JP6970637B2 - フィルム製造装置および両面積層フィルムの製造方法 - Google Patents
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Description
本発明は、フィルム製造装置および両面積層フィルムの製造方法に関する。
従来から、ロールトゥロール方式により、基材フィルムの両面に導電膜を積層して、両面導電性フィルムを製造している。両面導電性フィルムは、その抵抗値(シート抵抗)が所望の範囲内であることが要求されるため、両面の導電膜の抵抗値のそれぞれを測定して、品質不良を発見する必要がある。その方法として、両面導電性フィルムを巻き取る前に、渦電流コイルセンサーなどの非接触式抵抗測定装置を用いて、両面導電性フィルムの抵抗値を測定することが知られている(例えば、特許文献1参照。)。
特許文献1の測定方法は、フィルムの表面に導体層を蒸着した後に、渦電流式コイルセンサーによって表面側導体層の電圧V1を測定し、表面抵抗値R1を算出する工程、フィルムの裏面に導体層を蒸着した後に、渦電流コイルセンサーによって両面導体層の合成電圧V1+2を測定し、両面合成抵抗値R1+2を算出する工程、表面抵抗値R1および両面合成抵抗値R1+2から特定の式を用いて裏面抵抗値R2を算出する工程を備える。
両面導電性フィルムに対して非接触式抵抗測定方法を用いると、検知される渦電流の電圧(ひいては抵抗値)は、表面側導体層の電圧V1と裏面側導体層の電圧V2との合成値V1+2となるため、それぞれの電圧(ひいては抵抗値)を別々に測定することができない。そのため、特許文献1の方法では、表面電圧V1および両面合成電圧V1+2のそれぞれを実測し、次いで、V1およびV1+2のそれぞれに基づいて表面抵抗値R1および両面合成抵抗値R1+2のそれぞれを算出し、次いで、R1およびR1+2に基づいて裏面抵抗値R2を算出している。
ところで、特許文献1の測定方法では、表面抵抗値R1および裏面抵抗値R2のそれぞれを正確に求めるためには、それぞれの測定位置を正確に特定し、それぞれの測定位置を厚み方向に一致させる必要がある。
そして、特許文献1の測定方法に用いられる装置では、表面側の導体層を積層した搬送方向下流側に、第1渦電流式コイルセンサーが表面導電性フィルムに対して対向配置されており、裏面側の導体層を積層した搬送方向下流側に、第2渦電流式コイルセンサーが両面導電性フィルムに対して対向配置されている。
しかしながら、この装置では、第1渦電流式コイルセンサーおよび第2渦電流式コイルセンサーのそれぞれがフィルムに対向配置しているだけである。そのため、第2渦電流式コイルセンサーで両面導電性フィルムを測定する際に、第1渦電流式コイルセンサーで測定された位置(例えば、搬送方向位置)を特定することができず、第1渦電流式コイルセンサーで測定された測定値と、第2渦電流式コイルセンサーで測定された測定値とを整合させることができない。したがって、両側の導体層の抵抗値R1、R2のそれぞれを正確に求めることが困難であり、両側の導体層の抵抗値がそれぞれ所望の範囲となっていることを把握することができない不具合が生じる。
本発明は、両面積層フィルムの両側の物性を所望の範囲に設定することができるフィルム製造装置および両面積層フィルムの製造方法を提供することにある。
本発明[1]は、長尺な両面積層フィルムを製造するフィルム製造装置であって、長尺な基材フィルムの厚み方向一方側に第1層を積層して片面積層フィルムを作製し、前記片面積層フィルムの厚み方向他方側に第2層を積層して両面積層フィルムを作製する積層ユニットと、前記片面積層フィルムおよび前記両面積層フィルムを搬送方向に搬送する搬送ユニットと、前記片面積層フィルムにマークを付与するマーキングユニットと、前記片面積層フィルムおよび前記両面積層フィルムの物性を測定する測定ユニットと、前記測定ユニットの搬送方向上流側に配置され、前記マークを検知する検知ユニットと、前記第1層および前記第2層の前記物性を、前記片面積層フィルムの第1位置における前記物性と前記両面積層フィルムの第2位置における前記物性とに基づいて、求める演算ユニットとを備え、前記演算ユニットは、前記マークを基準として、前記第1位置と厚み方向における略同一位置を前記第2位置とする、フィルム製造装置を含む。
このフィルム製造装置では、マーキングユニットと、検知ユニットと、演算ユニットとを備え、演算ユニットは、マークを基準として、第1位置と略同一である位置を第2位置とする。
このため、片面積層フィルムで測定された第1位置と、両面積層フィルムで測定された第2位置とを一致させることができる。よって、特定位置における第1層の物性と、それと略同一位置における第2層の物性とを正確に算出することができ、第1層および第2層のそれぞれの物性値の不良を精度よく検知することができる。その結果、両層のそれぞれが所望の物性を備える両面積層フィルムを確実に製造することができる。
本発明[2]は、前記第1層が、第1導電層であり、前記第2層が、第2導電層であり、前記物性が、シート抵抗である、[1]に記載のフィルム製造装置を含む。
このフィルム製造装置では、両側の導電層のそれぞれが所望のシート抵抗を備える両面積層フィルムを製造することができる。
本発明[3]は、前記測定ユニットは、前記片面積層フィルムおよび前記両面積層フィルムと対向配置されるプローブユニットと、前記プローブユニットを、前記搬送方向と交差する交差方向に走査させる走査ユニットとをさらに備える、[1]または[2]に記載のフィルム製造装置を含む。
このフィルム製造装置では、プローブユニットを交差方向に走査させる走査ユニットを備える。このため、フィルム製造装置は、両面積層フィルムの搬送方向の任意の箇所に加えて、交差方向の任意の箇所も測定できる。よって、フィルムの交差方向においても所望の物性を備える両面積層フィルムを確実に製造することができる。
本発明[4]は、長尺な両面積層フィルムを製造する方法であって、長尺な基材フィルムの厚み方向一方側に第1層を積層して、片面積層フィルムを作製する第1積層工程と、前記片面積層フィルムを搬送方向に搬送しながら、前記片面積層フィルムの物性を測定する第1測定工程と、前記片面積層フィルムにマークを付与するマーキング工程と、前記片面積層フィルムの厚み方向他方側に第2層を積層して、両面積層フィルムを作製する第2積層工程と、前記マークを検知する検知工程と、前記両面積層フィルムを前記搬送方向に搬送しながら、前記両面積層フィルムの前記物性を測定する第2測定工程と、前記マークを基準として、前記片面積層フィルムの第1位置と厚み方向における略同一位置を前記両面積層フィルムの第2位置とし、かつ、前記第1層および前記第2層の前記物性を、前記片面積層フィルムの前記第1位置における前記物性と前記両面積層フィルムの前記第2位置における前記物性とに基づいて、求める演算工程とを備える、両面積層フィルムの製造方法を含む。
この両面積層フィルムの製造方法では、片面積層フィルムにマークを付与するマーク工程と、そのマークを基準として、片面積層フィルムの第1位置と略同一である位置を両面積層フィルムの第2位置とする演算工程を備える。
