JP6983370B1 - 電気接点の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
図1は、実施の形態1に係る真空バルブの断面模式図である。本実施の形態の真空バルブ1は、遮断室2を備えている。遮断室2は、円筒形状の絶縁容器3と、円盤形状の金属蓋5aおよび5bとで構成されている。金属蓋5aおよび5bの両端は、封止金具4aおよび4bで絶縁容器3にそれぞれ固定されている。絶縁容器3、金属蓋5aおよび5bで密封された遮断室2は、真空気密に保たれている。遮断室2内には、固定電極棒6と可動電極棒7とが対向して取り付けられている。固定電極棒6および可動電極棒7の端部には、固定電極8および可動電極9がそれぞれ取り付けられている。また、固定電極8および可動電極9の接触部には、固定電気接点10および可動電気接点11がロウ付けによりそれぞれ取り付けられている。固定電気接点10および可動電気接点11の少なくとも一方には、本実施の形態に係る電気接点が適用されている。
図2は、本実施の形態における電気接点の製造方法の工程を示すフローチャートである。図2に示すように、本実施の形態における電気接点の製造方法は、導電性粒子の粉末と耐アーク性粒子の粉末とを混合する工程S1と、混合粉末を不活性ガスと共に基板の表面に吹き付ける工程S2と、基板の表面に吹き付けられた混合粉末にレーザー光を照射して混合粉末を軟化もしくは溶融させて基板の表面に皮膜を形成する工程S3と、基板の表面に形成された皮膜を冷却固化する工程S4とを備えている。
次に、各工程を詳細に説明する。
導電性粒子としては、例えばCu粒子を用いる。耐アーク性粒子としては、例えばCr粒子、W粒子およびMo粒子の少なくともいずれか1つの粒子を用いる。導電性粒子の粉末と耐アーク性粒子の粉末とを混合して混合粉末とする。混合粉末の質量を100wt%としたときに、導電性粒子の粉末の質量は20wt%以上80wt%以下とする。導電性粒子および耐アーク性粒子の粒径は、0.1μm以上120μm以下が好ましい。これらの粒子の粒径が0.1μm未満の場合、粒子の表面酸化、粒子同士の凝集などの影響を受けやすくなる。これらの粒子の粒径が120μmを超える場合、後述するレーザー光の照射による溶融のときに不完全溶融となり易く、微細化皮膜中での耐アーク性粒子の粒径が大きくなる。
なお、原料粉末の平均粒径は、レーザー回折散乱法を原理とするレーザー回折式粒度分布測定装置を用いて測定することができる。
図3は、本実施の形態における電気接点の製造方法の説明図である。基板21の表面に向かって、供給管22から導電性粒子23と耐アーク性粒子24との混合粉末が不活性ガス25を用いて供給される。このとき、不活性ガス25の供給量の体積は、例えば混合粉末の重量1g当たり0.5リットル以上8.3リットル以下に設定されている。混合粉末の流量は、6〜24g/分の範囲であることが好ましい。また、不活性ガス25の流量は、3〜200リットル/分の範囲が好ましい。不活性ガス25としては、例えばアルゴンガス、窒素ガスなどの非酸化性ガスを用いることができる。混合粉末の重量1g当たりの不活性ガス25の体積が0.5リットル未満の場合、不純物ガスが混合粉末に混入し易くなる。その結果、次の工程において混合粉末が加熱されたときに、混合粉末と不純物ガスとが結合する場合がある。特に酸素が混入した場合、遮断特性を著しく低下させる。混合粉末の重量1g当たりの不活性ガス25の体積が8.3リットルを超える場合、次の工程において混合粉末がレーザー光で加熱された後の冷却速度が速くなりすぎる。加熱された後の混合粉末の冷却速度が速くなりすぎると、混合粉末が基板に付着する前に凝固が始まって成膜が困難となる場合がある。
図3に示すように、基板の表面に吹き付けられた混合粉末にレーザー光26が照射される。基板の表面に吹き付けられた混合粉末は、レーザー光26によって加熱され軟化もしくは溶融した状態となる。この軟化もしくは溶融状態の粉末27が基板21の表面に付着して微細化皮膜が形成される。この工程に用いられるレーザー光には、例えばYAGレーザー(Yttrium Aluminum Garnet Laser)の波長1064nmのレーザー光を用いることができる。なお、YAGレーザーの第二高調波の波長532nmのレーザー光、または第三高調波の波長355nmのレーザー光を用いてもよい。また、YAGレーザーに替えて、炭酸ガスレーザー、エキシマレーザー、半導体レーザーなど他のレーザーを用いてもよい。なお、この工程において、基板に対してレーザー光が照射される角度は、とくに限定されない。
レーザー光が掃引されてレーザー光の照射領域から外れることで、基板の表面に形成された微細化皮膜29が冷却される。このとき、不活性ガスの供給は続けられているので、微細化皮膜29の冷却速度が高まる。例えば、冷却速度が300K/秒以上の場合、微細化皮膜29の内部のCr粒子は1μm以下に微細化される。
[実施例1〜6][比較例1〜5]
実施例1〜6および比較例1〜5の電気接点は、導電性粒子と耐アーク性粒子との混合粉末はすべて同じ条件であり、不活性ガスの供給条件が異なっている。実施例1〜6および比較例1〜5の混合粉末は次のようにして準備した。平均粒径10μmのCu粉末と平均粒径40μmのCr粉末とをV型混合撹拌機を用いて1時間以上混合して均一な混合粉末とした。この混合粉末のCu:Crは、50wt%:50wt%とした。
