JP6979012B2 - 基板搬送装置及び基板搬送ロボットの教示方法 - Google Patents
基板搬送装置及び基板搬送ロボットの教示方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6979012B2 JP6979012B2 JP2018503340A JP2018503340A JP6979012B2 JP 6979012 B2 JP6979012 B2 JP 6979012B2 JP 2018503340 A JP2018503340 A JP 2018503340A JP 2018503340 A JP2018503340 A JP 2018503340A JP 6979012 B2 JP6979012 B2 JP 6979012B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- optical sensor
- board
- hand
- mounting portion
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67739—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
- H01L21/67742—Mechanical parts of transfer devices
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
- H01L21/67259—Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
- B65G47/00—Article or material-handling devices associated with conveyors; Methods employing such devices
- B65G47/74—Feeding, transfer, or discharging devices of particular kinds or types
- B65G47/90—Devices for picking-up and depositing articles or materials
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
- H01L21/67706—Mechanical details, e.g. roller, belt
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67763—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
- H01L21/67766—Mechanical parts of transfer devices
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
- H01L21/681—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment using optical controlling means
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
- B65G2203/00—Indexing code relating to control or detection of the articles or the load carriers during conveying
- B65G2203/04—Detection means
- B65G2203/041—Camera
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
- H01L21/68707—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a robot blade, or gripped by a gripper for conveyance
Description
そして、前記基板支持具は、基板の縁が載置される上向きの面を有する基板載置部と、前記基板載置部の前記円周の半径方向外側で前記基板載置部を支える柱部とを有し、前記基板搬送ハンドは、前記基板支持具を先端側から挿入できるように当該先端側が第1端部と第2端部とに二股に分かれたブレードと、前記第1端部と前記第2端部を繋ぎ且つ前記基板搬送ハンドの軸方向と直交する第1光路を遮る物体を検出する第1光センサと、前記第1端部と前記第2端部を繋ぎ且つ前記第1光路に対して傾いた第2光路を遮る物体を検出する少なくとも1つの第2光センサとを有し、前記コントローラは、前記第1光センサ及び前記少なくとも1つの第2光センサのうち選択された1つの光センサを用いて、前記光センサの光路が前記基板載置部の上方且つ前記柱部と干渉しない検出開始位置へ前記基板搬送ハンドを移動させ、前記検出開始位置から前記光センサで物体を検出した検出位置まで前記基板搬送ハンドを下方へ移動させ、前記基板搬送ハンドが前記検出位置にあるときの前記光センサの光路の所定の位置基準からの高さを前記基板載置部の高さ位置として記憶することを特徴としている。
そして、基板搬送ロボットの教示方法は、前記アームの基軸に対する前記基板載置部の位置に基づいて前記第1光センサ及び前記少なくとも1つの第2光センサのうち使用する光センサを選択し、前記光センサの光路が前記基板載置部の上方且つ前記柱部と干渉しない検出開始位置へ前記基板搬送ハンドを移動し、前記検出開始位置から前記光センサで物体を検出した検出位置まで前記基板搬送ハンドを下方へ移動し、前記基板搬送ハンドが前記検出位置にあるときの前記光センサの光路の所定の位置基準からの高さを前記基板載置部の高さ位置として記憶することを特徴としている。
次に、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。図1は本発明の一実施形態に係る基板搬送装置10を示す図、図2は基板搬送装置10の概略側面図である。図1及び図2に示す基板搬送装置10は、基板受渡装置9と、基板搬送ロボット1とを備えている。基板搬送装置10は、例えば、EFEM(Equipment Front End Module)、ソータ、基板処理システムなどの、各種の基板Wを搬送するシステムに適用されてよい。
本実施形態に係る基板受渡装置9は、同一円周上に配置された3以上の複数の基板支持具90を備えている。以下では、複数の基板支持具90が形成する円周の中心を、基板受渡装置9の「中心O」と称する。