このため、片面積層フィルムで測定された第1位置と、両面積層フィルムで測定された第2位置とを一致させることができる。よって、特定位置における第1層の物性と、略同一位置における第2層の物性とを正確に算出することができ、第1層および第2層のそれぞれの物性値の不良を精度よく検知することができる。その結果、両層のそれぞれが所望の物性を備える両面積層フィルムを確実に製造することができる。
本発明[5]は、前記第1層が、第1導電層であり、前記第2層が、第2導電層であり、前記物性が、シート抵抗である、[4]に記載の両面積層フィルムの製造方法を含む。
この製造方法では、両側の導電層のそれぞれが所望のシート抵抗を備える両面積層フィルムを製造することができる。
本発明[6]は、前記第1測定工程は、プローブユニットを、前記片面積層フィルムの前記搬送方向と交差する交差方向に走査させながら、前記片面積層フィルムの前記物性を測定する工程であり、前記第2測定工程は、前記プローブユニットを、前記両面積層フィルムの前記交差方向に走査させながら、前記両面積層フィルムの前記物性を測定する工程であり、第2測定工程において、前記マークに基づいて、前記第1測定工程で前記プローブユニットが走査された前記片面積層フィルムの位置と略同一位置となるように、前記プローブユニットを前記両面積層フィルムに走査させる、[4]または[5]に記載の両面積層フィルムの製造方法を含む。
この製造方法では、プローブユニットを交差方向に走査させながら、片面積層フィルムおよび両面積層フィルムの物性を測定する。また、マークに基づいて、第1測定工程で走査された片面積層フィルムの位置と略同一位置となるように、プローブユニットを両面積層フィルムに走査させる。
このため、フィルム製造装置は、両面積層フィルムの搬送方向の任意の箇所に加えて、交差方向の任意の箇所も測定できる。よって、フィルムの交差方向においても所望の物性を備える両面積層フィルムを確実に製造することができる。
本発明のフィルム製造装置および両面積層フィルムの製造方法によれば、基材フィルムの両側に積層される第1層および第2層のそれぞれが所望の物性を備える両面積層フィルムを製造することができる。
図1において、紙面左右方向は、搬送方向(第1方向、長尺方向、一方向)であり、紙面右側が搬送方向下流側(第1方向一方側、長尺方向一方側)、紙面左側が搬送方向上流側(第1方向他方側、長尺方向他方側)である。紙厚方向は、幅方向(第1方向に直交する第2方向)であり、紙面手前側が幅方向一方側(第2方向一方側)、紙面奥側が幅方向他方側(第2方向他方側)である。紙面上下方向は、上下方向(第1方向および第2方向に直交する第3方向、厚み方向)であり、紙面上側が上側(第3方向一方側、厚み方向一方側)、紙面下側が下側(第3方向他方側、厚方向他方側)である。図1以外の図面についても図1の方向に準拠する。
<一実施形態>
1.フィルム製造装置
図1〜図3を参照して、本発明の一実施形態のフィルム製造装置1を説明する。図1に示すフィルム製造装置1は、搬送方向(一方向)に長尺な両面積層フィルム2を製造するための装置であり、積層搬送装置3と、抵抗測定装置4と、マーキングユニット5と、検知ユニット6と、制御ユニット7とを備える。
1.フィルム製造装置
図1〜図3を参照して、本発明の一実施形態のフィルム製造装置1を説明する。図1に示すフィルム製造装置1は、搬送方向(一方向)に長尺な両面積層フィルム2を製造するための装置であり、積層搬送装置3と、抵抗測定装置4と、マーキングユニット5と、検知ユニット6と、制御ユニット7とを備える。
[積層搬送装置]
積層搬送装置3は、図1に示すように、送出ユニット8と、積層ユニットの一例としてのスパッタユニット9と、巻取ユニット10とを備える。
積層搬送装置3は、図1に示すように、送出ユニット8と、積層ユニットの一例としてのスパッタユニット9と、巻取ユニット10とを備える。
送出ユニット8は、送出ロール11と、第1ガイドロール12と、送出チャンバー13とを備える。
送出ロール11は、後述する基材フィルム40または片面積層フィルム50を送出するための回転軸を有する円柱部材である。送出ロール11は、積層搬送装置3の搬送方向最上流に配置されている。送出ロール11は、送出ロール11を回転させるためのモータ(図示せず)が接続されている。
第1ガイドロール12は、送出ロール11から送出される基材フィルム40または片面積層フィルム50をスパッタユニット9にガイドする回転部材である。第1ガイドロール12は、送出ロール11の搬送方向下流側かつ第2ガイドロール14(後述)の搬送方向上流側に配置されている。
送出チャンバー13は、送出ロール11および第1ガイドロール12を収容するケーシングである。送出チャンバー13には、内部を真空可能とする真空ユニットが設けられている。
スパッタユニット9は、スパッタリング法により、基材フィルム40に第1導電層41(後述)を積層し、片面積層フィルム50に第2導電層51(後述)を積層する。スパッタユニット9は、送出ユニット8の搬送方向下流側かつ巻取ユニット10の搬送方向上流側に、これらと隣接するように配置されている。スパッタユニット9は、第2ガイドロール14と、成膜ロール15と、ターゲット16と、第3ガイドロール17と、成膜チャンバー18とを備える。
第2ガイドロール14は、送出ユニット8から搬送される基材フィルム40または片面積層フィルム50を成膜ロール15にガイドする回転部材である。第2ガイドロール14は、第1ガイドロール12の搬送方向下流側かつ成膜ロール15の搬送方向上流側に配置されている。
成膜ロール15は、基材フィルム40または片面積層フィルム50に第1導電層41または第2導電層51を積層するための回転軸を有する円柱部材である。成膜ロール15は、基材フィルム40または片面積層フィルム50を成膜ロール15の周面に沿ってその周方向に搬送させる。成膜ロール15は、第2ガイドロール14の搬送方向下流側かつ第3ガイドロール17の搬送方向上流側に配置されている。
ターゲット16は、第1導電層41または第2導電層51の材料から形成されている。ターゲット16は、成膜ロール15の付近に配置されている。具体的には、ターゲット16は、成膜ロール15の下側に、成膜ロール15と間隔を隔てて対向配置されている。
第3ガイドロール17は、成膜ロール15から搬送される片面積層フィルム50または両面積層フィルム2を、抵抗測定装置4を介して、巻取ユニット10にガイドする回転部材である。第3ガイドロール17は、第2ガイドロール14の搬送方向下流側かつ第4ガイドロール19(後述)の搬送方向上流側に配置されている。
成膜チャンバー18は、第2ガイドロール14、成膜ロール15、ターゲット16、第3ガイドロール17および抵抗測定装置4(後述)を収容するケーシングである。成膜チャンバー18には、内部を真空可能とする真空ユニットが設けられている。
巻取ユニット10は、第4ガイドロール19と、巻取ロール20と、巻取チャンバー21とを備える。巻取ユニット10は、スパッタユニット9の搬送方向下流側に、スパッタユニット9と隣接するように配置されている。
第4ガイドロール19は、スパッタユニット9から搬送される片面積層フィルム50または両面積層フィルム2を巻取ロール20にガイドする回転部材である。第4ガイドロール19は、第3ガイドロール17の搬送方向下流側かつ巻取ロール20の搬送方向上流側に配置されている。
