれぞれ前記有機発光ダイオード表示装置の赤色画素領域、緑色画素領域及び青色画素領域内に位置する1つの赤色レジスト層、1つの緑色レジスト層及び1つの青色レジスト層を含む。
本発明はさらに有機発光ダイオード表示装置の製造方法を提供し、1つの基板を提供するステップ、1つの画素定義層を前記基板上に形成し、前記画素定義層が1つの開口を定義するステップ、1つの第1薄膜封止サブ層を前記画素定義層上及び前記開口内に形成するステップ、インクジェットプリント技術を用いて1つのカラーフィルム層を前記開口内に形成するステップ、1つの第2薄膜封止サブ層を形成して、前記第2薄膜封止サブ層が前記第1薄膜封止サブ層及び前記カラーフィルム層を被覆するようにするステップ、及び1つの第3薄膜封止サブ層を前記第2薄膜封止サブ層上に形成するステップを含む。
本発明の有機発光ダイオード表示装置の製造方法では、前記方法はさらに、1つのブラックバンク層を形成して、前記ブラックバンク層が前記画素定義層と積層して設置され、前記ブラックバンク層が前記画素定義層とともに前記開口を定義するようにするステップを含む。
本発明の有機発光ダイオード表示装置の製造方法では、前記第1薄膜封止サブ層及び前記第3薄膜封止サブ層は無機膜であり、前記第2薄膜封止サブ層は有機膜である。
本発明の有機発光ダイオード表示装置の製造方法では、前記方法はさらに、1つのタッチセンサを前記第3薄膜封止サブ層上に形成するステップを含み、前記タッチセンサは1つの第1金属層及び1つの第2金属層を含み、前記第1金属層及び前記第2金属層の上面上に1つの低反射膜が設置される。
本発明の有機発光ダイオード表示装置の製造方法では、前記カラーフィルム層はそれぞれ前記有機発光ダイオード表示装置の赤色画素領域、緑色画素領域及び青色画素領域内に位置する1つの赤色レジスト層、1つの緑色レジスト層及び1つの青色レジスト層を含む。
従来技術に比べて、本発明は、有機発光ダイオード表示装置及びその製造方法を提案する。カラーフィルム層を薄膜封止層内に嵌入することによって、有機発光ダイオード表示装置の厚さを減少させることができ、それにより有機発光ダイオード表示装置がさらに優れた可撓性及び屈曲特性を有し、且つ有機発光ダイオード表示装置の光透過率を向上させることができる。また、カラーフィルム層及び薄膜封止層の両方の製造プロセスに互換性があり、インクジェットプリント技術を用いてカラーフィルム層を形成することにより、プロセスが簡単になる。よって表示装置のプロセス時間を短縮させ、表示装置の製造コストを低減させ、且つ製品の欠陥を招くことがない。また、低反射膜をタッチセンサの金属層の上面上に形成することによって、表示装置の光反射の技術的課題を解決することができる。
図1Aは本発明による有機発光ダイオード表示装置の製造方法のフローを示す。 図1Bは本発明による有機発光ダイオード表示装置の製造方法のフローを示す。 図1Cは本発明による有機発光ダイオード表示装置の製造方法のフローを示す。 図1Dは本発明による有機発光ダイオード表示装置の製造方法のフローを示す。 図1Eは本発明による有機発光ダイオード表示装置の製造方法のフローを示す。
以下、各実施例の説明は、添付図面を参照して行われ、本発明を実施するための特定の実施例を例示することに用いられる。本発明に言及される方向用語、例えば「上」、「下」、「前」、「後」、「左」、「右」、「内」、「外」、「側面」等は単に添付図面を参照する方向である。従って、使用される方向用語は本発明を説明及び理解するためのものであり、本発明を限定するためのものではない。図中、構造が類似するユニットは同一符号で示される。
図1A〜図1Eを参照してください。図1A〜図1Eは本発明による有機発光ダイオード表示装置の製造方法のフローを示す図である。本発明は有機発光ダイオード(organic light emitting diode、OLED)表示装置の製造方法を提案する。上記方法はディスプレイパネル及びタッチパネルの形成を含む。上記方法は以下のステップを含む。
図1Aに示すように、まず、1つの基板10を提供する。上記基板10上に緩衝層20、薄膜トランジスタ素子30、平坦層40、陽極51を有する。OLED表示装置に可撓性を付与するために、上記基板は1つのフレキシブル基板であり得る。例えば、上記基板10の材質はポリイミド(polyimide、PI)であり得る。
