KR20090120034A - 필름상 박막형성장치 및 방법 - Google Patents

필름상 박막형성장치 및 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 필름상 박막형성장치 및 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 베이스필름에 박막을 형성한 후, 박막을 보호하는 보호필름을 동시에 와인딩하는 필름상 박막형성장치 및 방법에 관한 것이다.
본 발명에 의한 필름상 박막형성장치는 베이스필름을 피딩하는 언와인딩챔버; 상기 베이스필름에 박막을 형성하는 공정챔버; 및 상기 박막이 형성된 증착필름과, 상기 박막을 보호하는 보호필름을 적층하여 함께 와인딩하는 리와인딩챔버;를 포함한다.
Figure P1020080045881
베이스필름. 박막. 보호필름.

Description

필름상 박막형성장치 및 방법{THIN FILM FORMING APPARATUS FOR FILM SHAPE AND METHOD}
본 발명은 필름상 박막형성장치 및 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 베이스필름에 박막을 형성한 후, 박막을 보호하는 보호필름을 동시에 와인딩하는 필름상 박막형성장치 및 방법에 관한 것이다.
일반적으로 필름상에 박막을 형성하기 위하여는 롤투롤(Roll-to-Roll)방식을 이용한다.
도 1을 참조하여 종래 박막형성장치(100)를 설명하면, 공정 중 진공형성을 위한 펌핑수단(150)이 구비되는 공정챔버(110)의 내부에 베이스필름이 권취된 언와인딩롤(120)과 박막이 형성된 증착필름을 권취하는 와인딩롤(130)을 장착하는 제1롤러(120a) 및 제2롤러(130a)가 구비된다.
또한 상기 필름상에 박막을 형성하기 위한 증착부(140)가 구비되는데, 구체적으로는 상기 필름의 피딩경로 상에 구비되는 드럼(141)과, 박막을 형성하는 증착수단(142)이 구비되는데, 도 1에서는 동종 또는 이종의 물질의 박막을 순차적으로 형성하기 위하여 드럼(141)과 증착수단(142)은 각각 1쌍씩 구비됨을 알 수 있다.
이와 같이 구성된 종래의 박막형성장치는 언와인딩롤에서 베이스필름을 피딩하면서, 증착부에서 소정의 박막을 형성한 후, 와인딩롤에 증착필름을 권취하는 것이다.
한편, 박막이 형성된 증착필름은 형성된 박막을 보호하기 위하여 보호필름 적층장치를 이용하여 보호필름과 함께 와인딩한다.
도 2를 참조하면, 보호필름 적층장치(200)는 챔버(210) 내에 박막이 형성된 증착필름(F3)이 권취된 증착필름롤(230)과, 보호필름(F4)이 권취된 보호필름롤(240)이 구비된다. 이를 이용하여 증착필름(F3)과 보호필름(F4)을 적층하는 과정을 살펴보면, 상기 증착필름(F3)의 선단과 보호필름(F4)의 선단을 부착한 상태에서 와인딩롤(250)을 회전하여 보호필름(F3)과 증착필름(F4)을 동시에 권취하는 것이다.
그러나 이와 같이 박막형성장치에서 베이스필름에 박막을 형성하여 증착필름을 제조한 후, 이를 이송하여 다시 보호필름 적층장치에 장착하여야 하기 때문에 공정이 복잡하고 공정시간이 길다는 문제점이 있다. 또한 각각 별도의 장치를 구비하여야 하므로 설비가 복잡하다.
한편, 경우에 따라서는 베이스필름의 양면에 박막을 형성해야 하는 경우가 있는데, 이 경우, 도 1에 도시된 장치를 이용하여 베이스필름의 일측면에 박막을 형성한 후, 다시 리와인딩하면서 타측면에 박막을 형성하기 때문에 공정이 복잡하다.
본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 베이스필름에 박막을 형성한 후, 박막을 보호하는 보호필름을 동시에 와인딩하는 필름상 박막형성장치 및 방법을 제공함에 있다.
위와 같은 기술적 과제를 해결하기 위하여 본 발명에 의한 필름상 박막형성장치는 베이스필름을 피딩하는 언와인딩챔버; 상기 베이스필름에 박막을 형성하는 공정챔버; 및 상기 박막이 형성된 증착필름과, 상기 박막을 보호하는 보호필름을 동시에 와인딩하는 리와인딩챔버;를 포함한다.