基板搬送ロボット1は、基台11と、基台11に支持されたロボットアーム(以下、「アーム12」と称する)と、アーム12の手先部に連結された基板搬送ハンド(以下、「ハンド13」と称する)と、アーム12及びハンド13の動作を制御するコントローラ15とを備えている。
ここで、基板載置部92の高さ位置を基板搬送ロボット1に教示する処理について説明する。なお、コントローラ15(より詳細には、制御装置51)が、予め記憶された所定のプログラムを読み出して実行することにより、以下に説明する基板載置部92の高さ位置の教示処理が行われる。
9 :基板受渡装置
10 :基板搬送装置
11 :基台
12 :ロボットアーム
13 :基板搬送ハンド
15 :コントローラ
20 :昇降軸
21 :第1リンク
22 :第2リンク
31 :ベース部
32 :ブレード
321 :第1端部
322 :第2端部
33 :支持パッド
34 :プッシャ
40a,40b :センサ支持体
41,42,43 :光センサ
41c,42c,43c :光路
51 :制御装置
60〜63 :駆動装置
90 :基板支持具
91 :柱部
92 :基板載置部
A0〜3 :サーボドライバ
E0〜3 :位置検出器
J1〜3 :関節
L1 :基軸
M0〜3 :サーボモータ
O :(基板受渡装置の)中心
P1 :検出開始位置
P2 :検出位置
W :基板
Claims (5)
- 同一円周上に配置された複数の基板支持具と、
アーム、前記アームの先端部に設けられた基板搬送ハンド、及び、前記アーム及び前記基板搬送ハンドの動作を制御するコントローラを有する基板搬送ロボットとを備え、
前記基板支持具は、基板の縁が載置される上向きの面を有する基板載置部と、前記基板載置部の前記円周の半径方向外側で前記基板載置部を支える柱部とを有し、
前記基板搬送ハンドは、前記基板支持具を先端側から挿入できるように当該先端側が第1端部と第2端部とに二股に分かれたブレードと、前記第1端部と前記第2端部を繋ぎ且つ前記基板搬送ハンドの軸方向と直交する第1光路を遮る物体を検出する第1光センサと、前記第1端部と前記第2端部を繋ぎ且つ前記第1光路に対して傾いた第2光路を遮る物体を検出する少なくとも1つの第2光センサとを有し、
前記コントローラは、前記第1光センサ及び前記少なくとも1つの第2光センサのなかから選択された1つの光センサを用いて、前記光センサの光路が前記基板載置部の上方且つ前記柱部と干渉しない検出開始位置へ前記基板搬送ハンドを移動させ、前記検出開始位置から前記光センサで物体を検出した検出位置まで前記基板搬送ハンドを下方へ移動させ、前記基板搬送ハンドが前記検出位置にあるときの前記光センサの前記光路の所定の位置基準からの高さを前記基板載置部の高さ位置として記憶する、
基板搬送装置。 - 前記基板搬送ハンドが、その光路が交差する複数の前記第2光センサを有する、
請求項1に記載の基板搬送装置。 - 前記コントローラは、前記アームの基軸と前記円周の中心を結ぶ直線に対する前記基板載置部の位置に基づいて、前記第1光センサ及び前記少なくとも1つの第2光センサのなかから使用する光センサを選択する、
請求項1又は請求項2に記載の基板搬送装置。 - アーム及び前記アームの先端部に設けられた基板搬送ハンドを有する基板搬送ロボットに、同一円周上に配置された複数の基板載置部の高さ位置を教示する方法であって、
前記基板載置部は、基板の縁が載置される上向きの面を有し、前記円周の半径方向外側で柱部によって支持されており、
前記基板搬送ハンドは、前記基板載置部を先端側から挿入できるように当該先端側が第1端部と第2端部とに二股に分かれたブレードと、前記第1端部と前記第2端部を繋ぎ且つ前記基板搬送ハンドの軸方向と直交する第1光路を遮る物体を検出する第1光センサと、前記第1端部と前記第2端部を繋ぎ且つ前記第1光路に対して傾いた第2光路を遮る物体を検出する少なくとも1つの第2光センサとを有し、
前記第1光センサ及び前記少なくとも1つの第2光センサのなかから使用する光センサを選択し、
前記光センサの光路が前記基板載置部の上方且つ前記柱部と干渉しない検出開始位置へ前記基板搬送ハンドを移動し、
前記検出開始位置から前記光センサで物体を検出した検出位置まで前記基板搬送ハンドを下方へ移動し、
前記基板搬送ハンドが前記検出位置にあるときの前記光センサの光路の所定の位置基準からの高さを前記基板載置部の高さ位置として記憶する、
基板搬送ロボットの教示方法。 - 前記アームの基軸と前記円周の中心を結ぶ直線に対する前記基板載置部の位置に基づいて、前記第1光センサ及び前記少なくとも1つの第2光センサのなかから使用する前記光センサを選択する、
請求項4に記載の基板搬送ロボットの教示方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201662303765P | 2016-03-04 | 2016-03-04 | |
US62/303,765 | 2016-03-04 | ||
PCT/JP2017/007882 WO2017150551A1 (ja) | 2016-03-04 | 2017-02-28 | 基板搬送装置及び基板搬送ロボットの教示方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2017150551A1 JPWO2017150551A1 (ja) | 2018-12-27 |
JP6979012B2 true JP6979012B2 (ja) | 2021-12-08 |
Family
ID=59742947
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018503340A Active JP6979012B2 (ja) | 2016-03-04 | 2017-02-28 | 基板搬送装置及び基板搬送ロボットの教示方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10395956B2 (ja) |
JP (1) | JP6979012B2 (ja) |
KR (1) | KR102105580B1 (ja) |
CN (1) | CN108780770B (ja) |
TW (1) | TWI628733B (ja) |
WO (1) | WO2017150551A1 (ja) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10903107B2 (en) * | 2017-07-11 | 2021-01-26 | Brooks Automation, Inc. | Semiconductor process transport apparatus comprising an adapter pendant |