次に、1つの画素定義層60及び1つのブラックバンク層70を上記基板10上に形成し、上記ブラックバンク層70と上記画素定義層60を積層して設置する。上記ブラックバンク層70が上記画素定義層60とともに開口80を定義する。従って、画素領域は限定される。上記画素領域は赤色画素領域、緑色画素領域及び青色画素領域を含む。
続いて、発光層52を上記開口80内に形成する。上記発光層52は赤色発光層521、緑色発光層522及び青色発光層523を含む。一好適実施例では、蒸着方式を利用してそれぞれ上記赤色発光層521、上記緑色発光層522及び上記青色発光層523を赤色画素領域、緑色画素領域及び青色画素領域の開口80内に形成してもよい。また、1つの陰極層53及び1つの第1薄膜封止サブ層91を上記画素定義層60上及び上記開口80内に形成する。
図1B〜図1Cに示すように、インクジェットプリント技術(ink jet printing、IJP)を利用して1つのカラーフィルム層200を上記開口80内に形成する。例えば、インクジェットプリント技術を利用して赤色インク液滴210、緑色インク液滴220及び青色インク液滴230をそれぞれ赤色画素領域、緑色画素領域及び青色画素領域の開口80内にプリントし、次に、紫外線をインクに照射し又はインクをベーク(例えば、90℃又は90℃未満)する方式によって、インク液滴を硬化させることでそれぞれ赤色レジスト層211、緑色レジスト層221及び青色レジスト層231を形成する。すなわち、上記カラーフィルム層200はそれぞれOLED表示装置の赤色画素領域、緑色画素領域及び青色画素領域内に位置する上記赤色レジスト層211、上記緑色レジスト層221及び上記青色レジスト層231を含む。
図1Dに示すように、1つの第2薄膜封止サブ層92を形成して、上記第2薄膜封止サブ層92が上記第1薄膜封止サブ層91及び上記カラーフィルム層200を被覆するようにする。また、1つの第3薄膜封止サブ層93を上記第2薄膜封止サブ層92上に形成する。
一好適実施例では、上記第1薄膜封止サブ層91及び上記第3薄膜封止サブ層93は無機膜であり、上記第2薄膜封止サブ層92は有機膜である。無機膜は水、及び酸素をブロックする特性を有し、従って無機膜は、水及び酸素がOLED素子に侵入してOLED素子を損傷させることを回避できる。有機膜は応力を緩和でき、従って、有機膜の形成によって表示装置がさらに優れた可撓性を有することに寄与する。
無機膜の材質はSiN、SiO、SiON又はAlOであり得る。有機膜の材質は感光型アクリル酸又はメタクリル酸系の樹脂であり得る。プラズマ増強化学蒸着法(plasma enhanced chemical vapor deposition、PECVD)又は原子層堆積技術(atomic layer deposition、ALD)を利用して上記無機膜を形成してもよい。インクジェットプリント技術(ink jet printing、IJP)を利用して上記有機膜を形成してもよい。
上記第1薄膜封止サブ層91、上記第2薄膜封止サブ層92及び上記第3薄膜封止サブ層93は薄膜封止層90を構成する。薄膜封止層90は一方ではOLED素子を保護し、他方では優れた可撓性を有する。
一好適実施例では、上記第1薄膜封止サブ層91は多層無機膜を含んでもよい。又は、上記第1薄膜封止サブ層91は有機膜及び無機膜の複合多層膜を含んでもよい。
本発明は薄膜封止層90内の第1薄膜封止サブ層91、第2薄膜封止サブ層92及び第3薄膜封止サブ層93の具体的な材質が有機膜又は無機膜であるかについて特に限定せず、異なる表示製品に応じて、異なる薄膜封止層90の材質を使用でき、薄膜封止層90がOLED素子を保護でき又は優れた可撓性を有する限り、本発明の保護範囲内に属する。
ここまで、OLEDディスプレイパネルの製造が完了する。
図1Dに示すように、タッチパネルをOLEDディスプレイパネル上に形成するために、上記方法は、1つのタッチセンサ300を上記第3薄膜封止サブ層93上に形成するステップをさらに含む。上記タッチセンサ300は1つの第1金属層310及び1つの第2金属層320を含み、上記第1金属層310及び上記第2金属層320の上面上に1つの低反射膜311、321が設置される。