특히, 상기 리와인딩챔버는, 상기 공정챔버에서 피딩되는 증착필름과 상기 보호필름을 와인딩하는 리와인딩롤; 및 상기 보호필름을 피딩하는 보호필름롤;을 포함하는 것이 바람직하고, 상기 리와인딩챔버는 상기 증착필름과 보호필름을 열압착하는 가압롤러가 더 구비될 수 있다.
또한 상기 공정챔버는 상기 베이스필름의 양면에 박막을 형성하는 것이 더욱 바람직하다.
이를 위해 상기 공정챔버는, 상기 베이스필름의 일측면이 접하면서 피딩되는 제1드럼과, 상기 베이스필름의 타측면에 박막을 형성하는 제1박막형성수단과, 상기 제1드럼을 거쳐 피딩되는 베이스필름의 타측면이 접하면서 피딩되는 제2드럼과, 상기 베이스필름의 일측면에 박막을 형성하는 제2박막형성수단을 포함한다.
또한 상기 공정챔버는 상기 베이스필름의 양면에 순차적으로 동종 또는 이종 의 박막을 형성하도록 복수개 구비되는 것이 바람직하다.
또한 상기 공정챔버는 상기 베이스필름의 양면에 이산화규소(SiO2) 박막을 형성하는 제1공정챔버와, ITO박막을 형성하는 제2공정챔버를 포함하는 것이 바람직하다.
또한 상기 언와인딩챔버와 공정챔버 사이에 구비되며, 상기 베이스필름의 표면을 개질하는 전처리챔버가 더 구비되는 것이 바람직하다.
또한 상기 전처리챔버는 상기 베이스필름을 플라즈마처리하는 플라즈마발생수단이 더 구비되는 것이 바람직하다.
또한 상기 공정챔버에서 박막이 형성된 상기 증착필름의 저항을 측정하는 저항측정수단 또는 투과율을 측정하는 투과율 측정수단이 구비되는 검사챔버가 더 구비되는 것이 바람직하다.
또한 상기 언와인딩챔버 또는 리와인딩챔버에는 피딩되는 상기 베이스필름을 가열하는 히터가 더 구비되는 것이 바람직하다.
또한 상기 언와인딩챔버와 공정챔버, 또는 상기 공정챔버와 리와인딩챔버 사이에는 개폐수단이 구비되는 것이 바람직하다.
특히, 상기 개폐수단은, 상기 베이스필름 또는 증착필름이 피딩되는 슬릿이 형성된 하우징; 상기 베이스필름 또는 증착필름이 개재된 상태에서 상기 슬릿을 밀폐하는 실링부; 및 상기 실링부를 승강하는 승강부;를 포함하는 것이 바람직하다.
또한 상기 슬릿의 밀폐시 진공도를 유지하기 위하여 상기 슬릿과 연통되는 펌핑홀이 더 형성되는 것이 더욱 바람직하다.
본 발명에 의한 필름상 박막형성방법은 1) 언와인딩롤에서 베이스필름을 언와인딩하는 단계; 2) 상기 베이스필름에 박막을 형성하는 단계; 및 3) 박막이 형성된 증착필름과, 상기 박막을 보호하는 보호필름을 리와인딩롤에 동시에 와인딩하는 단계;를 포함한다.
또한 상기 3)단계는, 상기 증착필름의 선단 일면 또는 양면에 상기 보호필름의 선단을 부착한 상태에서 상기 리와인딩롤에 와인딩하는 것이 바람직하다.
또한 상기 2)단계는, 상기 베이스필름의 양면에 박막을 형성하는 것이 바람직하다.
또한 상기 베이스필름의 일측면에 박막을 형성한 후 타측면에 박막을 형성하거나, 일측면과 타측면에 동시에 박막을 형성하는 것이 바람직하다.
또한 상기 1)단계 전에, 상기 베이스필름을 상기 언와인딩롤 또는 리와인딩롤에 와인딩하면서 아웃가스(Out-Gas)하는 단계가 더 부가되는 것이 바람직하다.
또한 상기 2)단계 전에, 상기 베이스필름의 표면을 개질하는 단계가 더 부가되는 것이 바람직하다.
또한 상기 베이스필름을 플라즈마처리하는 것이 바람직하다.
또한 상기 2)단계 후에, 상기 증착필름의 투과율 또는 저항을 측정하는 단계가 더 부가되는 것이 바람직하다.