JP7049909B2 (ja) * | 2018-05-11 | 2022-04-07 | 川崎重工業株式会社 | 基板搬送ロボット及び基板保持ハンドの光軸ずれ検出方法 |
US10811290B2 (en) * | 2018-05-23 | 2020-10-20 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Systems and methods for inspection stations |
US10867821B2 (en) * | 2018-09-11 | 2020-12-15 | Kawasaki Jukogyo Kabushiki Kaisha | Substrate transfer robot and method of teaching edge position of target body |
JP7149815B2 (ja) * | 2018-11-15 | 2022-10-07 | 川崎重工業株式会社 | ロボットシステム及びその運転方法 |
US10953539B2 (en) * | 2018-12-27 | 2021-03-23 | Kawasaki Jukogyo Kabushiki Kaisha | Substrate transfer robot and automatic teaching method |
KR20220024899A (ko) * | 2019-06-27 | 2022-03-03 | 카와사키 주코교 카부시키 카이샤 | 기판 매핑 장치, 그 매핑 방법 및 매핑 교시 방법 |
KR102473569B1 (ko) | 2020-01-15 | 2022-12-02 | 세메스 주식회사 | 기판 반송 장치 및 이를 구비하는 기판 처리 시스템 |
US20240025052A1 (en) * | 2020-09-03 | 2024-01-25 | Kawasaki Jukogyo Kabushiki Kaisha | Substrate holding hand and substrate conveying robot |
JP2022045522A (ja) * | 2020-09-09 | 2022-03-22 | キヤノントッキ株式会社 | ティーチング装置、基板搬送装置、基板処理装置、ティーチング方法、及び電子デバイスの製造方法 |
JP2022076060A (ja) * | 2020-11-09 | 2022-05-19 | 日本電産サンキョー株式会社 | 産業用ロボットの教示方法 |
US11845179B2 (en) * | 2020-12-22 | 2023-12-19 | Kawasaki Jukogyo Kabushiki Kaisha | Wafer jig, robot system, communication method, and robot teaching method |
Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10233426A (ja) * | 1997-02-20 | 1998-09-02 | Tokyo Electron Ltd | 自動ティ−チング方法 |
JP4402811B2 (ja) * | 2000-05-26 | 2010-01-20 | 東京エレクトロン株式会社 | 被処理体の搬送システムおよび被処理体の位置ずれ量の検出方法 |
JP2002009135A (ja) * | 2000-06-22 | 2002-01-11 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板搬送方法 |
US6822413B2 (en) * | 2002-03-20 | 2004-11-23 | Fsi International, Inc. | Systems and methods incorporating an end effector with a rotatable and/or pivotable body and/or an optical sensor having a light path that extends along a length of the end effector |
JP4276440B2 (ja) * | 2003-01-06 | 2009-06-10 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板検出方法及び装置並びに基板処理装置 |
JP4501103B2 (ja) * | 2003-10-17 | 2010-07-14 | 株式会社安川電機 | 半導体ウェハ搬送ロボットのキャリブレーション方法およびそれを備えた半導体ウェハ搬送ロボット、ウェハ搬送装置 |
JP4047826B2 (ja) * | 2004-03-25 | 2008-02-13 | 東京エレクトロン株式会社 | 縦型熱処理装置及び移載機構の自動教示方法 |
TWI447061B (zh) * | 2005-07-11 | 2014-08-01 | Brooks Automation Inc | 備有自動化對準功能的基板移送裝置 |
JP4313824B2 (ja) * | 2007-03-23 | 2009-08-12 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板移載装置及び基板移載方法並びに記憶媒体 |
CN102046338B (zh) * | 2008-05-27 | 2014-05-07 | 日商乐华股份有限公司 | 输送装置、位置示教方法以及传感器夹具 |
US8688276B2 (en) * | 2008-08-01 | 2014-04-01 | Ulvac, Inc. | Teaching method for transfer robot |
JP5353336B2 (ja) | 2009-03-16 | 2013-11-27 | 株式会社安川電機 | 基板検出装置およびそれを備えた基板搬送装置 |
JP2010284728A (ja) * | 2009-06-09 | 2010-12-24 | Kawasaki Heavy Ind Ltd | 搬送ロボット及び自動教示方法 |
JP5083339B2 (ja) * | 2010-02-04 | 2012-11-28 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板搬送装置及び基板搬送方法並びに記憶媒体 |