より具体的には、まず、1つの第1保護層410を上記第3薄膜封止サブ層93上に形成する。続いて、フォトリソグラフィ技術を利用して上記第1金属層310を上記第1保護層410上に形成し、フォトリソグラフィ技術を利用して上記低反射膜311を上記第1金属層310の表面に形成する。その後、第2保護層420を上記第1保護層410及び上記低反射膜311上に形成する。最終的に、フォトリソグラフィ技術を利用して上記第2金属層320を上記第2保護層420上に形成し、フォトリソグラフィ技術を利用して上記低反射膜321を上記第2金属層320の表面に形成する。
最終的に、カバーガラス500を上記ディスプレイパネルに密着させる。
ここまで、OLED表示装置の製造が完了する。
本実施例によれば、画素定義層60及びブラックバンク層70は2回のフォトリソグラフィ技術を利用して個別形成される。しかし、一好適実施例では、画素定義層60のみを形成してもよい。画素定義層60の厚さが十分に厚く、インクが開口80内にプリントできるようにすれば、1つの画素定義層60で、2回のフォトリソグラフィ技術を利用して個別形成された画素定義層60及びブラックバンク層70を代替できる。
本発明によれば、上記画素定義層60及び上記ブラックバンク層70は非発光領域に位置し、従ってその材質がブラックマトリクスであってもよく、ブラックマトリクスは遮光できるだけでなく、光反射を回避できる。ブラックマトリクスの材質は主に感熱性、感光性重合体及び黒色充填材からなり、感熱性及び感光性重合体はアクリル酸又はメタクリル酸系の樹脂であってもよく、黒色充填材はカーボンブラック、有機吸光材料等であってもよい。また、第1金属層310及び第2金属層320の上面上に形成された低反射膜311、321の材質はブラックマトリクス、又は酸化クロム又は酸化モリブデンであってもよく、遮光及び光反射回避の技術的効果を達成することもできる。
上記のように、第1薄膜封止サブ層91、第2薄膜封止サブ層92及び第3薄膜封止サブ層93は薄膜封止層90を構成する。カラーフィルム層200は上記第1薄膜封止サブ層91と上記第2薄膜封止サブ層92との間に形成される。上記第2薄膜封止サブ層92及び上記カラーフィルム層200の両方はインクジェットプリント技術を利用して形成できる。従って、カラーフィルム層200は薄膜封止層90内に嵌入され、且つ両方の製造プロセスに互換性がある。且つ、カラーフィルム層200が薄膜封止層90内に嵌入されるため、カラーフィルム層200と薄膜封止層90との全厚さが従来技術に比べて減少し、それによりOLED表示装置にさらに優れた可撓性及び屈曲特性を付与する。また、厚さが減少するため、OLED表示装置の光透過率を約60%に向上させる。
なお、上記カラーフィルム層200はインクジェットプリント技術を利用して形成される。従来技術のカラーフィルム層が4つのフォトマスクを用いたフォトリソグラフィ技術によって実現されることに比べて、本発明のカラーフィルム層の製造過程が簡単であり、表示装置のプロセス時間を短縮させ、表示装置の製造コストを低減させる。且つ、カラーフィルム層の製造は現像液を使用する必要がなく、OLED素子に悪影響を招き、製品の欠陥を招くことがない。
本発明はさらに有機発光ダイオード(organic light emitting diode、OLED)表示装置を提供する。上記OLED表示装置は、1つの基板10、1つの画素定義層60、1つの第1薄膜封止サブ層91、1つのカラーフィルム層200、1つの第2薄膜封止サブ層92、及び1つの第3薄膜封止サブ層93を含み、画素定義層60は、上記基板10上に設置され、上記画素定義層60は1つの開口80を定義し、第1薄膜封止サブ層91は、上記画素定義層60上及び上記開口80内に設置され、カラーフィルム層200は、上記開口内に設置され、第2薄膜封止サブ層92は、上記第1薄膜封止サブ層91及び上記カラーフィルム層200を被覆し、第3薄膜封止サブ層93は、上記第2薄膜封止サブ層92上に設置される。
本発明の一実施例によれば、上記OLED表示装置はさらに1つのブラックバンク層70を含んでもよく、上記ブラックバンク層70は上記画素定義層60と積層して設置され、上記ブラックバンク層70は上記画素定義層60とともに上記開口80を定義する。