巻取ロール20は、片面積層フィルム50または両面積層フィルム2を巻き取るための回転軸を有する円柱部材である。巻取ロール20は、基材フィルム40の搬送方向最下流に配置されている。巻取ロール20は、巻取ロール20を回転させるためのモータ(図示せず)が接続されている。
巻取チャンバー21は、巻取ロール20および第4ガイドロール19を収容するケーシングである。巻取チャンバー21には、内部を真空可能とする真空ユニットが設けられている。
送出ロール11および巻取ロール20が、搬送ユニット10の一例を構成する。
[抵抗測定装置]
抵抗測定装置4は、図1に示すように、スパッタユニット9内部に配置されている。具体的には、成膜ロール15および第3ガイドロール17の搬送下流側および第4ガイドロール19および巻取ロール20の搬送方向上流側に配置されている。
抵抗測定装置4は、図1に示すように、スパッタユニット9内部に配置されている。具体的には、成膜ロール15および第3ガイドロール17の搬送下流側および第4ガイドロール19および巻取ロール20の搬送方向上流側に配置されている。
抵抗測定装置4は、図2A〜Bに示すように、非接触型抵抗測定ユニット31(以下、測定ユニット31とも略する。)と、走査ユニット32と、演算ユニット33とを備える。
測定ユニット31は、測定対象(片面積層フィルム50または両面積層フィルム2)と接触しない状態で、測定対象のシート抵抗を測定するユニットであり、具体的には、渦電流式測定ユニットである。測定ユニット31は、測定対象に磁界を印加することにより測定対象内に渦電流を発生させ、渦電流の影響によってコイル36に流れる電流の変化を利用して、導電性フィルム2のシート抵抗を測定する。
測定ユニット31は、プローブユニット34と、測定回路ユニット35とを備える。
プローブユニット34は、測定対象からの情報(磁界など)を受け取るユニットである。具体的には、プローブユニット34は、磁界を測定対象に印加するとともに、測定対象の渦電流による反磁界を電流に変換する。
プローブユニット34は、両面プローブタイプのユニットであり、間隔を隔てて対向配置されている2つのプローブ(34a、34b)を備える。すなわち、プローブユニット34は、測定対象と間隔を隔てて測定対象の上側に配置される上側プローブ34aと、測定対象と間隔を隔てて測定対象の下側に配置される下側プローブ34bとを備える。2つのプローブ(34a、34b)の上下方向距離は、可変である。すなわち、後述する上側走査ユニット32aおよび下側走査ユニット32bの少なくとも一方が、上下方向に移動および固定可能である。
上側プローブ34aおよび下側プローブ34bは、それぞれ、コイル36を備える。上側プローブ34a内に配置されるコイル36と、下側プローブ34b内に配置されるコイル36とは、上下方向に投影したときに、略同一形状となるように設けられている。
コイル36のそれぞれの直径は、例えば、100mm以下、好ましくは、80mm以下、より好ましくは、40mm以下であり、また、例えば、10mm以上である。コイル36の直径が上記上限以下であれば、プローブユニット34がシート抵抗を検知できる測定位置(43、53)の最小面積を小さくすることができ、幅方向の感度(分解能)を向上させることができる。
プローブユニット34間の上下方向距離D(プローブギャップ)は、例えば、5mm以上、好ましくは、10mm以上であり、また、例えば、30mm以下、好ましくは、15mm以下である。
測定回路ユニット35は、2つのコイル36と電気的に接続されている電気回路を備えるユニットである。測定回路ユニット35は、例えば、高周波発振器、コンデンサ、電圧計、電流計、I/V変換回路などの測定ユニット31を駆動するために必要な素子を備える。
走査ユニット32は、プローブユニット34を幅方向(直交方向:交差方向の一例)に移動させるユニットである。走査ユニット32は、上側プローブ34aおよび下側プローブ34bの相対配置(対向配置)を維持しながら、搬送領域25(後述)の幅方向一端部から幅方向他端部までの間を往復移動させる。
走査ユニット32は、上側走査ユニット32aと、下側走査ユニット32bとを備える。
上側走査ユニット32aは、その下面(厚み方向他方面)に上側プローブ34aを保持するスライダ45と、搬送領域25の両端縁を幅方向に跨ぐ直線状のガイド軸(トラバース軸)46とを備える。上側走査ユニット32aでは、スライダ45がガイド軸46にスライド可能に嵌合しており、図示しないモータからの駆動力により、スライダ45がガイド軸46に沿って搬送領域25を幅方向に横切るように直線移動する。
下側走査ユニット32bは、その上面(厚み方向一方面)に下側プローブ34bを保持するスライダ45と、搬送領域25の両端縁を幅方向に跨ぐ直線状のガイド軸(トラバース軸)46とを備える。これらは、上側走査ユニット32aのスライダ45およびガイド軸46と同様である。
演算ユニット33は、メモリ37と、CPU38とを備える。
メモリ37は、測定位置、シート抵抗およびマーク位置のデータを記憶する。具体的には、メモリ37は、第1測定位置43と片面シート抵抗R1との関係を示す第1測定データ、第2測定位置53と両面合成シート抵抗R1+2との関係を示す第2測定データ、および、マーク23と第1測定位置43との関係を示すマークデータを記憶する。
また、メモリ37は、照合プログラムと、算出プログラムとを記憶する。
照合プログラムは、マーク23を基準として、両面積層フィルム2において、第1測定位置43と略同一位置を第2測定位置53と特定する。具体的には、照合プログラムは、マーク23の位置を基準にして、片面積層フィルム50における複数の第1測定位置43のそれぞれと略同一位置である両面積層フィルム2における複数の第2測定位置53のそれぞれを特定する。
算出プログラムは、第1導電層41のシート抵抗(第1層シート抵抗)および第2導電層51のシート抵抗(第2層シート抵抗)を、片面積層フィルム50のシート抵抗(片面シート抵抗R1)と、両面積層フィルム2のシート抵抗(両面合成シート抵抗R1+2)とに基づいて算出する。
CPU38は、上記した照合プログラムおよび算出プログラムを実行して、第1層シート抵抗および第2層シート抵抗を、第1測定位置43における片面シート抵抗R1と、照合プログラムで特定された第2測定位置53における両面合成シート抵抗R1+2とに基づいて、求める。
[マーキングユニット]
マーキングユニット5は、片面積層フィルム50(後述)にマーク23を付与するユニットである。
マーキングユニット5は、片面積層フィルム50(後述)にマーク23を付与するユニットである。
マーキングユニット5は、スパッタユニット9内部に配置されている。マーキングユニット5は、測定ユニット31の搬送方向下流側、かつ、第4ガイドロール19および巻取ロール20の搬送方向上流側に配置されている。
マーキングユニット5としては、例えば、エンボス機、パンチングマシン、レーザーマーカー、インクジェットプリンタなどが挙げられる。
[検知ユニット]
検知ユニット6は、マーキングユニット5で付与されたマーク23を検知するユニットである。
検知ユニット6は、マーキングユニット5で付与されたマーク23を検知するユニットである。
検知ユニット6は、スパッタユニット9内部に配置されている。検知ユニット6は、成膜ロール15および第3ガイドロール17の搬送方向下流側、かつ、測定ユニット31の搬送方向上流側に配置されている。
検知ユニット6としては、例えば、片面積層フィルム50の凹凸や貫通孔などの形状を検知する光学センサ、インクなどの光学パターンを検知する光学センサなどが挙げられる。
[制御ユニット]
制御ユニット7は、積層搬送装置3、抵抗測定装置4、マーキングユニット5および検知ユニット6のそれぞれに電気的に接続されている(図示せず)。制御ユニット7は、これらを連動させてまたは独立して、制御および作動させる。
[制御ユニット]
制御ユニット7は、積層搬送装置3、抵抗測定装置4、マーキングユニット5および検知ユニット6のそれぞれに電気的に接続されている(図示せず)。制御ユニット7は、これらを連動させてまたは独立して、制御および作動させる。
具体的には、制御ユニット7は、マーキングユニット5を作動させて、積層搬送装置3によって搬送される片面積層フィルム50の所定の位置にマーク23を付与する。また、制御ユニット6は、検知ユニット6から送信された情報(マーク位置)に基づいて抵抗測定装置4の演算ユニット33を作動させて、積層搬送装置3によって搬送される両面積層フィルム2の所定の位置(第2測定位置53)のシート抵抗を測定する。
2.フィルムの製造方法
フィルム製造装置1を用いて両面積層フィルム2を製造する方法の一実施形態を説明する。両面積層フィルム2の製造方法は、図3に示すように、第1積層工程、第1測定工程、マーキング工程、第2積層測定工程、検知工程、第2測定工程、第2演算工程および選別工程を備える。
フィルム製造装置1を用いて両面積層フィルム2を製造する方法の一実施形態を説明する。両面積層フィルム2の製造方法は、図3に示すように、第1積層工程、第1測定工程、マーキング工程、第2積層測定工程、検知工程、第2測定工程、第2演算工程および選別工程を備える。
[第1積層工程]
第1積層工程では、図1に示すように、基材フィルム40を搬送しながら、第1層の一例としての第1導電層41を基材フィルム40に積層する。具体的には、基材フィルム40を搬送しながら、スパッタリング法により基材フィルム40の一方面(厚み方向一方側の表面)に第1導電層41を形成する。
第1積層工程では、図1に示すように、基材フィルム40を搬送しながら、第1層の一例としての第1導電層41を基材フィルム40に積層する。具体的には、基材フィルム40を搬送しながら、スパッタリング法により基材フィルム40の一方面(厚み方向一方側の表面)に第1導電層41を形成する。
まず、搬送方向に長尺な基材フィルム40を送出ロール11に配置する。すなわち、長尺な基材フィルム40がロール状に巻回された第1ロール体42を、送出ロール11に装着する。
基材フィルム40としては、例えば、高分子フィルムが挙げられる。高分子フィルムの材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル樹脂、例えば、ポリメタクリレートなどの(メタ)アクリル樹脂、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマーなどのオレフィン樹脂、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂、ポリアリレート樹脂、メラミン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、セルロース樹脂、ポリスチレン樹脂などが挙げられる。
基材フィルム40の幅方向長さ(すなわち、搬送領域25の幅方向長さ)は、例えば、100mm以上、好ましくは、200mm以上であり、また、例えば、5000mm以下、好ましくは、2000mm以下である。
次いで、送出ロール11および巻取ロール20をモータにより回転駆動させて、基材フィルム40を送出ロール11から送り出し、第1ガイドロール12、第2ガイドロール14、成膜ロール15、第3ガイドロール17および第4ガイドロール19を順に搬送して、巻取ロール20により巻き取る。
基材フィルム40の搬送速度(片面積層フィルム50の搬送速度)は、例えば、10mm/秒以上、好ましくは、100mm/秒以上であり、また、例えば、500mm/秒以下、好ましくは、300mm/秒以下である。
これにより、基材フィルム40が、ロールトゥロール方式にて、送出ロール11から巻取ロール20まで搬送方向に搬送される(第1搬送工程)。
次いで、スパッタリングを実施する。すなわち、スパッタユニット9を作動させて、基材フィルム40の一方面に第1導電層41を形成する。
具体的には、真空下の成膜チャンバー18の内部にガス(アルゴンなど)を供給するとともに、電圧を印加して、ガスをターゲット16に衝突させる。その結果、成膜ロール15の下方において、搬送方向上流側から搬送されてくる基材フィルム40の下面に、ターゲット16からはじき出されたターゲット材料が付着され、第1導電層41が形成される。
ターゲット16の材料、すなわち、第1導電層41の材料は、例えば、インジウムスズ複合酸化物、アンチモンスズ複合酸化物などの金属酸化物、例えば、窒化アルミニウム、窒化チタン、窒化タンタル、窒化クロム、窒化ガリウムおよびこれらの複合窒化物などの金属窒化物、例えば、金、銀、銅、ニッケルおよびこれらの合金などの金属などが挙げられる。
これにより、成膜ロール15の下側において、基材フィルム40と、その一方面に積層された第1導電層41とを備える片面積層フィルム50が作製される(第1層形成工程)。
その後、成膜ロール15の下側で作製された片面積層フィルム50は、成膜ロール15および第3ガイドロール17により、搬送方向下流側の抵抗測定装置4に向かって搬送される。
[第1測定工程]
第1測定工程では、図2A〜Bに示すように、片面積層フィルム50を搬送方向に搬送しながら、片面積層フィルム50のシート抵抗(片面シート抵抗R1)を測定する。
第1測定工程では、図2A〜Bに示すように、片面積層フィルム50を搬送方向に搬送しながら、片面積層フィルム50のシート抵抗(片面シート抵抗R1)を測定する。
具体的には、測定ユニット31を作動させる。すなわち、搬送される片面積層フィルム50にプローブユニット34から磁界を印加し、片面積層フィルム50に発生する渦電流によって生じる測定回路ユニット35の電流変化を検知し、その電圧からシート抵抗を算出する。
第1測定工程では、プローブユニット34を幅方向に走査させながら、シート抵抗の測定を実施する。具体的には、プローブユニット34を、搬送領域25の幅方向一端部から幅方向他端部までを往復移動させながら、複数回の測定を実施する。これにより片面積層フィルム50において、複数の第1測定位置43(複数の第1位置)で測定がされる。
搬送領域25は、上下方向(厚み方向)に投影したときに、搬送される片面積層フィルム50または両面積層フィルム2と重なる領域であり、その幅方向長さは、これらの幅方向長さと一致する。
片面積層フィルム50において、複数の第1測定位置43の各領域は、コイル36よりも大きい平面視略円形状を有する。すなわち、第1測定位置の各領域の直径は、コイル36の直径よりも大きい。複数の第1測定位置43の集合体からなるパターン(第1測定パターン)は、搬送方向に進む波形状を有する。
プローブユニット34の走査速度は、例えば、10mm/秒以上、好ましくは、100mm/秒以上であり、また、例えば、500mm/秒以下、好ましくは、300mm/秒以下である。
これにより、片面シート抵抗R1のデータが測定され、メモリ37に記憶される。具体的には、測定位置(複数の第1測定位置43)と、その位置における片面シート抵抗R1との関係を示す第1測定データが得られる。
なお、測定ユニット31では、測定時間(横軸)とその時間における片面シート抵抗R1(縦軸)との関係を示すグラフのデータが得られるが、測定時間に、片面積層フィルム50の搬送速度および走査ユニット32の走査速度を考慮することにより、測定位置が算出される。その結果、測定位置と、その位置における片面シート抵抗R1との関係を示す第1測定データを得ることができる。これは、第2測定工程の第2測定データについても同様である。
[マーキング工程]
マーキング工程では、片面積層フィルム50にマーク23を付与する。具体的には、片面積層フィルム50の第1導電層41にマーク23を付与する。
マーキング工程では、片面積層フィルム50にマーク23を付与する。具体的には、片面積層フィルム50の第1導電層41にマーク23を付与する。
マーク23は、マーキングユニット5の作動によって、メモリ37に記憶されたマークデータに基づいて、マーク23と第1測定位置43との位置関係を予め明確にした所定の位置(例えば、第1測定パターンの開始位置や終了位置など)に付与される。
マーク23としては、例えば、凹部、貫通孔、インクなどが挙げられる。
マーク23のパターンとしては、例えば、多角形状(三角形、四角形など)、円形状(ドット形状、水玉形状など)、バーコード、記号(文字、数字など)などが挙げられる。
マーク23の付与方法としては、例えば、打痕、スクラッチ、パンチング、レーザーマーキング、印刷(インクジェット、塗布)などが挙げられる。
マーク23の付与回数(すなわち、片面積層フィルム50に付与されるマーク23の数)は、1回であってもよく、複数回であってもよい。
マーク位置としては、具体的には、片面積層フィルム50の搬送方向最下端部(すなわち、第1ロール体42における最内側部)、片面積層フィルム50の搬送方向最上端部(すなわち、第1ロール体42における最外側部)、片面積層フィルム50の搬送方向中間部のいずれであってもよい。
その後、マーク23が付与された片面積層フィルム50は、巻取チャンバー21にて、巻取ロール20により巻き取られる。これにより、長尺な片面積層フィルム50がロール状に巻回された第2ロール体52が得られる。
[第2積層工程]
第2積層工程では、片面積層フィルム50を搬送しながら、第2層の一例としての第2導電層51を片面積層フィルム50に積層する。具体的には、片面積層フィルム50を搬送しながら、スパッタリング法により片面積層フィルム50の他方面(厚み方向他方側の表面)に第2導電層51を形成する。
第2積層工程では、片面積層フィルム50を搬送しながら、第2層の一例としての第2導電層51を片面積層フィルム50に積層する。具体的には、片面積層フィルム50を搬送しながら、スパッタリング法により片面積層フィルム50の他方面(厚み方向他方側の表面)に第2導電層51を形成する。
まず、第2ロール体52を送出ロール11に配置する。具体的には、第2ロール体52を巻取ロール20から取り外し、送出ロール11に装着する。
この際、片面積層フィルム50の他方面に第2導電層51が積層されるように、第2ロール体52を装着する。すなわち、第2ロール体52を別のロールを巻きなおして、片面積層フィルム50の一方面と他方面とを反転させる。
次いで、送出ロール11および巻取ロール20をモータにより回転駆動させて、片面積層フィルム50を送出ロール11から送り出し、第1ガイドロール12、第2ガイドロール14、成膜ロール15、第3ガイドロール17および第4ガイドロール19を順に搬送して、巻取ロール20により巻き取る。
片面積層フィルム50の搬送速度(両面積層フィルム2の搬送速度)は、第1積層工程と同様である。
これにより、片面積層フィルム50が、ロールトゥロール方式にて、送出ロール11から巻取ロール20まで搬送方向に搬送される(第2搬送工程)。
次いで、スパッタリングを実施する。すなわち、スパッタユニット9を作動させて、片面積層フィルム50の他方面に第2導電層51を形成する。
スパッタリングの方法および材料は、第1層積層工程と同様である。
これにより、成膜ロール15の下側において、基材フィルム40と、その一方面に積層された第1導電層41と、その他方面に積層された第2導電層51とを備える両面積層フィルム2(両面導電性フィルム)が作製される(第2層形成工程)。
その後、成膜ロール15の下側で作製された両面積層フィルム2は、成膜ロール15および第3ガイドロール17により、搬送方向下流側に向かって搬送される。
[検知工程]
検知工程では、両面積層フィルム2に付与されたマーク23を検知する。
検知工程では、両面積層フィルム2に付与されたマーク23を検知する。
検知ユニット6は、マーク23を検知すると、その検知信号を制御ユニット7に送信する。
[第2測定工程]
第2測定工程は、両面積層フィルム2を搬送方向に搬送しながら、両面積層フィルム2のシート抵抗(両面合成シート抵抗R1+2)を測定する。
第2測定工程は、両面積層フィルム2を搬送方向に搬送しながら、両面積層フィルム2のシート抵抗(両面合成シート抵抗R1+2)を測定する。
具体的には、第1測定工程と同様に、測定ユニット31を作動させる。これにより、搬送される両面積層フィルム2のシート抵抗を算出する。
第2測定工程では、第1測定工程と同様に、プローブユニット34を幅方向に走査させながら、シート抵抗の測定を実施する。具体的には、プローブユニット34を、搬送領域25の幅方向一端部から幅方向他端部までを往復移動させながら、複数の測定を実施する。これにより、両面積層フィルム2において、複数の第2測定位置53(複数の第2位置)で測定がされる。
このとき、マーク23に基づいて、第1測定工程でプローブユニット34が走査された片面積層フィルム50の位置と略同一位置を走査するように、プローブユニット34を両面積層フィルム2に走査させる。
すなわち、検知ユニット6がマーク23を検知した場合に、その検知信号を制御ユニット7に送信する。そして、制御ユニット7は、演算ユニット33を制御して、メモリ37に記憶された複数の第1測定位置43およびマーク位置のデータに基づいて、複数の第1測定位置43と一致する位置を走査するように、走査ユニット32を作動させて、プローブユニット34を両面積層フィルム2に走査させる。また、複数の第2測定位置53と、複数の第1測定位置43とが一致するように、測定ユニット31を作動させて、測定を実施する。
複数の第2測定位置53の集合体からなるパターン(第2測定パターン)も、第1測定パターンと略同一である。第1測定工程で測定される位置と、第2測定工程で測定される位置とは、厚み方向において(すなわち、平面視において)、略同一である。
