CN107359258A - 显示基板及其制造方法、显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种显示基板及其制造方法、显示装置。该显示基板包括：基板；像素定义层，定义出多个间隔的像素区，使得像素区形成凹槽，像素定义层包括第一像素定义层与第二像素定义层；第一像素定义层设置在基板一侧；第二像素定义层设置在第一像素定义层背对基板的一侧；其中，第二像素定义层位于第一像素定义层侧壁所定义平面/曲面与基板所定义平面之间；以及有机发光功能层，有机发光功能层覆盖在像素定义层表面，并填充在像素定义层与基板形成的凹槽中。通过上述方案，本发明能够解决或者减轻现有OLED显示器的漏光问题。

Description

显示基板及其制造方法、显示装置
技术领域
本发明涉及显示设备领域，特别是涉及一种显示基板及其制造方法、显示装置。
背景技术
随着有机发光二极管(OLED)越来越来多的运用于显示设备中，有机发光二极管显示技术在保证显示设备亮度的情况下也不断向着高解析度趋势发展。
随着有机发光二极管显示器解析度的提高，所述显示器的像素之间的间距越来越小，这就导致所述显示设备容易产生漏光现象。
发明内容
本发明主要解决的技术问题是提供一种显示基板，能够增加所述显示基板的像素定义层的高度，进而解决其漏光问题而又不影响所述显示基板的发光视角。
为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：提供一种显示基板，所述显示基板包括基板、像素定义层以及有机发光功能层；所述像素定义层定义出多个间隔的像素区，使得所述像素区形成凹槽，所述像素定义层包括第一像素定义层与第二像素定义层；所述第一像素定义层设置在所述基板的一侧；所述第二像素定义层设置在所述第一像素定义层背对所述基板的一侧；所述有机发光功能层填充所述凹槽及所述凹槽之间的所述像素定义层表面；其中，所述第二像素定义层位于所述第一像素定义层侧壁所定义平面/曲面与所述基板所定义平面之间。
为解决上述技术问题，本发明采用的另一个技术方案是：提供一种显示基板的制造方法，包括准备基板、形成像素定义层以及形成有机发光功能层；
所述准备基板包括准备玻璃基板以及在所述玻璃基板表面形成ITO层；
所述像素定义层定义出多个间隔的像素区，使得所述像素区形成凹槽，所述像素定义层包括第一像素定义层与第二像素定义层；述第一像素定义层设置在所述基板的一侧；所述第二像素定义层设置在所述第一像素定义层背对所述基板的一侧；
所述有机发光功能层填充所述凹槽及所述凹槽之间的所述像素定义层表面；其中，所述第二像素定义层位于所述第一像素定义层侧壁所定义平面/曲面与所述基板所定义平面之间。
本发明的有益效果是：区别于现有技术的情况，本发明通过增加一层像素定义层(第二像素定义层)，增加了有机发光功能层中电荷的横向传输路径，减少了漏光现象的产生；同时所述第二像素定义层位于所述第一像素定义层侧壁所定义平面/曲面与所述基板所定义平面之间，可以解决像素定义层影响显示设备的可视角度问题。
附图说明
图1是本发明显示基板一实施例的结构示意图；
图2是图1显示基板在A-A'方向上剖面一实施例的结构示意图；
图3是图1显示基板在A-A'方向上剖面另一实施例的结构示意图；
图4是图1显示基板在A-A'方向上剖面又一实施例的结构示意图；
图5是图1显示基板在A-A'方向上剖面再一实施例的结构示意图；
图6是是本发明显示基板的制备方法一实施例的流程示意图。
具体实施方式
为使本发明解决的技术问题、采用的技术方案和达到的技术效果更加清楚，下面将结合附图对本发明实施例的技术方案作进一步的详细描述。
请参阅图1和图2，其中图1是实施例一的显示基板的结构示意图，图2是图1显示基板在A-A方向上的剖面一实施方式的结构示意图。
参阅图1，本实施方式的显示基板10包括基板20、像素定义层21以及有机发光功能层22，设置所述显示基板10的发光区域DA。所述基板20包括玻璃基板201以及氧化铟锡层(ITO层，以下简称ITO层)202，所述ITO层设置在所述玻璃基板的一侧。
所述像素定义层21包括第一像素定义层211以及第二像素定义层212，所述第一像素定义层211设置在所述ITO层202背对所述玻璃基板201的一侧；所述第二像素定义层212设置在所述第一像素定义区211背对所述ITO层202的一侧；所述有机发光功能层22覆盖在所述像素定义区21表面，并填充在所述像素定义区21与所述基板20形成的凹槽中，且设置在所述凹槽中的所述有机发光功能层被设置在所述ITO层的表面；
