CN107068719B - 一种显示基板、其制作方法及显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种显示基板、其制作方法及显示装置，用以解决如何在不影响显示面板的分辨率的基础上，避免相邻两个子像素之间出现漏光的问题。该显示基板包括：呈矩阵排列的多个子像素，衬底基板，依次设置在衬底基板上的层间绝缘层、至少一个垫高结构以及多条信号线；其中垫高结构在衬底基板上的正投影位于相邻的两个子像素的正投影之间，且位于相邻的两条信号线的正投影之间；两条信号线至少分别覆盖垫高结构的两个侧面。本发明在显示基板中设置了垫高结构，该垫高结构位于相邻的两个子像素之间，且两条信号线分别覆盖垫高结构的两个侧面，因而两条信号线可以有效的遮挡发光层从侧面发出的光线，进而可以避免相邻的两个子像素之间出现漏光的现象。

Description

一种显示基板、其制作方法及显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示基板、其制作方法及显示装置。

背景技术

目前，在采用顶栅型技术制备的底发射OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)显示面板的设计和制造过程中发现，如图1所示，相邻两个子像素R和G之间一般会设置有信号线11，而由于两条信号线11之间存在间隙，因此发光层12发出的光线会通过这个间隙透射出来，造成子像素有漏光的现象出现。尤其是针对底发射的显示方式，在发光层12上方要沉积金属作为反射阴极13，这样，发光层12发出的光照射在数据线上再反射到反射阴极13上，会加剧这种漏光现象。现有技术中通常采用加宽两个相邻子像素间距d的方式来减小漏光的现象，但这样会严重影响OLED显示面板的分辨率，无法满足高分辨率的要求。

综上所述，目前亟待解决的问题是如何在不影响OLED显示面板的分辨率的基础上，避免相邻两个子像素之间出现漏光的现象。

发明内容

本发明的目的是提供一种显示基板、其制作方法及显示装置，用以解决如何在不影响OLED显示面板的分辨率的基础上，避免相邻两个子像素之间出现漏光的问题。

本发明实施例提供的一种显示基板，包括呈矩阵排列的多个子像素，所述显示基板还包括：衬底基板，依次设置在所述衬底基板上的层间绝缘层、至少一个垫高结构、以及多条信号线；其中，

所述垫高结构在所述衬底基板上的正投影位于相邻的两个子像素在所述衬底基板上的正投影之间，且位于相邻的两条信号线在所述衬底基板上的正投影之间；

所述两条信号线至少分别覆盖所述垫高结构的两个侧面。

较佳的，所述显示基板还包括：依次设置在所述多条信号线上方的钝化层和彩膜层；

与所述垫高结构对应的钝化层上远离所述衬底基板的一侧，与所述彩膜层上远离所述衬底基板的一侧齐平。

较佳的，所述显示基板还包括：依次设置在所述彩膜层上方的平坦化层、阳极层、像素定义层、发光层和阴极层；

所述阳极层和所述发光层层叠设置，且位于子像素区域；

所述像素定义层围绕所述阳极层和所述发光层的边缘；

所述像素定义层上靠近所述衬底基板的一侧与所述阳极层上靠近所述衬底基板的一侧齐平、所述像素定义层上远离所述衬底基板的一侧与所述发光层上远离所述衬底基板的一侧齐平；

所述平坦化层和所述阴极层均为平行的一整层结构。

较佳的，所述两条信号线覆盖所述垫高结构上远离所述衬底基板的一侧，且所述两条信号线之间具有间隙。

较佳的，所述信号线包括下列线中的部分或者全部：

数据线、VDD线或外部补偿信号线。

较佳的，所述垫高结构在垂直于所述衬底基板方向上的截面形状为梯形或矩形。

较佳的，所述垫高结构的厚度为1微米-2微米。

较佳的，所述垫高结构的材料为下列之一或组合：聚硅氧烷系材料，亚克力系材料，或聚酰亚胺系材料。

本发明实施例还提供了一种显示装置，该显示装置包括本发明实施例提供的上述任一显示基板。

本发明实施例还提供了一种如本发明实施例提供的上述任一显示基板的制作方法，包括：

在衬底基板上形成层间绝缘层；

在所述层间绝缘层上涂覆一层用于垫高的材料，通过曝光显影工艺，在相邻的两个子像素之间形成至少一个垫高结构；

对形成的所述垫高结构进行烘烤以增加其硬度；

形成层间绝缘层的图案；

在形成有垫高结构的衬底基板上形成多条信号线，使位于相邻的两个子像素之间的相邻的两条信号线，分别位于所述垫高结构的两侧，且使所述两条信号线至少分别覆盖所述垫高结构的两个侧面。