片面積層フィルム50の走査位置と、両面積層フィルム2の走査位置と略同一であるとは、2つの走査位置の距離が、例えば、200mm以下、好ましくは、100mm以下、より好ましくは、10mm以下、さらに好ましくは、1mm以下であることをいう。
第2測定工程におけるプローブユニット34の走査速度は、第1測定工程と同一速度である。
これにより、両面合成シート抵抗R1+2のデータが測定され、メモリ37に記憶される。具体的には、測定位置(複数の第2測定位置53)と、その位置における両面合成シート抵抗R1+2との関係を示す第2測定データが得られる。なお、両面合成シート抵抗R1+2は、第1導電層41のシート抵抗(第1層シート抵抗)と、第2導電層51のシート抵抗(第2層シート抵抗)とが合成されたシート抵抗である。
[演算工程]
演算工程では、マーク23を基準として、片面積層フィルム50の第1測定位置43と略同一位置を両面積層フィルム2の第2測定位置53とする(照合工程)。次いで、第1層シート抵抗および第2層シート抵抗を、第1測定位置の片面シート抵抗R1と第2測定位置53の両面合成シート抵抗R1+2とに基づいて、求める(算出工程)。
演算工程では、マーク23を基準として、片面積層フィルム50の第1測定位置43と略同一位置を両面積層フィルム2の第2測定位置53とする(照合工程)。次いで、第1層シート抵抗および第2層シート抵抗を、第1測定位置の片面シート抵抗R1と第2測定位置53の両面合成シート抵抗R1+2とに基づいて、求める(算出工程)。
照合工程では、マーク23と複数の第1測定位置43との位置関係を示すマークデータをメモリ37から取得し、マーク23と複数の第2測定位置53との位置関係と照合する。これにより、複数の第1測定位置43のそれぞれと略同一である複数の第2測定位置53のそれぞれを、特定する。
続いて、第1測定位置43で測定された片面シート抵抗R1と、それと対応する第2測定位置53で測定された両面合成シート抵抗R1+2とを、特定する。
具体的な一例として、図4に示すように、複数の第1測定位置43のうち一つの第1測定位置43aにおいて、その一つの第1測定位置43aと略同一位置である一つの第2測定位置53aを特定する。そして、その一つの第1測定位置43aの片面シート抵抗R1と、その一つの第2測定位置53aの両面合成シート抵抗R1+2とを特定する。
なお、第1測定位置43と第2測定位置53とが略同一であるとは、2つの測定位置の距離が、例えば、200mm以下、好ましくは、100mm以下、より好ましくは、10mm以下、さらに好ましくは、1mm以下であることをいう。
算出工程では、第1層シート抵抗を、第1測定位置43の片面シート抵抗R1に基づいて求める。すなわち、第1測定位置43の片面シート抵抗R1を、第1測定位置43の第1層シート抵抗とする。
また、第2層シート抵抗を、第1測定位置43の片面シート抵抗R1と第2測定位置53の両面合成シート抵抗R1+2とに基づいて求める。すなわち、第2測定位置53の第2層シート抵抗を、第1測定位置43の片面シート抵抗R1および第2測定位置53の両面合成シート抵抗R1+2を用いて、下記式に基づいて算出する。
なお、上記R2は、第2層シート抵抗を示す。
このとき、第1測定位置43における片面シート抵抗R1に対して、複数の第2測定位置53における両面合成シートR1+2の中から、照合工程で特定した第2測定位置53における両面合成シート抵抗R1+2を用いる。
これにより、第2層シート抵抗のデータが求められる。その結果、両面積層フィルム2において、略同一位置において測定された第1層シート抵抗および第2層シート抵抗を得ることができる。
[選別工程]
選別工程では、得られる第1層シート抵抗および第2層シート抵抗に基づいて、両面積層フィルム2を選別する。
選別工程では、得られる第1層シート抵抗および第2層シート抵抗に基づいて、両面積層フィルム2を選別する。
具合的には、第1層シート抵抗および第2層シート抵抗のそれぞれに基づいて、所定範囲から外れるシート抵抗の値(不良値)を示すプロットを検知した場合、不良値を示す測定位置を特定する。次いで、その位置における両面積層フィルム2に所望の処置(両面積層フィルム2の排除;第1導電層41および第2導電層52の加工;第1導電層41および第2導電層52におけるガスや電力などの成膜プロセスパラメータのフィードバック制御など)を実施する。
これにより、両側のシート抵抗が所望の範囲内である両面積層フィルム2が製造される。
その後、両面積層フィルム2は、巻取チャンバー21にて、巻取ロール20により巻き取られる。これにより、長尺な両面積層フィルム2がロール状に巻回された第3ロール体54が得られる。
3.作用効果
そして、フィルム製造装置1は、長尺な基材フィルム40の一方側に第1導電層41を積層して片面積層フィルム50を作製し、片面積層フィルム50の他方側に第2導電層51を積層して両面積層フィルム2を作製するスパッタユニット9と、片面積層フィルム50および両面積層フィルム2を搬送方向に搬送する搬送ユニット10と、片面積層フィルム50にマーク23を付与するマーキングユニット5と、片面シート抵抗R1および両面合成シート抵抗R1+2を測定する測定ユニット31と、測定ユニット31の搬送方向上流側に配置され、マーク23を検知する検知ユニット6と、第1層シート抵抗および第2層シート抵抗を、第1測定位置43における片面シート抵抗R1と第2測定位置53における両面合成シート抵抗R1+2とに基づいて、求める演算ユニット33とを備える。そして、演算ユニット33は、マーク23を基準として、第1測定位置43と略同一位置を第2測定位置53とする。
そして、フィルム製造装置1は、長尺な基材フィルム40の一方側に第1導電層41を積層して片面積層フィルム50を作製し、片面積層フィルム50の他方側に第2導電層51を積層して両面積層フィルム2を作製するスパッタユニット9と、片面積層フィルム50および両面積層フィルム2を搬送方向に搬送する搬送ユニット10と、片面積層フィルム50にマーク23を付与するマーキングユニット5と、片面シート抵抗R1および両面合成シート抵抗R1+2を測定する測定ユニット31と、測定ユニット31の搬送方向上流側に配置され、マーク23を検知する検知ユニット6と、第1層シート抵抗および第2層シート抵抗を、第1測定位置43における片面シート抵抗R1と第2測定位置53における両面合成シート抵抗R1+2とに基づいて、求める演算ユニット33とを備える。そして、演算ユニット33は、マーク23を基準として、第1測定位置43と略同一位置を第2測定位置53とする。
このため、片面積層フィルム50で測定された第1測定位置43と、両面積層フィルム2で測定された第2測定位置53とを一致させることができる。よって、特定位置における片面シート抵抗R1と、それと略同一位置である両面合成シート抵抗R1+2とを正確に特定することができる。したがって、特定位置における第1層シート抵抗と、それと略同一位置における第2層シート抵抗とを正確に算出することができ、第1層シート抵抗および第2層シート抵抗のそれぞれの不良を精度よく検知することができる。その結果、両層のそれぞれが所望のシート抵抗を備える両面積層フィルム2を確実に製造することができる。
また、このフィルム製造装置1では、測定ユニット31は、片面積層フィルム50および両面積層フィルム2と対向配置されるプローブユニット34と、プローブユニット34を、幅方向に走査させる走査ユニット32とをさらに備える。