KR20130009700A (ko) * | 2011-07-15 | 2013-01-23 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 반송 장치, 기판 처리 시스템, 기판 반송 방법, 및 기억 매체 |
JP5582152B2 (ja) * | 2012-02-03 | 2014-09-03 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板搬送装置、基板搬送方法及び記憶媒体 |
JP6040757B2 (ja) * | 2012-10-15 | 2016-12-07 | 東京エレクトロン株式会社 | 搬送機構の位置決め方法、被処理体の位置ずれ量算出方法及び搬送機構のティーチングデータの修正方法 |
JP5750472B2 (ja) * | 2013-05-22 | 2015-07-22 | 株式会社安川電機 | 基板搬送ロボット、基板搬送システムおよび基板の配置状態の検出方法 |
JP6263017B2 (ja) * | 2013-12-16 | 2018-01-17 | 川崎重工業株式会社 | 基板位置合わせ装置及び基板位置合わせ装置の制御方法 |
JP6303556B2 (ja) * | 2014-02-05 | 2018-04-04 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板搬送機構の位置検出方法、記憶媒体及び基板搬送機構の位置検出装置 |
JP6522325B2 (ja) * | 2014-12-08 | 2019-05-29 | 日本電産サンキョー株式会社 | 産業用ロボットおよび産業用ロボットの教示方法 |
-
2017
- 2017-02-28 JP JP2018503340A patent/JP6979012B2/ja active Active
- 2017-02-28 CN CN201780015069.3A patent/CN108780770B/zh active Active
- 2017-02-28 KR KR1020187028551A patent/KR102105580B1/ko active IP Right Grant
- 2017-02-28 WO PCT/JP2017/007882 patent/WO2017150551A1/ja active Application Filing
- 2017-02-28 US US16/082,213 patent/US10395956B2/en active Active
- 2017-03-03 TW TW106106992A patent/TWI628733B/zh active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201735225A (zh) | 2017-10-01 |
CN108780770A (zh) | 2018-11-09 |
WO2017150551A1 (ja) | 2017-09-08 |
US10395956B2 (en) | 2019-08-27 |
CN108780770B (zh) | 2022-12-06 |
KR102105580B1 (ko) | 2020-04-29 |
KR20180127388A (ko) | 2018-11-28 |
US20190181027A1 (en) | 2019-06-13 |
TWI628733B (zh) | 2018-07-01 |
JPWO2017150551A1 (ja) | 2018-12-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6979012B2 (ja) | 基板搬送装置及び基板搬送ロボットの教示方法 | |
TWI593526B (zh) | Robot teaching methods and robots | |
JP5949799B2 (ja) | パラレルリンクロボット、パラレルリンクロボット用ハンドおよびパラレルリンクロボットシステム | |
US10279485B2 (en) | Robot system and method of detecting deformation of end effector | |
JP5597536B2 (ja) | 搬送ロボットのティーチング方法 | |
US10625953B2 (en) | Robot | |
KR20080107255A (ko) | 액정 반송 로봇 및 그 제어 방법 | |
JP6111065B2 (ja) | 自動教示システム及び教示方法 | |
JP6924112B2 (ja) | 基板搬送装置及び基板搬送ロボットと基板載置部との位置関係を求める方法 | |
JP2020011308A (ja) | マニピュレータ制御装置、マニピュレータ制御方法、及びマニピュレータ制御プログラム | |
JP2016107378A (ja) | 産業用ロボットおよび産業用ロボットの教示方法 | |
JP2010162611A (ja) | 相対ティーチング方法 | |
US10864643B2 (en) | Substrate conveying apparatus | |
WO2019216401A1 (ja) | 基板搬送ロボット及び基板保持ハンドの光軸ずれ検出方法 | |
JP6966913B2 (ja) | 基板搬送装置及び基板載置部の回転軸の探索方法 | |
JP7443142B2 (ja) | 産業用ロボットおよび産業用ロボットの制御方法 | |
WO2022137917A1 (ja) | 基板搬送ロボットの制御装置及び関節モータの制御方法 | |
JP7443141B2 (ja) | 産業用ロボットおよび産業用ロボットの制御方法 | |
JP5892168B2 (ja) | ロボットシステム |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200213 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210413 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210513 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20211019 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20211112 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6979012 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |