JP5959099B2 - 積層体の製造方法 - Google Patents
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Description
図1に、本成膜方法を実施することができる成膜装置1の一例を示す。この成膜装置1には、例えば、ロール状に巻かれた長尺の基体10を収容することができる第1ロール室W1、第2ロール室W2、及び第3ロール室W3と、第1ロール室W1と第3ロール室W3の間に設けた第1成膜室41、第3ロール室W3と第2ロール室W2の間に設けた第2成膜室42、第1ロール室W1と第1成膜室41の間に設けた加熱室31、加熱室31と第1成膜室41の間に設けたプラズマ処理装置40、40’、及び、基体10の経路変更を行うための切替ロール83、83’が含まれる。装置構成を単純化するため、これらの要素は図示のように略一直線状に配置されていてもよい。また、この装置には、本成膜方法を実施することができる要素が含まれていれば足り、他の要素が含まれていてもよい。
本発明は、その技術的思想に包含される、これら種々の変形例を含む。
2 成膜装置
10 基体
29 ガイドロール
31 加熱室
40 プラズマ処理装置
41 第1成膜室
42 第2成膜室
51 第1回転ドラム
52 第2回転ドラム
83 切替ロール
W1 第1ロール室
W2 第2ロール室
W3 第3ロール室
Claims (19)
- 長尺の基体に連続的に真空成膜を行って膜材料の積層体を製造する方法であって、
a) ロール状に巻かれた長尺の基体を第1ロール室から第2ロール室へ向う第1の方向に前記第1ロール室から繰り出す段階、
b) 前記第1の方向に繰り出された前記基体を脱ガスする段階、
c) 前記脱ガスされた前記基体の第1の面に前記第1成膜室において第1の膜材料を成膜する段階、
d) 前記第1の膜材料が成膜された前記基体を、前記第2ロール室から前記第1ロール室へ向う第2の方向で前記第2成膜室へ案内し、前記第2の方向に案内中の前記基体の前記第1の面とは反対側の第2の面に前記第2成膜室において第2の膜材料を成膜する段階、
e) 前記第1の面に前記第1の膜材料が成膜され且つ前記第2の面に前記第2の膜材料が成膜された前記基体を前記第1ロール室と前記第2ロール室の間に設けた第3ロール室でロール状に巻取る段階、
f) 前記第3ロール室で巻き取った前記基体を前記第1の方向に前記第1ロール室から繰り出す段階、
g) 繰り出された前記基体を前記第1の方向で前記第1成膜室へ案内し、前記第1の方向に案内中の前記基体の前記第1又は第2の面に前記第1成膜室において第3の膜材料を成膜する段階、
h) 前記第3の膜材料が成膜された前記基体を、前記第2の方向で前記第2成膜室へ案内し、前記第2の方向に案内中の前記基体の前記第2又は第1の面に前記第2成膜室において第4の膜材料を成膜する段階、
i) 前記基体の前記第1の面において前記第1の膜材料の上に前記第3又は第4の膜材料が積層され、前記基体の前記第2の面において前記第2の膜材料の上に前記第4又は第3の膜材料が積層された前記基体を前記第3ロール室でロール状に巻取る段階、
を有することを特徴とする製造方法。 - 前記基体の前記第1の面に前記第1の膜材料が成膜され且つ前記基体の前記第2の面に前記第2の膜材料が成膜された前記基体にアニール処理を施す段階を更に備えた請求項1に記載の製造方法。
- 前記基体の前記第1の面に前記第1の膜材料が成膜され且つ前記基体の前記第2の面に前記第2の膜材料が成膜された前記基体を前記第3ロール室で巻取った後、前記第3ロール室と前記第3ロール室と相隣り合う室との間に設けたロードロック機構を用いて、前記基体の一部を前記ロードロック機構に連通させつつ前記第3ロール室と前記相隣り合う室との間を遮蔽した状態で、前記第3ロール室にて前記基体の取り外しを行う請求項1又は2に記載の製造方法。
- 前記第3ロール室で巻き取った前記基体を前記第1の方向に前記第1ロール室から繰り出すにあたり、前記第1ロール室と前記第1ロール室と相隣り合う室との間に設けたロードロック機構を用いて、前記基体の一部を前記ロードロック機構に連通させつつ前記第1ロール室と前記相隣り合う室との間を遮蔽した状態で、前記第1ロール室にてセットする請求項1乃至3のいずれかに記載の製造方法。
- 前記第1ロール室から繰り出された後であって前記第1の膜材料が成膜される前に、前記基体にプラズマ処理を行う請求項1乃至4のいずれかに記載の製造方法。
- 前記第1ロール室から繰り出された後であって前記第1の膜材料が成膜される前に、前記基体を加熱室で脱ガスする請求項1乃至5のいずれかに記載の製造方法。
- 前記第1ロール室から繰り出された後であって前記第1の膜材料が成膜される前に、前記第1の方向に案内中の前記基体を脱ガスする請求項1乃至6のいずれかに記載の製造方法。
- 前記基体の前記第1の面に前記第1の膜材料が成膜され、前記基体の前記第2の面に前記第2の膜材料が成膜された後であって、前記第3の膜材料と前記第4の膜材料が成膜される前に、前記基体にアニール処理を施す請求項1乃至7のいずれかに記載の製造方法。
- 前記基体の前記第1の面に前記第1の膜材料と前記第3又は第4の膜材料がこの順に積層され且つ前記第2の面に前記第2の膜材料および前記第4又は第3の膜材料がこの順に積層された前記基体にアニール処理を施す請求項1乃至8のいずれかに記載の製造方法。
- 前記第1及び前記第2の膜材料がともに透明導電膜である請求項1乃至8のいずれかに記載の製造方法。
- 前記第3及び前記第4の膜材料がともに金属である請求項1乃至10のいずれかに記載の製造方法。
- 請求項1に記載の製造方法において、前記c)乃至i)段階に代え、
c’) 前記脱ガスされた前記基体を前記第1の方向で第2成膜室へ案内し、前記第1の方向に案内中の前記基体の前記第1の面に前記第2成膜室において第2の膜材料を成膜する段階、
d’) 前記第2の膜材料が成膜された前記基体を第2ロール室でロール状に巻取る段階、
e’) 前記第2ロール室で巻き取った前記基体を前記第2ロール室から前記第1ロール室へ向う第2の方向に前記第2ロール室から繰り出す段階、
f’) 前記第2の方向に繰り出された前記基体の前記第1の面に成膜された前記第2の膜材料の上に前記第1成膜室において第3の膜材料を成膜する段階、
g’) 前記第2の膜材料の上に前記第3の膜材料が積層された前記基体を前記第1ロール室でロール状に巻取る段階、
を有する製造方法。 - 前記第1の方向に繰り出された前記基体の前記第1の面に前記第2成膜室において前記第2の膜材料を成膜するにあたり、前記第1の膜材料のターゲットを支持する前記第1成膜室の第1カソード電極が前記第1成膜室から取り除かれる請求項12に記載の製造方法。
- 前記第2の方向に繰り出された前記基体の前記第1の面に前記第1成膜室において前記第3の膜材料を成膜するにあたり、前記第2の膜材料のターゲットを支持する前記第2成膜室の第2カソード電極が前記第2成膜室から取り除かれる請求項12又は13のいずれかに記載の製造方法。
- 前記第1ロール室から繰り出された後であって前記第2の膜材料が成膜される前に、前記基体にプラズマ処理を行う請求項12乃至14のいずれかに記載の製造方法。
- 前記第1ロール室から繰り出された後であって前記第2の膜材料が成膜される前に、前記基体を加熱室で脱ガスする請求項12乃至15のいずれかに記載の製造方法。
- 前記第1ロール室から繰り出された後であって前記第2の膜材料が成膜される前に、前記第1の方向に案内中の前記基体を脱ガスする請求項12乃至16のいずれかに記載の製造方法。
- 前記第2の膜材料が透明導電膜である請求項12乃至17のいずれかに記載の製造方法。
- 前記第3の膜材料がともに金属である請求項12乃至18のいずれかに記載の製造方法。
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