このため、フィルム製造装置1は、両面積層フィルム2の搬送方向の任意の箇所に加えて、幅方向の任意の箇所も測定できる。よって、フィルムの幅においても所望のシート抵抗を備える両面積層フィルム2を確実に製造することができる。
また、このフィルム製造方法では、長尺な基材フィルム40の一方側に第1導電層41を積層して、片面積層フィルム50を作製する第1積層工程と、片面積層フィルム50を搬送方向に搬送しながら、片面シート抵抗R1を測定する第1測定工程と、片面積層フィルム50にマーク23を付与するマーキング工程と、片面積層フィルム50の他方側に第2導電層51を積層して、両面積層フィルム2を作製する第2積層工程と、マーク23を検知する検知工程と、両面積層フィルム2を搬送方向に搬送しながら、両面合成シート抵抗R1+2を測定する第2測定工程と、マーク23を基準として、片面積層フィルム50の第1測定位置43と略同一位置を両面積層フィルム2の第2測定位置53とし、かつ、第1層シート抵抗および第2層シート抵抗を、第1測定位置43における片面シート抵抗R1と第2測定位置53における両面合成シート抵抗R1+2とに基づいて、求める演算工程とを備える。
このため、片面積層フィルム50で測定された第1測定位置43と、両面積層フィルム2で測定された第2測定位置53とを一致させることができる。よって、特定位置における片面シート抵抗R1と、それと略同一位置である両面合成シート抵抗R1+2とを正確に特定することができる。したがって、特定位置における第1層シート抵抗と、それと略同一位置である第2層シート抵抗とを正確に算出することができ、第1層シート抵抗および第2層シート抵抗のそれぞれの不良を精度よく検知することができる。その結果、両層のそれぞれが所望のシート抵抗を備える両面積層フィルム2を確実に製造することができる。
また、このフィルム製造方法では、第1測定工程は、プローブユニット34を、片面積層フィルム50の幅方向に走査させながら、片面シート抵抗を測定する工程であり、第2測定工程は、プローブユニット34を、両面積層フィルム2の幅方向に走査させながら、両面合成シート抵抗を測定する工程である。また、第2測定工程において、マーク23に基づいて、第1測定工程でプローブユニット34が走査された片面積層フィルム50の位置と略同一位置となるように、プローブユニット34を両面積層フィルム2に走査させる。
このため、フィルム製造装置1は、両面積層フィルム2の搬送方向の任意の箇所に加えて、幅方向の任意の箇所も測定できる。よって、フィルムの幅方向においても所望のシート抵抗を備える両面積層フィルム2を確実に製造することができる。
4.変形例
以下の各変形例において、上記した一実施形態と同様の部材および工程については、同一の参照符号を付し、その詳細な説明を省略する。また、各変形例を適宜組み合わせることができる。さらに、各変形例は、特記する以外、一実施形態と同様の作用効果を奏することができる。
以下の各変形例において、上記した一実施形態と同様の部材および工程については、同一の参照符号を付し、その詳細な説明を省略する。また、各変形例を適宜組み合わせることができる。さらに、各変形例は、特記する以外、一実施形態と同様の作用効果を奏することができる。
(第1変形例)
図1に示すフィルム製造装置1を用いて両面積層フィルム2を製造する一実施形態では、同一のスパッタユニット9を用いて、第1導電層41および第2導電層51を積層しているが、例えば、図5に示すように、異なるスパッタユニットを用いて、第1導電層41および第2導電層51を積層することができる。
図1に示すフィルム製造装置1を用いて両面積層フィルム2を製造する一実施形態では、同一のスパッタユニット9を用いて、第1導電層41および第2導電層51を積層しているが、例えば、図5に示すように、異なるスパッタユニットを用いて、第1導電層41および第2導電層51を積層することができる。
図5に示すフィルム製造装置1は、積層搬送装置3と、抵抗測定装置4と、マーキングユニット5と、検知ユニット6とを備える。積層搬送装置3は、送出ユニット8と、第1スパッタユニット61と、第2スパッタユニット62と、巻取ユニット10とを備える。
第1スパッタユニット61は、送出ユニット8の搬送方向下流側および第2スパッタユニット62の搬送方向上流側に配置されており、第2ガイドロール14と、成膜ロール15と、ターゲット16と、第3ガイドロール17と、第5ガイドロール63と、成膜チャンバー18とを備える。
第2スパッタユニット62は、第1スパッタユニット61の搬送方向下流側および巻取ユニット10の搬送方向上流側に配置されており、第6ガイドロール64と、第2ガイドロール14と、成膜ロール15と、ターゲット16と、第3ガイドロール17と、成膜チャンバー18とを備える。
抵抗測定装置4は、第1非接触型抵抗測定ユニット71(以下、第1測定ユニットとも略する。)と、第1走査ユニット72と、第2非接触型抵抗測定ユニット73(以下、第2測定ユニットとも略する。)と、第2走査ユニット74と、演算ユニット33とを備える。
第1測定ユニット71および第1走査ユニット72は、第1スパッタユニット61内部に配置されている。
第1測定ユニット71は、図1に示す測定ユニット31と同様である。第1走査ユニット72は、図1に示す走査ユニット32と同様であり、第1測定ユニット71のプローブユニット34を移動させる。
第2測定ユニット73および第2走査ユニット74は、第2スパッタユニット62内部に配置されている。
第2測定ユニット73は、図1に示す測定ユニット31と同様である。第2走査ユニット74は、図1に示す走査ユニット32と同様であり、第2測定ユニット73のプローブユニット34を移動させる。
演算ユニット33は、第1測定ユニット71および第2測定ユニット73の両方に接続されている。
マーキングユニット5は、第1スパッタユニット61の内部に配置されており、第1測定ユニット71の搬送方向下流側に配置されている。
検知ユニット6は、第2スパッタユニット62の内部に配置されており、成膜ロール15の搬送方向下流側かつ第2測定ユニット73の搬送方向上流側に配置されている。
図5に示すフィルム製造装置1を用いて、両面積層フィルム2を製造する場合、まず、基材フィルム40(第1ロール体42)は、送出ユニット8から搬送方向下流側に送り出され、続いて、第1スパッタユニット61で第1導電層41が積層されて片面積層フィルム50が形成される。続いて、片面積層フィルム50は、第1測定ユニット71にて第1測定位置43の片面シート抵抗R1が測定され、マーキングユニット5にてマーク23が付与される。続いて、第2スパッタユニット62にて第2導電層51が形成されて両面積層フィルム2が形成される。続いて、両面積層フィルム2は、検知ユニット6にてマーク23が検知され、第2測定ユニット73にて第2測定位置53の両面合成抵抗値R1+2が測定される。その後、巻取ユニット10にて巻き取られ、第3ロール体54が得られる。
(第2変形例)
図1に示す実施形態では、マーキングユニット5は、測定ユニット31の搬送方向下流側に配置されているが、例えば、図1の仮想線で示すように、マーキングユニット5は、測定ユニット31の搬送方向上流側、例えば、成膜ロール15の搬送方向上流側に配置してもよい。