또한 2개 이상의 베이스필름에 동시에 박막형성하는 것도 가능한데, 이를 위해 상기 1)단계는 복수의 언와인딩롤이 구비되어 각각 베이스필름을 언와인딩하고, 상기 2)단계는 피딩되는 각각의 베이스필름에 박막을 형성하며, 상기 3)단계는 각각 박막이 형성된 복수의 증착필름과 보호필름을 각각 리와인딩롤에 와인딩한다.
본 발명에 따르면, 베이스필름에 박막을 형성한 후, 박막을 보호하는 보호필름을 동시에 와인딩할 수 있는 효과가 있다.
또한 베이스필름의 일면뿐 아니라 양면에 박막을 형성할 수 있는 효과도 있다.
또한 각 챔버를 별도로 대기분위기로 환원할 수 있다. 따라서 필름의 교체시 공정챔버는 진공분위기를 유지시킨 채, 로딩/언로딩챔버만을 개방할 수 있기 때문에, 펌핑시간을 현저히 단축시킬 수 있는 것이다. 또한, 공정챔버의 오염을 최소화할 수 있다.
마찬가지로, 공정챔버의 유지보수시 각각 개폐수단을 닫아 공정챔버만을 개방하고, 로딩/언로딩챔버의 진공상태를 유지시킬 수도 있는 것이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 의한 필름상 박막형성장치의 구성 및 작동을 설명한다.
도 3을 참조하면, 본 실시예(1)는 언와인딩챔버(10)와, 전처리챔버(50)와, 제1공정챔버(20)와, 제2공정챔버(30)와, 제1 및 제2검사챔버(60,70)와, 리와인딩챔버(40)로 구성되며, 상기 언와인딩챔버(10)와 전처리챔버(50) 사이 및 상기 제2검사챔버(70)와 리와인딩챔버(40) 사이에 개폐수단(G)이 구비되어 있다.
상기 언와인딩챔버(10)는 베이스필름(F1)을 피딩하는 언와인딩롤(11)이 장착된다.
상기 전처리챔버(50)는 상기 언와인딩롤(11)로부터 피딩되는 베이스필름(F1)을 플라즈마 처리하여 표면을 개질하는 것으로서, 플라즈마 발생수단(51)이 구비된다. 상기 플라즈마 발생수단(51)은 공지의 요소이다. 이와 같은 플라즈마처리는 베이스필름(F1)의 표면접착력을 향상시켜 후에 형성될 박막의 결합강도를 향상시킨다.
상기 제1공정챔버(20)는 각각 베이스필름(F1)의 일측면이 접하면서 피딩되는 제1드럼(21)과, 타측면이 접하면서 피딩되는 제2드럼(23)이 구비되며, 상기 제1드럼(21) 및 제2드럼(23)의 외주면 근처에는 제1박막형성수단(22)과 제2박막형성수단(24)이 구비되어 소정의 물질을 증착한다. 상기 제1 및제2 박막형성수단(22, 24)은 스퍼터 등 공지의 요소이다.
즉, 제1드럼(21)과 제2드럼(23)에 접하는 베이스필름(F1)의 면이 서로 다르기 때문에 제1박막형성수단(22)과 제2박막형성수단(24)에 의해 증착되는 면도 서로 다르게 되어, 결과적으로 베이스필름(F1)의 양면에 순차적으로 박막이 형성되는 것이다.
상기 제2공정챔버(30)도 제1공정챔버(20)와 동일한 구성을 한다. 다만 서로 다른 물질을 증착하는데, 상기 제1공정챔버(20)는 상기 베이스필름(F1)의 양면에 이산화규소(SiO2) 박막을 형성하고, 제2공정챔버(30)는 상기 이산화규소 박막이 형 성된 증착필름(F2)의 양면에 ITO박막을 형성한다. 물론, 이와 달리 박막의 물질은 필요에 따라 변경될 수 있고, 더 나아가 동종의 물질을 증착할 수도 있다.
상기 제1 및 제2 검사챔버(60,70)는 상기 제1공정챔버(20)와 제2공정챔버(30) 사이, 상기 제2공정챔버(30)와 리와인딩챔버(40) 사이에 각각 구비된다.
상기 제1 및 제2 검사챔버(60,70)는 상기 제1공정챔버(20)에서 박막이 형성된 증착필름(F2)과, 제2공정챔버(30)에서 박막이 형성된 증착필름(F3)의 저항 또는 투과율을 측정하기 위하여 측정수단(61,71)이 구비된다. 경우에 따라서는 저항측정수단과 투과율 측정수단이 모두 구비될 수도 있고, 이 중 어느 하나만을 구비할 수도 있다.