本发明有益效果如下：

本发明实施例提供的显示基板、其制作方法及显示装置，在显示基板中设置了垫高结构，并使垫高结构在衬底基板上的正投影位于相邻的两个子像素在衬底基板上的正投影之间，且位于相邻的两条信号线在衬底基板上的正投影之间，同时使两条信号线分别覆盖垫高结构的两个侧面，由于信号线一般为不透光的结构，因而位于垫高结构两侧的信号线可以有效的遮挡发光层从侧面发出的光线，进而可以避免相邻的两个子像素之间出现漏光的现象。

附图说明

图1为现有技术中显示基板的截面结构示意图；

图2为本发明实施例提供的第一种显示基板的截面结构示意图；

图3为本发明实施例提供的第二种显示基板的截面结构示意图；

图4为本发明实施例提供的显示基板的制作方法的步骤流程图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本发明一部分实施例，并不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

其中，附图中膜层厚度和区域形状不反映其真实比例，目的只是示意说明本发明的内容。

本发明实施例提供的一种显示基板，适用于底发射型或双面显示的显示基板，主要在现有显示基板的基础上，在信号线下方设置了垫高结构，并使两条信号线分别覆盖垫高结构的两个侧面，由于信号线一般为不透光的结构，因而可以有效的遮挡发光层从侧面发出的光线，避免相邻的两个子像素之间出现漏光的现象。下面分别对本发明实施例提供的显示基板、其制作方法及显示装置进行详细的说明。

如图2所示，为本发明实施例提供的第一种显示基板的截面结构示意图；该显示基板包括呈矩阵排列的多个子像素，该显示基板还包括：衬底基板100，依次设置在衬底基板100上的层间绝缘层101、至少一个垫高结构102、以及多条信号线103；其中，垫高结构102在衬底基板100上的正投影位于相邻的两个子像素(R和G)在衬底基板100上的正投影之间，且位于相邻的两条信号线103在衬底基板100上的正投影之间；两条信号线103至少分别覆盖垫高结构102的两个侧面。

图2只是简单示意了显示基板中相邻的两个子像素之间的一部分截面结构图，由于每个像素之间的结构均类似，在此并未完全画出整个显示基板的详细结构，同时，图1仅画出了一个子像素的部分主要结构，例如，图1中并没有画出TFT(Thin Film Transistor，薄膜晶体管)的结构、层间绝缘性和衬底基板之间的结构，以及阴极层之上的其它膜层等；这些没有画出的结构都可以根据需要进行设置，在此不做介绍。

在具体实施时，由于相邻两个子像素(R和G)之间经常会有漏光的现象，因而在显示基板中设置了垫高结构102，为了不影响显示基板的正常发光，将垫高结构102设置在像素定义层108的下方，即使垫高结构102在衬底基板100上的正投影位于相邻的两个子像素(R和G)在衬底基板100上的正投影之间，由于垫高结构102主要是使相邻的两条信号线103延伸到垫高结构的两个侧面，因而将其设置在两条信号线在衬底基板上的正投影之间，同时，由于信号线一般为不透光的结构(一般为金属走线)，因而位于垫高结构两侧的信号线可以有效的遮挡发光层109从侧面发出的光线，以及阴极层110反射的光线。

具体垫高结构设置的方式，可以根据显示基板中不同信号线的排布、以及相邻子像素之间的漏光情况进行设置，较佳的，信号线包括下列线中的部分或者全部：数据线、VDD线或外部补偿信号线。例如，可以在每两个相邻的子像素之间设置一个垫高结构；或者当两个相邻子像素之间设置有两条数据线时，可以在两条数据线之间设置垫高结构，而当两个相邻子像素之间设置有较宽的外部补偿信号线时，不容易发生漏光现象，可以不设置垫高结构。