比較例6〜8の電気接点は、従来技術で製造された電気接点である。比較例6の電気接点は、焼結法で作製されたものである。比較例7の電気接点は、焼結法で作製された電気接点にコンディショニング処理を施したものである。比較例8の電気接点は、溶射法で作製されたものである。なお、比較例6〜8の電気接点において、導電性粒子と耐アーク性粒子との混合粉末はすべて実施例1と同じ条件である。
実施例7および比較例9、10の電気接点は、基板の素材を変更した電気接点である。実施例7の電気接点は、基板に銅クロム合金を用いたものである。比較例9の電気接点は、基板にアルミニウムを用いたものである。比較例10の電気接点は、基板に鉄を用いたものである。
実施例8〜12および比較例11〜16の電気接点は、微細化皮膜の形成方法は同じであり、微細化皮膜のCu含有率が異なっている。微細化皮膜のCu含有率の調整は、Cu粉末とCr粉末とを混合して混合粉末を作製するときのCu粉末とCr粉末との質量比を調整して行った。実施例8〜12および比較例11〜16の電気接点の微細化皮膜の形成方法は、実施例1の形成方法と同じとした。ただし、混合粉末の重量1g当たりのアルゴンガスの体積は、2.5リットルとした。
実施例13〜17および比較例17〜19の電気接点は、微細化皮膜の形成方法は同じであり、微細化皮膜の酸素含有率が異なっている。実施例13〜17および比較例17〜19の電気接点は、実施例1と同様な方法で微細化皮膜を形成した。ただし、原料粉末である混合粉末に付着する酸素量を調整して、微細化皮膜の酸素含有率を調整した。具体的には、実施例13〜17および比較例17〜19の電気接点は、実施例1と同様な微細化皮膜の形成方法において、真空保管から大気暴露後、室温でそれぞれ10、30、60、120、100、150、180および200分間保持した混合粉末を用いた。大気中で保持する時間が長くなるにしたがって混合粉末の表面酸化量が増える。混合粉末の表面酸化量が増えるにしたがって、その混合粉末を用いて形成された微細化皮膜の酸素含有率も増える。
実施例18〜21および比較例20、21の電気接点は、微細化皮膜の形成方法は同じであり、微細化皮膜中のCr粒子の粒径が異なっている。実施例18〜21の電気接点は、実施例1と同様な微細化皮膜の形成方法において、アルゴンガスの体積を混合粉末の重量1gに対してそれぞれ2.0、1.0、0.7および0.5リットルとしたものである。比較例20、21の電気接点は、実施例1と同様な微細化皮膜の形成方法において、アルゴンガスの体積を混合粉末の重量1gに対してそれぞれ0.4および0.2リットルとしたものである。混合粉末の重量1g当たりのアルゴンガスの体積が増えるにしたがって、冷却速度が速くなるため微細化皮膜中のCr粒子の粒径が小さくなる。
実施例22〜24および比較例22、23の電気接点は、微細化皮膜の形成方法は同じであり、微細化皮膜と基板との界面のせん断強度が異なっている。実施例22〜24および比較例22、23の電気接点は、実施例1と同様な微細化皮膜の形成方法において、混合粉末の流量を変化させて微細化皮膜と基板との界面のせん断強度を変化させたものである。なお、アルゴンガスの体積は、混合粉末の重量1gに対して2.5リットルの一定とした。実施例22〜24の電気接点は、混合粉末の流量をそれぞれ8、15、および24g/分としたものである。比較例22、23の電気接点は、混合粉末の流量をそれぞれ33および40g/分としたものである。混合粉末の流量が増えるにしたがって基板に加えられるエネルギーが低下し、基板のメルトプールの温度が低下するため微細化皮膜と基板との界面のせん断強度が低下する。なお、微細化皮膜と基板との界面のせん断強度は、次のようにして測定した。微細化皮膜と基板との界面を側面に露出させた短辺1mmで長辺2mmの長方形の突起を電気接点の表面に切削加工で作製する。この突起に対して微細化皮膜と基板との界面をせん断するように治具を引っかける。この治具に対して突起の短辺と平行な方向に1mm/分で荷重を印加し、微細化皮膜が基板から剥がれるときに加えられている荷重をせん断強度とした。
したがって、例示されていない無数の変形例が、本願明細書に開示される技術の範囲内において想定される。例えば、少なくとも1つの構成要素を変形する場合、追加する場合または省略する場合が含まれるものとする。
Claims (3)
- 導電性粒子の粉末と耐アーク性粒子の粉末との混合粉末を不活性ガスと共に基板の表面に吹き付ける工程と、
前記基板の表面に吹き付けられた前記混合粉末にレーザー光を照射して前記混合粉末を軟化もしくは溶融させて前記基板の表面に皮膜を形成する工程と、
前記基板の表面に形成された前記皮膜を冷却固化する工程とを備えた電気接点の製造方法であって、
前記不活性ガスの体積は、前記混合粉末の重量1g当たり0.5リットル以上8.3リットル以下であることを特徴とする電気接点の製造方法。 - 前記導電性粒子はCu粒子であり、前記耐アーク性粒子はCr粒子、W粒子およびMo粒子の少なくともいずれか1つの粒子であり、前記混合粉末の質量を100wt%としたときに、前記導電性粒子の粉末の質量が20wt%以上80wt%以下であることを特徴とする請求項1に記載の電気接点の製造方法。
- 前記基板は、CuまたはCuとCrとの合金で構成されていることを特徴とする請求項1または2に記載の電気接点の製造方法。
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