상기 리와인딩챔버(40)는 상기 제2공정챔버(30)를 통해 박막이 형성된 증착필름(F3)과 박막을 보호하는 보호필름(F4)을 동시에 와인딩하는 리와인딩롤(41)과, 상기 보호필름(F4)을 피딩하는 보호필름롤(42)이 장착된다. 또한 상기 증착필름과 보호필름을 압착하는 한 쌍의 가압롤러(44)가 구비된다. 상기 가압롤러(44)는 압착시 열을 제공할 수 있도록 열원(미도시)이 내장될 수도 있다.
또한 리와인딩챔버(40)와 언와인딩챔버(10)에는 상기 베이스필름(F1)을 수분 등을 아웃가스하기 위한 히터(12,43)가 구비된다.
또한 개폐수단(G)은 상기 챔버들 중 어느 하나를 대기분위기로 환원할 때, 이웃하는 챔버들의 진공상태를 유지하기 위한 구성요소이다. 이에 대하여는 후술한다.
이하에서는 본 실시예의 작동 및 필름상 박막형성방법을 설명한다.
먼저, 리와인딩챔버(40)에 베이스필름(F1)이 권취된 리와인딩롤(41)을 장착하고, 상기 베이스필름(F1)의 선단부를 개폐수단(G), 제2검사챔버(70), 제2공정챔버(30), 제1검사챔버(60), 제1공정챔버(20), 전처리챔버(50) 및 개폐수단(G)을 거쳐 상기 언와인딩챔버(10)의 언와인딩롤(11)에 연결한다.
이 상태에서 상기 리와인딩롤(41)에 권취된 베이스필름(F1)을 피딩하여 언와인딩롤(11)에 권취한다. 이 때, 리와인딩챔버(40)에 구비된 히터(43)와, 언와인딩챔버(10)에 구비된 히터(12)를 통해 상기 베이스필름(F1)을 가열하여 아웃가스한다. 이러한 아웃가싱은 필요에 따라 수차례 반복할 수 있다.
다음으로, 언와인딩롤(11)에 권취된 베이스필름(F1)을 피딩하면서 플라즈마발생시켜 전처리한다.
다음으로, 표면이 전처리된 베이스필름(F1)은 제1공정챔버(20)의 제1드럼(21)과 일측면이 접하면서 피딩되고, 이때 제1박막형성수단(22)을 이용해 타측면에 이산화규소박막을 형성한다. 이어서, 이산화규소박막이 형성된 타측면이 제2드럼(23)에 접하면서 피딩되고, 이때 제2박막형성수단(24)을 이용해 일측면에 이산화규소박막을 형성한다. 즉, 베이스필름(F1)의 양면에 순차적으로 이산화규소박막을 형성하는 것이다.
다음으로, 양면에 이산화규소박막이 형성된 증착필름(F2)의 투과율 또는 저항을 측정한다.
다음으로, 제2공정챔버(30)에서는 제1공정챔버(20)에서와 마찬가지 방법으로 양면에 ITO박막을 순차적으로 형성한다.
다음으로, ITO박막이 형성된 증착필름(F3)의 투과율 또는 저항을 측정한다.
마지막으로, 양면에 이산화규소박막과 ITO박막이 형성된 증착필름(F3)과 보호필름(F4)을 동시에 리와인딩롤(41)에 와인딩한다. 보다 구체적으로 설명하면, 상기 증착필름(F3)의 선단과, 보호필름(F4)의 선단을 부착한 상태에서 상기 리와인딩롤(41)을 회전하면 증착필름(F3)과 보호필름(F4)이 함께 와인딩된다.
도 4a를 참조하면, 개폐수단(G)은 하우징(80)과, 실링부(82)와, 승강부(83)로 구성된다.
상기 하우징(80)은 필름(F)이 피딩되는 슬릿(81)이 형성되어 있다.
상기 실링부(82)는 필름(F)이 상기 슬릿(81)에 개재된 상태에서 하강하여 가압함으로써, 상기 슬릿(81)을 밀폐하는 것이다.
상기 승강부(83)는 상기 실링부(82)를 승강하는 것이다.
또한 상기 슬릿(81)과 연통되는 펌핑홀(85)이 형성되어 있다. 상기 펌핑홀(85)은 펌핑수단(미도시)에 의해 펌핑하기 위한 것이다.