由于现有技术中通常采用加宽两个相邻子像素间距的方式来减小漏光的现象，但这样会严重影响OLED显示面板的分辨率，无法满足高分辨率的要求，本发明实施例提供的显示基板，在两条信号线之间设置垫高，而并没有改变其它膜层的宽度和厚度，充分利用了显示基板纵向的空间实现遮光效果，拓宽了显示基板设计容限，进而可以在不影响分辨率的基础上解决漏光的问题，提高了显示画面的质量。

本发明实施例提供的显示基板，除了包括上面介绍的层间绝缘层、垫高结构和信号线外，还包括钝化层和彩膜层，如图2所示，较佳的，显示基板还包括：依次设置在多条信号线103上方的钝化层104和彩膜层105；与垫高结构102对应的钝化层104上远离衬底基板100的一侧，与彩膜层105上远离衬底基板100的一侧齐平。

在具体实施时，由于本发明实施例提供的显示基板中，在层间绝缘层和信号线之间增加了垫高结构，而垫高结构上方是一整层的钝化层104，因此，可以使垫高结构正上方的钝化层的上表面(即远离衬底基板的一侧)，与各个子像素区域对应的彩膜层的上表面(即远离衬底基板的一侧)齐平。有助于提高上层平坦化层沉积时的平整度，即不会再出现如图1中所示的段差现象，解决了由于垂直方向上的高度差造成的平坦化层的平整度差的问题，同时还可以进一步改善沉积的阳极层以及像素定义层的形貌，从而降低显示Mura，提高了显示基板的良率。

进一步的，本发明实施例提供的显示基板在增加垫高结构之后，还可以改善其它膜层的结构，如图2所示，较佳的，显示基板还包括：依次设置在彩膜层上方的平坦化层106、阳极层107、像素定义层108、发光层109和阴极层110；阳极层107和发光层109层叠设置，且位于子像素区域(图2中的R和G所示的区域)；像素定义层108围绕阳极层107和发光层109的边缘；像素定义层108上靠近衬底基板100的一侧与阳极层107上靠近衬底基板100的一侧齐平、像素定义层108上远离衬底基板100的一侧与发光层109上远离衬底基板100的一侧齐平；平坦化层106和阴极层110均为平行的一整层结构。

具体的，本发明实施例提供的显示基板还包括：平坦化层106，以及组成OLED器件的阳极层107、像素定义层108、发光层109和阴极层110。图2中包括了两个子像素区域R和G，每个子像素区域包括层叠设置的阳极层107和发光层109，两个子像素区域R和G之间用像素定义层108限定隔开，且使像素定义层的上表面与发光层的上表面齐平，像素定义层的下表面与阳极层的下表面齐平。进而不仅可以提高平坦化层106的平整度，而且可以使阴极层110为平行的一整层结构。

在具体实施时，如图1所示的现有技术中的显示基板，两条信号线之间存在钝化层塌陷的问题，使得最上层的反射阴极位置降低，造成反射光线漏光的问题，本发明实施例在显示基板中设置了垫高结构，在提高钝化层平整度的同时，也提高了两个子像素之间的阴极层与衬底基板之间的高度，从而有效降低了反射光线造成的漏光问题。

图2中所示的显示基板中，两条信号线仅分别覆盖了垫高结构的两个侧面，而为了进一步增加信号线的宽度，可以形成如图3所示的结构，图3为本发明实施例提供的第二种显示基板的截面结构示意图，较佳的，两条信号线覆盖垫高结构上远离衬底基板的一侧，且两条信号线之间具有间隙。

具体的，如图3所示，两条信号线不仅覆盖垫高结构的两个侧面，还可以覆盖垫高结构的部分上表面，但需要保证两条信号线之间具有一定间隙，不会影响信号的传递。本发明实施例提供的显示基板中将信号线搭接在垫高结构上一部分，这样设计的信号线除了具有遮光作用外，还加宽了信号线的线宽，减小了信号线的寄生电阻，有助于减小由于RC延迟和电阻压降造成的显示画面亮度不均等问题。

在具体实施时，为了使垫高结构起到最佳的效果，其设置的厚度需要根据彩膜层和钝化层的厚度进行设置，以便能够提高平坦化层的平整度，较佳的，垫高结构的厚度为1微米-2微米。另外，垫高结构在平行于衬底基板方向上的长度可以根据与其对应的信号线的长度来设定，例如，设置为垫高结构的长度与信号线的长度相等。