其中，所述第二像素定义层212位于所述第一像素定义层211侧壁所定义平面2111与所述基板20所定义平面2021之间。在其他实施方式中，若第二像素定义层是曲面的情况下，该第二像素定义层位于所述第一像素定义层侧壁所定义曲面与所述基板所定义平面之间，在此不做限定。
其中，所述第一像素定义层211的竖截面为梯台，在其他实施方式中，该截面还可以为半圆或者椭圆所述第二像素定义层212是所述第一像素定义层211背对所述基板一面凸起的凸台。
可选地，第二像素定义层212侧壁相对所述第一像素定义层211相应侧壁向内凹陷(如图2所示)，使得覆盖所述第二像素定义层212侧壁的有机发光功能层22部分相对覆盖所述第一像素定义层211侧壁的有机发光功能层22部分向内凹陷。
可选地，如图3所示，第二像素定义层312侧壁相对所述第一像素定义层311相应侧壁向内倾斜(如图3所示)，使得覆盖所述第二像素定义层312侧壁的有机发光功能层32部分相对覆盖所述第一像素定义层311侧壁的有机发光功能层32部分向内倾斜。
可选地，形成所述第一像素定义层211与所述第二像素定义层212可以采用不同的光阻材料，在其他实施方式中，第一像素定义层211与所述第二像素定义层212也可以采用相同的光阻材料，在此不做限定。
可选地，参阅图4，有机发光功能层42填充于所述凹槽内的厚度H大于所述覆盖在像素定义层41侧壁上的厚度h。具体的，二者的关系为h＝HcosA。其中A表示像素定义层侧壁与基板的夹角，cosA表示该夹角的余弦值。
区别于现有技术，本实施例通过在所述第一像素定义层背对所述ITO层的一侧添加所述第二像素定义层，增加了所述像素定义层的高度，增长了所述有机发光功能层覆盖在所述像素定义层表面的长度，增长了电荷的传输路径，能够减少或者防止所述显示基板出现漏光现象。
如图5所示，图5是图1显示基板在A-A方向上再一实施例的剖面的结构示意图。本实施与前述实施例的区别在于本实施例对所述第二像素定义层的位置做出限定，使所述第二像素定义层不影响所述显示基板的视角。
具体地，所述设置在所述凹槽中的所述有机发光功能层被设置在所述ITO层的表面，所述凹槽中的有机发光功能层为发光区域。
其中，将所述有机发光功能层52的发光区域背对所述ITO层的面定义为所述有机发光功能层52的发光面521；所述有机发光功能层52覆盖在所述第一像素定义层511背对所述基板一侧的面是第一视角限定区522；所述有机发光功能层52覆盖所述第二像素定义层512与所述第一像素定义层511接触的面的背面是第二视角定义区523。
其中，所述第一视角限定面522的边缘上的点与所述发光面521上的点形成的范围是所述发光面521上的点的最大发光范围，所述发光面521上的点通过所述两个点之间的连线为所述发光面521上的点的光的极限发射线53，所述极限发射线53与所述第二视角定义区523不相交。
区别于现有技术，本实施例通过限定所述第二像素定义层512表面的所述第二视角定义区523的面积，使所述第二视角定义区523不遮挡所述光的极限发射线53。通过上述方案，增加了所述像素定义层51的高度，增长了所述有机发光功能层52覆盖在所述像素定义层表面的长度，能够减少或者防止所述显示基板出现漏光现象，同时可以防止出现所述像素定义层52高度增加所导致的所述显示器的发光视角减小现象。
参阅图6，图6是本发明显示基板的制造方法一实施方式的流程示意图。
本实施方式的制造方法包括准备基板、形成像素定义层以及形成有机发光功能层。具体包括如下步骤：
S601：准备基板。
其中，该基板包括玻璃基板以及玻璃基板ITO层。
S602：通过光照显影技术制造像素定义层，所述像素定义层包括第一像素定义层以及第二像素定义层，
所述第一像素定义层设置在所述ITO层背对所述玻璃基板的一侧；所述第二像素定义层设置在所述第一像素定义区背对所述ITO层的一侧；所述有机发光功能层覆盖在所述像素定义层表面，并填充在所述像素定义层与所述基板形成的凹槽中，且设置在所述凹槽中的所述有机发光功能层被设置在所述ITO层的表面。
其中，所述第二像素定义层位于所述第一像素定义层侧壁所定义平面/曲面与所述基板所定义平面之间。
可选地，采用透光率渐变的光罩一次性制造所述第一像素定义层与所述第二像素定义层，其中对应所述第二像素定义层的光罩区域透光率不同于所述第一像素定义层未被所述第二像素定义层覆盖的区域所对应的光罩区域透光率。采用上述方案可以将结构相对复杂的所述像素定义层一次成型，减少了制造工序，可以提高生产效率，降低成本。