언와인딩챔버(10)에서 피딩되는 필름(F)은 하우징(80)에 형성된 슬릿(81)을 통해 전처리챔버(50)로 피딩된다. 공정 중에는 상기 실링부(82)가 상승된 상태로서 슬릿(81)이 개방되어 있다.
이 상태에서 공정이 완료되어 필름(F)이 감긴 롤을 교체하거나 또는 언와인딩챔버(10)의 유지보수 시에는 도 4b에 도시된 바와 같이, 승강부(83)를 통해 실링부(82)를 하강시킨다.
이러한 동작으로 상기 실링부(82)는 상기 필름(F)을 가압함과 동시에 하우 징(80)에 형성된 슬릿(81)을 밀폐하는 것이다. 한편으로는 상기 펌핑홀(85)을 통해 지속적으로 펌핑하여 개폐수단(G) 자체의 진공도를 유지한다.
이 상태에서 상기 언와인딩챔버(10)를 퍼지하여 대기상태로 형성한 후, 개방하여 필름(F)이 감긴 언와인딩롤을 교체 또는 장착할 수 있고, 유지보수를 할 수 있는 것이다. 물론, 이 때 전처리챔버(50) 및 공정챔버(20,30)와 리와인딩챔버(40) 등은 진공상태를 유지할 수 있다.
도 5를 참조하면, 본 실시예는 언와인딩챔버(10)에 한 쌍의 언와인딩롤(11a, 11b)이 장착되어 각각 피딩된다.
또한, 제1공정챔버(20)는 제1베이스필름(Fa)과 제2베이스필름(Fb) 각각의 양면에 이산화규소박막을 형성하고, 제2공정챔버(30)는 ITO박막을 형성한다.
마지막으로 제1증착필름(Fa)과 제1보호필름을 함께 와인딩하고, 제2증착필름(Fb)과 제2보호필름을 함께 와인딩한다.
이와 같이 구성함으로써 동시에 한 쌍의 베이스필름에 박막을 형성하고, 또한 각각 박막이 형성된 한 쌍의 증착필름을 보호필름과 함께 와인딩할 수 있는 것이다.
도 1은 종래 필름상 박막형성장치를 나타내는 개략도이다.
도 2는 보호필름 적층장치를 도시한 것이다.
도 3은 본 발명에 의한 일실시예를 나타내는 개략도이다.
도 4a 및 도 4b는 도 3에 도시된 실시예의 개폐수단을 도시한 것이다.
도 5는 본 발명에 의한 다른 실시예를 나타내는 개략도이다.

Claims (25)

  1. 베이스필름을 피딩하는 언와인딩챔버;
    상기 베이스필름에 박막을 형성하는 공정챔버; 및
    상기 박막이 형성된 증착필름과, 상기 박막을 보호하는 보호필름을 동시에 와인딩하는 리와인딩챔버;를 포함하는 것을 특징으로 하는 필름상 박막형성장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 리와인딩챔버는,
    상기 공정챔버에서 피딩되는 증착필름과 상기 보호필름을 와인딩하는 리와인딩롤; 및
    상기 보호필름을 피딩하는 보호필름롤;을 포함하는 것을 특징으로 하는 필름상 박막형성장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 리와인딩챔버는 상기 증착필름과 보호필름을 압착하는 가압롤러가 더 구비되는 것을 특징으로 하는 필름상 박막형성장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 가압롤러는 상기 증착필름과 보호필름을 열압착하도록 열원이 구비되는 것을 특징으로 하는 필름상 박막형성장치.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 공정챔버는 상기 베이스필름의 양면에 박막을 형성하는 것을 특징으로 하는 필름상 박막형성장치.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 공정챔버는,
    상기 베이스필름의 일측면이 접하면서 피딩되는 제1드럼과,
    상기 베이스필름의 타측면에 박막을 형성하는 제1박막형성수단과,
    상기 제1드럼을 거쳐 피딩되는 베이스필름의 타측면이 접하면서 피딩되는 제2드럼과,
    상기 베이스필름의 일측면에 박막을 형성하는 제2박막형성수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 필름상 박막형성장치.