図1に示す実施形態では、マーキングユニット5は、測定ユニット31の搬送方向下流側に配置されているが、例えば、図1の仮想線で示すように、マーキングユニット5は、測定ユニット31の搬送方向上流側、例えば、成膜ロール15の搬送方向上流側に配置してもよい。
この場合、第1測定工程の前に、マーキング工程が実施される。また、基材フィルム40にマーキングが実施されるため、片面積層フィルム50の基材フィルム40にマーク23が付与される。
(第3変形例)
図1に示す実施形態では、第1導電層41および第2導電層51の物性として、シート抵抗を測定しているが、例えば、表面粗さ、膜厚などの物性を測定することもできる。
図1に示す実施形態では、第1導電層41および第2導電層51の物性として、シート抵抗を測定しているが、例えば、表面粗さ、膜厚などの物性を測定することもできる。
表面粗さを測定する場合では、プローブユニット34および測定回路ユニット35は、公知または市販の表面粗さ測定器を用いることができる。
また、第1導電層41の表面粗さは、片面積層フィルム50の第1導電層側の第1測定位置43における表面粗さとし、第2導電層51の表面粗さは、両面積層フィルム2の第2導電層側の第2測定位置53における表面粗さとして求める。
(第4変形例)
図1に示す実施形態では、第1層として第1導電層41および第2層として第2導電層51を備える両面積層フィルム2を製造しているが、例えば、第1層および第2層として、導電層以外の層、例えば、熱伝導層、光学調整層などとすることもできる。
図1に示す実施形態では、第1層として第1導電層41および第2層として第2導電層51を備える両面積層フィルム2を製造しているが、例えば、第1層および第2層として、導電層以外の層、例えば、熱伝導層、光学調整層などとすることもできる。
この場合、測定する物性としては、熱伝導度、屈折率、表面粗さ、膜厚などが挙げられる。
(第5変形例)
図1に示す実施形態では、積層ユニットとしてスパッタユニットが設備されているが、これに代えて、例えば、積層ユニットとして、真空蒸着ユニット、化学蒸着ユニットなどを設備することもできる。この場合、積層ユニットは、ターゲット16の代わりに、導電層(41、51)の材料からなる蒸着源を備える。また、積層ユニットは、塗布ユニット、印刷ユニットなどであってもよい。
図1に示す実施形態では、積層ユニットとしてスパッタユニットが設備されているが、これに代えて、例えば、積層ユニットとして、真空蒸着ユニット、化学蒸着ユニットなどを設備することもできる。この場合、積層ユニットは、ターゲット16の代わりに、導電層(41、51)の材料からなる蒸着源を備える。また、積層ユニットは、塗布ユニット、印刷ユニットなどであってもよい。
1 フィルム製造装置
2 両面積層フィルム
3 積層搬送装置
4 抵抗測定装置
5 マーキングユニット
6 検知ユニット
9 スパッタユニット
23 マーク
30 搬送ユニット
31 測定ユニット
32 走査ユニット
33 演算ユニット
34 プローブユニット
40 基材フィルム
41 第1導電層
43 第1測定位置
50 片面積層フィルム
51 第2導電層
53 第2測定位置
2 両面積層フィルム
3 積層搬送装置
4 抵抗測定装置
5 マーキングユニット
6 検知ユニット
9 スパッタユニット
23 マーク
30 搬送ユニット
31 測定ユニット
32 走査ユニット
33 演算ユニット
34 プローブユニット
40 基材フィルム
41 第1導電層
43 第1測定位置
50 片面積層フィルム
51 第2導電層
53 第2測定位置
Claims (6)
- 長尺な両面積層フィルムを製造するフィルム製造装置であって、
長尺な基材フィルムの厚み方向一方側に第1層を積層して片面積層フィルムを作製し、前記片面積層フィルムの厚み方向他方側に第2層を積層して両面積層フィルムを作製する積層ユニットと、
前記片面積層フィルムおよび前記両面積層フィルムを搬送方向に搬送する搬送ユニットと、
前記片面積層フィルムにマークを付与するマーキングユニットと、
前記片面積層フィルムおよび前記両面積層フィルムの物性を測定する測定ユニットと、
前記測定ユニットの搬送方向上流側に配置され、前記マークを検知する検知ユニットと、
前記第1層および前記第2層の前記物性を、前記片面積層フィルムの第1位置における前記物性と前記両面積層フィルムの第2位置における前記物性とに基づいて、求める演算ユニットと
を備え、
前記演算ユニットは、前記マークを基準として、前記第1位置と厚み方向における略同一位置を前記第2位置とすることを特徴とする、フィルム製造装置。 - 前記第1層が、第1導電層であり、
前記第2層が、第2導電層であり、
前記物性が、シート抵抗であることを特徴とする、請求項1に記載のフィルム製造装置。 - 前記測定ユニットは、
前記片面積層フィルムおよび前記両面積層フィルムと対向配置されるプローブユニットと、
前記プローブユニットを、前記搬送方向と交差する交差方向に走査させる走査ユニットと
をさらに備えることを特徴とする、請求項1または2に記載のフィルム製造装置。 - 長尺な両面積層フィルムを製造する方法であって、
長尺な基材フィルムの厚み方向一方側に第1層を積層して、片面積層フィルムを作製する第1積層工程と、
前記片面積層フィルムを搬送方向に搬送しながら、前記片面積層フィルムの物性を測定する第1測定工程と、
前記片面積層フィルムにマークを付与するマーキング工程と、
前記片面積層フィルムの厚み方向他方側に第2層を積層して、両面積層フィルムを作製する第2積層工程と、
前記マークを検知する検知工程と、
前記両面積層フィルムを前記搬送方向に搬送しながら、前記両面積層フィルムの前記物性を測定する第2測定工程と、
前記マークを基準として、前記片面積層フィルムの第1位置と厚み方向における略同一位置を前記両面積層フィルムの第2位置とし、かつ、
前記第1層および前記第2層の前記物性を、前記片面積層フィルムの前記第1位置における前記物性と前記両面積層フィルムの前記第2位置における前記物性とに基づいて、求める演算工程と
を備えることを特徴とする、両面積層フィルムの製造方法。 - 前記第1層が、第1導電層であり、
前記第2層が、第2導電層であり、
前記物性が、シート抵抗であることを特徴とする、請求項4に記載の両面積層フィルムの製造方法。 - 前記第1測定工程は、プローブユニットを、前記片面積層フィルムの前記搬送方向と交差する交差方向に走査させながら、前記片面積層フィルムの前記物性を測定する工程であり、
前記第2測定工程は、前記プローブユニットを、前記両面積層フィルムの前記交差方向に走査させながら、前記両面積層フィルムの前記物性を測定する工程であり、
第2測定工程において、前記マークに基づいて、前記第1測定工程で前記プローブユニットが走査された前記片面積層フィルムの位置と略同一位置となるように、前記プローブユニットを前記両面積層フィルムに走査させることを特徴とする、請求項4または5に記載の両面積層フィルムの製造方法。
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