而上述垫高结构具体设置的形状，也可以根据需要进行设置，但考虑到需要将信号线搭接到垫高结构的侧面，为了防止信号线因为弯折角度过小而容易发生断裂，较佳的，垫高结构在垂直于衬底基板方向上的截面形状为梯形或矩形。

另外，上述垫高结构的材料，也可以根据需要选取，由于垫高结构位于两条信号线之间，实际制作的宽度较窄，因此，考虑到制作工艺问题，较佳的，垫高结构的材料为下列之一或组合：聚硅氧烷系材料，亚克力系材料，或聚酰亚胺系材料。在制作垫高结构时，可以与平坦化层采用相同的制作材料，不需要引入新的材料，有助于节省成本。同时，为了不影响垫高结构上方的膜层设置，需要选取硬度较高的材料来制作垫高结构，例如，可以选取采用聚硅氧烷系材料中的有机硅制作垫高结构。

基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种显示装置，该显示装置包括本发明实施例提供的上述任一显示基板。该显示装置的实施可以参见上述任一显示基板的实施例，重复之处不再赘述。

本发明实施例还提供了一种如本发明实施例提供的上述任一显示基板的制作方法，由于该制作方法解决问题的原理与本发明实施例提供的显示基板相似，因此该制作方法的实施可以参见显示基板的实施，重复之处不再赘述。

如图4所示，为本发明实施例提供的显示基板的制作方法的步骤流程图，具体可以采用如下步骤实现：

步骤401，在衬底基板上形成层间绝缘层；

步骤402，在层间绝缘层上涂覆一层用于垫高的材料，通过曝光显影工艺，在相邻的两个子像素之间形成至少一个垫高结构；

步骤403，对形成的垫高结构进行烘烤以增加其硬度；

步骤404，形成层间绝缘层的图案；

步骤405，在形成有垫高结构的衬底基板上形成多条信号线，使位于相邻的两个子像素之间的相邻的两条信号线，分别位于垫高结构的两侧，且使两条信号线至少分别覆盖垫高结构的两个侧面。

在具体实施时，本发明实施例制作的显示基板，为了避免相邻子像素之间漏光，显示基板层叠结构自下向上依次为：层间绝缘层、垫高结构、信号线、钝化层、彩膜层、平坦化层、阳极层、像素定义层、发光层和阴极层。在实际制作时，除了增加的垫高结构以外，其它的各个膜层均可以采用现有技术中的方式进行制作，下面对各个膜层的制作方式进行简单介绍。

在执行步骤401之前，实际上需要在衬底基板上形成TFT结构，但由于形成的TFT结构对本发明并无影响，因此没有进行具体介绍，在形成有TFT结构的衬底基板上形成一整层的层间绝缘层。

在执行步骤402时，在形成的层间绝缘层上制作垫高结构，在具体制作时，先在层间绝缘层上涂覆一层用于垫高的材料，例如，有机硅。然后再通过曝光显影工艺，在相邻的两个子像素之间形成至少一个垫高结构。

在形成垫高结构之后，由于垫高结构采用的一般为硬度较软的有机材料，为了不影响上方膜层的制作，还需要增加一下垫高结构的硬度，例如，可以执行步骤403，对形成的垫高结构进行烘烤以增加其硬度。

在垫高结构方法制作信号线之前，由于有些信号线是与TFT结构的源漏极同层制作，因而需要先在层间绝缘层上制作源漏极的过孔，即执行步骤404，形成层间绝缘层的图案。

然后再在垫高结构所在膜层的上方沉积用于制作信号线和源漏极的金属层，在金属层上涂覆光刻胶，刻蚀出源漏极电极图形和信号线的图形，进而在形成有垫高结构的衬底基板上形成多条信号线，使位于相邻的两个子像素之间且相邻的两条信号线分别位于垫高结构的两侧，同时使者两条信号线至少分别覆盖垫高结构的两个侧面。

制作完信号线之后，由于信号线以上的各个膜层的制作工艺并不需要限定，例如，可以采用光刻工艺形成钝化层、彩膜层、平坦化层、阳极层、像素定义层，采用蒸镀或者喷墨打印的方法制作发光层，以及采用蒸镀的方式形成阴极层等，在此不做具体介绍。