  7. 제5항에 있어서,
    상기 공정챔버는 상기 베이스필름의 양면에 순차적으로 동종 또는 이종의 박막을 형성하도록 복수개 구비되는 것을 특징으로 하는 필름상 박막형성장치.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 언와인딩챔버와 공정챔버 사이에 구비되며, 상기 베이스필름의 표면을 개질하는 전처리챔버가 더 구비되는 것을 특징으로 하는 필름상 박막형성장치.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 전처리챔버는 상기 베이스필름을 플라즈마처리하는 플라즈마발생수단이 더 구비되는 것을 특징으로 하는 필름상 박막형성장치.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 공정챔버에서 박막이 형성된 상기 증착필름의 저항을 측정하는 저항측정수단 또는 투과율을 측정하는 투과율 측정수단이 구비되는 검사챔버가 더 구비되는 것을 특징으로 하는 필름상 박막형성장치.
  11. 제1항에 있어서,
    상기 언와인딩챔버 또는 리와인딩챔버에는 피딩되는 상기 베이스필름을 가열하는 히터가 더 구비되는 것을 특징으로 하는 필름상 박막형성장치.
  12. 제1항에 있어서,
    상기 언와인딩챔버와 공정챔버, 또는 상기 공정챔버와 리와인딩챔버 사이에는 개폐수단이 구비되는 것을 특징으로 하는 필름상 박막형성장치.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 개폐수단은,
    상기 베이스필름 또는 증착필름이 피딩되는 슬릿이 형성된 하우징;
    상기 베이스필름 또는 증착필름이 개재된 상태에서 상기 슬릿을 밀폐하는 실링부; 및
    상기 실링부를 승강하는 승강부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 필름상 박막형성장치.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 슬릿의 밀폐시 진공도를 유지하기 위하여 상기 슬릿과 연통되는 펌핑홀이 더 형성되는 것을 특징으로 하는 필름상 박막형성장치.
  15. 1) 언와인딩롤에서 베이스필름을 언와인딩하는 단계;
    2) 상기 베이스필름에 박막을 형성하는 단계; 및
    3) 박막이 형성된 증착필름과, 상기 박막을 보호하는 보호필름을 리와인딩롤에 동시에 와인딩하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 필름상 박막형성방법.
  16. 제15항에 있어서,
    상기 3)단계는,
    상기 증착필름의 선단 일면 또는 양면에 상기 보호필름의 선단을 부착한 상태에서 상기 리와인딩롤에 와인딩하는 것을 특징으로 하는 필름상 박막형성방법.
  17. 제16항에 있어서,
    상기 3)단계는,
    상기 증착필름과 보호필름을 압착하면서 리와인딩하는 것을 특징으로 하는 필름상 박막형성방법.
  18. 제17항에 있어서,
    상기 3)단계는 상기 증착필름과 보호필름을 열압착하면서 리와인딩하는 것을 특징으로 하는 필름상 박막형성방법.
  19. 제15항에 있어서,
    상기 2)단계는,
    상기 베이스필름의 양면에 박막을 형성하는 것을 특징으로 하는 필름상 박막형성방법.
  20. 제19항에 있어서,
    상기 베이스필름의 일측면에 박막을 형성한 후 타측면에 박막을 형성하거나, 일측면과 타측면에 동시에 박막을 형성하는 것을 특징으로 하는 필름상 박막형성방법.
  21. 제15항에 있어서,
    상기 1)단계 전에,
    상기 베이스필름을 상기 언와인딩롤 또는 리와인딩롤에 와인딩하면서 아웃가스(Out-Gas)하는 단계가 더 부가되는 것을 특징으로 하는 필름상 박막형성방법.
  22. 제15항에 있어서,
    상기 2)단계 전에,
    상기 베이스필름의 표면을 개질하는 단계가 더 부가되는 것을 특징으로 하는 필름상 박막형성방법.
  23. 제22항에 있어서,
    상기 베이스필름을 플라즈마처리하는 것을 특징으로 하는 필름상 박막형성방법.
  24. 제15항에 있어서,
    상기 2)단계 후에,
    상기 증착필름의 투과율 또는 저항을 측정하는 단계가 더 부가되는 것을 특징으로 하는 필름상 박막형성방법.
  25. 제15항에 있어서,
    상기 1)단계는 복수의 언와인딩롤이 구비되어 각각 베이스필름을 언와인딩하고,
    상기 2)단계는 피딩되는 각각의 베이스필름에 박막을 형성하며,
    상기 3)단계는 각각 박막이 형성된 복수의 증착필름과 보호필름을 각각 리와인딩롤에 와인딩하는 것을 특징으로 하는 필름상 박막형성방법.
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