本発明の一実施例によれば、上記第1薄膜封止サブ層91及び上記第3薄膜封止サブ層93は無機膜であり、上記第2薄膜封止サブ層92は有機膜である。
本発明の一実施例によれば、上記OLED表示装置はさらに1つのタッチセンサ300を含んでもよい。上記タッチセンサ300は上記第3薄膜封止サブ層93上に設置される。上記タッチセンサ300は1つの第1金属層310及び1つの第2金属層320を含み、上記第1金属層310及び上記第2金属層320の上面上に1つの低反射膜311、321が設置される。
本発明の一実施例によれば、上記カラーフィルム層200はそれぞれ有機発光ダイオード表示装置の赤色画素領域、緑色画素領域及び青色画素領域内に位置する赤色レジスト層211、緑色レジスト層221及び青色レジスト層231を含む。
従来技術に比べて、本発明は有機発光ダイオード表示装置及びその製造方法を提案する。カラーフィルム層を薄膜封止層内に嵌入することによって、有機発光ダイオード表示装置の厚さを減少させることができ、それにより有機発光ダイオード表示装置がさらに優れた可撓性及び屈曲特性を有し、且つ有機発光ダイオード表示装置の光透過率を向上させることができる。また、カラーフィルム層及び薄膜封止層の両方の製造プロセスに互換性があり、インクジェットプリント技術を用いてカラーフィルム層を形成することによって、プロセスが簡単であり、従って表示装置のプロセス時間を短縮させ、表示装置の製造コストを低減させ、且つ製品の欠陥を招くことがない。また、低反射膜をタッチセンサの金属層の上面上に形成することによって、表示装置の光反射の技術的課題を解決することができる。
以上のように、好適実施例を以上に挙げて本発明を開示したが、上記好適実施例は本発明を限定するためのものではなく、当業者は本発明の精神及び範囲内を逸脱せずに、種々の変更や修飾を行うことができ、従って本発明の保護範囲は特許請求の範囲により定められた範囲に準じる。
10 基板
20 緩衝層
30 薄膜トランジスタ素子
40 平坦層
51 陽極
52 発光層
53 陰極層
60 画素定義層
70 ブラックバンク層
80 開口
90 薄膜封止層
91 第1薄膜封止サブ層
92 第2薄膜封止サブ層
93 第3薄膜封止サブ層
200 カラーフィルム層
210 赤色インク液滴
211 赤色レジスト層
220 緑色インク液滴
221 緑色レジスト層
230 青色インク液滴
231 青色レジスト層
300 タッチセンサ
310 第1金属層
311 低反射膜
320 第2金属層
321 低反射膜
410 第1保護層
420 第2保護層
500 カバーガラス
521 赤色発光層
522 緑色発光層
523 青色発光層

Claims (13)

  1. 有機発光ダイオード表示装置であって、1つの有機発光ダイオード表示パネル、及び1つのタッチセンサを含み、
    前記有機発光ダイオード表示パネル上に、有機発光ダイオード素子を保護する薄膜封止層が構成され、
    前記タッチセンサは、前記薄膜封止層上に設置され、前記タッチセンサは1つの第1金属層及び1つの第2金属層を含み、前記第1金属層及び前記第2金属層の上面上に1つの低反射膜が設置され、
    前記低反射膜の材質はブラックマトリクス、酸化クロム又は酸化モリブデンである、有機発光ダイオード表示装置。
  2. 前記有機発光ダイオード表示パネルは、
    1つの基板、1つの画素定義層、及び1つのブラックバンク層を含み、
    前記画素定義層は、前記基板上に設置され、前記画素定義層は1つの開口を定義し、
    前記ブラックバンク層は前記画素定義層と積層して設置され、前記ブラックバンク層は前記画素定義層とともに前記開口を定義し、前記ブラックバンク層及び前記画素定義層の材質はブラックマトリクスである、請求項1に記載の有機発光ダイオード表示装置。
  3. 前記薄膜封止層は、
    1つの第1薄膜封止サブ層、1つの第2薄膜封止サブ層、及び1つの第3薄膜封止サブ層を含み、
    前記第1薄膜封止サブ層及び前記第3薄膜封止サブ層は無機膜であり、前記第2薄膜封止サブ層は有機膜である、請求項1に記載の有機発光ダイオード表示装置。