综上所述，本发明中实施例的有益效果如下：

1、本发明实施例提供的显示基板、其制作方法及显示装置，在显示基板中设置了垫高结构，并使垫高结构在衬底基板上的正投影位于相邻的两个子像素在衬底基板上的正投影之间，且位于相邻的两条信号线在衬底基板上的正投影之间，同时使两条信号线分别覆盖垫高结构的两个侧面，由于信号线一般为不透光的结构，因而位于垫高结构两侧的信号线可以有效的遮挡发光层从侧面发出的光线，进而可以避免相邻的两个子像素之间出现漏光的现象。

2、本发明实施例提供的显示基板，在两条信号线之间设置垫高，而并没有改变其它膜层的宽度和厚度，充分利用了显示基板纵向的空间实现遮光效果，拓宽了显示基板设计容限，进而可以在不影响分辨率的基础上解决漏光的问题，提高了显示画面的质量。

3、本发明实施例提供的显示基板，与垫高结构对应的钝化层上远离衬底基板的一侧，与彩膜层上远离衬底基板的一侧齐平，这种结构有助于提高上层平坦化层沉积时的平整度，解决了由于垂直方向上的高度差造成的平坦化层的平整度差的问题，同时还可以进一步改善沉积的阳极层以及像素定义层的形貌，从而降低显示Mura，提高了显示基板的良率。

4、本发明实施例提供的显示基板，将信号线搭接在垫高结构上一部分，这样设计的信号线除了具有遮光作用外，还加宽了信号线的线宽，减小了信号线的寄生电阻，有助于减小由于RC延迟和电阻压降造成的显示画面亮度不均等问题。

显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (10)

1.一种显示基板，包括呈矩阵排列的多个子像素，其特征在于，所述显示基板还包括：衬底基板，依次设置在所述衬底基板上的层间绝缘层、至少一个垫高结构、以及多条信号线；其中，

所述垫高结构在所述衬底基板上的正投影位于相邻的两个子像素在所述衬底基板上的正投影之间，且位于相邻的两条信号线在所述衬底基板上的正投影之间；

所述两条信号线至少分别覆盖所述垫高结构的两个侧面。

2.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括：依次设置在所述多条信号线上方的钝化层和彩膜层；

与所述垫高结构对应的钝化层上远离所述衬底基板的一侧，与所述彩膜层上远离所述衬底基板的一侧齐平。

3.如权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括：依次设置在所述彩膜层上方的平坦化层、阳极层、像素定义层、发光层和阴极层；

所述阳极层和所述发光层层叠设置，且位于子像素区域；

所述像素定义层围绕所述阳极层和所述发光层的边缘；

所述像素定义层上靠近所述衬底基板的一侧与所述阳极层上靠近所述衬底基板的一侧齐平、所述像素定义层上远离所述衬底基板的一侧与所述发光层上远离所述衬底基板的一侧齐平；

所述平坦化层和所述阴极层均为平行的一整层结构。

4.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述两条信号线覆盖所述垫高结构上远离所述衬底基板的一侧，且所述两条信号线之间具有间隙。

5.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述信号线包括下列线中的部分或者全部：

数据线、VDD线或外部补偿信号线。

6.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述垫高结构在垂直于所述衬底基板方向上的截面形状为梯形或矩形。

7.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述垫高结构的厚度为1微米-2微米。

8.如权利要求1-7任一项所述的显示基板，其特征在于，所述垫高结构的材料为下列之一或组合：

聚硅氧烷系材料，亚克力系材料，或聚酰亚胺系材料。

9.一种显示装置，其特征在于，该显示装置包括权利要求1-8中任一项所述的显示基板。

10.一种如权利要求1-8任一项所述的显示基板的制作方法，其特征在于，包括：

在衬底基板上形成层间绝缘层；

在所述层间绝缘层上涂覆一层用于垫高的材料，通过曝光显影工艺，在相邻的两个子像素之间形成至少一个垫高结构；

对形成的所述垫高结构进行烘烤以增加其硬度；

形成层间绝缘层的图案；

在形成有垫高结构的衬底基板上形成多条信号线，使位于相邻的两个子像素之间的相邻的两条信号线，分别位于所述垫高结构的两侧，且使所述两条信号线至少分别覆盖所述垫高结构的两个侧面。