S603：形成有机发光功能层，所述有机发光功能层填充所述凹槽及所述凹槽之间的所述像素定义层表面；其中，所述第二像素定义层位于所述第一像素定义层侧壁所定义平面/曲面与所述基板所定义平面之间。
其中，制造所述像素定义层使用的材料包括聚酰亚胺、亚克力、酚醛树脂基材料中的至少一种。
本方法是在现有制程的基础上通过添加一层像素定义层来增高像素定义层的高度，进一步增加有机发光功能层在像素定义层上的覆盖长度，增加了电荷的横向传输路径，解决了显示装置的漏光问题；同时对新添加的像素定义层位置做限定，使该像素定义层以及覆盖在其表面的有机发光功能层不遮挡发光区发出的光线，可以防止出现所述像素定义层高度增加所导致的显示器的发光视角减小现象。上述制造显示基板的方法工艺较简单、新增工序少，因此可以节省制造时间降低成本。
本发明一实施例还提供了一种显示装置，包括上述显示基板或采用上述方法制备得到的显示基板，具体请参阅制备方法以及显示基板对应的实施方式，在此不再赘述。
以上所述仅为本发明的实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种显示基板，其特征在于，包括：
基板；
像素定义层，定义出多个间隔的像素区，使得所述像素区形成凹槽，
所述像素定义层包括第一像素定义层与第二像素定义层；所述第一像素定义层设置在所述基板一侧；所述第二像素定义层设置在所述第一像素定义层背对所述基板的一侧；以及
有机发光功能层，填充所述凹槽及所述凹槽之间的所述像素定义层表面；
所述有机发光二极管层覆盖在所述像素定义层表面，并填充在所述像素定义层与所述基板形成的凹槽中；
其中，所述第二像素定义层位于所述第一像素定义层侧壁所定义平面/曲面与所述基板所定义平面之间。
2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，
所述第一像素定义层的竖截面为梯台，所述第二像素定义层是所述第一像素定义层背对所述基板一面凸起的凸台。
3.根据权利要求1～2所述的显示基板，其特征在于，
所述第二像素定义层侧壁相对所述第一像素定义层相应侧壁向内凹陷/倾斜，使得覆盖所述第二像素定义层侧壁的有机发光功能层部分相对覆盖所述第一像素定义层侧壁的有机发光功能层部分向内凹陷/倾斜。
4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，
填充于所述凹槽内的所述有机发光功能层厚度大于所述覆盖在所述像素定义层上的接触面的所述有机发光功能层厚度。
5.根据权利要求1至4任一项所述的显示基板，其特征在于，
所述第一像素定义层与所述第二像素定义层采用相同/不同的光阻材料。
6.一种显示基板的制备方法，其特征在于，包括：
准备基板；
形成像素定义层，所述像素定义层定义出多个间隔的像素区，使得所述像素区形成凹槽，所述像素定义层包括第一像素定义层与第二像素定义层；所述第一像素定义层设置在所述基板一侧；所述第二像素定义层设置在所述第一像素定义层背对所述基板的一侧；以及
形成有机发光功能层，所述有机发光功能层填充所述凹槽及所述凹槽之间的所述像素定义层表面；
其中，所述第二像素定义层位于所述第一像素定义层侧壁所定义平面/曲面与所述基板所定义平面之间。
7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，
制造所述像素定义层使用的材料包括聚酰亚胺、亚克力、酚醛树脂基材料中的至少一种。
8.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，
所述形成像素定义层包括：
采用透光率渐变的光罩一次性制造所述第一像素定义层与所述第二像素定义层，其中对应所述第二像素定义层的光罩区域透光率不同于所述第一像素定义层未被所述第二像素定义层覆盖的区域所对应的光罩区域透光率。
9.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，
制造所述第一像素定义层所使用的光阻材料是正向光阻材料，制造所述第二像素定义层所使用的光阻材料是负向光阻材料；或者，制造所述第一像素定义层所使用的光阻材料是负向光阻材料，制造所述第二像素定义层所使用的光阻材料是正向光阻材料。
10.一种显示装置，其特征在于，包括，其包括如权利要求1-5任一项所述的显示基板或采用如权利要求6-9任一项所述方法制备得到的显示基板。
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