  4. 前記有機発光ダイオード表示パネルは、さらに
    1つのカラーフィルム層を含み、
    前記カラーフィルム層はそれぞれ前記有機発光ダイオード表示装置の赤色画素領域、緑色画素領域及び青色画素領域内に位置する1つの赤色レジスト層、1つの緑色レジスト層及び1つの青色レジスト層を含む、請求項1に記載の有機発光ダイオード表示装置。
  5. 有機発光ダイオード表示装置であって、1つの基板、1つの画素定義層、1つの第1薄膜封止サブ層、1つのカラーフィルム層、1つの第2薄膜封止サブ層、1つの第3薄膜封止サブ層、及び1つのタッチセンサを含み、
    前記画素定義層は、前記基板上に設置され、前記画素定義層は1つの開口を定義し、
    前記第1薄膜封止サブ層は、前記画素定義層上及び前記開口内に設置され、
    前記カラーフィルム層は、前記開口内に設置され、
    前記第2薄膜封止サブ層は、前記第1薄膜封止サブ層及び前記カラーフィルム層を被覆し、
    前記第3薄膜封止サブ層は、前記第2薄膜封止サブ層上に設置され、
    前記タッチセンサは、前記第3薄膜封止サブ層上に設置され、
    前記タッチセンサは、1つの第1金属層及び1つの第2金属層を含み、前記第1金属層及び前記第2金属層の上面上に1つの低反射膜が設置され、前記低反射膜の材質はブラックマトリクス、酸化クロム又は酸化モリブデンである、有機発光ダイオード表示装置。
  6. さらに1つのブラックバンク層を含み、
    前記ブラックバンク層は前記画素定義層と積層して設置され、前記ブラックバンク層は前記画素定義層とともに前記開口を定義し、前記ブラックバンク層及び前記画素定義層の材質はブラックマトリクスである、請求項に記載の有機発光ダイオード表示装置。
  7. 前記第1薄膜封止サブ層及び前記第3薄膜封止サブ層は無機膜であり、前記第2薄膜封止サブ層は有機膜である、請求項に記載の有機発光ダイオード表示装置。
  8. 前記カラーフィルム層はそれぞれ前記有機発光ダイオード表示装置の赤色画素領域、緑色画素領域及び青色画素領域内に位置する1つの赤色レジスト層、1つの緑色レジスト層及び1つの青色レジスト層を含む、請求項に記載の有機発光ダイオード表示装置。
  9. 有機発光ダイオード表示装置の製造方法であって、
    1つの基板を提供するステップ、
    1つの開口を定義する1つの画素定義層を前記基板上に形成するステップ、
    1つの第1薄膜封止サブ層を前記画素定義層上及び前記開口内に形成するステップ、
    インクジェットプリント技術を用いて1つのカラーフィルム層を前記開口内に形成するステップ、
    1つの第2薄膜封止サブ層を形成して、前記第2薄膜封止サブ層が前記第1薄膜封止サブ層及び前記カラーフィルム層を被覆するようにするステップ、及び
    1つの第3薄膜封止サブ層を前記第2薄膜封止サブ層上に形成するステップを含む、有機発光ダイオード表示装置の製造方法。
  10. 前記方法はさらに、
    1つのブラックバンク層を形成して、前記ブラックバンク層が前記画素定義層と積層して設置され、前記ブラックバンク層が前記画素定義層とともに前記開口を定義するようにするステップを含む、請求項に記載の有機発光ダイオード表示装置の製造方法。
  11. 前記第1薄膜封止サブ層及び前記第3薄膜封止サブ層は無機膜であり、前記第2薄膜封止サブ層は有機膜である、請求項に記載の有機発光ダイオード表示装置の製造方法。
  12. 前記方法はさらに、
    1つのタッチセンサを前記第3薄膜封止サブ層上に形成するステップを含み、
    前記タッチセンサは1つの第1金属層及び1つの第2金属層を含み、前記第1金属層及び前記第2金属層の上面上に1つの低反射膜が設置される、請求項に記載の有機発光ダイオード表示装置の製造方法。
  13. 前記カラーフィルム層はそれぞれ前記有機発光ダイオード表示装置の赤色画素領域、緑色画素領域及び青色画素領域内に位置する1つの赤色レジスト層、1つの緑色レジスト層及び1つの青色レジスト層を含む、請求項に記載の有機発光ダイオード表示装置の製造方法。
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